JP2006077309A - 金属表面へのシリケート化合物付与剤及び金属表面に該付与剤からなる層を形成してなる複合金属材 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】1)金属アルコキシドと、2)互いに重合可能な官能基を有するシリケート化合物との縮重合体からなる、金属表面へのシリケート化合物付与剤及び金属表面に該付与剤からなる層を形成してなる複合金属材。
【選択図】なし
Description
1. 1)金属アルコキシドと、2)互いに重合可能な官能基を有するシリケート化合物との縮重合体からなる、金属表面へのシリケート化合物付与剤。
2. 金属アルコキシドが、ホウ素、ケイ素、アルミニウム、チタン及びジルコニウムからなる群から選択された少なくとも1種の金属のアルコキシドである上記項1記載のシリケート化合物付与剤。
3. 互いに重合可能な官能基が、ビニル基及びエポキシ基からなる群から選択された少なくとも1種である上記項1又は2記載のシリケート化合物付与剤。
4. 1)金属アルコキシド(MA)と、2)互いに重合可能な官能基を有するシリケート化合物(SK)との含有割合が、各々に含まれる金属の酸化物換算重量で表して、MA/SK=20/80〜80/20の範囲内である上記項1〜3のいずれかに記載のシリケート化合物付与剤。
5. 金属表面に上記項1〜4のいずれかに記載のシリケート化合物付与剤からなる層を形成してなる複合金属材。
6. 金属が、鉄、ニッケル、銅、銀及びパラジウムからなる群から選択された少なくとも1種である上記項5記載の複合金属材。
7. 還元雰囲気中且つ昇温速度2℃/min.で複合金属材を加熱する場合の、250〜600℃の区間での重量減少量が0.2〜6重量%である上記項5又は6記載の複合金属材。
8. シリケート化合物付与剤からなる層の厚みが、該層に含まれる金属が全て酸化物の状態で含まれているとした場合に5〜100nmの範囲内である上記項5〜7のいずれかに記載の複合金属材。
以下、本発明のシリケート化合物付与剤及び金属表面に該付与剤からなる層を形成してなる複合金属材について詳細に説明する。
本発明の金属表面へのシリケート化合物付与剤は、1)金属アルコキシドと、2)互いに重合可能な官能基を有するシリケート化合物との縮重合体からなる。
(金属アルコキシド)
金属アルコキシドとしては特に限定されないが、ホウ素、ケイ素、アルミニウム、チタン及びジルコニウムからなる群から選択された少なくとも1種の金属のアルコキシドが好適なものとして挙げられる。
(シリケート化合物)
シリケート化合物としては、互いに重合可能な官能基を有しており、且つ、前記金属アルコキシドと縮重合体を形成し得るものである限り特に限定されない。
(付与剤の調製方法)
本発明のシリケート化合物付与剤の調製方法は、上記した金属アルコキシドとシリケート化合物とを縮重合させる方法である限り特に限定されない。通常は、金属アルコキシドとシリケート化合物とを水中に共存させて加熱還流することにより縮重合させることができる。金属アルコキシド及びシリケート化合物は、必要に応じて、アルコール等により希釈して用いてもよいし、縮重合反応を促進するために各種触媒を使用してもよい。
本発明の複合金属体は、金属表面に本発明のシリケート化合物付与剤からなる層を形成してなる。
テトラオルソエトキシシラン(TEOS)31g(0.15mol)及び酢酸34.8g(0.58mol)をエタノール96gに溶解した。この溶液に、γ―メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン21.9g(0.088mol)及び水5.1g(0.28mol)を予めエタノール96gに溶解後、触媒であるp−トルエンスルホン酸0.1gを添加してなる液を撹拌しながら滴下した。
テトラオルソエトキシシラン(TEOS)をチタンn−ブトキシド37.9(0.11モル)に置き換え、安定化のためアセチルアセトンをTi1モルに対して1モル添加(11g)する以外は実施例1と同様にして行った。但し、得られるシリケート化合物付与剤中の金属濃度を酸化物換算濃度(SiO2+TiO2の濃度和)で5重量%とした。
金属アルコキシド及びシリケート化合物を表1に示すように組み合わせた以外は、実施例1と同様にしてシリケート化合物付与剤を合成した。付与剤の濃度は含有金属の酸化物換算濃度が5重量%となるように調整した。該付与剤を用いてCu粉末(粒子径5μm)及びNi粉末(粒子径5μm)の表面処理を施した結果も表1に示す。250℃から600℃での減量を見積る際は、安定化のため添加したキレート剤からの減量を計算により差し引いた。
金属アルコキシド及びシリケート化合物を表1に示すように組み合わせた以外は、実施例1と同様にしてシリケート化合物付与剤を合成した。表1に示した条件で該付与剤を用いてCu粉末(粒子径5μm)及びNi粉末(粒子径5μm)の表面処理を施した結果も表1に示す。参考例1〜3では、付着性が十分でなく、剥離や凝集が顕著であることが分かる。
Claims (8)
- 1)金属アルコキシドと、2)互いに重合可能な官能基を有するシリケート化合物との縮重合体からなる、金属表面へのシリケート化合物付与剤。
- 金属アルコキシドが、ホウ素、ケイ素、アルミニウム、チタン及びジルコニウムからなる群から選択された少なくとも1種の金属のアルコキシドである請求項1記載のシリケート化合物付与剤。
- 互いに重合可能な官能基が、ビニル基及びエポキシ基からなる群から選択された少なくとも1種である請求項1又は2記載のシリケート化合物付与剤。
- 1)金属アルコキシド(MA)と、2)互いに重合可能な官能基を有するシリケート化合物(SK)との含有割合が、各々に含まれる金属の酸化物換算重量で表して、MA/SK=20/80〜80/20の範囲内である請求項1〜3のいずれかに記載のシリケート化合物付与剤。
- 金属表面に請求項1〜4のいずれかに記載のシリケート化合物付与剤からなる層を形成してなる複合金属材。
- 金属が、鉄、ニッケル、銅、銀及びパラジウムからなる群から選択された少なくとも1種である請求項5記載の複合金属材。
- 還元雰囲気中且つ昇温速度2℃/min.で複合金属材を加熱する場合の、250〜600℃の区間での重量減少量が0.2〜6重量%である請求項5又は6記載の複合金属材。
- シリケート化合物付与剤からなる層の厚みが、該層に含まれる金属が全て酸化物の状態で含まれているとした場合に5〜100nmの範囲内である請求項5〜7のいずれかに記載の複合金属材。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009185366A (ja) * | 2008-02-08 | 2009-08-20 | Nippon Paint Co Ltd | 水系表面処理組成物 |
JP2009235376A (ja) * | 2008-03-06 | 2009-10-15 | Nitto Denko Corp | 変性ポリアルミノシロキサン |
JP2009286986A (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-10 | Dic Corp | 有機溶剤可溶性のジルコノシロキサンの製造方法 |
WO2010140540A1 (ja) * | 2009-06-05 | 2010-12-09 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 半導体パッケージ基板用銅箔及び半導体パッケージ用基板 |
JP2014208893A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-11-06 | 古河電気工業株式会社 | 表面処理銅箔及び該銅箔の表面処理方法、並びに、銅張積層板及び該積層板の製造方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS64126A (en) * | 1987-02-27 | 1989-01-05 | Toru Yamamoto | Composite material and its production |
JPH036275A (ja) * | 1989-06-02 | 1991-01-11 | Toru Yamamoto | 基材の表面処理および表面改質法 |
JPH07216552A (ja) * | 1994-01-26 | 1995-08-15 | Chichibu Onoda Cement Corp | アルミナ前駆体溶液、当該溶液を用いたアルミナ薄膜の形成方法及びアルミナ薄膜形成体 |
JPH08290942A (ja) * | 1995-04-19 | 1996-11-05 | Asahi Glass Co Ltd | 被膜形成用組成物 |
JP2001329112A (ja) * | 2000-05-23 | 2001-11-27 | Toray Ind Inc | シランカップリング剤、硬化性樹脂溶液組成物、及びそれからなる機能性硬化物 |
JP2002179794A (ja) * | 2000-12-07 | 2002-06-26 | Fuji Kagaku Kk | 無機高分子化合物の製造方法、無機高分子化合物、および無機高分子化合物膜 |
JP2004091763A (ja) * | 2002-07-08 | 2004-03-25 | Nippon Shokubai Co Ltd | 膜形成剤および膜 |
-
2004
- 2004-09-13 JP JP2004265010A patent/JP2006077309A/ja active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS64126A (en) * | 1987-02-27 | 1989-01-05 | Toru Yamamoto | Composite material and its production |
JPH036275A (ja) * | 1989-06-02 | 1991-01-11 | Toru Yamamoto | 基材の表面処理および表面改質法 |
JPH07216552A (ja) * | 1994-01-26 | 1995-08-15 | Chichibu Onoda Cement Corp | アルミナ前駆体溶液、当該溶液を用いたアルミナ薄膜の形成方法及びアルミナ薄膜形成体 |
JPH08290942A (ja) * | 1995-04-19 | 1996-11-05 | Asahi Glass Co Ltd | 被膜形成用組成物 |
JP2001329112A (ja) * | 2000-05-23 | 2001-11-27 | Toray Ind Inc | シランカップリング剤、硬化性樹脂溶液組成物、及びそれからなる機能性硬化物 |
JP2002179794A (ja) * | 2000-12-07 | 2002-06-26 | Fuji Kagaku Kk | 無機高分子化合物の製造方法、無機高分子化合物、および無機高分子化合物膜 |
JP2004091763A (ja) * | 2002-07-08 | 2004-03-25 | Nippon Shokubai Co Ltd | 膜形成剤および膜 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009185366A (ja) * | 2008-02-08 | 2009-08-20 | Nippon Paint Co Ltd | 水系表面処理組成物 |
JP2009235376A (ja) * | 2008-03-06 | 2009-10-15 | Nitto Denko Corp | 変性ポリアルミノシロキサン |
JP2009286986A (ja) * | 2008-06-02 | 2009-12-10 | Dic Corp | 有機溶剤可溶性のジルコノシロキサンの製造方法 |
WO2010140540A1 (ja) * | 2009-06-05 | 2010-12-09 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 半導体パッケージ基板用銅箔及び半導体パッケージ用基板 |
CN102459703A (zh) * | 2009-06-05 | 2012-05-16 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 半导体封装基板用铜箔及半导体封装用基板 |
JP2014208893A (ja) * | 2013-03-28 | 2014-11-06 | 古河電気工業株式会社 | 表面処理銅箔及び該銅箔の表面処理方法、並びに、銅張積層板及び該積層板の製造方法 |
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