CN100455438C - 图案形成方法、电子仪器的制造方法和基体的制造方法 - Google Patents

Abstract

设置一种与薄膜图案对应的贮格围堰图案或疏液图案，使其能够在相对于液滴喷出装置的扫描方向倾斜延伸的部分形成良好的薄膜图案。本发明的图案的形成方法包括：形成包围所述图案形成区域的贮格围堰图案的步骤，使(m、n)的可弹落位置与第一液滴的第一投影图像的中心大体一致情况下的所述的第一投影图像的范围，和(m+i、n+j)的可弹落位置与所述的第二液滴的第二投影图像的中心大体一致情况下的所述的第二投影图像的范围，位于所述的物体表面上的图案形成区域内。而且所述的第一液滴和所述的第二液滴，由所述的(m、n)的可弹落位置与所述的(m+i、n+j)的可弹落位置之间的距离所决定，使其在所述图案形成区域上扩展后互相合流。

Description

图案形成方法、电子仪器的制造方法和基体的制造方法

技术领域

本发明涉及利用液滴喷出装置的图案形成方法，更具体讲，本发明涉及适于形成电子仪器中配线图案的图案形成方法，和设置配线图案的基体的制造方法。

背景技术

利用液滴喷出装置形成相对于网格基准线成45度角度的金属配线的图案是已知的(专利文献1)。

专利文献1：特开2001-318514号公报

如图13所示，以在由贮格围堰(bank)图案308或疏液图案包围(镶边)的部分324上喷出液滴D而形成图案的情况下，一部分被喷出的液滴D处于贮格围堰图案308(或疏液图案)上，其结果在贮格围堰图案308(或疏液图案)上往往产生液滴D的残渣。而且，图13的贮格围堰图案308由两个贮格围堰部308B构成。

发明内容

本发明正是鉴于上述问题而提出的，其目的之一在于设置一种与薄膜图案对应的贮格围堰图案或疏液图案，使其能够相对于液滴喷出装置的扫描方向在倾斜延伸的部分上形成良好的薄膜图案。

本发明的图案形成方法，是使用从喷嘴喷出第一液滴和第二液滴的液滴喷出装置而在物体表面上形成图案的图案形成方法，其中包括：步骤(A)和步骤(B)，所述步骤(A)，形成包围图案形成区域的贮格围堰图案，以使当用整数m和n表示所述物体表面上的坐标，同时用i和j表示0以外的两个整数的情况下，坐标(m、n)的可弹落位置和所述第一液滴的第一投影图像的中心大体一致情况下的所述第一投影图像的范围，与坐标(m+i、n+j)的可弹落位置和所述第二液滴的第二投影图像的中心大体一致情况下的所述第二投影图像的范围，位于所述物体表面上的所述图案形成区域内；所述步骤(B)，向所述坐标(m、n)的可弹落位置喷出所述第一液滴，同时向所述坐标(m+i、n+j)的可弹落位置喷出所述第二液滴，形成将所述图案形成区域覆盖的图案；所述第一液滴和所述第二液滴，由所述坐标(m、n)的可弹落位置与所述坐标(m+i、n+j)的可弹落位置之间的距离所决定，使弹落在同一图案形成区域中的相互相邻的两个弹落位置的液滴扩展后互相合流。

采用上述构成可以得到的效果之一是，来自液滴喷出装置的液滴不会处于贮格围堰图案上，能设置任意形状的图案。

根据本发明的某种实施方式，所述步骤(A)包括形成所述贮格围堰图案的步骤，以便得到直线状或曲线状的两个所述图案形成区域。而且所述两个图案形成区域互相平行。

采用上述构成可以得到的效果之一是，能够形成互相平行的两个图案。

根据本发明的其他实施方式，所述步骤(A)包括形成所述贮格围堰图案的步骤，以便得到直线状或曲线状的两个所述图案形成区域。而且，所述两个图案形成区域互相不平行。

采用上述构成可以得到的效果之一是，能够形成互相不平行的两个图案。

根据本发明的另一实施方式，直线状的所述两个图案形成区域被互相连接。其中，所述两个图案形成区域的一个区域与第一方向平行。而且所述两个图案形成区域中的另一区域，相对于所述第一方向形成大于0度但小于90度的角度。此外，所述步骤(B)包括：向所述一个图案形成区域中所述可弹落位置喷出第一体积的所述液滴，同时向所述另一个图案形成区域中所述可弹落位置喷出比所述第一体积小的体积的所述液滴步骤。

采用上述构成可以得到的效果之一是，在与第一方向成上述角度的图案形成区域上能够喷出第一体积的液滴，同时能够向与第一方向平行的图案形成区域喷出比第一体积小的第二体积的液滴。

所述液滴喷出装置优选构成得能使所述喷嘴沿着互相不同的第一方向和第二方向相对移动，从所述喷嘴选择性地分别向多个所述可弹落位置喷出多个所述液滴。其中，所述多个可弹落位置构成与所述第一方向和所述第二方向平行的网格。而且，所述多个可弹落位置沿着所述第一方向的第一间距，基于所述喷嘴朝着所述第一方向的相对移动速度，和与所述液滴的材料对应的最小喷出周期决定。此外，所述多个可弹落位置沿着所述第二方向的第二间距，基于所述喷嘴朝着所述第二方向的相对移动间距决定。

采用上述构成可以得到的效果之一是，能够以与液滴的材料对应的最小喷出周期喷出液滴的材料的液滴，形成图案。

根据本发明的某种实施方式，所述液滴的材料是导电性材料。

采用上述构成可以得到的效果之一是，能使液滴不会落在贮格围堰图案上，形成相对于喷嘴的相对移动方向倾斜延伸的配线图案。

本发明的某一种实施方式中，电子仪器的制造方法包括上述图案形成方法。

采用上述构成可以得到的效果之一是，能够用液滴喷出装置形成电子仪器的配线图案。

本发明还可以采用上述实施方式以外的各种实施方式实现。例如能够以形成疏液图案的方式，来代替步骤(A)形成贮格围堰图案。

本发明的基体的制造方法，是具备图案形成区域的基体的制造方法，其利用使喷嘴沿着互相不同的第一方向和第二方向相对移动和从所述喷嘴喷出第一液滴和第二液滴的液滴喷出装置，来赋予所述第一液滴和第二液滴，所述制造方法包括：形成包围所述图案形成区域的贮格围堰图案的步骤，以使当用整数m和n表示所述基体的表面上的坐标，同时用i和j表示0以外的两个整数的情况下，坐标(m、n)的位置和所述第一液滴的第一投影图像的中心大体一致情况下的所述第一投影图像的范围，与坐标(m+i、n+j)的位置和所述第二液滴的第二投影图像的中心大体一致情况下的所述第二投影图像的范围，位于所述图案形成区域内，所述第一液滴和所述第二液滴，由所述坐标(m、n)的位置与所述坐标(m+i、n+j)的位置之间的距离所决定，使弹落在同一图案形成区域中的相互相邻的两个弹落位置的液滴扩展后互相合流。而且形成贮格围堰图案的步骤，也可以是形成疏液图案的步骤。

可以在来自液滴喷出装置的液滴不会处于贮格围堰图案上的情况下，在上述制造方法制造的基体上设置任意形状的图案。

附图说明

图1是表示本实施方式的器件制造装置的模式图。

图2是表示本实施方式中液滴喷出装置的模式图。

图3(a)是表示本实施方式的喷头部中喷头底部的示意图，图3(b)是表示喷头中一个喷出部的模式图。

图4是表示本实施方式的液滴喷出装置中控制装置的功能方框图。

图5是表示本实施方式中喷出数据的示意图。

图6(a)～(d)是说明由贮格围堰图案包围的图案形成区域的形成方法的图。

图7(a)～(d)是说明由贮格围堰图案包围的图案形成区域的形成方法的图。

图8是表示由贮格围堰图案包围的图案形成区域的模式图。

图9是表示在本实施方式的图案形成区域形成导电层方法的模式图。

图10是表示本实施方式中电子仪器的模式图。

图11是表示本实施方式中图案形成区域的变形例的模式图。

图12(a)～(c)是表示被疏液图案所包围的图案形成区域的形成方法的模式图。

图13是表示将被贮格围堰图案包围的线状部分与互相相邻的两个弹落位置连接的直线，互相不平行时的模式图。

图中：

CA…可弹落位置，CP…弹落位置，10…基体，10A…基板，12…HMDS层，16Q…保护层，18…贮格围堰图案，24A、24B、24C、24D…图案形成区域，30…网格，58…疏液区域，100…液滴喷出装置，106…台架，112…控制装置，114…喷头，118…喷嘴。

具体实施方式

(A.器件制造装置的总体结构)

以下说明本实施方式的器件制造装置。图1所示的器件制造装置1，是液晶显示装置的制造装置的一部分。而且器件制造装置1，包括液滴喷出装置100、净化炉(clean oven)150和输送装置170。液滴喷出装置100，是向基体10(图2)上喷出导电性材料的液滴，在基体10上设置导电性材料层的装置。另一方面，净化炉150是使液滴喷出装置100设置的导电性材料层活化，形成导电层的装置。

输送装置170备有叉部、使叉部上下移动的驱动部和自行走部。而且输送装置170依照液滴喷出装置100、净化炉150的顺序输送基体10，使基体10受到分别处理。以下详细说明液滴喷出装置100的结构和功能。

(B.液滴喷出装置的构成)

如图2所示，液滴喷出装置100是所谓的喷墨装置。具体讲，液滴喷出装置100备有：保存导电性材料8A的储罐101；管道110；基架GS；喷头部103；台架106；第一位置控制装置104；第二位置控制装置108；控制装置112；支持部104a；和加热器140。

喷头部103保持喷头114(图3)。喷头114根据来自控制装置112的驱动信号，喷出导电性材料8A。而且喷头部103中的喷头114，事先由管道110与储罐101连接，因此可以从储罐101向喷头114供给导电性材料8A。

台架106提供固定基体10用的平面。台架106的这个平面，与X轴方向和Y轴方向平行。此外台架106具有利用吸引力固定基体10的位置的功能。

第一位置控制装置104，被支持部104a固定在距离基架GS预定高度的位置上。这种第一位置控制装置104，具有根据来自控制装置112的信号，使喷头部103沿着X轴方向和与X轴方向正交的Z轴方向移动的功能。此外第一位置控制装置104，还有使喷头部103沿着与Z轴平行的轴旋转的功能。其中在本实施方式中，Z轴方向是与垂直方向(即重力加速度的方向)平行的方向。

第二位置控制装置108，根据来自控制装置112的信号，使台架106在基架GS上向Y轴方向移动。其中Y轴方向，是与X轴方向和Z轴方向二者正交的方向。

具有上述功能的第一位置控制装置104的构成和第二位置控制装置108的构成，可以采用利用了线型马达和伺服马达的公知的机器人加以实现。因此，这里省略对其详细结构的说明。而且在本说明书中，第一位置控制装置104和第二位置控制装置108也记作“机器人”或“扫描部”。

而且本实施方式中的X轴方向、Y轴方向和Z轴方向，与喷头部103和台架106中任何一方对他方相对移动的方向一致。其中，X轴方向也可以称作“非扫描方向”。而且Y轴方向也可以称作“扫描方向”。而且规定X轴方向、Y轴方向和Z轴方向的XYZ座标系的假想的原点，被固定在液滴喷出装置100的基准部分。此外在本说明书中，所述X座标、Y座标和Z座标，是这种XYZ座标系中的座标。另外，上述的假想的原点，不仅基准部分，而且也可以被固定在台架106上，或者被固定在喷头部103上。

如上所述，借助于第一位置控制装置104使喷头部103向X轴方向移动。而且借助于第二位置控制装置108，使基体10与台架106一起向Y轴方向移动。其结果，喷头114与基体10的相对位置将会发生变化。更具体讲，喷头部103、喷头114或喷嘴118(图3)，借助于这些动作，一边保持相对于基体10在Z轴方向上具有所定距离，一边在X轴方向和Y轴方向上作相对移动，即相对扫描。所述“相对移动”或“相对扫描”，是指喷出导电性材料8A的液滴侧，和其中液滴的弹落侧(基体10)中之至少相对于另一方相对移动。而且在本说明书中，即使仅使基体10或台架106移动，使喷嘴118静止的情况下，也可以表现为“喷嘴118相对移动”。

控制装置112，被构成得能够接受来自外部信息处理装置的喷出数据。控制装置112将接受的喷出数据存储在内部存储装置202(图4)中，同时根据所存储的喷出数据，控制第一位置控制装置104、第二位置控制装置108和喷头114。这里所述“喷出数据”是指，包括表示应当喷出导电性材料8A的液滴相对位置信息的数据。本实施方式中，喷出数据具有喷位映象(bit map)数据的数据形式。

具有上述构成的情况下，液滴喷出装置100可以根据喷出数据使喷头114的喷嘴118(图3)相对于基体10作相对移动，同时从喷嘴118朝着所设定的弹落位置喷出导电性材料8A的液滴。而且，也往往将由液滴喷出装置100产生的喷头114的相对移动，和导电性材料8A的液滴从喷嘴118的喷出统称为“涂布扫描”或“喷出扫描”来记载。

本说明书中，也把导电性材料8A液滴的弹落部分记作“被喷出部”。而且也将弹落的液滴湿润扩展部分记作“被涂布部”。“被喷出部”和“被涂布部”，也都是对基底的物体实施表面改质处理，使导电性材料8A呈现所需的接触角而形成的部分。但是，当即使不进行表面改质处理基底的物体表面对于导电性材料8A也呈现所需的疏液性或亲液性(即弹落的导电性材料8A在基底的物体表面上呈现所需的接触角)的情况下，基底的物体表面本身也可以是“被喷出部”或“被涂布部”。而且在本说明书中，也将被喷出部”记作“靶”或“收容部分”。后述的“图案形成区域”，由这种“被喷出部”和“被涂布部”构成。

其中本实施方式的导电性材料8A，是一种“液体状材料”。“液体状材料”是指，具有以液滴形式从喷头114的喷嘴118喷出粘度的材料。其中液体状材料不论是水性还是油性的均可。若具备能从喷嘴118喷出的充分流动性(粘度)，则即使混入固体物质在总体上是流体即可。其中液体状材料的粘度，优选为1mPa·s以下和50mPa·s以下。粘度为1mPa·s以上的情况下，喷出液体状材料的液滴时，在喷嘴118的周边部分很难被液体状材料污染。另一方面，当粘度为50mPa·s以下的情况下，喷嘴118中的孔堵塞的频度小，因而能够实现液滴的顺利喷出。

导电性材料8A含有分散剂、和能被分散剂分散的导电性粒子。导电性粒子的粒径，优选为1纳米以上、1.0微米以下。若处于1.0微米以下，则喷头114的喷嘴118(图3)产生孔堵塞的可能性小。而且若处于1纳米以上，则由于涂料相对于导电性粒子的体积比适当，所以所得到的膜中的有机物比例适当。

本实施方式中，导电性粒子是平均粒径10纳米的银粒子。而且平均粒径为1纳米左右至数百纳米的粒子，也可以记作“纳米粒子”。根据这种记载方法，本实施方式的导电性材料8A含有银纳米粒子。

(C.喷头)

以下详细说明喷头114。如图3(a)所示，喷头114是具有多个喷嘴118的喷墨头。而且，喷头114被承载器103A固定在喷头部103中。如图3(b)所示，喷头114备有振动板126，和规定喷嘴118开口的喷嘴板128。而且储液槽129的位于振动板126与喷嘴板128之间，借助于孔131从未图示的外部储罐供给的导电性材料8A通常被充填在此储液槽129之中。

此外，多个隔壁的位于振动板126与喷嘴板128之间。而且，被振动板126、喷嘴板128和一对隔壁包围的部分是内腔(cavity)120。内腔120由于是与喷嘴118对应设置的，所以内腔120的数目与喷嘴118的数目相同。借助于位于一对隔壁之间的供给口130从储液槽129向内腔120供给导电性材料8A。而且在本实施方式中，喷嘴118的直径大约为27微米。

各振动元件124，位于振动板126上分别与内腔120对应。各振动元件124包括压电元件和夹持压电元件的一对电极。控制装置112向此一对电极之间供给驱动电压的情况下，可以从对应的喷嘴118喷出导电性材料8A的液滴D。其中从喷嘴118喷出材料的体积，在0pl(皮升)以上和42pl以下之间的范围内可变。其中通过改变驱动电压的波形(所谓可变的点形态学)可以实现改变液滴D的体积。这里可以调整喷嘴118的形状，使导电性材料8A从喷嘴118朝着Z轴方向喷出。

本说明书中，也可以将包括一个喷嘴118、与喷嘴118对应的内腔120、和与内腔120对应的振动元件124的部分记作“喷出部127”。根据这种记载方法，一个喷头114具有与喷嘴118数目相同数目的喷出部127。喷出部127也可以用电热变换元件代替压电元件。也就是说，喷出部127也可以具有利用电热变换元件引起的材料的热膨胀作用，而喷出材料的构成。但是，利用压电元件的喷出，由于对被喷出的液体状材料不加热，所以具有对液体状材料的组成难于产生影响的优点。

(D.控制装置)

以下说明控制装置112的构成。如图4所示，控制装置112备有输入缓冲存储器200、存储装置202、处理部204、扫描驱动部206和喷头驱动部208。输入缓冲存储器200与处理部204互相连接得可以通信。处理部204、存储装置202、扫描驱动部206和喷头驱动部208，利用未图示的总线连接得可以互相通信。

扫描驱动部206，与第一位置控制装置104和第二位置控制装置108连接得可以互相通信。同样，喷头驱动部208，与喷头114连接得也可以互相通信。

输入缓冲存储器200，接受来自位于液滴喷出装置100外部的外部信息处理装置(未图示)的、喷出导电性材料8A的液滴D用的喷出数据。输入缓冲存储器200向处理部204供给喷出数据，处理部204将喷出数据存储在存储装置202之中。图4中，存储装置202是RAM。

处理部204基于存储装置204内的喷出数据，向扫描驱动部206输送表示喷嘴118与被喷出部相对位置的数据。扫描驱动部206，将与此数据和最小喷出周期Tm(后述)对应的台架驱动信号输送给第二位置控制装置108。其结果，喷头部103与被喷出部的相对位置将会发生改变。另一方面，处理部204将基于被存储在存储装置202中的喷出数据、和最小喷出周期Tm的喷出信号输送给喷头114。其结果，可以从喷头114中对应的喷嘴118喷出导电性材料8A的液滴D。

控制装置112是包含CPU、ROM、RAM和总线的计算机。因此，控制装置112的上述功能可以由计算机实行的软件程序加以实现。当然，控制装置112也可以用专用电路(硬件)实现。

(E.网格)

以下说明“最小喷出周期Tm”。最小喷出周期Tm是指能够从一个喷嘴118连续喷出液滴D的最小时间间隔。最小喷出周期Tm可以根据液体状材料的粘度、和喷嘴118的直径大小等来决定。在比最小喷出周期Tm短的时间间隔内，往往难于从一个喷嘴118连续喷出液滴D。这是因为在喷嘴118内液体状材料形成的弯月面有时不稳定的缘故。其中将最小喷出周期Tm的倒数记作最大喷出频率Fm。

本实施方式的液体状材料是导电性材料8A。而且这种导电性材料8A的最小喷出周期Tm约为5×10^-5秒，因此最大喷出频率Fm约为20KHz。

喷头部103与台架106之间的相对位置，在扫描期间内将以700毫米/秒的等速Vy沿着Y轴方向变化。另一方面，当喷头部103的相对位置以等速Vy变化的期间内，喷头114以最小喷出周期Tm喷出液滴D。于是，各液滴将在Y方向上以大约35微米(＝Vy×Tm)的间隔分别弹落在并列的多个可能弹落的位置CA上。因此，在Y轴方向并列的多个可弹落位置CA的间距大约为35微米。

每当一个扫描期间终止后，至下一个扫描期间开始之前，喷嘴118在X轴方向仅移动移动间距dx。在本实施方式中，移动间距dx由于被设定得与间距Ly相同，所以也是约35微米。由于喷嘴118在X轴方向仅移动移动间距dx，所以各液滴D能够分别弹落在X轴方向以约35微米间隔并列的多个可弹落位置CA的各位置上。因此，在X轴方向并列的多个可弹落位置CA的间距Lx，约为35微米。

这样，在X轴方向以间距Lx(约为35微米)并列有多个可弹落位置CA。同样，在Y轴方向以间距Ly(约为35微米)并列有多个可弹落位置CA。因此如图5所示，多个可弹落位置CA在X轴方向和Y轴方向这两个方向上构成平行的网格30。而且这种网格30被包含在扫描范围之内。此外，网格30还在喷出数据中有所规定。其中，本实施方式的网格30中可弹落位置CA的数目，为M×N(M、N是0以上的整数)个。液滴喷出装置100，选择性地向装置这种M×N个可弹落位置CA中任意的可弹落位置CA喷出液滴D。

另外，网格30和30中的可弹落位置CA，也可以作为后述的基板10A的表面所代表的物体表面上的座标使用。

图5图示了一部分网格30。图中5中的多个可弹落位置CA中，决定弹落液滴D的可弹落位置CA是17处。为便于说明，也将决定弹落液滴D的可弹落位置CA记作“弹落位置CP”或“CP(m，n)”。符号“CP”后面的“(m，n)”表示网格30中弹落位置CP的座标。

可弹落位置CA和弹落位置CP均与液滴D投影图像的大体中心位置对应。所谓液滴D的投影图像是指，当从喷嘴118朝向与X轴方向和Y轴方向两个方向平行的平面(XY)平面喷出液滴D的情况下，能使液滴D在XY平面上投影得到的图像。一旦朝向可弹落位置CA(或弹落位置CP)喷出液滴D，液滴D就会以可弹落位置CA为中心，弹落在液滴D的投影图像的范围内。弹落之后，液滴D将从投影图像的范围向外扩展。

本实施方式中，液滴D的投影图像大体是圆形，其直径是Φ。因此，一旦朝向可弹落位置CA(或弹落位置CP)喷出液滴D，液滴D就会以可弹落位置CA为中心，弹落在液滴D投影图像半径Φ/2所决定的范围内。

图5中，CP(m、n)、CP(m+1、n-2)、CP(m+2、n-4)、CP(m+3、n-6)、CP(m+4、n-8)，位于倾斜度(-2)的斜线L1上。CP(m+4、n-8)、CP(m+6、n-8)、CP(m+8、n-8)、CP(m+10、n-8)、CP(m+12、n-8)、CP(m+14、n-8)，位于与X轴平行的平行线L2上。CP(m+5、n)、CP(m+6、n-2)、CP(m+7、n-4)、CP(m+8、n-6)，位于倾斜度(-2)的斜线L3上。CP(m+8、n-6)、CP(m+10、n-6)、CP(m+12、n-6)、CP(m+14、n-6)，位于与X轴平行的平行线L4上。

(F.图案形成方法)

(F1.图案形成区域的形成)

以下说明直线状图案形成区域的形成方法。图案形成区域，包括以CP(m，n)为中心的液滴D投影图像的范围。此外，上述图案形成区域还包括以CP(m+i，n+j)为中心的液滴D投影图像的范围。其中“m”是大于0小于M的整数。“n”是大于0小于N的整数。“i”是0以外的整数，是大于(-m)但(M-m)以下的整数。“j”是0以外的整数，是大于(-n)但(N-n)以下的整数。

首先如图6(a)所示，对具有透光性的基板10A的一个表面全面实施表面改质处理。本实施方式中，基板10A是玻璃基板。而且上述表面的改质处理是HMDS处理。这里所述HMDS处理是指将六甲基二硅氮烷((CH₃)₃SiNHSi(CH₃)₃)制成蒸汽状，在物体表面上涂布的一种方法。通过HM S处理可以在基板10A上形成HMDS层12。然后在HMDS层12上形成贮格围堰图案18(图7(d))。HMDS层12不仅能密接在此贮格围堰图案18上，而且还能密接在基板10A上。因此，HMDS层12具有作为使贮格围堰图案18与基板10A密接的密接层的作用。其中，图6所示的平面，与后述的图8的B’-B截面对应。

接着利用旋涂法在HMDS层12上涂布有机感光性材料。此时应当将有机感光性材料涂布得可以得到后述的贮格围堰18的厚度(高度)。然后，通过光照射使涂布的有机感光性材料固化，如图6(b)所示，形成有机感光性材料层14。在本实施方式中，有机感光性材料层14的厚度约为1微米。

其中本实施方式的有机感光性材料是丙烯树脂。但是代替丙烯树脂，有机感光性材料也可以是聚酰亚胺树脂、烯烃树脂、苯酚树脂和三聚氰胺树脂中的任何高分子材料。而且也可以采用喷涂法、辊涂法、模涂法、蘸涂法等任何方法代替上述的旋涂法。

进而如图6(c)所示，在有机感光性材料层14上涂布负片型的抗蚀剂，形成抗蚀剂层1。而且如图6(d)所示，借助于经遮光掩膜MK将与后述的图案形成区域24A、24B、24C和24D(图8)对应的部分覆盖的光掩膜M1，使抗蚀剂层16曝光。

上述的光掩膜M1制造如下。首先，在玻璃基板上形成铬膜。然后，基于多个弹落位置CP和液滴D的投影图像的直径Φ，将铬膜图案化，得到遮光掩膜MK。具体讲，根据喷出数据、和表示液滴D的投影图像的直径Φ的数据，用电子射线扫描装置或激光扫描装置使铬膜上设置的抗蚀剂选择性地曝光。而且将经过选择性地曝光的抗蚀剂膜显影后，蚀刻铬膜，可以得到遮光掩膜MK。

然后如图7(a)所示，将经过曝光的抗蚀剂层16显影。而且如图7(b)和7(c)所示，蚀刻有机感光性材料层14，将蚀刻后残余的抗蚀剂层16剥离。这样将得到源于有机感光性材料层14、由多个贮格围堰部18B构成的贮格围堰图案18(图8)。其中图7所示的平面，与后述图8中的B’-B截面对应。

贮格围堰图案18将配线图案或薄膜图案的二维形状包围。而且，贮格围堰图案18，在后述工序中起着隔离部件的作用。而且，构成贮格围堰图案18的有机感光性材料由于是丙烯树脂，所以贮格围堰图案18具有透光性。其中代替光刻法形成图案的方法，也可以采用印刷法(所谓完全的活性方法)形成贮格围堰图案18。只要贮格围堰图案18能将配线图案的二维形状包围，也可以用任何方法形成。

这里所述“配线图案的二维形状”，与由配线图案的底面(即与由基板10A规定的平面接触的部分)的形状大体相同。

另外，也可以采用具有无机骨架(硅氧烷键)和有机基团的材料作为贮格围堰图案18的材料。而且还可以形成由下层无机物和上层有机物构成的二层以上的贮格围堰图案(凸部)。进而，不将抗蚀剂层16剥离，也可以残留在贮格围堰图案18上。

贮格围堰图案18具有使在基板10A上设置的HMDS层12露出的多个开口部AP。而且这些多个开口部AP的各自形状，与多个导电层8(图9(d))各自的二维形状大体一致。也就是说，在本实施方式中，贮格围堰图案18具有将后来形成的多个导电层8的各自周围完全包围的形状。而且在本实施方式中，导电层8的图案，与上述的“配线图案”对应。

当然，贮格围堰图案18也可以由分别互相分离的多个贮格围堰部18B构成。例如，在位置仅距离所定距离，而且互相大体平行的一对贮格围堰部18B之间，也可以将一个导电层8的二维形状包围。这种情况下，与导电层8的两端部分对应的部分上也可以没有贮格围堰部18B。也就是说，贮格围堰图案18不必将导电层8的二维形状周围完全包围。

另外，开口部AP的上部宽度，优选比开口部AP底部一侧(基板10A一侧)的宽度宽。这样的话，导电性材料8A的液滴D更容易湿润扩展。

在HMDS层12上形成贮格围堰图案18之后，对基板10A实施氢氟酸处理。氢氟酸处理，例如是用2.5％的氢氟酸溶液对HMDS层12进行蚀刻处理。其中贮格围堰图案18具有掩膜的功能，如图7(d)所示，开口部AP底部的HMDS层12被除去，使基板10A露出。

接着对多个开口部AP的各自底部进行赋予亲液性的亲液化处理。亲液化处理工序，可以选择照射紫外线的紫外线(UV)照射处理，或者在大气气氛下以氧作为处理气体的O₂等离子体处理等。这里实施了O₂等离子体处理。

O₂等离子体处理使之利用未图示的等离子体放电电极对基板10A(基体10)照射等离子体状态氧的一种处理。O₂等离子体处理条件的一个实例是，等离子体功率为50～1000瓦，氧气流量为50～100毫升/分钟，基体10相对于等离子体放电电极的相对移动速度为0.5～10毫米/分钟，基体温度为70～90℃。

其中优选对开口部AP的底部进行亲液化处理工序(这里是O₂等离子体处理)，以便使开口部AP的底部上的液体状的导电性材料8A的接触角处于20度以下。当然，像本实施方式那样，基板10A是玻璃基板的情况下，由于其表面对液体状导电性材料8A已经具有某种程度的亲液性，所以也往往不进行亲液化处理工序。即使这样，若实施O₂等离子体处理或者紫外线照射处理，则由于能够将有可能在开口部AP底部上残存的抗蚀剂和HMDS层的残渣完全除去，所以优选进行这些亲液化处理工序。而且亲液化处理工序，也可以是将O₂等离子体处理与紫外线照射处理组合的工序。

而且由于通过O₂等离子体处理或紫外线照射处理能够充分除去开口部AP底部上的HMDS层12，所以有时也可以不进行上述氢氟酸处理除去HMDS层12的工序。即使这样，若进行上述的氢氟酸处理工序和亲液化工序，由于确实除去开口部AP底部上的HMDS层12，所以优选进行上述的氢氟酸处理和亲液化处理工序。

接着对贮格围堰图案18进行疏液化处理，在其表面上赋予疏液性。作为疏液化处理，采用以四氟化碳(四氟甲烷)作为处理气体的等离子体处理法(CF₄等离子体处理法)。CF₄等离子体处理的条件，例如等离子功率为50～1000瓦，CF₄气体流量为50～100毫升/分钟，基体10相对于等离子放电电极的相对移动速度为0.5～1020毫米/秒，基体温度为70～90℃。而且作为等离子气体，也可以采用其他含氟烃类气体，或者SF₄和SF₅CF₃等气体代替四氟甲烷。

通过进行这种疏液化处理工序，由于在构成贮格围堰图案18的树脂中导入含氟基团，所以可以赋予贮格围堰18的表面以高的疏液性。而且，作为是上述亲液化处理工序的O₂等离子体处理，也可以在贮格围堰图案18形成之前进行。但是，对于丙烯树脂或聚酰亚胺树脂等而言，一旦采用O₂等离子体处理的前处理，由于具有更容易被氟化(疏液化)的性质，所以优选在贮格围堰图案18形成之后再进行O₂等离子体处理。

即使受到针对贮格围堰图案18的疏液化处理工序，开口部AP的底部表面也能实质上维持事先赋予的亲液性。特别是对于本实施方式的基板10A而言，由于是玻璃基板，所以即使经受疏液化处理工序，其表面(开口部AP的底部)上也不会导入含氟基团。因此，不会损害开口部AP底部的亲液性，即湿润性。

但是在本实施方式中，对贮格围堰图案18进行疏液化处理工序之后，再次对开口部AP底部(图案形成区域24)进行氢氟酸处理。若能这样，能使基板10A的表面(玻璃)在开口部AP底部确实露出，其结果可以确实保证开口部AP底部的亲液性。

通过上述的亲液化处理工序和疏液化处理工序，贮格围堰图案18表面的疏液性，与开口部AP底部的疏液性相比增高。本实施方式中，开口部AP的底部应当呈现亲液性。而且如上所述，本实施方式的基板10A由于是由玻璃制成，所以即使进行CF₄等离子体处理也不会在开口部AP的底部上导入含氟基团。因此，即使不进行O₂等离子体处理(亲液化处理工序)而仅仅进行CF₄等离子体处理(疏液化处理工序)，也能使贮格围堰图案18表面的疏液性比开口部AP底部的疏液性更高。但是如上所述，由于具有可以将开口部AP的底部上的残渣完全除去的优点，和贮格围堰图案18容易被氟化的优点，所以在本实施方式中并未省略O₂等离子体处理。

本实施方式中，经历亲液化处理工序的多个开口部AP的底部，分别与图案形成区域24A、24B、24C和24D对应。但是，当开口部AP的底部对导电性材料8A已经呈现所需的亲液性的情况下，却能够像上述那样省略亲液化处理工序。这种情况下，多个开口部AP的底部将直接与图案形成区域24A、24B、24C和24D对应。

这样一来，如图8所示，由贮格围堰图案18将各二维形状分别包围的图案形成区域24A、24B、24C和24D，被设置在基板10A上。在这些图案形成区域24A、24B、24C和24D的各区域上，借助于后述的喷出工序分别设置由导电层8形成的配线图案。而且在本实施方式中，设置了图案形成区域24A、24B、24C和24D后的基板10A，与基体10(图2)对应。

其中直线状图案形成区域24A、24B、24C和24D，分别与直线L1、L2、L3和L4平行(图5)。而且将直线状的图案形成区域24C、24D互相连接。此外，直线状图案形成区域24A、24B、24C和24D的宽度，是指沿着与纵向正交的方向上的长度。

在图案形成区域24A、24B、24C和24D上，有分别与图5所示的17个弹落位置CP对应的17个液滴D的投影图像。在以下的说明中，采用上述的网格30作为表示基板10A上位置的座标。

图案形成区域24A，在CP(m、n)与CP(m+1、n-2)之间具有直线状形状。因此，图案形成区域24A，在CP(m、n)与CP(m+1、n-2)之间具有(-2)的倾斜。同样，图案形成区域24A的形状，在CP(m+1、n-2)与CP(m+4、n-8)之间也是具有(-2)倾斜度的直线状。

图案形成区域24B，在CP(m+4、n-8)与CP(m+6、n-8)之间具有直线状形状。因此，图案形成区域24B，在CP(m+4、n-8)与CP(m+6、n-8)之间与X轴平行。同样，图案形成区域24B的形状，在CP(m+4、n-8)与CP(m+14、n-8)之间也与X方向轴平行。

图案形成区域24C，在CP(m+5、n)与CP(m+6、n-2)之间具有直线状形状。因此，图案形成区域24C，在CP(m+5、n)与CP(m+6、n-2)之间具有(-2)的倾斜。同样，图案形成区域24C在CP(m+6、n-2)与弹落位置(m+8、n-6)之间也是具有(-2)的倾斜度。

图案形成区域24D，在CP(m+8、n-6)与CP(m+10、n-6)之间具有直线状形状。因此，图案形成区域24D在CP(m+8、n-6)与CP(m+10、n-6)之间与X轴平行。同样，图案形成区域24D在CP(m+10，n-6)与CP(m+14、n-6)之间也与X轴方向平行。

(F2.喷出工序)

然后向以CP(m、n)表示的可弹落位置CA喷出第一液滴D，同时向以CP(m+i、n+j)表示的可弹落位置CA喷出第二液滴D，形成将图案形成区域24A、24B、24C和24D覆盖的导电性材料层8B。而且在本实施方式中，从一个喷嘴118向全部17个弹落位置喷出各自的液滴D。但是当然也可以从图3(a)所示的滴数喷嘴118喷出液滴D。

首先将设置了图案形成区域24A、24B、24C和24D的基体10定位在液滴喷出装置100的台架106上。其结果，图案形成区域24A、24B、24C和24D的各自表面将与X轴方向和Y轴方向平行。

而且液滴喷出装置100，根据喷出数据朝向图案形成区域24A、24B、24C和24D上的弹落位置CP喷出液滴D。于是得到将图案形成区域24A、24B、24C和24D覆盖的导电性材料层8B。

具体讲，液滴喷出装置100，沿着Y轴方向的正向以等速Vy从扫描范围的一端向另一端使喷嘴118与基体10的相对为止发生变化。而且如图9(a)所示，每当喷嘴118到达与弹落位置CP对应的位置时，液滴喷出装置100就会从喷嘴118喷出导电性材料8A的液滴D。当喷嘴118的相对位置到达扫描范围的另一端的情况下，通过使喷嘴118向X轴方向仅移动间距dx，液滴喷出装置100就能使喷嘴118相对于基体10的相对位置朝着Y轴方向的负向以等速Vy发生变化。而且每当喷嘴118与弹落位置CP对应时，就会从喷嘴118喷出导电性材料8A的液滴D。这样一来，将向扫描范围中的全部弹落位置CP喷出液滴D。

其中对图案形成区域24A、24C中的弹落位置CP喷出的液滴D的体积是第一体积。另一方面，向图案形成区域24B、24D中的弹落位置喷出的液滴D的体积，是比第一体积小的第二体积。其理由如下。

图案形成区域24A、24C的形状，既不与X轴方向平行，也不与Y轴方向平行。另一方面，图案形成区域24B、24D的形状，是与X轴方向平行的直线。因此，在图案形成区域24B、24D中互相相邻的两个弹落位置CP之间的距离，比图案形成区域24A、24C中互相相邻的两个弹落位置CP之间的距离短。另一方面，弹落的液滴D湿润扩展的距离是有限的。由于这些原因，通过使向图案形成区域24B、24D喷出的液滴D的体积，比朝着图案形成区域24A、24C喷出的液滴体积小，在横跨图案形成区域24A、24B、24C和24D范围内，能够使与单位面积相当的导电性材料8A的体积相同。

如图9(b)所示，导电性材料8A的液滴D一旦弹落在弹落位置CP上，就会沿着图案形成区域24A(或者24B、24C、24D)的纵向湿润扩展。其中所述图案形成区域24A的纵长方向是指与纸面垂直的方向。而且如图9(c)所示，通过使液滴D在图案形成区域24A的纵长方向湿润扩展，可以形成导电性材料层8B。

分别弹落(冲突)在互相相邻的两个弹落位置CP的液滴D，将会从各自的弹落位置CP扩展和后合流。这是因为互相相邻的两个弹落位置CP间的距离DD(图8)接近的缘故。具体讲，在图案形成区域24A(或者24B、24C、24D)上，与以弹落位置CP为中心一个液滴D湿润扩展范围的边界与其弹落位置CP之间的距离DL的二倍相比，距离DD更短的缘故。而且如上所述，弹落位置CP与被喷出液滴D的中心所相当的位置大体相等。

上述的喷出数据可以规定液滴D的体积和数目，使下面说明的活化工序后得到的导电层8(图9(d))的厚度达到大约1微米。而且，图9(a)～(d)所示的截面，与图8中的B’-B截面对应。

另外，在喷出工序中途，也可以采用加热器140(图2)促进导电性材料层8B的干燥。

(F3.活化工序)

在全部图案形成区域24A、24B、24C和24D上设置了导电性材料8B层后，使导电性材料8B活化，得到导电层8。具体讲，将导电性材料8B烧成(加热)，使导电性材料8B所含的银粒子烧结或熔融。为此，输送装置170将基板10A从液滴喷出装置100上取下，送入净化炉150之中。于是净化炉150就会对基板10A进行烧成(加热)。

本实施方式的活化工序，是在大气中进行的加热工序。加热工序，必要时也可以在氮气、氩气、氦气等惰性气体气氛中，或者氢气等还原性气氛中进行。加热工序的加热温度，可以根据分散剂的沸点(蒸气压)、气氛气体的种类、压力、导电性材料8B中银粒子的分散性和氧化性等热行为、覆盖银粒子的涂敷材料的有无和数量、以及基板10A的耐热温度等适当决定。

本实施方式的活化工序，利用净化炉150在大气气氛下于280～300℃温度下将导电性材料8B烧成(加热)300分钟。其中为了除去导电性材料8B中的有机成分，优选在大约200℃下烧成(加热)导电性材料8B。但是当使用塑料等基板代替玻璃基板10A的情况下，优选在室温以上和250℃以下温度下烧成(加热)。

活化工序，也可以利用对导电性材料8B照射紫外线的工序代替上述加热工序。此外，活化工序也可以是将上述那种加热工序与照射紫外线的工序组合而成的工序。

通过以上工序可以得到分别将四个图案形成区域24A、24B、24C和24D覆盖的导电层8的图案(即配线图案)。这样一来，能够在一个基体上形成与喷嘴118相对移动方向倾斜的配线图案，和与喷嘴118的相对移动方向平行的配线图案。

(G.电子仪器)

以下具体说明本发明的电子仪器。图10(a)所示的便携式电话机600，备有利用上述实施方式的制造方法形成其配线图案的液晶显示装置601。图10(b)所示的便携式信息处理装置700，备有键盘701、信息处理主体703、和利用上述实施方式的制造方法形成其配线图案的液晶显示装置702。这种便携式信息处理装置700的更具体实例，是文字处理器和个人计算机。图10(c)所示的手表型电子仪器800，备有和利用上述实施方式的制造方法形成其配线图案的液晶显示装置801。

根据上述实施方式，在液晶显示装置中配线图案的形成中采用了本发明。但是，本发明也可以用于有机电致发光显示装置、等离子体显示装置和SED(表面传导电子发射显示器)或FED(场发射显示器)中的配线图案的形成。

另外，在本说明书中，有时也将液晶显示装置、电致发光显示装置、等离子体显示装置、SED、FED等记作“电光学装置”。其中在本说明书中所述“电光学装置”，并不限于利用双折射性的变化、旋光性的变化、或光散射性的变化等光学特性的变化(所谓电光学效果)的装置，而是指根据施加的信号电压使光线出射、透过或反射的装置的全体。

以上虽然参照附图说明了本发明涉及的优选实施方式，但是不用说本发明并不限于所涉及的实例上。上述实例中所示的各种构成部件的形状或其组合尽是一例，可以在不超出本发明要点的范围内根据设计要求作出各种变更。

(变形例1)

根据上述实施方式，使直线状的图案形成区域24A、24B、24C和24D中的每个区域，均含有四个以上弹落位置CP。然而，一个图案形成区域24A(或者24B、24C、24D)所含的弹落位置数目可以是两个。具体讲，弹落在互相相邻的两个弹落位置CP上的液滴D只要能够互相合流，则直线状的图案形成区域所含的弹落位置CP的数目也可以是两个以上的个数。

图11所示的多个图案形成区域24E、24F中的每个区域，均含有两个弹落位置CP。而且将倾斜为(-0.5)的图案形成区域24E，与倾斜度为(-0.2)的图案形成区域24F互相连接着。其中位于互相连接的两个图案形成区域24E、24F的边界的弹落位置CP与两个图案形成区域24E、24F二者对应。本发明的图案形成方法，也能适用于这种形状的图案形成方法。但是，倾斜度变化的位置少的情况下由于很难产生配线图案中的断线，所以一个直线状图案形成区域24A(或者24B、24C、24D)越长越好。

此外，被贮格围堰图案18或疏液图案58包围的图案形成区域24的形状也可以不是直线状。作为其一例，在图11中示出了分别具有曲线形状的四个图案形成区域24G。这样一来，弹落在互相相邻的两个弹落位置CP上的液滴D只要能够互相合流，则图案形成区域24(24G)的形状可以呈直线状或曲线状。另外，在图11中，四个图案形成区域24G中的每个区域均含有两个弹落位置CP。但是，位于互相连接的两个图案形成区域24G的边界的弹落位置CP，与两个图案形成区域24G二者对应。

(变形例2)

采用上述实施方式，使贮格围堰图案118将图案形成区域24A、24B、24C和24D包围。然而也可以用疏液图案58将图案形成区域24A、24B、24C和24D包围，以此来代替贮格围堰图案18。疏液图案58的形成方法如下。

而且对基板10A的表面和保护层16Q的表面进行疏液化处理。疏液化处理的一个方法是，在基板10A的表面上形成由有机分子膜等构成的自组织化膜的方法。

构成有机分子膜的分子，备有能与基板10A结合的官能团、将基板10A表面的特性改质(控制表面能量)的官能团、连接这些官能团的直碳链或部分支碳链。而且这种分子与基板10A结合后形成分子膜，例如单分子膜。

自组织化膜是由互相在同一方向取向的分子构成的膜。这种分子由构成基板10A表面等基底的原子、反应性结合性官能团、和其以外的直链分子构成。而且这种分子，仅在直链分子的互相作用下就有极高的取向性。而且由于自组织化膜是由在相同方向互相取向的分子构成，所以自组织化膜的厚度极薄。而且该厚度在分子水平上均匀。此外，由于单分子的相同部位位于横跨在自组织化膜的表面上，所以自组织化膜的表面特性(例如疏液性)也是横跨在表面上均匀的。

作为是能构成将形成自组织化膜的有机分子膜的化合物，并呈现疏液性的化合物的一个实例，是氟代烷基硅烷(以下也称作FAS)。FAS一旦与基底的基板10A结合，就能使分子取向得使氟代烷基位于自由表面上，形成自组织化膜(以下也称作FAS膜)。氟代烷基整齐排列的FAS膜的表面，表面能小，因此呈现疏液性。因此，当在基板10A的表面上形成FAS膜的情况下，可以赋予基板10A的表面以疏液性。其中，FAS膜不仅对基板10A的表面赋予疏液性，而且由于与基板10A的密接性强，所以耐久性也优良。

FAS有十七氟代-1，1，2，2-四氢癸基三乙氧基硅烷、十七氟代-1，1，2，2-四氢癸基三甲氧基硅烷、十七氟代-1，1，2，2-四氢癸基三氯代硅烷、十三氟代-1，1，2，2-四氢癸基三乙氧基硅烷、十三氟代-1，1，2，2-四氢辛基三甲氧基硅烷、十三氟代-1，1，2，2-四氢辛基三氯代硅烷、三氟丙基三甲氧基硅烷等氟代烷基硅烷等。使用时，虽然优选单独使用一种化合物，但是在无损于本发明预期目的前提下，也可以将两种以上化合物组合使用。

更具体讲，FAS一般可以用结构式R_nSiX_(4-n)表示。式中，n表示1以上3以下的整数，X表示甲氧基、乙氧基、卤原子等水解性基团。而且当R是氟代烷基，具有(CF₃)(CF₃)x(CH₃)y(式中，x表示0以上10以下的整数，y表示0以上4以下的整数)的结构，多个R或x与Si结合的情况下，R或X既可以分别互相相同，也可以不同。用X表示的水解基团经过水解形成硅氧烷键，与基板10A(玻璃、硅)等基底的羟基反应，通过硅氧烷键与基板10A结合。另一方面，R由于在表面上具有(CF₃)等氟代基团，所以改质成不会湿润(表面能量低)基底物体(这里是基板10A)的表面。

以气相在基板10A上形成FAS膜的方法如下。将上述原料化合物(即FAS)与基板10A放入同一密闭容器中，室温的情况下放置2～3日左右。于是，在基板10A上将形成由有机分子膜构成的自组织化膜(即FAS膜)。而且若将密闭容器保持在100℃的情况下，经过3小时左右可以在基板10A上形成FAS膜。

而且在基板10A上由液相形成FAS膜的方法如下。首先对基板10A的表面照射紫外线，或者用溶剂洗净，以此方式进行前处理。而且将基板10A浸渍在含有原料化合物(即FAS)的溶液中，洗涤，干燥后，可以在基板10A上得到自组织化膜(FAS膜)。另外，也可以适当省略基板10A之表面的前处理。

根据上述方式，如图12(a)所示，可以在基板10A上设置疏液膜(FAS膜)56。而且如图12(b)所示，将配线图案的二维形状包围的部分，通过将遮光掩膜MK覆盖的光掩膜M1使FAS膜56曝光。于是，由于被照射光线的部分的疏液膜56分解，所以可以形成图12(c)所示的疏液图案58。同时通过疏液图案58，使包围了二维形状的多个部分(基板10A的表面)露出。

疏液图案58具有完全将事后形成的多个导电层8的周围分别包围的形状。当然，疏液图案58也可以由各自互相分离的多个疏液部分58B构成。例如，在位于仅以所定距离互相分离同时互相大体平行的一对疏液部分58B之间，也可以包围一个导电层8的二维形状。这种情况下，在与导电层8的两端部分对应的部分上也可以没有疏液部分58。也就是说，疏液图案58无需将导电层8的二维形状周围完全包围。

本变形例中。由疏液图案58将各二维形状包围的多个部分，分别与图案形成区域24A、24B、24C和24D对应。

另外，表示物体表面疏液性的指标之一，是液体状材料在物体表面上显示的接触角。液体状材料在物体表面上显示的接触角越大，物体表面对液体状材料就会显示出更大的疏液性。本实施方式中，导电性材料8A在疏液图案58上显示的接触角，与图案形成区域24上导电性材料8A显示的接触角相比，应当大30度以上。

(变形例3)

在上述实施方式中，喷嘴118相对于台架106的相对移动方向，与互相正交的两个方向(X轴方向和Y轴方向)二者平行。因此，网格30是矩形。然而，只要喷嘴118相对于台架106以二维相对移动，也可以互相不正交。也就是说，喷嘴118也可以在互相不同的两个方向(本发明的第一方向和第二方向)上相对移动。这种情况下，上述实施方式的网格30的形状将变成平行四边形。

(变形例4)

根据上述实施方式，可以用本实施方式的图案形成方法形成配线图案。但是本发明的图案形成方法，并不限于配线图案形成方法的具体方式。本发明的图案形成方法，也可以用于由绝缘材料层构成的图案代替配线图案的形成方法。

(变形例5)

根据上述实施方式，通过用净化炉150加热使导电性材料层8B最终活化。但是通过紫外线、可见光波长光线、或者微波等电磁波照射，代替加热，也可以使这些导电性材料层8B活化。而且还可以仅将导电性材料层8B干燥，来代替这种活化。这是因为即使仅将赋予的导电性材料层8B放置也能形成导电层8的缘故。但是，与仅将导电性材料层8B干燥的情况相比，进行任何活化时导电层8的生成时间短。因此，更优选将导电性材料层8B活化。

(变形例6)

上述实施方式中，直线状图案形成区域2A、24C与X轴方向不平行。而且，图案形成区域24A与X轴方向所成的角度，与图案形成区域24C与X轴方向所成的角度相同。然而，与X轴方向不平行的图案形成区域2A、24C，也可以呈现出与X轴方向形成不同的角度。也就是说，图案形成区域24A与X轴方向所成的角度，与图案形成区域24C与X轴方向所成的角度也可以不同。

Claims (14)

1.一种图案形成方法，是使用从喷嘴喷出第一液滴和第二液滴的液滴喷出装置而在物体表面上形成图案的图案形成方法，其中包括：

步骤(A)和步骤(B)，

所述步骤(A)，形成包围图案形成区域的贮格围堰图案，以使当用整数m和n表示所述物体表面上的坐标，同时用i和j表示0以外的两个整数的情况下，坐标(m、n)的可弹落位置和所述第一液滴的第一投影图像的中心大体一致情况下的所述第一投影图像的范围，与坐标(m+i、n+j)的可弹落位置和所述第二液滴的第二投影图像的中心大体一致情况下的所述第二投影图像的范围，位于所述物体表面上的所述图案形成区域内；

所述步骤(B)，向所述坐标(m、n)的可弹落位置喷出所述第一液滴，同时向所述坐标(m+i、n+j)的可弹落位置喷出所述第二液滴，形成将所述图案形成区域覆盖的图案；

所述第一液滴和所述第二液滴，由所述坐标(m、n)的可弹落位置与所述坐标(m+i、n+j)的可弹落位置之间的距离所决定，使弹落在同一图案形成区域中的相互相邻的两个弹落位置的液滴扩展后互相合流。

2.根据权利要求1所述的图案形成方法，其中

所述步骤(A)包括形成所述贮格围堰图案的步骤，可以得到直线状或曲线状的两个所述图案形成区域，

所述两个图案形成区域互相平行。

3.根据权利要求1所述的图案形成方法，其中

所述步骤(A)包括形成所述贮格围堰图案的步骤，以便得到直线状或曲线状的两个所述图案形成区域，

所述两个图案形成区域互相不平行。

4.根据权利要求3所述的图案形成方法，其中

所述直线状的两个图案形成区域被互相连接，

所述两个图案形成区域的一个图案形成区域与第一方向平行，

所述两个图案形成区域的另一个图案形成区域，相对于所述第一方向形成大于0度但小于90度的角度，

所述步骤(B)包括：向所述一个图案形成区域中的所述可弹落位置喷出第一体积的所述液滴，同时向所述另一个图案形成区域中的所述可弹落位置喷出比所述第一体积小的体积的所述液滴的步骤。

5.一种图案形成方法，是使用从喷嘴喷出第一液滴和第二液滴的液滴喷出装置而在物体表面上形成图案的图案形成方法，其中包括：

步骤(A)和步骤(B)，

所述步骤(A)形成包围图案形成区域的疏液图案，以使当用整数m和n表示所述物体表面上的坐标，同时用i和j表示0以外的两个整数的情况下，坐标(m、n)的可弹落位置和所述第一液滴的第一投影图像的中心大体一致的情况下的所述第一投影图像的范围，与坐标(m+i、n+j)的可弹落位置和所述第二液滴的第二投影图像的中心大体一致的情况下的所述第二投影图像的范围，位于所述物体表面上的所述图案形成区域内；

所述步骤(B)向所述坐标(m、n)的可弹落位置喷出所述第一液滴，同时向所述坐标(m+i、n+j)的可弹落位置喷出所述第二液滴，形成将所述图案形成区域覆盖的图案；

所述第一液滴和所述第二液滴，由所述坐标(m、n)的可弹落位置与所述坐标(m+i、n+j)的可弹落位置之间的距离所决定，使弹落在同一图案形成区域中的相互相邻的两个弹落位置的液滴扩展后互相合流。

6.根据权利要5所述的图案形成方法，其中

所述步骤(A)包括形成所述疏液图案的步骤，以得到直线状或曲线状的两个所述图案形成区域，

所述两个图案形成区域互相平行。

7.根据权利要求5所述的图案形成方法，其中

所述步骤(A)包括形成所述疏液图案的步骤，以得到直线状或曲线状的两个所述图案形成区域，

所述两个图案形成区域互相不平行。

8.根据权利要求7所述的图案形成方法，其中

所述直线状的两个图案形成区域被互相连接，

所述两个图案形成区域的一个图案形成区域与第一方向平行，

所述两个图案形成区域的另一个图案形成区域，相对于所述第一方向形成大于0度但小于90度的角度，

所述步骤(B)包括向所述一个图案形成区域中的所述可弹落位置喷出第一体积的所述液滴，同时向所述另一个图案形成区域中的所述可弹落位置喷出比所述第一体积小的体积的所述液滴的步骤。

9.根据权利要求1或者5中任何一项所述的图案形成方法，其中

所述液滴喷出装置构成为：能使所述喷嘴沿着互相不同的第一方向和第二方向相对移动，从所述喷嘴选择性地分别向多个所述可弹落位置喷出多个所述液滴，

所述多个可弹落位置，构成与所述第一方向和所述第二方向平行的网格，

所述多个可弹落位置沿着所述第一方向的第一间距基于所述喷嘴朝着所述第一方向的相对移动速度和与所述液滴的材料对应的最小喷出周期决定，

所述多个可弹落位置沿着所述第二方向的第二间距基于所述喷嘴朝着所述第二方向的相对移动间距决定。

10.根据权利要求1～8中任何一项所述的图案形成方法，其中所述液滴的材料是导电性材料。

11.根据权利要求9所述的图案形成方法，其中所述液滴的材料是导电性材料。

12.一种电子仪器的制造方法，其中包括了权利要求9所述的图案形成方法。

13.一种基体的制造方法，是具备图案形成区域的基体的制造方法，其利用使喷嘴沿着互相不同的第一方向和第二方向相对移动和从所述喷嘴喷出第一液滴和第二液滴的液滴喷出装置，来赋予所述第一液滴和第二液滴，所述制造方法包括：

形成包围所述图案形成区域的贮格围堰图案的步骤，以使当用整数m和n表示所述基体的表面上的坐标，同时用i和j表示0以外的两个整数的情况下，坐标(m、n)的位置和所述第一液滴的第一投影图像的中心大体一致情况下的所述第一投影图像的范围，与坐标(m+i、n+j)的位置和所述第二液滴的第二投影图像的中心大体一致情况下的所述第二投影图像的范围，位于所述图案形成区域内，

所述第一液滴和所述第二液滴，由所述坐标(m、n)的位置与所述坐标(m+i、n+j)的位置之间的距离所决定，使弹落在同一图案形成区域中的相互相邻的两个弹落位置的液滴扩展后互相合流。

14.一种基体的制造方法，是具备图案形成区域的基体的制造方法，其利用使喷嘴沿着互相不同的第一方向和第二方向相对移动和从所述喷嘴喷出第一液滴和第二液滴的液滴喷出装置，来赋予所述第一液滴和第二液滴，所述制造方法包括：

形成包围所述图案形成区域的疏液图案的步骤，以使当用整数m和n表示所述基体的表面上的坐标，同时用i和j表示0以外的两个整数的情况下，坐标(m、n)的位置和所述第一液滴的第一投影图像的中心大体一致情况下的所述第一投影图像的范围，与坐标(m+i、n+j)位置和所述第二液滴的第二投影图像的中心大体一致情况下的所述第二投影图像的范围，位于所述图案形成区域内，

所述第一液滴和所述第二液滴，由所述坐标(m、n)的位置与所述坐标(m+i、n+j)的位置之间的距离决定，使弹落在同一图案形成区域中的相互相邻的两个弹落位置的液滴扩展后互相合流。

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