JP2006093996A - ダイプレクサ - Google Patents

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Abstract

【課題】 ダイプレクサの上面側に新たに接地電極を設けても浮遊容量を抑えることができ、ハイパスフィルタの通過帯域の広帯域化がなされるダイプレクサを提供すること。
【解決手段】 複数の誘電体層を積層して成る基体18と、誘電体層の異なる層間にそれぞれ形成された第1および第2の接地電極11,12と、第1の接地電極11と第2の接地電極12との間の誘電体層に配置されたローパスフィルタおよびハイパスフィルタとを具備しており、ハイパスフィルタは、第1の接地コンデンサ6および第1乃至第3のコンデンサ14〜16を形成する各電極が、基体18の厚み方向に重なるように配置されているとともに、基体18の厚みの半分以下の厚みの領域に形成されている。
【選択図】 図1

Description

本発明は、各種通信機器に用いられる複数の誘電体を積層し構成されるダイプレクサに関する。
従来、ダイプレクサとしては複数の誘電体を積層したセラミックス等の誘電体の内部に、インダクタやキャパシタを内部電極として形成し、それぞれをストリップラインやビア導体で電気的に接続することにより構成され製品化されている。これにより、インダクタやキャパシタを基板表面に実装するのに比べ、小型化できる。
また、近年、内部にダイプレクサだけでなくローパスフィルタやアンテナスイッチ回路の一部となる位相ライン等を内蔵するとともに、上面にダイオードや抵抗などの部品を搭載したアンテナスイッチモジュールも製品化されている。
例えば、特許文献1では、第1乃至第3のポートと、第1および第2のポート間の低域通過フィルタを構成する第1のインダクタおよび第1のコンデンサと、第2および第3のポート間の高域通過フィルタを構成する第2のインダクタおよび第2のコンデンサとを備えるとともに、第1および第2のインダクタが、セラミックスからなる複数の絶縁層を積層してなる多層基板に内蔵されるストリップライン電極で形成され、第1および第2のコンデンサが、多層基板に内蔵されるコンデンサ電極で形成されるダイプレクサであって、第2のポートと第3のポートとの間に直列接続される第2のコンデンサを、第1および第2のポート間に接続される第1のコンデンサ上に配置し、かつ多層基板の高さ方向に積み重ねたタイプレクサが開示されている。
これによれば、第2のポートと第3のポートとの間に直列接続される第2のコンデンサを、第1および第2のポート間に接続される第1のコンデンサ上に配置し、かつ多層基板の高さ方向に積み重ねることで、第2のコンデンサを形成するコンデンサ電極とグランド電極との間に発生する浮遊容量を抑えることができるというものである。
特開2000−349581号公報
しかしながら、特許文献1に示すようなダイプレクサでは、第2のコンデンサを第1のポートおよび第2のポート間に接続される第1のコンデンサ上に配置したことにより、第2のコンデンサを形成するコンデンサ電極とグランド電極との間に発生する不要な浮遊容量を抑えることができるが、ダイプレクサの上面側にスイッチやICなどの搭載部品を配置するために、ダイプレクサと搭載部品のアイソレーションを確保するシールドとなる新たな接地電極を設けると、第2のコンデンサ電極と新たな接地電極との間に新たに不要な浮遊容量が発生し、高域通過フィルタ側の通過帯域が狭くなるという問題があった。
また、第1および第2のコンデンサを形成する電極は多層基板の高さ方向に積み重ねられているが、必要とされる電極の大きさが異なるため、電極の重なりのない部分においては、第1および第2のコンデンサとグランド電極との間に不要な浮遊容量が発生し、高域通過フィルタ側の通過帯域が狭くなるという問題があった。
本発明は、上記従来の技術の問題点に鑑みて完成されたものであり、その目的は、例えばダイプレクサの上面側にも新たに接地電極を設けても浮遊容量を抑えることができ、ハイパスフィルタの通過帯域の広帯域化がなされるダイプレクサを提供することにある。
本発明のダイプレクサは、複数の誘電体層を積層して成る基体と、前記誘電体層の異なる層間にそれぞれ形成された第1および第2の接地電極と、前記第1の接地電極と前記第2の接地電極との間の誘電体層に配置されたローパスフィルタおよびハイパスフィルタと、前記ローパスフィルタの一端と前記ハイパスフィルタの一端とを電気的に接続した共通端子と、前記ローパスフィルタの他端に設けられたローパスフィルタ端子と、前記ハイパスフィルタの他端に設けられたハイパスフィルタ端子とを具備しており、前記ローパスフィルタは、前記共通端子と前記ローパスフィルタ端子との間に接続された第1のインダクタおよび第1のコンデンサと、前記ローパスフィルタ端子に接続された第1の接地コンデンサとからなり、前記ハイパスフィルタは、前記共通端子と前記ハイパスフィルタ端子との間に直列接続された第2および第3のコンデンサと、一端が接地された第2の接地コンデンサの他端と前記第2および第3のコンデンサの接続部に接続された第2のインダクタとからなり、前記第1の接地コンデンサおよび前記第1乃至第3のコンデンサを形成する各電極が、前記基体の厚み方向に重なるように配置されているとともに、前記基体の厚みの半分以下の厚みの領域に形成されていることを特徴とする。
本発明のダイプレクサは好ましくは、前記第1の接地コンデンサおよび前記第1乃至第3のコンデンサを形成する各電極は、前記基体の前記第1の接地電極側の領域に前記誘電体層の異なる層間にそれぞれ形成されているとともに、前記各電極の面積が厚み方向において前記基体の中央側に向かって漸次小さくなっていることを特徴とする。
本発明のダイプレクサは、複数の誘電体層を積層して成る基体と、誘電体層の異なる層間にそれぞれ形成された第1および第2の接地電極と、第1の接地電極と第2の接地電極との間の誘電体層に配置されたローパスフィルタおよびハイパスフィルタと、ローパスフィルタの一端とハイパスフィルタの一端とを電気的に接続した共通端子と、ローパスフィルタの他端に設けられたローパスフィルタ端子と、ハイパスフィルタの他端に設けられたハイパスフィルタ端子とを具備しており、ローパスフィルタは、共通端子とローパスフィルタ端子との間に接続された第1のインダクタおよび第1のコンデンサと、ローパスフィルタ端子に接続された第1の接地コンデンサとからなり、ハイパスフィルタは、共通端子とハイパスフィルタ端子との間に直列接続された第2および第3のコンデンサと、一端が接地された第2の接地コンデンサの他端と第2および第3のコンデンサの接続部に接続された第2のインダクタとからなり、第1の接地コンデンサおよび第1乃至第3のコンデンサを形成する各電極が、基体の厚み方向に重なるように配置されているとともに、基体の厚みの半分以下の厚みの領域に形成されていることにより、第3のコンデンサを形成する電極と第2の接地電極との間の距離を離すことができ、第3のコンデンサを形成する電極と第2の接地電極との間に生じる不要な浮遊容量を減少させることができるため、ハイパスフィルタの通過帯域の広帯域化がなされる。
また本発明のダイプレクサは好ましくは、第1の接地コンデンサおよび第1乃至第3のコンデンサを形成する各電極は、基体の第1の接地電極側の領域に誘電体層の異なる層間にそれぞれ形成されているとともに、各電極の面積が厚み方向において基体の中央側に向かって漸次小さくなっていることにより、下側のコンデンサを形成する電極が上側のコンデンサを形成する電極より大きくなっており、フリンジング効果(電極の端部から電界が放射状に広がる効果)にて生じる浮遊容量を少なくすることができる。例えば第3のコンデンサを形成する電極の下側に、第3のコンデンサを形成する電極より形状の大きい第1および第2のコンデンサを形成する電極を配置したことにより、第3のコンデンサを形成する電極のフリンジング効果により生じる電界は主に第1および第2のコンデンサを形成する電極との間に発生し、第3のコンデンサを形成する電極と第1の接地電極との間に生じる電界は少なくなり、第3のコンデンサの浮遊容量を少なくすることができる。同様に第1および第2のコンデンサを形成する電極の浮遊容量を少なくすることができる。このことにより、第1乃至第3のコンデンサの各々より第1の接地電極との間に生じる電界を少なくすることができるため、第1乃至第3のコンデンサの浮遊容量を少なくすることができ、ハイパスフィルタの通過帯域の広帯域化がなされる。
よって、ダイプレクサの上面側にスイッチやICなどの搭載部品を配置するための、ダイプレクサと搭載部品のアイソレーションを確保するシールドとなる新たな接地電極を設けても、ダイプレクサのハイパスフィルタの通過帯域の広域化がなされる。
本発明のダイプレクサについて図面を用いて以下に説明する。図1は本発明のダイプレクサについて実施の形態の1例を示す等価回路図、図2は本発明のダイプレクサの実施の形態の一例を示す分解斜視図、図3は本発明のダイプレクサの実施の形態の一例を示す断面図である。図1において、1は共通端子、2はローパスフィルタ端子、3はハイパスフィルタ端子、4は第1のインダクタ、5は第1のコンデンサ、6は第1の接地コンデンサ、7は第2のコンデンサ、8は第3のコンデンサ、9は第2のインダクタ、10は第2の接地コンデンサである。第1のインダクタ4、第1のコンデンサ5、第1の接地コンデンサ6にてローパスフィルタを形成するとともに、第2のコンデンサ7、第3のコンデンサ8、第2のインダクタ9、第2の接地コンデンサ10にてハイパスフィルタを形成している。
また図2,図3において、11は第1の接地電極、12は第2の接地電極、13は第1の接地コンデンサ電極、14は第1のコンデンサ電極、15は第2のコンデンサ電極、16は第3のコンデンサ電極、17は第2の接地コンデンサ電極、18は基体である。
第1の接地コンデンサ6は第1の接地電極11と第1の接地コンデンサ電極13とによって形成した接地コンデンサであり、第1のコンデンサ5は第1の接地コンデンサ電極13と第1のコンデンサ電極14とによって形成したコンデンサであり、第2のコンデンサ7は第1のコンデンサ電極14と第2のコンデンサ電極15とによって形成したコンデンサであり、第3のコンデンサ8は第2のコンデンサ電極15と第3のコンデンサ電極16とによって形成したコンデンサであり、第2の接地コンデンサ10は第1の接地電極11と第2の接地コンデンサ電極17とによって形成した接地コンデンサである。
図3に示すように、第1の接地コンデンサ6(第1の接地電極11,第1の接地コンデンサ電極13)、第1のコンデンサ5(第1の接地コンデンサ電極13,第1のコンデンサ電極14)、第2のコンデンサ7(第1のコンデンサ電極14,第2のコンデンサ電極15)、第3のコンデンサ8(第2のコンデンサ電極15,第3のコンデンサ電極16)を構成する第1の接地コンデンサ電極13、第1乃至第3のコンデンサ電極14乃至16が、基体18の厚みの半分以下の厚みの領域に形成されている。
また、第1の接地コンデンサ6(第1の接地電極11,第1の接地コンデンサ電極13)、第1のコンデンサ5(第1の接地コンデンサ電極13,第1のコンデンサ電極14)、第2のコンデンサ7(第1のコンデンサ電極14,第2のコンデンサ電極15)、第3のコンデンサ8(第2のコンデンサ電極15,第3のコンデンサ電極16)を構成する第1の接地コンデンサ電極13、第1乃至第3のコンデンサ電極14乃至16は、基体18の第1の接地電極11側の領域(図3では、基体18の第1の接地電極11の直上である下側領域)に誘電体層間の異なる層間にそれぞれ形成されているとともに、各電極の面積が厚み方向において基体18の中央側に向かって漸次小さくなっている。即ち、コンデンサ電極の面積が第1の接地電極11側から上面側に行くほど小さく、つまり第1の接地コンデンサ電極13、第1のコンデンサ電極14、第2のコンデンサ電極15、第3のコンデンサ電極16の順にそれらの面積が厚み方向において基体18の中央側に向かって漸次小さくなっている。
図4は、図1の本発明のダイプレクサのハイパスフィルタ側の周波数特性を示すグラフである。図4において、横軸は周波数(単位GHz)を、縦軸はハイパスフィルタ側の信号通過量S(2,1)(単位dB)を表わし、実線の特性曲線は本発明のダイプレクサの周波数特性を、破線の周波数特性は従来のダイプレクサの上面にダイプレクサに近接させて接地電極を追加した場合の周波数特性を示している。
図4より、本発明のダイプレクサは、第1の接地コンデンサ電極13、第1のコンデンサ電極14、第2のコンデンサ電極15、第3のコンデンサ電極16を基体18の厚み方向の半分以下の厚みの領域に形成したことにより、ダイプレクサの上面側に新たに第2の接地電極12を設けても、ダイプレクサのハイパスフィルタを構成する第1乃至第3のコンデンサ電極14乃至16と第2の接地電極12との間に生じる浮遊容量を小さくすることができるため、ハイパスフィルタの通過帯域の広帯域化がなされていることが分かる。
また、第1の接地コンデンサ電極13、第1のコンデンサ電極14、第2のコンデンサ電極15、第3のコンデンサ電極16の順にそれらの面積が厚み方向において基体18の中央側に向かって漸次小さくなっていることにより、下側のコンデンサを形成する電極が上側のコンデンサを形成する電極より大きくなっており、フリンジング効果(電極の端部から電界が放射状に広がる効果)にて生じる浮遊容量を少なくすることができる。例えば第3コンデンサ電極16の下側に、第3のコンデンサ電極16より形状の大きい第1および第2のコンデンサ電極14、15を配置したことにより、第3のコンデンサ電極16のフリンジング効果により生じる電界は主に第1および第2のコンデンサ電極14、15との間に発生し、第3のコンデンサ電極16と第1の接地電極11との間に生じる電界は少なくなり、第3のコンデンサ電極16の浮遊容量を少なくすることができる。同様の理由により第1および第2のコンデンサ電極14、15の浮遊容量を少なくすることができる。このことにより、第1乃至第3のコンデンサの各々より第1の接地電極との間に生じる電界を少なくすることができるため、第1乃至第3のコンデンサの浮遊容量を少なくすることができ、ハイパスフィルタの通過帯域の広帯域化がなされることとなる。
なお、本発明のダイプレクサは、例えば誘電体層がセラミックスから成る場合、焼成後に各誘電体層となるセラミックグリーンシート(以下、グリーンシートともいう)に所定の孔開け加工を施すとともに、各電極のパターン形状および貫通導体となる貫通孔やグリーンシートの側面等に導体ペーストを塗布し、これらを積層して焼成することによって製作される。あるいは、誘電体層がフッ素樹脂やガラスエポキシ樹脂,ポリイミド樹脂のような樹脂から成る場合、樹脂基板を用い、その表面に被着させた銅箔をエッチングして各電極パターンの形成を行ない、層間接続用の貫通導体を形成して積層プレスすることによって製作される。
また、基体18としては、アルミナセラミックス,ムライトセラミックス等のセラミックス材料やガラスセラミックス等の無機系材料、または四フッ化エチレン樹脂(ポリテトラフルオロエチレン;PTFE),四フッ化エチレン−エチレン共重合樹脂(テトラフルオロエチレン−エチレン共重合樹脂;ETFE),四フッ化エチレン−パーフルオロアルコキシエチレン共重合樹脂(テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂;PFA)等のフッ素樹脂やガラスエポキシ樹脂,ポリイミド等の樹脂系材料等が用いられる。
また、共通端子1、ローパスフィルタ端子2、ハイパスフィルタ端子3、第1および第2のインダクタ4,9、第1および第2の接地電極11,12、第1および第2の接地コンデンサ電極13,17、第1乃至3のコンデンサ電極14乃至16には、高周波信号伝送用の金属材料から成る導体層が用いられる。例えば、Cu層、Mo−Mnのメタライズ層上にNiメッキ層およびAuメッキ層を被着させたもの、Wのメタライズ層上にNiメッキ層およびAuメッキ層を被着させたもの、Cr−Cu合金層、Cr−Cu合金層上にNiメッキ層およびAuメッキ層を被着させたもの、TaN層上にNi−Cr合金層およびAuメッキ層を被着させたもの、Ti層上にPt層およびAuメッキ層を被着させたもの、またはNi−Cr合金層上にPt層およびAuメッキ層を被着させたもの等が用いられ、厚膜印刷法あるいは各種の薄膜形成方法やメッキ法等により形成される。その厚みや幅は、伝送される高周波信号の周波数や用途等に応じて設定される。
次に、図5に本発明のダイプレクサの実施の形態の他の例を示す。図5において、1aは共通端子、2aはローパスフィルタ端子、3aはハイパスフィルタ端子、4aは第1のインダクタ、9aは第2のインダクタ、11aは第1の接地電極、12aは第2の接地電極、13aは第1の接地コンデンサ電極、14aは第1のコンデンサ電極、15aは第2のコンデンサ電極、16aは第3のコンデンサ電極、17aは第2の接地コンデンサ電極、18aは基体である。図5のものは図1のものと比較して、第2の接地コンデンサ10が第2の接地電極12aと第2の接地コンデンサ電極17aとによって形成された接地コンデンサとなるように配置していることが異なる。この構成によって、第1の接地電極11aの上面に第1の接地コンデンサ電極13aと第2の接地コンデンサ電極17aを配置する必要がなくなるため、平面方向に対して小型化することができる。
なお、本発明は以上の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更を加えることは何ら差し支えない。たとえば、基体の一部に高誘電率材料や、磁性体等を用いることによりインダクタやキャパシタンスを小型化することによりダイプレクサ自体を小型化したり、第2の接地電極12と第3のコンデンサ電極16との間に低誘電率層を形成し更に浮遊容量の低減をはかっても良い。
本発明のダイプレクサの等価回路図である。 図1のダイプレクサの分解斜視図である。 図1のダイプレクサの断面図である。 図1のダイプレクサのハイパスフィルタの周波数特性を示すグラフである。 本発明のダイプレクサの実施の形態の他の例を示す分解斜視図である。
符号の説明
1・・・共通端子
2・・・ローパスフィルタ端子
3・・・ハイパスフィルタ端子
4・・・第1のインダクタ
5・・・第1のコンデンサ
6・・・第1の接地コンデンサ
7・・・第2のコンデンサ
8・・・第3のコンデンサ
9・・・第2のインダクタ
10・・・第2の接地コンデンサ
11・・・第1の接地電極
12・・・第2の接地電極
13・・・第1の接地コンデンサ電極
14・・・第1のコンデンサ電極
15・・・第2のコンデンサ電極
16・・・第3のコンデンサ電極
17・・・第2の接地コンデンサ電極
18・・・基体

Claims (2)

  1. 複数の誘電体層を積層して成る基体と、前記誘電体層の異なる層間にそれぞれ形成された第1および第2の接地電極と、前記第1の接地電極と前記第2の接地電極との間の誘電体層に配置されたローパスフィルタおよびハイパスフィルタと、前記ローパスフィルタの一端と前記ハイパスフィルタの一端とを電気的に接続した共通端子と、前記ローパスフィルタの他端に設けられたローパスフィルタ端子と、前記ハイパスフィルタの他端に設けられたハイパスフィルタ端子とを具備しており、前記ローパスフィルタは、前記共通端子と前記ローパスフィルタ端子との間に接続された第1のインダクタおよび第1のコンデンサと、前記ローパスフィルタ端子に接続された第1の接地コンデンサとからなり、前記ハイパスフィルタは、前記共通端子と前記ハイパスフィルタ端子との間に直列接続された第2および第3のコンデンサと、一端が接地された第2の接地コンデンサの他端と前記第2および第3のコンデンサの接続部に接続された第2のインダクタとからなり、前記第1の接地コンデンサおよび前記第1乃至第3のコンデンサを形成する各電極が、前記基体の厚み方向に重なるように配置されているとともに、前記基体の厚みの半分以下の厚みの領域に形成されていることを特徴とするダイプレクサ。
  2. 前記第1の接地コンデンサおよび前記第1乃至第3のコンデンサを形成する各電極は、前記基体の前記第1の接地電極側の領域に前記誘電体層の異なる層間にそれぞれ形成されているとともに、前記各電極の面積が厚み方向において前記基体の中央側に向かって漸次小さくなっていることを特徴とする請求項1記載のダイプレクサ。
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