JP2006093394A - 配線基板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 配線基板9は、上面に電子部品が搭載されるセラミックスから成る絶縁基体1と、絶縁基体1の内部および表面の少なくとも一方に形成された配線導体2と、絶縁基体1の上面に形成され、電子部品の電極に電気的に接続される電極パッド3と、絶縁基体1の下面に形成された、電極パッド3よりも大きな接続パッド4と、絶縁基体1の上面に形成された、絶縁基体1を構成するセラミックスと同じセラミックスに金属酸化物から成る顔料を添加して成る絶縁層5とを具備している。
【選択図】 図1
Description
2・・・配線導体
3・・・電極パッド
4・・・接続パッド
5・・・絶縁層
9・・・配線基板
Claims (5)
- 上面に電子部品が搭載されるセラミックスから成る絶縁基体と、該絶縁基体の内部および表面の少なくとも一方に形成された配線導体と、前記絶縁基体の上面に形成され、前記電子部品の電極に電気的に接続される電極パッドと、前記絶縁基体の下面に形成された、前記電極パッドよりも大きな接続パッドと、前記絶縁基体の上面に形成された、前記絶縁基体を構成するセラミックスと同じセラミックスに金属酸化物から成る顔料を添加して成る絶縁層とを具備していることを特徴とする配線基板。
- 前記金属酸化物は、Feの酸化物,Mnの酸化物,Moの酸化物,Coの酸化物およびCrの酸化物のうちの少なくとも1種から成ることを特徴とする請求項1記載の配線基板。
- 前記金属酸化物は、平均粒径が0.1乃至5μmであることを特徴とする請求項1または請求項2記載の配線基板。
- 前記絶縁層は、前記金属酸化物の含有量が0.1乃至10質量%であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の配線基板。
- 前記絶縁基体は、下面に前記絶縁基体を構成するセラミックスと同じセラミックスから成る下面側の絶縁層が形成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の配線基板。
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JP2004276874A JP2006093394A (ja) | 2004-09-24 | 2004-09-24 | 配線基板 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101004855B1 (ko) | 2008-04-14 | 2010-12-28 | 삼성전기주식회사 | 프로브 기판 제조 방법 |
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JPH09255457A (ja) * | 1996-03-25 | 1997-09-30 | Kyocera Corp | メタライズ組成物及びそれを用いた配線基板 |
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-
2004
- 2004-09-24 JP JP2004276874A patent/JP2006093394A/ja active Pending
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