JP2006081985A - パターン形成方法、電子機器の製造方法、および基体の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 パターン形成方法は、(m、n)の着弾可能位置と第1液滴の第1投影像の中心とがほぼ一致する場合の前記第1投影像の範囲と、(m+i、n+j)の着弾可能位置と第2液滴の第2投影像の中心とがほぼ一致する場合の前記第2投影像の範囲とが、前記物体表面上のパターン形成領域内に位置するように、前記パターン形成領域を縁取るバンクパターンを形成するステップを含んでいる。そして、前記第1液滴と前記第2液滴とが、前記パターン形成領域上で広がった後で互いに合流するように、前記(m、n)の着弾可能位置と前記(m+i、n+j)の着弾可能位置との間の距離が決められている。
【選択図】 図8
Description
本実施形態のデバイス製造装置を説明する。図1に示すデバイス製造装置1は、液晶表示装置の製造装置の一部である。そして、デバイス製造装置1は、液滴吐出装置100と、クリーンオーブン150と、搬送装置170と、を含んでいる。液滴吐出装置100は、基体10(図2)に導電性材料の液滴を吐出して、基体10に導電性材料層を設ける装置である。一方、クリーンオーブン150は、液滴吐出装置100によって設けられた導電性材料層を活性化して、導電層を形成する装置である。
図2に示すように、液滴吐出装置100はいわゆるインクジェット装置である。具体的には、液滴吐出装置100は、導電性材料8Aを保持するタンク101と、チューブ110と、グランドステージGSと、吐出ヘッド部103と、ステージ106と、第1位置制御装置104と、第2位置制御装置108と、制御装置112と、支持部104aと、ヒータ140と、を備えている。
次に、ヘッド114を詳細に説明する。図3(a)に示すように、ヘッド114は、複数のノズル118を有するインクジェットヘッドである。そして、ヘッド114は吐出ヘッド部103においてキャリッジ103Aによって固定されている。図3(b)に示すように、ヘッド114は、振動板126と、ノズル118の開口を規定するノズルプレート128と、を備えている。そして、振動板126と、ノズルプレート128と、の間には、液たまり129が位置しており、この液たまり129には、図示しない外部タンクから孔131を介して供給される導電性材料8Aが常に充填される。
次に、制御装置112の構成を説明する。図4に示すように、制御装置112は、入力バッファメモリ200と、記憶装置202と、処理部204と、走査駆動部206と、ヘッド駆動部208と、を備えている。入力バッファメモリ200と処理部204とは相互に通信可能に接続されている。処理部204と、記憶装置202と、走査駆動部206と、ヘッド駆動部208とは、図示しないバスによって相互に通信可能に接続されている。
次に、「最小吐出周期Tm」を説明する。最小吐出周期Tmは、1つのノズル118から液滴Dを連続して吐出し得る最小の時間間隔を意味する。最小吐出周期Tmは、液状の材料の粘性、およびノズル118の径の大きさなどに依存して決まる。最小吐出周期Tmよりも短い時間間隔では、1つのノズル118から続けて液滴Dを吐出することは困難なことがある。ノズル118内で、液状の材料が形成するメニスカスが安定しない場合があるからである。なお、最小吐出周期Tmの逆数を最大吐出周波数Fmと表記する。
(F1.パターン形成領域の形成)
以下では、直線状のパターン形成領域の形成方法を説明する。パターン形成領域は、CP(m、n)を中心とした液滴Dの投影像の範囲を含む。さらに、上記パターン形成領域は、CP(m+i、n+j)を中心とした液滴Dの投影像の範囲を含む。ここで、「m」は、0より大きくM未満の整数である。「n」は、0より大きくN未満の整数である。「i」は、0以外の整数であって、(−m)より大きく(M−m)以下の整数である。「j」は、0以外の整数であって、(−n)より大きく(N−n)以下の整数である。
次に、CP(m、n)で表される着弾可能位置CAに向けて第1の液滴Dを吐出するとともに、CP(m+i、n+j)で表される着弾可能位置CAに向けて第2の液滴Dを吐出して、パターン形成領域24A、24B、24C、24Dを覆う導電性材料層8Bを形成する。なお、本実施形態では、1つのノズル118から17個の着弾位置CPのすべてにそれぞれの液滴Dを吐出する。ただし、もちろん、図3(a)に示した複数のノズル118から液滴Dを吐出してもよい。
パターン形成領域24A、24B、24C、24Dのすべてに導電性材料層8Bが設けられた後で、導電性材料層8Bを活性化させて導電層8を得る。具体的には、導電性材料層8Bを焼成(加熱)して、導電性材料層8Bに含まれる銀粒子を燒結または融着させる。そのために、搬送装置170が基板10Aを液滴吐出装置100から取り上げて、クリーンオーブン150中に搬入する。そうすると、クリーンオーブン150は基板10Aを焼成(加熱)する。
本発明の電子機器の具体例を説明する。図10(a)に示す携帯電話600は、上記実施形態の製造方法によってその配線パターンが形成された液晶表示装置601を備えている。図10(b)に示す携帯型情報処理装置700は、キーボード701と、情報処理本体703と、上記実施形態の製造方法によってその配線パターンが形成された液晶表示装置702と、を備えている。このような携帯型情報処理装置700のより具体的な例は、ワープロ、パソコンである。図10(c)に示す腕時計型電子機器800は、上記実施形態の製造方法によってその配線パターンが形成された液晶表示装置801を備えている。
上記実施形態によれば、直線状のパターン形成領域24A、24B、24C、24Dのそれぞれは、4つ以上の着弾位置CPを含んでいる。しかしながら、1つのパターン形成領域24A(または24B、24C、24D)に含まれる着弾位置CPの数は、2つでもよい。具体的には、互いに隣合う2つの着弾位置CPに着弾した液滴Dが互いに合流できるのであれば、直線状のパターン形成領域に含まれる着弾位置CPの数は2以上のいくつでもよい。
上記実施形態によれば、バンクパターン18がパターン形成領域24A、24B、24C、24Dを縁取る。しかしながら、バンクパターン18の代わりに、撥液パターン58がパターン形成領域24A、24B、24C、24Dを縁取ってもよい。撥液パターン58の形成方法は、以下の通りである。
上記実施形態では、ノズル118がステージ106に対して相対移動する方向は、互いに直交する2つの方向(X軸方向およびY軸方向)の双方に平行である。このため、グリッド30は矩形である。しかしながら、ノズル118がステージ106に対して2次元的に相対移動するのであれば、互いに直交しなくてもよい。つまり、ノズル118は、互いに異なる2つの方向(本発明の第1の方向および第2の方向)に相対移動すればよい。この場合には、上記実施形態のグリッド30の形は平行四辺形になる。
上記実施形態によれば、本実施形態のパターン形成方法を用いて配線パターンが形成される。ただし、本発明のパターン形成方法は、配線パターンの形成方法の形態に限定されない。本発明のパターン形成方法は、配線パターン代えて、絶縁材料層からなるパターンの形成方法に適用されてもよい。
上記実施形態によれば、クリーンオーブン150による加熱によって導電性材料層8Bを最終的に活性化させる。ただし、加熱することに代えて、紫外域・可視光域の波長の光、またはマイクロウェーヴなどの電磁波を照射することで、これら導電性材料層8Bを活性化してもよい。また、このような活性化に代えて、導電性材料層8Bを単に乾燥させてもよい。付与された導電性材料層8Bを放置するだけでも導電層8が生じるからである。ただし、導電性材料層8Bを単に乾燥させる場合よりも、何らかの活性化を行う場合の方が、導電層8の生成時間が短い。このため、導電性材料層8Bを活性化することがより好ましい。
上記実施形態では、直線状のパターン形成領域24A、24Cは、X軸方向に平行でない。そして、パターン形成領域24AとX軸方向とがなす角度は、パターン形成領域24CとX軸方向とがなす角度と同じである。しかしながら、X軸方向に平行でないパターン形成領域24A、24Cが、X軸方向に対して互いに異なる角度を呈してもよい。つまり、パターン形成領域24AとX軸方向とがなす角度と、パターン形成領域24CとX軸方向とがなす角度とが異なっていてもよい。
Claims (13)
- ノズルから第1液滴および第2液滴を吐出する液滴吐出装置を用いて、物体表面にパターンを形成するパターン形成方法であって、
前記物体表面上の座標を整数であるmおよびnを用いて表すとともに、0以外の2つの整数をiおよびjで表す場合に、(m、n)の着弾可能位置と前記第1液滴の第1投影像の中心とがほぼ一致する場合の前記第1投影像の範囲と、(m+i、n+j)の着弾可能位置と前記第2液滴の第2投影像の中心とがほぼ一致する場合の前記第2投影像の範囲とが、前記物体表面上のパターン形成領域内に位置するように、前記パターン形成領域を縁取るバンクパターンを形成するステップ(A)と、
前記(m、n)の着弾可能位置へ前記第1液滴を吐出するとともに前記(m+i、n+j)の着弾可能位置へ前記第2液滴を吐出して、前記パターン形成領域を被うパターンを形成するステップ(B)と、
を含み、
前記第1液滴と前記第2液滴とが、前記パターン形成領域上で広がった後で互いに合流するように、前記(m、n)の着弾可能位置と前記(m+i、n+j)の着弾可能位置との間の距離が決められている、
パターン形成方法。 - 請求項1記載のパターン形成方法であって、
前記ステップ(A)は、直線状または曲線状の2つの前記パターン形成領域が得られるように、前記バンクパターンを形成するステップを含み、
前記2つのパターン形成領域は互い平行である、
パターン形成方法。 - 請求項1記載のパターン形成方法であって、
前記ステップ(A)は、直線状または曲線状の2つの前記パターン形成領域が得られるように、前記バンクパターンを形成するステップを含み、
前記2つのパターン形成領域は互いに平行でない、
パターン形成方法。 - 請求項3記載のパターン形成方法であって、
直線状の前記2つのパターン形成領域が互いに連結されており、
前記2つのパターン形成領域の一方は第1方向に平行であり、
前記2つのパターン形成領域の他方は前記第1方向に対して0°より大きいとともに90°未満の角度をなし、
前記ステップ(B)は、前記一方のパターン形成領域における前記着弾可能位置へ第1体積の前記液滴を吐出するとともに、前記他方のパターン形成領域における前記着弾可能位置へ前記第1の体積より小さい第2の体積の前記液滴を吐出するステップを含んでいる、
パターン形成方法。 - ノズルから第1液滴および第2液滴を吐出する液滴吐出装置を用いて、物体表面にパターンを形成するパターン形成方法であって、
前記物体表面上の座標を整数であるmおよびnを用いて表すとともに、0以外の2つの整数をiおよびjで表す場合に、(m、n)の着弾可能位置と前記第1液滴の第1投影像の中心とがほぼ一致する場合の前記第1投影像の範囲と、(m+i、n+j)の着弾可能位置と前記第2液滴の第2投影像の中心とがほぼ一致する場合の前記第2投影像の範囲とが、前記物体表面上のパターン形成領域内に位置するように、前記パターン形成領域を縁取る撥液パターンを形成するステップ(A)と、
前記(m、n)の着弾可能位置へ前記第1液滴を吐出するとともに前記(m+i、n+j)の着弾可能位置へ前記第2液滴を吐出して、前記パターン形成領域を被うパターンを形成するステップ(B)と、
を含み、
前記第1液滴と前記第2液滴とが、前記パターン形成領域上で広がった後で互いに合流するように、前記(m、n)の着弾可能位置と前記(m+i、n+j)の着弾可能位置との間の距離が決められている、
パターン形成方法。 - 請求項5記載のパターン形成方法であって、
前記ステップ(A)は、直線状または曲線状の2つの前記パターン形成領域が得られるように、前記撥液パターンを形成するステップを含み、
前記2つのパターン形成領域は互いに平行である、
パターン形成方法。 - 請求項5記載のパターン形成方法であって、
前記ステップ(A)は、直線状または曲線状の2つの前記パターン形成領域が得られるように、前記撥液パターンを形成するステップを含み、
前記2つのパターン形成領域は互いに平行でない、
パターン形成方法。 - 請求項7記載のパターン形成方法であって、
直線状の前記2つのパターン形成領域が互いに連結されており、
前記2つのパターン形成領域の一方は第1方向に平行であり、
前記2つのパターン形成領域の他方は前記第1方向に対して0°より大きいとともに90°未満の角度をなし、
前記ステップ(B)は、前記一方のパターン形成領域における前記着弾可能位置に向けて第1体積の前記液滴を吐出するとともに、前記他方のパターン形成領域における前記着弾可能位置に向けて前記第1の体積より小さい第2の体積の前記液滴を吐出するステップを含んでいる、
パターン形成方法。 - 請求項1または5記載のパターン形成方法であって、
前記液滴吐出装置は、互いに異なる第1方向および第2方向に前記ノズルを相対移動させて複数の前記着弾可能位置のそれぞれへ複数の前記液滴を前記ノズルから選択的に吐出するように、構成されており、
前記複数の着弾可能位置は前記第1方向と前記第2方向とに平行なグリッドを構成しており、
前記複数の着弾可能位置の前記第1方向に沿った第1ピッチは、前記ノズルの前記第1方向への相対移動速度と、前記液状の材料に対応する最小吐出周期と、に基づいて決められており、
前記複数の着弾可能位置の前記第2方向に沿った第2ピッチは、前記ノズルの前記第2方向への相対移動ピッチによって決まっている、
パターン形成方法。 - 請求項1から9のいずれか一つに記載のパターン形成方法であって、
前記液状の材料は導電性材料である、
パターン形成方法。 - 請求項9記載のパターン形成方法を包含した電子機器の製造方法。
- 互いに異なる第1方向および第2方向にノズルを相対移動させて前記ノズルから第1液滴と第2液滴とを吐出する液滴吐出装置によって前記第1液滴と第2液滴とが付与されるパターン形成領域、を備えた基体の製造方法であって、
前記基体の表面上の座標を整数であるmおよびnを用いて表すとともに、0以外の2つの整数をiおよびjで表す場合に、(m、n)の位置と前記第1液滴の第1投影像の中心とがほぼ一致する場合の前記第1投影像の範囲と、(m+i、n+j)の位置と前記第2液滴の前記第2投影像の中心とがほぼ一致する場合の前記第2投影像の範囲とが、前記パターン形成領域内に位置するように、前記パターン形成領域を縁取るバンクパターンを形成するステップを含み、
前記第1液滴と前記第2液滴とが、前記パターン形成領域上で広がった後で互いに合流するように、前記(m、n)の位置と前記(m+i、n+j)の位置との間の距離が決められている、
基体の製造方法。 - 互いに異なる第1方向および第2方向にノズルを相対移動させて前記ノズルから第1液滴と第2液滴とを吐出する液滴吐出装置によって前記第1液滴と第2液滴とが付与されるパターン形成領域、を備えた基体の製造方法であって、
前記基体の表面上の座標を整数であるmおよびnを用いて表すとともに、0以外の2つの整数をiおよびjで表す場合に、(m、n)の位置と前記第1液滴の第1投影像の中心とがほぼ一致する場合の前記第1投影像の範囲と、(m+i、n+j)の位置と前記第2液滴の前記第2投影像の中心とがほぼ一致する場合の前記第2投影像の範囲とが、前記パターン形成領域内に位置するように、前記パターン形成領域を縁取る撥液パターンを形成するステップを含み、
前記第1液滴と前記第2液滴とが、前記パターン形成領域上で広がった後で互いに合流するように、前記(m、n)の位置と前記(m+i、n+j)の位置との間の距離が決められている、
を含んだ基体の製造方法。
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