JP2006091848A - インターフェロメトリックモジュレータの電気的特性の評価 - Google Patents

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Abstract

【課題】ＭＥＭＳデバイスの動作を試験するための正確かつ好都合な方法をさらに開発することが必要とされていた。
【解決手段】インターフェロメトリックモジュレータディスプレイを含む反射型ディスプレイの電気的特性を試験するための方法及びシステムを開示する。１つの実施形態において、制御電圧を該ディスプレイ内の伝導性リード線に印加し、その結果発生した電流を測定する。該電圧は、インターフェロメトリックモジュレータが抵抗測定中に作動しないように制御される。さらに、ディスプレイ内のインターフェロメトリックモジュレータを作動させる電圧波形を加えることによってインターフェロメトリックモジュレータディスプレイのコンディショニングを行うための方法も開示される。
【選択図】 図７

Description

本発明は、微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）に関するものである。
微小電気機械システム（ＭＥＭＳ）は、微小機械要素、アクチュエータ、及び電子機器を含む。微小機械要素は、基板及び／又は蒸着させた材料層の一部をエッチングによって除去するか又は材料層を追加することによって電気デバイス及び電気機械デバイスを形成する、蒸着、エッチング、及び／又はその他の微細加工プロセスを用いて製造することができる。ＭＥＭＳデバイスの１つの型はインターフェロメトリックモジュレータ(interferometric modulator)と呼ばれている。インターフェロメトリックモジュレータは、一対の伝導性プレートを具備しており、これらのプレートの１方又は両方は、全体又は一部が透明及び／又は反射性であり、適切な電気信号を加えると相対運動をする。一方のプレートは、基板上に蒸着した固定層を具備しており、他方のプレートは、エアギャップによって該固定層から分離された金属膜を具備している。該デバイスは用途が非常に広範囲であり、既存の製品を改善したり、まだ開発されていない新たな製品を作り出す上でそれらの特徴が利用可能なように、これらのタイプのデバイスの特徴を利用及び／または改善することは当業界において有益なことである。
高品質を確保するために、該ＭＥＭＳデバイスの動作を試験するための正確かつ好都合な方法を製造工程において使用することができる。そして、そのような試験方法をさらに開発することが必要とされていた。
本発明のシステム、方法、及びデバイスは各々がいくつかの側面を有しており、いずれの単一の側面も、望ましい属性を確保する役割を単独で果たしているわけではない。以下では、本発明の適用範囲を限定することなしに、本発明のより顕著な特長について概説する。当業者は、該説明を検討後に、そして特に「発明を実施するための最良の形態」の部分を読んだ後に、本発明の特長がその他のディスプレイデバイスよりもいかに優れているかを理解することになる。
１つの実施形態は、ディスプレイ内の伝導性リード線間の抵抗を測定する方法を含み、該ディスプレイ内の少なくとも２本のリード線に制御電圧を印加することであって、該伝導性リード線は、該ディスプレイ内の表示素子を駆動するために使用されることと、該印加電圧に応答して該伝導性リード線内を流れる電流を測定すること、とを具備している。
もう１つの実施形態は、インターフェロメトリックモジュレータディスプレイを試験する方法を含み、該ディスプレイ内の少なくとも２本の伝導性リード線に制御電圧を印加することであって、該伝導性リード線は、該ディスプレイ内のインターフェロメトリックモジュレータを駆動するために使用されることと、該印加電圧に応答して該リード線内を流れる電流を測定することと、該ディスプレイはディスプレイとして使用する上で望ましい電気的特性を有していることを該測定することに基づいて特定すること、とを具備している。
もう１つの実施形態は、インターフェロメトリックモジュレータディスプレイのコンディショニングを行う方法を含み、該ディスプレイを使用する前に電圧波形を該ディスプレイに加えることを具備しており、該電圧波形は、ディスプレイ内の少なくとも１つのインターフェロメトリックモジュレータを作動させる上で十分に高い振幅を有しており、さらに、該電圧波形は、該ディスプレイ内の該インターフェロメトリックモジュレータに対して正味ゼロ電荷を供給する電圧波形である。
もう１つの実施形態は、ディスプレイ内に存在する短絡を修理する方法を含み、短絡が測定されている少なくとも２本の伝導性リード線に電圧を印加することを具備しており、該電圧は、該伝導性リード線が通る少なくとも１つの表示素子を駆動する上で十分な電圧である。
以下に示した詳細な説明は、本発明のいくつかの具体的な実施形態を対象にしたものである。しかしながら、本発明は、数多くの異なった形で具体化することが可能である。本説明では図面を参照しており、同一のものについては図面全体に渡って同一の参照数字を付してある。以下の説明から明らかになるように、本発明は、動画（映像、等）又は静止画（静止画像、等）のいずれであるかにかかわらず、さらに、テキスト又は絵のいずれであるかにかかわらず、画像を表示するように構成されているあらゆる装置において実装することができる。さらに、これよりも重要なことであるが、本発明は、非常に様々な電子機器、例えば、移動電話、無線装置、パーソナルデータアシスタント（ＰＤＡ）、携帯式コンピュータ、ポータブルコンピュータ、GPS受信装置／ナビゲーター、カメラ、ＭＰ３プレーヤー、カムコーダー、ゲームコンソール、腕時計、柱時計、計算器、テレビモニター、フラットパネルディスプレイ、コンピュータモニター、自動車の表示盤（オドメーターの表示盤、等）、コックピットの制御盤及び／又は表示盤、カメラのディスプレイ(車両内のリアビューカメラのディスプレイ、等)、電子写真、電子広告掲示板又は看板、プロジェクター、建築構造物、梱包、美的構造物（宝石上におけるイメージの表示、等）（但し、これらの電子機器に限定するものではない）の内部に又はこれらの電子機器と関連させて実装することができる。さらに、本出願明細書において説明しているＭＥＭＳデバイスと同様の構造を有するＭＥＭＳデバイスは、電子式開閉装置等の表示以外の用途においても使用することができる。
インターフェロメトリックモジュレータディスプレイの製造後は、いくつかの動作特性に関する試験を行い、該ディスプレイが使用するのに適しているかどうかを決定すること又は内在する製造上の欠陥の有無を診断することが望ましい。試験するのが望ましい特性は、電気的特性（例えば、ディスプレイ内部の伝導性リード線の抵抗、等）を含む。伝導性リード線に開路が測定された場合は、該伝導性リード線に障害があることを示している。隣接する伝導性リード線間において短絡が測定された場合は、該伝導性リード線が互いに接触していること又は伝導性の破片が該伝導性リード線間に存在することを示している。従って、本出願明細書では、インターフェロメトリックモジュレータディスプレイの電気的特性を試験するための方法及びシステムを開示している。
干渉型ＭＥＭＳ表示素子を具備する１つのインターフェロメトリックモジュレータディスプレイの実施形態を図１に例示してある。これらのデバイスにおいて、画素は、明るい状態又は暗い状態のいずれかである。明るい（「オン」又は「開いた」）状態においては、該表示素子は、入射可視光の大部分をユーザーに対して反射させる。暗い（「オフ」又は「閉じた」）状態においては、表示素子は、ユーザーに対して入射可視光をほとんどまったく反射させない。該「オン」状態及び「オフ状態」の光反射特性は反転させることができ、実施形態に依存する。ＭＥＭＳ画素は、白黒に加えてカラーディスプレイを考慮して、主に選択された色において反射するように構成させることができる。
図１は、ビジュアルディスプレイの一連の画素内の２個の隣接する画素を描いた等大図であり、各画素は、ＭＥＭＳインターフェロメトリックモジュレータを具備している。いくつかの実施形態においては、インターフェロメトリックモジュレータディスプレイは、これらのインターフェロメトリックモジュレータのロー／コラムアレイを具備している。各インターフェロメトリックモジュレータは、一対の反射層を含んでいる。これらの一対の反射層は、可変でかつ制御可能な距離に互いに配置されており、少なくとも１つの可変寸法を有する共鳴光学空洞を形成している。１つの実施形態においては、該反射層のうちの１つは、２つの位置の間を移動させることができる。第１の位置（本出願明細書では解放状態と呼んでいる）においては、該移動可能な反射層は、固定された部分的反射層から相対的に遠く離れた距離に配置されている。第２の位置においては、該移動可能な層は、該部分的反射層のほうにより近づけて配置されている。これらの２つの反射層から反射された入射光は、該移動可能な層の位置に依存して建設的に又は破壊的に干渉し、各画素に関して全体的な反射状態又は非反射状態を作り出す。
図１において、画素アレイのうちの描いた部分は、２つの隣接するインターフェロメトリックモジュレータ１２ａ及び１２ｂを含んでいる。左側のインターフェロメトリックモジュレータ１２ａにおいては、移動可能で反射能力が非常に高い層１４ａが、固定された部分的反射層１６ａから予め決められた距離にある位置において解放された状態になっている。右側のインターフェロメトリックモジュレータ１２ｂにおいては、移動可能で反射能力が非常に高い層１４ｂが、固定された部分的反射層１６ｂに隣接した位置において作動された状態になっている。
上記の固定層１６ａ及び１６ｂは、電導性で、部分的に透明でさらに部分的反射性であり、例えば、各々がクロム及びインジウム−スズ酸化物から成る１つ以上の層を透明な基板２０上に蒸着することによって製造する。後述するように、これらの層は、平行なストリップから成るパターンが付けられており、ディスプレイデバイス内においてロー電極を形成している。移動可能層１４ａ及び１４ｂは、ポスト１８の頂部に蒸着した（ロー電極１６ａ及び１６ｂと直交の）蒸着金属層の一連の平行ストリップとして及びポスト１８間に蒸着した介在犠牲材料として形成することができる。該犠牲材料をエッチングによって取り除くと、変形可能な金属層が定められたエアギャップ１９よって固定金属層から分離される。変形可能な層には伝導性が高い反射性材料（アルミニウム、等）を用いることができ、これらのストリップは、ディスプレイデバイス内においてコラム電極を形成する。
図１において画素１２ａによって例示したように、電圧が印加されていない状態では、空洞１９は層１４ａ及び１６ａの間にとどまっており、変形可能層は、機械的に緩和された状態になっている。しかしながら、選択したロー及びコラムに電位差を印加すると、対応する画素におけるロー電極及びコラム電極の交差部において形成されているコンデンサが荷電され、静電力がこれらの電極を引き寄せる。図１内の右側の画素１２ｂによって例示したように、電圧が十分に高い場合は、移動可能層が形成されて固定層に対して反発する（本図に示していない誘電材料を固定層に蒸着することによって短絡を防止すること及び分離距離を制御することができる）。この挙動は、印加した電位差の極性にかかわらず同じである。このように、反射性対非反射性画素状態を制御することができるロー／コラム作動は、従来のＬＣＤ及びその他の表示技術において用いられている作動と多くの点で類似している。
図２乃至５は、表示用途においてインターフェロメトリックモジュレータアレイを用いるための１つの典型的なプロセス及びシステムを例示した図である。図２は、本発明のいくつかの側面を組み入れることができる電子デバイスの１つの実施形態を例示したシステムブロック図である。この典型的実施形態においては、該電子デバイスはプロセッサ２１を含んでおり、該プロセッサ２１は、あらゆる汎用の単チップ又は多チップのマイクロプロセッサ（例えば、ＡＲＭ、Ｐｅｎｔｉｕｍ（登録商標）、ＰｅｎｔｉｕｍＩＩ（登録商標）、ＰｅｎｔｉｕｍＩＩＩ（登録商標）、ＰｅｎｔｉｕｍＩＶ（登録商標）、Ｐｅｎｔｉｕｍ Ｐｒｏ（登録商標）、８０５１、ＭＩＰＳ（登録商標）、ＰｏｗｅｒＰＣ（登録商標）、ＡＬＰＨＡ（登録商標）、等）、又は、あらゆる専用マイクロプロセッサ（例えば、デジタル信号プロセッサ、マイクロコントローラ、プログラマブルゲートアレイ、等）にすることができる。当業においては従来の方法であるが、プロセッサ２１は、１つ以上のソフトウエアモジュールを実行するように構成することができる。プロセッサ２１は、オペレーティングシステムを実行することに加えて、１つ以上のソフトウエアアプリケーション（例えば、ウェブブラウザー、電話に関するアプリケーション、電子メールプログラム、又はその他のあらゆるソフトウエアアプリケーション）を実行するように構成することができる。
１つの実施形態においては、プロセッサ２１は、アレイコントローラ２２と通信するようにも構成されている。１つの実施形態においては、アレイコントローラ２２は、画素アレイ３０に信号を供給するロードライバ回路２４及びコラムドライバ回路２６を含む。図１に示した画素アレイの横断面は、図２では線１−１によって示してある。ＭＥＭＳインターフェロメトリックモジュレータにおいては、ロー／コラム作動プロトコルは、図３に示したこれらのデバイスのヒステリシス特性を利用することができる。例えば、移動可能層を解放状態から作動状態に変形させるためには１０Ｖの電位差が必要である。しかしながら、同値から電圧を減じたときには、移動可能層は、電圧が低下して再び１０Ｖよりも低くなる間にその状態を維持する。図３に示した典型的実施形態においては、移動可能層は、電圧が２Ｖよりも低くなるまで完全には解放されない。このため、図３に示した例においては、約３乃至７Ｖの電圧範囲が存在しており、デバイスが解放された状態又は作動された状態において安定している印加電圧の窓が存在している。本出願明細書では、この窓を「ヒステリシスウインドー」又は「安定ウインドー」と呼んでいる。図３に示したヒステリシス特性を有する表示アレイの場合は、ローストローブ中に、ストローブされたロー内の作動対象画素が約１０Ｖの電圧差にさらされ、さらに、解放対象画素が約ゼロＶの電圧差にさらされることになるようにロー／コラム作動プロトコルを設計することができる。ストローブ後は、画素は、約５Ｖの定常状態電圧差にさらされ、このため、ローストローブによって置かれたあらゆる状態にとどまる。本例においては、各画素は、書かれた後には、３乃至７Ｖの「安定ウィンドー」内において電位差にさらされる。この特長は、図１に示した画素設計を、作動状態又は先在する解放状態のいずれであるかにかかわらず同じ印加電圧状態の下で安定させることになる。インターフェロメトリックモジュレータの各画素は、作動状態又は解放状態のいずれであるかにかかわらず、本質的には、固定反射層および移動可能反射層によって形成されたコンデンサであるため、この安定状態は、電力散逸がほとんどゼロの状態でヒステリシスウインドー内のある１つの電圧において保持することができる。本質的に、印加電位が固定されている場合は、画素内には電流は流れ込まない。
典型的な用途においては、第１のロー内の駆動画素の所望の組に従ってコラム電極の組を選択(asserting)することによって表示フレームを製造する。次に、ローパルスをロー１電極に加え、選択したコラムラインに対応する画素を駆動する。次に、選択したコラム電極の組を変更し、第２ロー内の所望の駆動画素の組に対応させる。次に、ロー２電極にパルスを加え、選択したコラム電極に従ってロー２内の該当画素を駆動する。この際、ロー１の画素は、ロー２のパルスによる影響を受けず、ロー１のパルス中に設定された状態にとどまる。このプロセスを一連のロー全体に関して逐次的に繰り返すことによって表示フレームを生成する。一般的には、これらの表示フレームは、希望する何らかの１秒当たりのフレーム数の時点において、該プロセスを連続的に繰り返すことによって一新されるか及び／又は新しい表示データによって更新される。画素アレイのロー電極及びコラム電極を駆動して表示フレームを生成するためのプロトコルは非常に様々であることが良く知られており、これらのプロトコルを本発明と関連させて使用することができる。
図４及び５は、図２の３ｘ３のアレイ上において表示フレームを製造するための１つの可能な作動プロトコルを例示した図である。図４は、図３のヒステリシス曲線を示している画素に関して使用することができる一組のロー／コラム電圧レベルを示した図である。図４の実施形態において、画素を駆動することは、該当するコラムを−Ｖｂｉａｓに設定すること及び該当するローを＋ΔＶに設定することが関わっており、これらの電圧は、−５Ｖ及び＋５Ｖにそれぞれ該当する。画素の解放は、該当するコラムを＋Ｖｂｉａｓに設定してさらに該当するローを同じ＋ΔＶに設定し、該画素においてゼロボルトの電位差を作り出すことによって達成させる。ロー電圧がゼロボルトに保持されているローにおいては、画素は、コラムが＋Ｖｂｉａｓ又は−Ｖｂｉａｓのいずれであるかにかかわらず、最初に置かれていた状態において安定している。同じく図４において、上記の電圧とは反対の極性の電圧を使用できること、例えば、画素を駆動することは、該当するコラムを＋Ｖｂｉａｓに設定して該当するローを−ΔＶに設定することを関わらせることができる、という点が高く評価されることになる。本実施形態においては、画素の解放は、該当するコラムを−Ｖｂｉａｓに設定してさらに該当するローを同じ−ΔＶに設定し、該画素においてゼロボルトの電位差を作り出すことによって達成させる。
図５Ｂは、図２の３ｘ３のアレイに加えた一連のロー信号及びコラム信号を示したタイミング図であり、結果的には、図５Ａに示した表示配置になる（同図における作動画素は非反射性である）。図５Ａに示したフレームを書く前においては、画素はあらゆる状態になることが可能であり、本例では、すべてのローが０Ｖ、すべてのコラムが＋５Ｖである。これらの電圧を印加した状態では、すべての画素は、印加以前における作動状態又は解放状態で安定している。
図５Ａのフレームにおいては、画素（１、１）、（１、２）、（２、２）、（３、２）及び（３、３）を駆動する。該駆動するためには、ロー１に関する「ラインタイム」中に、コラム１及び２を−５Ｖに設定し、コラム３を＋５Ｖに設定する。この場合、すべての画素が３Ｖ乃至７Ｖの安定ウィンドー内にとどまっているためいずれの画素の状態も変化しない。次に、パルスを用いてロー１をストローブし、０から最高５Ｖまで上昇させて０に戻る。この動作は、画素（１、１）及び（１、２）を作動させ、画素（１、３）を解放する。画素アレイ内のその他の画素は影響を受けない。ロー２を希望どおりに設定するためには、コラム２を−５Ｖに設定し、コラム１及び３を＋５Ｖに設定する。これで、ロー２に加えられた同じストローブが、画素（２、２）を作動させ、画素（２，１）及び（２、３）を解放する。この場合も、画素アレイ内のその他の画素は影響を受けない。同様に、コラム２及び３を−５Ｖに設定し、コラム１を＋５Ｖに設定することによってロー３を設定する。ロー３のストローブは、ロー３の画素を図５Ａに示したように設定する。表示フレームを書いた後は、ロー電位はゼロであり、コラム電位は、＋５Ｖ又は−５Ｖのいずれかにとどまることができ、従って、図５Ａに示した配置において表示が安定する。この手順は、何十ものローとコラムのアレイさらには何百ものローとコラムのアレイに関しても採用できるという点が高く評価されることになる。さらに、ロー及びコラムの作動を実施するために用いるタイミング、順序、及び電圧レベルは、上述した一般原理内において大きく変化させることが可能である点、及び、上例は典型的な例であるにすぎず、本発明の適用範囲内においてあらゆる作動電圧方法を用いることができる点、も高く評価されることになる。
上記の原理に従って動作するインターフェロメトリックモジュレータの構造の細部は、大きく変更することができる。例えば、図６Ａ乃至６Ｃは、移動式鏡構造物の３つの異なった実施形態を示した図である。図６Ａは、図１の実施形態の横断面であり、直交的に延びている支持物１８の上に細長い金属材料１４が蒸着されている。図６Ｂにおいては、移動可能な反射材料１４が、支持物の角のみに取り付けられている（テザー３２の上）。図６Ｃにおいては、移動可能な反射材料１４は、変形可能な層３４から吊り下げられている。この実施形態においては、反射材料１４に関して用いられる構造設計および材料を光学的性質に関して最適化することができ、さらに、変形可能層３４に関して用いられる構造設計および材料を希望する機械的性質に関して最適化することができるためいくつかの利点を有している。尚、様々な出版物（例えば、U.S. Published Application 2004/0051929、等）において様々な型の干渉型デバイスの生産に関する説明が行われている。さらに、材料蒸着、パターン化、及びエッチングの一連の手順が関わる上記の構造物は、非常に様々な良く知られた技術を用いて生成することができる。
電気的特性の評価
いくつかの実施形態においては、インターフェロメトリックモジュレータディスプレイの電気的特性を試験するための方法が提供されている。いくつかの事例においては、ディスプレイ内の伝導性リード線の抵抗を測定する。抵抗を測定することで、これらの伝導性リード線が製造工程中に適切に成形されたかどうか、及び、ディスプレイ内部に存在する何らかの破片が電気的特性を変えているかどうかを知ることができる。例えば、個々の伝導性リード線（例えば、ロー及びコラムの各伝導性リード線）の抵抗は低いことが望ましい。個々の伝導性リード線の抵抗が高い場合は、該リード線内に開路が存在することを示している可能性がある。さらに、隣接する伝導性リード線間の抵抗は高いことが望ましい。例えば、コラムの伝導性リード線及びローの伝導性リード線の間の抵抗が低い場合は、該コラムとローの交差部において形成されているインターフェロメトリックモジュレータ素子内に短絡が存在することを示している可能性がある。同様に、隣接するコラムの伝導性リード線間又はローの伝導性リード線間における抵抗が低い場合は、これらのリード線の間に短絡が存在することを示している可能性がある。短絡は、伝導性材料を融合させる製造上の誤り又は該リード線間に存在する伝導性の破片に起因する可能性がある。
インターフェロメトリックモジュレータディスプレイ内の伝導性リード線の抵抗を測定することは、該ディスプレイの電気的特性はインターフェロメトリックモジュレータ素子が作動されているかどうかに依存して変化する可能性があるという事実に鑑みて該抵抗を測定することを含む。液晶ディスプレイを試験するために一般的に用いられる抵抗計等の典型的な抵抗計においては、測定を行うために印加された電圧は変化する可能性がある。従って、ディスプレイ内部のインターフェロメトリックモジュレータを作動させることができるレベルにまで電圧が上昇する可能性があり、その結果、インターフェロメトリックモジュレータが作動しないときに入手した測定値とは異なった測定値になる可能性がある。このため、１つの実施形態においては、インターフェロメトリックモジュレータが作動していない状態時に制御電圧をリード線に印加してその結果発生した電流を測定することによって抵抗を測定する。この測定方法は、電圧印加／電流測定（ＦＶＭＩ）技術と呼ばれている。制御電圧を印加することで、インターフェロメトリックモジュレータの作動を制御することができる。１つの実施形態においては、該抵抗測定は、Ｋｅｉｔｈｌｙ６５１７高抵抗計を用いて行うことができる。
図７は、インターフェロメトリックモジュレータディスプレイ等のディスプレイ内の伝導性リード線間の抵抗を測定する方法を例示した流れ図である。図７においては、ステップを追加すること又はいくつかのステップを省略することができ、特定の実施形態に依存する。さらに、用途に応じてステップの順序を変えることができる。ステップ２００において、ディスプレイの少なくとも２本の伝導性リード線に制御電圧を印加する。１つの実施形態においては、複数のリード線が外部の電子機器にインタフェースされており、該制御電圧を印加する対象となるリード線は、該外部の電子機器によって決定される。例えば、継電器を具備する外部の電子機器にディスプレイ内のすべてのリード線を結合し、ディスプレイ内のすべてのリード線よりも少ない本数のリード線に対して選択的に制御電圧を印加するために該継電器を用いることができる。いくつかの実施形態においては、該外部の電子機器は、１本以上のリード線を短絡させてひとつにするために用いることができる。インターフェロメトリックモジュレータを試験中である１つの実施形態においては、印加した制御電圧は、インターフェロメトリックモジュレータが作動しないような低いレベルに維持する。例えば、該制御電圧は、±１Ｖ以内に維持することができる。次に、ステップ２０２において、制御電圧を印加した結果伝導性リード線において発生した電流を測定し、その後に抵抗を決定する。１つの実施形態においては、例えばロー又はコラムの反対側の端部に電圧を印加して、該ロー又はコラムの１本以上の伝導性リード線の抵抗を測定する。該測定を行うことで、ロー内又はコラム内に開路が存在するかどうかを決定することができる。別の実施形態においては、ロー及びコラムの間の抵抗を測定する。該測定を行うことで、該ロー又は該コラムの交差部のインターフェロメトリックモジュレータ素子内の該ロー及び該コラムの間に短絡が存在するかどうかを決定することができる。別の実施形態においては、抵抗が５０ＭΩ未満である場合は、ロー及びコラムの間に受入不能な状態が存在することを示している。もう１つの実施形態においては、隣接するローとローの間及び／又は隣接するコラムとコラムの間における抵抗を測定する。該測定を行うことで、該隣接するローとローの間又は該隣接するコラムとコラムの間に短絡が存在するかどうかを決定することができる。１つの実施形態においては、抵抗が１０ＭΩ未満である場合は、隣接するローとローの間又は隣接するコラムとコラムの間に受入不能な伝導状態が存在することを示している。もう１つの実施形態においては、抵抗が１ＭΩ未満である場合は、隣接するローとローの間又は隣接するコラムとコラムの間に受入不能な伝導状態が存在することを示している。
いくつかの実施形態においては、抵抗測定は、複数の伝導性リード線に関して同時に行うことができる。例えば、すべての隣接するローの間で同時に抵抗を測定することができる。このようにして測定した１本のリード線当たりの抵抗が、予め定められたしきい値よりも小さい場合は、その後に任意で試験を実施することによって、いずれのロー間のリード線が短絡を含んでいるかを特定することができる。同様に、すべての隣接するコラムリード線の抵抗を同時に測定すること又はロー−コラム間の（画素エレメントにおける）抵抗を同時に測定することができる。いくつかの実施形態においては、試験対象となるディスプレイは、カラーディスプレイである。これらの事例においては、隣接するリード線間における抵抗は、異なったカラー副画素（サブピクセル）を駆動するためのリード線間（例えば、赤副画素用リード線と緑副画素用リード線の間、赤副画素用リード線と青副画素用リード線の間、緑副画素用リード線と青副画素用リード線の間）の抵抗を測定することを含む。従って、いくつかの実施形態においては、隣接するコラムリード線間の抵抗を測定することは、３回の別個の測定（赤−青リード線、青−緑リード線、及び赤−緑リード線）を行うことを含んでいる。
いくつかの実施形態においては、制御電圧は、時間とともに変化する電圧波形である。例えば、いくつかの実施形態においては、ＡＣ波形を加える。ある一定値に関して対称である時間とともに変化する電圧波形を用いることで、正味ゼロの電荷が確実に表示素子に供給されるようにすることができる。例えば、ロー及びコラムの交差部の表示素子における短絡の有無を確認するための測定を行うために該ロー及びコラムに電圧を印加時には、試験中に該表示素子内に電荷が蓄積しないようにするために、０Ｖに関して対称の電圧波形又はオフセット電圧（例えば、表示素子内がゼロ電荷であるようにするために必要な電圧）を印加することができる。
１つの実施形態においては、各極性ごとに別々に抵抗を測定する。反対の極性に関して測定した抵抗を比較することで、ディスプレイの品質を確認することができる。例えば、インターフェロメトリックモジュレータディスプレイにおいては、駆動方式は、上述した両極性の電圧を印加することを含む。従って、ディスプレイの電気的特性は、両極性に関してほぼ同じであることが望ましい。さらに、両方の極性における抵抗を測定することで、検出した値がノイズに起因するものであるか又は実際の抵抗に起因するものであるかを確認して決定することができる。例えば、抵抗が非常に高い場合は、ノイズのみが測定される。さらに、印加電圧の極性を反転時に測定電流の極性の符号が変わらない場合は、ノイズのみが検出されていることを示している。
抵抗測定を任意で選択的に用いることで、対象ディスプレイがディスプレイとして用いる上で望ましい電気的特性を備えていることを特定することができる。このため、例えば図７のステップ２０４において、抵抗測定値又は短絡及び／又は開路の数を、予め定められたしきい値と比較する。これらの測定値又は数が該しきい値内である場合は、該ディスプレイは、ステップ２０６に進むことによってディスプレイとして使用することができる。これらの測定値又は数がしきい値内に入っていない場合は、該ディスプレイは、欠陥ディスプレイであるとみなしてステップ２０８において廃棄する。該試験は、ディスプレイ製造中における品質管理のために用いることができる。いくつかの実施形態においては、１つ以上のロットのディスプレイの品質を表すために、製造中に採取したディスプレイサンプルを代表として試験する。
その他の実施形態においては、製造上の誤りを特定するために抵抗測定を用いる。例えば、製造上の誤りの所在場所を正確に突き止めるために抵抗測定を用いることができる。正確に突き止めた誤り所在場所（例えば、単一の画素における短絡、等）が、別のディスプレイ内の同じ場所において繰り返し測定される場合は、製造上の誤りが存在することを示している可能性がある。この情報は、装置又は手順における欠陥を是正するために用いることができる。
いくつかの実施形態においては、抵抗測定は、いくつかの製造工程の結果を監視するために使用する。例えば、膜に関するパラメータ（厚さ及び幅の寸法、等）のばらつきを監視するために使用する。
いくつかの実施形態においては、短絡又は開路の正確な所在場所は、決定ツリー手法によって決定する。例えば、決定ツリーの第１レベルにおいてすべてのリード線を測定する。ディスプレイ内のいずれかの箇所に短絡が存在することが測定した抵抗によって示された場合は、全ローリード線又は全コラムリード線のうちの半数のリード線を試験する。最初の半数のリード線において短絡も開路も検出されなかった場合は、残りの半数のリード線を試験する。この方法で、障害の所在場所をディスプレイの1/2の部分に絞る。このプロセスは、同様の方法で続けることで、単一のロー及び／又はコラムにおいて障害が正確に特定されるまで所在場所を絞り込むことができる。その他の実施形態においては、ロー及び／又はコラムの各組合せを別個に測定して障害の所在場所を決定する。
さらにその他の実施形態においては、１個以上の画素を迂回することを可能にするバイパス構造をディスプレイ内に組み入れる。このため、例えば、１箇所の画素位置において短絡が存在することが抵抗測定によって示された場合は、該画素における伝導性ローリード線及びコラムリード線を該画素位置の周囲に分岐させてそれによって該不良画素を電気的に隔離するバイパス構造を駆動することによって、該画素を迂回することができる。従って、１つの実施形態においては、本出願明細書において説明している抵抗測定手順は、適切なバイバス構造を有する場合にディスプレイのいずれの画素又はいずれの領域を迂回すべきであるかを示すために用いられる。
電気的測定構造物
いくつかの実施形態においては、インターフェロメトリックモジュレータアレイの電気的及び電気光学的特性の評価及び試験を容易にするために、製造中に、適切な伝導性構造物を該インターフェロメトリックモジュレータアレイにインタフェースさせる。図８に示した１つの実施形態においては、ローリード線及びコラムリード線４００を１つ以上のバスバー４１０に接続し、次に、該バスバー４１０を１つ以上のテストパッド４２０に接続する。ローリード線及びコラムリード線４００は、例えば、図５Ａに示したローストリップ及びコラムストリップに対応する。バスバー４１０は、該バスバーに接続されたすべてのリード線と電気的に結び付いており、このため、これらのすべてのリード線の電圧制御を同時に行うことを容易にする。さらに、加工中に短絡用バー４３０を用いてすべてのリード線を短絡させてひとつにすることが望ましいことがある。短絡用バー４３０は、電気的試験及び／又は電気光学的試験を実施する前に取り外すことができる。１つの実施形態においては、図８に示したように、上記の隣接するローとローの間の抵抗又はコラムとコラムの間の抵抗を測定することを考慮して、互い違いのローリード線及びコラムリード線４００を同じバスバー４１０に接続する（即ち互いに入り組ませる）。本出願明細書において用いている「ロー」という表現は、基板に隣接する伝導ライン（例えば透明な導体のライン）を指している。本出願明細書において用いている「コラム」という表現は、移動可能な鏡に関係する伝導ラインを指している。その他の実施形態においては、短絡用バー及びテストパッドの交互配置を使用する。例えば、図９に示した配置は、同じロー及びコラムの反対側の端部にテストパッド５１０を備えている（例えば、テストパッドＬ１−Ｌ２、Ｌ３−Ｌ４、Ｌ７−Ｌ８、及びＬ５−Ｌ６）。バスバー５２０及びテストパッド５３０の配置は、ディスプレイの異なった領域を別々に試験するために使用することもできる。インターフェロメトリックモジュレータディスプレイがカラーディスプレイであるときには、異なったカラー副画素（即ち、ある１つの色を反射させるように設計されたインターフェロメトリックモジュレータ）を別個に駆動させることができるようにバスバー及びテストパッドを構成させることができる。試験後は、アクティブエリア（インターフェロメトリックモジュレータアレイ）を希望するユーザーパッケージ内に組み込むことができるようにするためにバスバー及びテストパッドを取り除く。１つの代替実施形態においては、テストパッドを通じてではなく、各リード線に別個にプローブを接触させる。この実施形態においては、複数のリード線における抵抗を同時に測定するために、外部電極を用いて複数のリード線を短絡させてひとつにする。当業者は、インターフェロメトリックモジュレータアレイを抵抗測定器とインタフェースさせるために数多くの適切な構造及び技術を使用できることを認識することになる。
１つの実施形態においては、図８及び９に示したような構造は、単一のローライン及び／又はコラムライン（例えば、Ｌ１−Ｌ２、Ｌ３−Ｌ４、Ｌ７−Ｌ８及びＬ５−Ｌ６）における抵抗を個々に測定するために用いる。抵抗が大きすぎる場合は、ローライン又はコラムラインが破断しておりこのため該ロー又はコラムの少なくとも一部分は行列アドレスを指定できないことを示している可能性がある。１つの実施形態においては、図８及び９に示したような構造は、ローとローの間の抵抗及び／又はコラムとコラムの間の抵抗を測定するために用いる。これらのロー及び／又はコラムが互いに入り組んでいる場合には、隣接するロー間及び／又は隣接するコラム間の抵抗を測定することは、電流漏れを測定することになる（例えば、図８におけるＲ１−Ｒ２又はＣ１−Ｃ２の測定）。いくつかの実施形態においては、ローとローの間又はコラムとコラムの間の総抵抗が小さすぎる場合は、隣接するロー間の抵抗の個々の組又は隣接するコラム間の抵抗の個々の組を測定する。１つの実施形態においては、ローとコラムの間の抵抗を測定する。この測定は、短絡させたすべてのロー及び短絡させたすべてのコラムの間（例えば、図８において短絡させたＲ１とＲ２及び短絡させたＣ１とＣ２の間）の抵抗を測定することによって行う。抵抗が小さすぎる場合は、ロー及びコラムの間に短絡が存在することを示している可能性がある。
インターフェロメトリックモジュレータのコンディショニング
１つの実施形態においては、製造後のインターフェロメトリックモジュレータディスプレイの性能は、該ディスプレイのプリコンディショニングを行うことによって向上させることができる。該プリコンディショニングは、ディスプレイ内のインターフェロメトリックモジュレータ素子を作動させるのに十分な大きさの電圧をディスプレイに印加することによって行う。製造直後は、インターフェロメトリックモジュレータが作動する電圧は、定常状態の挙動に達するまで変化するおそれがある。このため、作動時に安定した又はほぼ安定した応答をするようにするために、プリコンディショニングを行うことによって移動可能なインターフェロメトリックモジュレータ素子に応力をかける。さらに、該プリコンディショニングは、伝導性の破片を蒸発させることによって、伝導性リード線間における過渡的な短絡を排除することができる。いくつかの実施形態においては、プリコンディショニングは、プリコンディショニングを実施する前に観察されていなかった欠陥を明らかにすることができる。このため、例えば、上述した抵抗測定は、プリコンディショニングの実施前及び実施後の両方において行う。
１つの実施形態においては、プリコンディショニング用電圧波形を、インターフェロメトリックモジュレータディスプレイ内の実質上すべての素子に対して同時に加える。該方法においては、各素子に対してまったく同じように応力がかけられてコンディショニングが行われるため、各素子の表示応答がほぼ同じであり、その結果ゴースト効果の発生が減少することになる。
１つの実施形態においては、インターフェロメトリックモジュレータを作動させる上で十分な振幅を有する電圧波形をディスプレイに加える。電圧は、（例えば、図８においてアースに短絡させたＲ１とＲ２の間及び波形発生器に短絡させたＣ１とＣ２の間に電圧を印加することによって）全インターフェロメトリックモジュレータに対して同時に印加するか、又は、インターフェロメトリックモジュレータの一部(subset)に対して印加する。１つの実施形態においては、
ある一定値に関して対称である電圧波形を用いることで、正味ゼロの電荷が表示素子に供給されるようにすることができる。例えば、表示素子内に電荷が蓄積しないようにするために、０Ｖに関して対称である電圧波形又はオフセット電圧（例えば、表示素子内をゼロ電荷にするために要する電圧）を印加する。
１つの実施形態においては、該電圧波形は、交流方形波形のパルシングを含む。図１０Ａは、可能性のある１つの電圧波形を例示した図である。さらに、インターフェロメトリックモジュレータを作動させる上で十分な振幅６００を有する一連の方形波形を加える。このため、電圧が正６００又は負６０２の振幅値であるときには、インターフェロメトリックモジュレータが作動される。電圧がオフセット電位６０４であるときには、インターフェロメトリックモジュレータは非作動状態である。各方形波形は、印加電圧の極性を反転させる前は幅６０６（例えば５ｍｓ）を有している。これらの一連の交流方形波形は、幅６０８（例えば０．５ｓ）を有している。このシーケンスを加えた後は、電圧は、時間６１０（例えば０．５ｓ）にわたってオフセット電位６０４に保持することができる。このため、図１０Ａに示した波形を加えると、その結果、インターフェロメトリックモジュレータは、時間６０８の間作動状態になってその後に時間６１０の間非作動状態になり、これらの状態を循環する。また、該波形がオフセット電圧６０４に関して対称になるようにしさらに作動状態のインターフェロメトリックモジュレータを駆動時に正の極性と負の極性の間で振幅を素早く変化させることによって、インターフェロメトリックモジュレータ内に正味電荷が蓄積しない。当業者は、この波形の様々な変形が存在することを認識することになる。例えば、時間６０６、６０８、及び６１０を変化させることで、異なった作動パルシング周波数（例えば時間６０８及び／又は６１０を変化させる）及び異なった極性パルシング周波数（例えば時間６０６を変化させる）を得ることができる。様々な実施形態において、作動周波数は、少なくとも、約０．１Ｈｚ、０．５Ｈｚ、１Ｈｚ、１０Ｈｚ、５０Ｈｚ、１００Ｈｚ、５００Ｈｚ、又は１ｋＨｚである。様々な実施形態において、極性変化周波数は、少なくとも、約１００Ｈｚ、１ｋＨｚ、５ｋＨｚ、１０ｋＨｚ、５０ｋＨｚ、１００ｋＨｚ、５００ｋＨｚ、又は１ＭＨｚである。さらに、いくつかの実施形態においては、交流極性を有する単一の作動波形を加える（例えば時間６０８のみ）。
もう１つの実施形態においては、電圧波形は、三角波形を含む。図１０Ｂは、可能性のある１つの三角波形を例示した図である。該三角波形の振幅は十分に高く、このため、インターフェロメトリックモジュレータは、これらの振幅に達する前に作動する。１つの実施形態においては、要求される作動電圧よりも約１０％高い振幅を使用する。インターフェロメトリックモジュレータは、これらのインターフェロメトリックモジュレータがセンタリングされているオフセット電圧６５２に電圧が達する前に動作を停止する。様々な実施形態において、三角波形の周波数は、少なくとも、約０．１Ｈｚ、０．５Ｈｚ、１Ｈｚ、１０Ｈｚ、５０Ｈｚ、１００Ｈｚ、５００Ｈｚ、又は１ｋＨｚである。
当業者は、インターフェロメトリックモジュレータのプリコンディショニングを行うために使用できる数多くの作動電圧波形を認識することになる。従って、本出願明細書における開示は、上述した特性を有する方形波形及び三角波形のみに限定するものではない。
いくつかの実施形態においては、より複雑な波形ストリングを生成するために複数の異なった波形を直列に結合させる。例えば、上記の三角波形及び方形波形を直列に結合させることができる。１つの実施形態においては、三角波形は、最初の時間の間（例えば約１分間）加え、その後に複数のシーケンスの方形波形を加え（例えば振幅が漸増する状態で各々約１分間を加え）、その後に第２の三角波形を加える。このシーケンスは、あらゆる回数だけ繰り返すか又は変化させることによってあらゆる数の波形の組合せを作り出すことができる。当業者は、ディスプレイ内のインターフェロメトリックモジュレータ素子のコンディショニングを行うために加えることができるその他の数多くの電圧波形及び電圧波形の組合せを認識することになる。
様々な実施形態において、プリコンディショニング用電圧波形の変形は、特定の波形を加える時間の長さを変化させること、該波形の周波数を変化させること、及び該波形の振幅を変化させることを含む。
いくつかの実施形態においては、インターフェロメトリックモジュレータディスプレイが条件を満たしていないことを上記のような電気的特性が示している場合は、コンディショニングを実施してこれらの電気的特性を向上させることができる。例えば、コンディショニングは、電気的特性の評価中に測定された短絡を除去することができる。従って、１つの実施形態においては、不良な特性がコンディショニングによって修正されているかどうかを決定するために、コンディショニングの実施前及び実施後の両方において電気的特性の評価を行う。
本発明は、実施形態及び例を挙げて説明しているが、本発明の精神を逸脱せずに数多くの及び様々な修正及び変更を行うことが可能であることを理解すべきである。従って、本発明は、上記の請求項のみによって限定されるものである。
インターフェロメトリックモジュレータディスプレイの１つの実施形態の一部分を描いた等大図であり、第１のインターフェロメトリックモジュレータの移動可能な反射層が解放位置にあり、第２のインターフェロメトリックモジュレータの移動可能な反射層が作動位置にある。 ３ｘ３インターフェロメトリックモジュレータディスプレイを組み込んだ電子デバイスの１つの実施形態を例示したシステムブロック図である。 図１に示したインターフェロメトリックモジュレータの１つの典型的な実施形態に関する移動可能な鏡の位置及び印加電圧の関係を示した図である。 インターフェロメトリックモジュレータディスプレイを駆動するために使用する一組のロー電圧及びコラム電圧を示した図である。 図２に示した３ｘ３インターフェロメトリックモジュレータディスプレイに表示データフレームを書くために使用するロー信号及びコラム信号に関する１つの典型的なタイミング図である（その１）。 図２に示した３ｘ３インターフェロメトリックモジュレータディスプレイに表示データフレームを書くために使用するロー信号及びコラム信号に関する１つの典型的なタイミング図である（その２）。 図１に示した電子デバイスの横断面を示した図である。 インターフェロメトリックモジュレータの１つの代替実施形態の横断面を示した図である。 インターフェロメトリックモジュレータのもう1つの代替実施形態の横断面を示した図である。 インターフェロメトリックモジュレータディスプレイ等のディスプレイの電気的特性を測定する方法を例示した流れ図である。 バスバー、テストパッド、及び短絡用バーを有するインターフェロメトリックモジュレータアレイを例示した図である。 バスバー、テストパッド、及び短絡用バーを有するインターフェロメトリックモジュレータアレイを例示したもう１つの図である。 インターフェロメトリックモジュレータアレイをコンディショニングするための交流方形電圧波形を例示したグラフである。 インターフェロメトリックモジュレータアレイをコンディショニングするための三角電圧波形を例示したグラフである。

Claims (38)

  1. インターフェロメトリックモジュレータディスプレイを試験する方法であって、電圧印加／電流測定方法を用いて前記ディスプレイ内の少なくとも２本の伝導性リード線間における抵抗を測定することを具備し、前記伝導性リード線は、前記ディスプレイ内の表示素子を駆動するために使用され、前記電圧印加／電流測定方法により印加される電圧は、前記表示素子を駆動するために必要な電圧よりも低い試験方法。
  2. 前記抵抗を測定することに基づいて前記少なくとも２本の伝導性リード線間における短絡を特定することをさらに具備する請求項１に記載の方法。
  3. 前記抵抗を測定することに基づいて前記少なくとも２本の伝導性リード線間における開路を特定することをさらに具備する請求項１に記載の方法。
  4. 前記印加電圧は、隣接する伝導性リード線ロー間に印加される請求項１に記載の方法。
  5. 前記印加電圧は、隣接する伝導性リード線コラム間に印加される請求項１に記載の方法。
  6. 前記印加電圧は、１つ以上の伝導性リード線ロー又は伝導性リード線コラムの反対側の端部間に印加される請求項１に記載の方法。
  7. 前記印加電圧は、重なり合っている伝導性リード線ロー及び伝導性リード線コラムの間に印加される請求項１に記載の方法。
  8. ＭＥＭＳディスプレイ内の伝導性リード線間における抵抗を測定する方法であって、
    前記ディスプレイ内の少なくとも２本の伝導性リード線に対して制御電圧を印加することであって、前記伝導性リード線は、前記ディスプレイ内の表示素子を駆動するために使用されることと、
    前記印加した電圧に対応して前記伝導性リード線内を流れる電流を測定することと、
    前記測定した電流に基づいて抵抗を測定すること、とを具備する方法。
  9. 前記反射型ディスプレイは、インターフェロメトリックモジュレータを具備する請求項８に記載の方法。
  10. 前記印加した電圧は、前記ディスプレイ内の１つ以上のインターフェロメトリックモジュレータを作動させるために必要な電圧よりも低い請求項９に記載の方法。
  11. 前記印加した電圧は、時間とともに変化する電圧波形である請求項１０に記載の方法。
  12. 前記時間とともに変化する電圧波形は、正弦電圧波形である請求項１１に記載の方法。
  13. 前記時間とともに変化する電圧は、前記ディスプレイ内のインターフェロメトリックモジュレータに対して正味ゼロ電荷を供給する請求項１１に記載の方法。
  14. 前記抵抗を測定することに基づいて前記少なくとも２本の伝導性リード線間における短絡を特定することをさらに具備する請求項８に記載の方法。
  15. 前記抵抗を測定することに基づいて前記少なくとも２本の伝導性リード線間における開路を特定することをさらに具備する請求項８に記載の方法。
  16. 前記制御電圧は、隣接する伝導性リード線ロー間に印加される請求項８に記載の方法。
  17. 前記制御電圧は、隣接する伝導性リード線コラム間に印加される請求項８に記載の方法。
  18. 前記制御電圧は、１つ以上の伝導性リード線ロー又は伝導性リード線コラムの反対側の端部間に印加される請求項８に記載の方法。
  19. 前記制御電圧は、重なり合っている伝導性リード線ロー及び伝導性リード線コラムの間に印加される請求項８に記載の方法。
  20. インターフェロメトリックモジュレータディスプレイを試験する方法であって、
    前記ディスプレイ内の少なくとも２本の伝導性リード線に対して制御電圧を印加することであって、前記伝導性リード線は、前記ディスプレイ内のインターフェロメトリックモジュレータを駆動するために使用されることと、
    前記制御電圧に対応して前記伝導性リード線内を流れる電流を測定することと、
    前記ディスプレイがディスプレイとして使用する上で望ましい電気的特性を有していることを前記電流を測定することに基づいて特定すること、とを具備する方法。
  21. 前記電気的特性を有していることを特定することは、伝導性リード線間において予め定められた短絡数だけの短絡を検出することを含む請求項２０に記載の方法。
  22. 前記電気的特性を有していることを特定することは、伝導性リード線間において予め定められた開路数だけの開路を検出することを含む請求項２０に記載の方法。
  23. インターフェロメトリックモジュレータディスプレイのコンディショニングを行う方法であって、前記ディスプレイを使用する前に電圧波形を前記ディスプレイに加えることを具備し、前記電圧波形は、前記ディスプレイ内の少なくとも１つのインターフェロメトリックモジュレータを作動させる上で十分に高い振幅を有しており、前記電圧波形は、前記ディスプレイ内の前記インターフェロメトリックモジュレータに対して正味ゼロ電荷を供給するコンディショニング方法。
  24. 前記電圧波形は、前記ディスプレイ内の実質的にすべての素子に同時に印加される請求項２３に記載の方法。
  25. 前記電圧波形は、交流方形波形を含む請求項２３に記載の方法。
  26. 前記電圧波形は、三角波形を含む請求項２３に記載の方法。
  27. 前記電圧波形は、三角波形、その後に交流方形波形、その後に定電圧、その後に第２の交流方形波形が続く波形を含む請求項２３に記載の方法。
  28. 前記インターフェロメトリックモジュレータディスプレイ内の２本の伝導性リード線間における短絡を最初に検出することをさらに具備する請求項２３に記載の方法。
  29. 前記インターフェロメトリックモジュレータディスプレイ内の２本の伝導性リード線間における開路を最初に検出することをさらに具備する請求項２３に記載の方法。
  30. ディスプレイ内における短絡を修理する方法であって、短絡が測定されている少なくとも２本の伝導性リード線に電圧を印加することであって、前記電圧は、前記伝導性リード線が通る少なくとも１つの表示素子を駆動する上で十分な電圧であることを具備する修理方法。
  31. 前記ディスプレイは、インターフェロメトリックモジュレータを含む請求項３０に記載の方法。
  32. 前記電圧波形は、正味ゼロ電圧を前記表示素子に供給される電圧波形である請求項３０に記載の方法。
  33. 前記電圧波形は、交流方形波形を含む請求項３０に記載の方法。
  34. 前記電圧波形は、三角波形を含む請求項３０に記載の方法。
  35. インターフェロメトリックモジュレータディスプレイであって、電圧印加／電流測定方法を用いて前記インターフェロメトリックモジュレータディスプレイ内の少なくとも２本の伝導性リード線間における抵抗を測定することを具備する試験方法によって試験され、前記伝導性リード線は、前記ディスプレイ内の表示素子を駆動するために使用され、前記電圧印加／電流測定方法において印加される電圧は、前記表示素子を駆動するために必要な電圧よりも低いインターフェロメトリックモジュレータディスプレイ。
  36. 前記試験方法は、前記抵抗を測定することに基づいて前記少なくとも２本の伝導性リード線間における短絡又は開路を特定することをさらに具備する請求項３５に記載のディスプレイ。
  37. 前記試験方法は、１つ以上の伝導性リード線ロー又は伝導性リード線コラムの反対側の端部間に前記印加電圧を印加することをさらに具備する請求項３５に記載のディスプレイ。
  38. 前記試験方法は、重なり合っている伝導性リード線ロー及び伝導性リード線コラムの間に前記印加電圧を印加することをさらに具備する請求項３５に記載のディスプレイ。
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