JP2006073821A - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2006073821A
JP2006073821A JP2004255950A JP2004255950A JP2006073821A JP 2006073821 A JP2006073821 A JP 2006073821A JP 2004255950 A JP2004255950 A JP 2004255950A JP 2004255950 A JP2004255950 A JP 2004255950A JP 2006073821 A JP2006073821 A JP 2006073821A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
integrated circuit
semiconductor integrated
bonding
lead
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2004255950A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshitsugu Sakurai
祥嗣 櫻井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP2004255950A priority Critical patent/JP2006073821A/ja
Priority to DE102005040489A priority patent/DE102005040489A1/de
Priority to US11/211,584 priority patent/US20060043425A1/en
Priority to CNA2005101132348A priority patent/CN1770451A/zh
Publication of JP2006073821A publication Critical patent/JP2006073821A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/522Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
    • H01L23/528Geometry or layout of the interconnection structure
    • H01L23/5286Arrangements of power or ground buses
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/02Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L24/06Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/023Redistribution layers [RDL] for bonding areas
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0555Shape
    • H01L2224/05552Shape in top view
    • H01L2224/05554Shape in top view being square
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/05599Material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4911Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain
    • H01L2224/49111Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain the connectors connecting two common bonding areas, e.g. Litz or braid wires
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4911Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain
    • H01L2224/49112Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain the connectors connecting a common bonding area on the semiconductor or solid-state body to different bonding areas outside the body, e.g. diverging wires
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49171Fan-out arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/85Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
    • H01L2224/8538Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
    • H01L2224/85399Material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L24/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01004Beryllium [Be]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01005Boron [B]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01046Palladium [Pd]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01068Erbium [Er]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01082Lead [Pb]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1305Bipolar Junction Transistor [BJT]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1901Structure
    • H01L2924/1904Component type
    • H01L2924/19042Component type being an inductor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/19Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/1901Structure
    • H01L2924/1904Component type
    • H01L2924/19043Component type being a resistor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/30105Capacitance
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/30107Inductance
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

【課題】 簡易な構成によって、チップ面積の増大を抑制し、パッケージのリード端子数の増大を抑え、さらには寄生インダクタンスを低減可能な半導体集積回路装置を提供する。
【解決手段】 本発明の半導体集積回路装置は、半導体基板上にもうけられた複数の回路ブロックのうち、互いに並列に動作状態になることのない第1の回路ブロック1と第2の回路ブロック2について、第1の回路ブロック1と第2の回路ブロック2のGNDラインG1を共通とした構成である。そして、一つのボンディングパッドPDとGNDラインG1とが電気的に結合されている。したがって、2つの回路ブロックのGND端子が1つとされるためリード端子数の低減が可能となる。
【選択図】 図1

Description

本発明は、例えば高周波通信装置の送信系回路および受信系回路のように、互いにどちらか一方のみが動作するような回路を含む半導体集積回路装置に係り、特に集積回路チップと半導体パッケージとの電気的な接続がボンディングワイヤによってなされるものに関する。
一般的に、半導体集積回路装置の集積回路チップ(以下、単にチップとも称する)は、上面に複数のボンディングパッドを有しており、当該複数のボンディングパッドは、チップに形成される回路の周辺領域に配列されている。そして、このボンディングパッドと、集積回路チップを収納する半導体パッケージ(以下、単にパッケージとも称する)のリード端子とがボンディングワイヤによって電気的に接続され、外部との間の信号の授受あるいは回路動作に必要な電圧の印加等が行なわれる。
一方、ボンディングパッドと半導体パッケージのリード端子との間を電気的に接続するボンディングワイヤのもつ寄生インダクタンスが集積回路チップの回路特性に大きく影響を与えることが知られており重要な課題となっている。
一例として、エミッタ接地増幅回路においては、いわゆるエミッタデジェネレーションにより、接地電圧GNDが供給されるボンディングパッドに接続されたボンディングワイヤのもつ寄生インダクタンスが回路特性を著しく劣化させるという問題がある。なお、エミッタデジェネレーションとは、トランジスタのエミッタと接地点との間にインピーダンス成分が存在すると、インピーダンスによる負帰還によりエミッタ接地増幅回路の相互コンダクタンスが劣化し、パワー劣化を生じさせる現象である。
この点に関連して、特開2002−43869号公報には、インダクタンス等による接地インピーダンスの増大に伴う増幅回路のパワー劣化という問題を抑制する構成が開示されている。具体的には、信号増幅回路に対して接地電圧GNDを供給する第1接地端子とは別に、容量結合回路を介して接地電圧GNDと接続される第2接地端子を設けて、ボンディングワイヤと容量結合回路とのインピーダンスの関係が使用周波数で直列共振となるように容量結合回路のキャパシタンス値を設定し、それによって接地インピーダンスを最小の値に設定して、パワー劣化が生じにくくなる構成が開示されている。
特開2002−43869号公報
しかしながら、上記公報に従う構成は、インピーダンスを低減するための最適な容量値を決めるのが非常に困難であり、構成が複雑化するという問題もある。
特に、高周波回路においては、ボンディングワイヤのもつ寄生インダクタンスが回路特性に与える影響は大きく、入力信号の使用周波数の範囲すなわち周波数帯域が広い場合には、上記構成では、十分な効果を得ることは難しいという問題がある。
別の方式として、複数のボンディングワイヤを並列に接続することにより、ボンディングワイヤの接続に伴う寄生インダクタンスを低減することも可能である。
しかしながら、一般的に半導体集積回路装置は、小型化、低コスト化の観点から、チップ面積の縮小及びパッケージのリード端子数の低下が望まれており、上記方式は、ボンディングパッドの増加に伴うチップ面積の増大、及びパッケージのリード端子数の増大を招くという問題がある。
本発明は、上記のような問題点を解決するためになされたものであって、簡易な構成によって、チップ面積の増大を抑制し、パッケージのリード端子数の増大を抑え、さらには寄生インダクタンスを低減可能な半導体集積回路装置を提供することを目的とする。
本発明に係る半導体集積回路装置は、半導体基板上に設けられた複数の回路を備える。複数の回路は、互いに並列に動作しない第1の回路と第2の回路とを含む。半導体基板上に設けられた第1の回路と第2の回路に対して電源電圧および接地電圧の一方を供給する共通の第1の電源線をさらに備える。
好ましくは、第1の電源線と電気的に結合される少なくとも1つのボンディングパッドをさらに備える。
特に、半導体基板を収納するパッケージに設けられた外部からの電圧の供給を受けるリードと、リードと各少なくとも1つのボンディングパッドとを電気的に結合するボンディングワイヤとをさらに備える。リードと、各少なくとも1つのボンディングパッドとを電気的に結合するボンディングワイヤの本数は、複数本に設定される。
好ましくは、第1および第2の回路のうちの少なくとも一方は、エミッタ接地増幅回路を含む。
好ましくは、第1の回路は、高周波通信回路の受信系回路に対応し、第2の回路は、高周波通信回路の受信系回路と並列に動作しない送信系回路に対応する。
特に、半導体基板を収納するパッケージに設けられた外部からの電圧の供給を受けるリードと、リードと各少なくとも1つのボンディングパッドとを電気的に結合するボンディングワイヤとをさらに備える。半導体基板は、少なくとも1つのボンディングパッドを含む複数個のボンディングパッドを備える。リードは、複数個のボンディングパッドのうち他のボンディングパッドよりもボンディングワイヤの長さが短くなる少なくとも1つのボンディングパッドと電気的に結合される。
特に、第1の回路と第2の回路とは、第1の電源線の長さが短くなるように少なくとも1つのボンディングパッドと近接して配置される。
好ましくは、第1の回路と第2の回路に対して電源電圧および接地電圧の他方を供給する共通の第2の電源線をさらに備える。
本発明の半導体集積回路装置は、互いに並列に動作しない第1の回路と第2の回路に対して電源電圧および接地電圧の一方を供給する共通の第1の電源線を備える。したがって、電源線の本数を低減し、さらに、電源線と接続される端子数を低減してチップ面積を縮小することができる。
以下、この発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付し、その説明は繰返さない。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1に従う集積回路チップTPの概略ブロック図である。
図1を参照して、集積回路チップTPは、第1〜第4の回路ブロック1〜4と、その周辺領域に配置された複数のボンディングパッドPDと、VDDラインV1〜V4と、GNDラインG1,G3,G4とを含む。第1〜第4の回路ブロック1〜4は、VDDラインV1〜V4にそれぞれ対応して接続され、電源電圧VDDの供給を受けるものとする。また、第1および第2の回路ブロック1,2は、GNDラインG1を共有して接続され、GNDラインG1から接地電圧GNDの供給を受けるものとする。また、第3および第4の回路ブロック3,4は、GNDラインG3,G4のそれぞれから接地電圧GNDの供給を受けるものとする。尚、本例においては、各回路ブロック1〜4の入出力ラインは省略している。なお、VDDラインおよびGNDラインは、電源電圧VDDおよび接地電圧GNDの電圧をそれぞれ供給する電源線である。
ここで、第1の回路ブロックと第2の回路ブロックとは、互いに並列に動作状態になることはないものとする。第3の回路ブロック、及び第4の回路ブロックは任意の動作状態をとるものとする。
通常、半導体集積回路装置のリード端子としては、入出力ラインと電気的に結合される入出力端子、VDDラインと電気的に結合される電源端子、GNDラインと電気的に結合されるGND端子の3つに大別される。そして、ノイズ等の影響を考慮して、各回路ブロック毎にVDDラインおよびGNDラインが独立に設けられる構成が一般的である。したがって、集積回路チップ上の回路ブロックの数が増加すれば、それだけ必要なVDDおよびGNDラインは増加する為、半導体集積回路装置の回路規模が大きくなるとともに、ラインと接続するためのボンディングパッドの数も増加する。すなわち、ボンディングパッドと接続される半導体パッケージのリード端子数も増加してしまうことになる。
しかしながら、例えば高周波通信装置の送信系回路および受信系回路のように、互いにどちらか一方のみが動作するような回路を含む半導体集積回路装置の場合、動作していない方の回路はノイズを発生することが無い。すなわち、両回路のGNDラインを共通にしても一方のみしか動作しないために他方からのノイズは問題にはならない。
そこで、本発明の半導体集積回路装置は、半導体基板上にもうけられた複数の回路ブロックのうち、互いに並列に動作状態になることのない第1の回路ブロック1と第2の回路ブロック2について、第1の回路ブロック1と第2の回路ブロック2のGNDラインG1を共通とした構成である。
本例においては、単一のボンディングパッドとGNDラインとが接続される。したがって、2つの回路ブロックのGND端子が1つとされるためリード端子数の低減が可能となる。
なお、本例においては、一例として互いに並列に動作状態になることのない第1の回路ブロックと第2の回路ブロックとの組について説明したが、半導体チップに同様の組が複数存在する場合には、同様の方式に従って、GNDラインを共有することにより、回路ブロックの数に対するGND端子の数も低減することが可能となる。これにより、半導体集積回路装置の回路規模を小さくし、その分パッケージのリード端子数も減少させることができる。
(実施の形態2)
図2は、本発明の実施の形態2に従う集積回路チップTPaの概略ブロック図である。
図2を参照して、本発明の実施の形態2に従う集積回路チップTPaは、本発明の実施の形態1に従う集積回路チップTPと比較して、GNDラインG1が3個のボンディングパッドPD0〜PD2と接続される点が異なる。その他の点については、図1の集積回路チップTPで説明したのと同様であるのでその詳細な説明は繰返さない。尚、各図において同等部分には同一符号にて示している。
本発明の実施の形態2に従うチップ構成は、上記GNDラインG1を複数の回路ブロックで共有するために使用しない複数のボンディングパッドPDに接続することにより、全体としてGND端子の数の増大を抑えながら、ボンディングワイヤの複数接続による寄生インダクタンスを低減することが可能となる。
なお、本例においては、GNDラインG1を3つのボンディングパッドPD0〜PD2と接続した構成について説明したが、これに限られず、更に多くのボンディングパッドと接続させることにより、さらに寄生インダクタンスの低減を図ることができる。
(実施の形態3)
図3は、本発明の実施の形態3に従う集積回路チップTPaとリード端子との関係を説明する図である。
図3を参照して、本例においては、半導体パッケージのリード端子RD0〜RD2が示されている。半導体パッケージのリード端子RD0〜RD2にそれぞれ対応してボンディングパッドPD0〜PD2がボンディングワイヤにより接続されている。そして、本例においては、リード端子と、対応するボンディングパッドとを電気的に接続するためのボンディングワイヤが複数本ある。本例においては、ボンディングワイヤはそれぞれ2本ずつボンディングパッドと接続される例を示しているが、2本に限られず、それ以上とすることも可能である。
本実施の形態3に従う構成により、並列接続されるボンディングワイヤの本数が増えることにより、さらなる寄生インダクタンスの低減が可能となる。
(実施の形態4)
図4は、本発明の実施の形態4に従うエミッタ接地増幅回路10の回路構成図である。
図4を参照して、エミッタ接地増幅回路10は、バイポーラトランジスタ11と、負荷インダクタ12と、エミッタ接地増幅回路10の入力端子13と、エミッタ接地増幅回路10の出力端子14と、VDDラインと接続される電源端子15と、GNDラインと接続されるGND端子16とを含む。
エミッタ接地増幅回路10は、入力端子13からの入力信号を負荷インダクタ12およびバイポーラトランジスタ11に基づく所定の増幅率で増幅して出力端子14に出力する。
このようなエミッタ接地増幅回路10が例えば図1〜図3の第1の回路ブロックとして設けられている場合、GND端子16を図1〜図3のGNDラインに接続すれば、エミッタ接地増幅回路のエミッタと接地間のインピーダンスは低減される。したがって、上述したエミッタデジェネレーションによる相互コンダクタンスの劣化を抑制して、所望の増幅率で信号を増幅することができる。
本例においては、互いに並列に動作状態になることのない第1の回路ブロックと第2の回路ブロックとのうち、少なくともどちらか一方がエミッタ接地増幅回路を含むものとする。既に述べた通り、エミッタ接地増幅回路は寄生インダクタンスに非常に敏感であるため、通常、その対策として複数のGND端子を必要とするが、本発明によればGND端子の増加を抑えることが可能となる。さらに、エミッタ接地増幅回路のような、寄生インダクタンスを低減する必要があるような回路のGND端子に実施の形態3で説明した複数のボンディングワイヤを並列接続した場合、GND端子数の増加をさらに抑えることができる。
(実施の形態5)
本発明の実施の形態5は、上記で説明した半導体集積回路装置の具体的構成の一例として高周波通信回路100に適用した場合について説明する。
図5は、本発明の実施の形態5に従う高周波通信回路100の概略ブロック図である。
図5を参照して、本発明の実施の形態5に従う高周波通信回路100は、低雑音増幅器(LNA)20と、ミキサ21,31と、バンドパスフィルタ22,32と、復調器23と、パワーアンプ(PA)30と、変調器33と、PLL40と、局部発振器(VCO)41,42とを含む。LNA20と、ミキサ21と、バンドパスフィルタ22と、復調器23とは、受信系の回路ブロック24を構成する(以下、受信系回路ブロック24とも称する)。また、PA30と、ミキサ31と、バンドパスフィルタ32と、変調器33とは、送信系の回路ブロック34を構成する(以下、送信系回路ブロック34とも称する)。受信系および送信系回路ブロック24,34は、並列に動作状態になることはない。局部発振器41,42およびPLL40は、受信および送信状態いずれにおいても動作状態である。
また、高周波通信回路100は、受信系回路ブロック24の入力端子50と、受信系回路ブロック24の出力端子56と、送信系回路ブロック34の出力端子52と、送信系回路ブロック34の入力端子54と、LNAとPAとが共有するGND端子51と、受信系および送信系回路ブロック24,34において、2つのミキサ21,31が共有するGND端子53と、復調器23と変調器33とが共有するGND端子55とが設けられている。
次に、高周波通信回路100の動作について説明する。
高周波通信回路100が受信状態にあるとき、送信系回路ブロック34は非動作状態にあり、受信系回路ブロック24とその他の回路は動作状態にある。受信系の入力端子50から入力される受信信号はLNA20で増幅された後、ミキサ21によって局部発振器42の出力信号と掛け合わされ、所望の周波数へダウンコンバートされる。ダウンコンバートされた信号はバンドパスフィルタ22で不要な周波数成分が除去された後、復調器23によって局部発振器41の出力信号に基づいて復調され、受信系回路ブロック24の出力端子56から出力される。
一方、高周波通信回路100が送信状態にあるときは、受信系回路ブロック24は非動作状態にあり、送信系回路ブロック34とその他の回路は動作状態にある。送信系回路ブロックの入力端子54から入力される送信信号は局部発振器41の出力信号に基づいて変調器33で変調された後、バンドパスフィルタ32で不要な周波数成分が除去されて、ミキサ31に入力される。この送信信号はミキサ31で局部発振器42の出力信号と掛け合わされ、所望の周波数にアップコンバートされ、PA30で増幅された後、送信系の出力端子52から出力される。尚、PLL40は、局部発振器41,42の出力信号の発振周波数を所望の周波数に設定する。
本例においては、LNA20とPA30との組、受信系回路ブロックのミキサ21と送信系回路ブロックのミキサ31との組、復調器23と変調器33との組の3つの組のGNDラインを共通にした場合が一例として示されている。具体的には、LNA20とPA30とは、GND端子51を介して接地電圧GNDが供給される。受信ミキサ21とミキサ31とは、GND端子53を介して接地電圧GNDが供給される。復調器23と変調器33とは、GND端子55を介して接地電圧GNDが供給される。ここでは、このように3つの組について、GNDラインを共有した構成について説明したが、これに限られず、並列に動作状態になることはない受信系回路ブロック24を構成する回路と送信系回路ブロック34を構成する回路との任意の組でGNDラインを共有する構成としても良い。
通常、高周波通信回路を同一半導体基板上に集積したとき、数多くの回路ブロックが存在するために、多くのリード端子が必要となる。ところが、高周波通信回路は上述したように送信状態と受信状態とで回路の動作が異なり、上記受信系回路ブロックと送信系回路ブロックとの組が存在するのでGNDラインを共通にすることで、ボンディングパッドの個数を低減させることにより結果としてリード端子数を低減することが可能となる。
(実施の形態6)
図6は、本発明の実施の形態6に従う集積回路チップTPbとリード端子との接続関係を説明する図である。
図6を参照して、本例においては、リード端子RD3〜RD6が示されている。そして、第1の回路ブロック1と第2の回路ブロック2とが共有しているGNDラインG1が示されている。
図6に示されるように、ボンディングワイヤの長さは、ワイヤが接続されるボンディングパッドとリード端子との位置で決まるため、それぞれ長さが異なる。例えば、半導体チップの4隅近傍のパッドに接続されるワイヤは、他のワイヤに比べて長くなってしまう傾向がある。寄生インダクタンスを低減するには、ボンディングワイヤはできるだけ短くするのが望ましい。
ボンディングワイヤの長さが最も短くなるような位置のパッドと共有のGNDラインとを接続することにより寄生インダクタンスを低減する。具体的には、リード端子RDに隣接する複数のパッドのうちの他のパッドの長さよりも短くなるような位置のパッドと対応するリード端子RDとをボンディングワイヤWRを用いて接続する。
また、半導体チップ上のGNDラインは、周知の通り長ければ長いほど、寄生抵抗、寄生容量、及び寄生インダクタンスが増加するため、できるだけ短い方が望ましい。
したがって、GNDラインを短くするようにリード端子RDと接続されたボンディングパッドに近接してGNDラインと接続される第1および第2の回路ブロック1,2を配置することによって、さらに寄生インピーダンスを低減することが可能となる。
(実施の形態7)
上記の実施の形態においては、GNDラインを共有にした構成によりGND端子数の増加を防止するともに寄生インダクタンスを低減する構成について説明したが、GNDラインのみならずVDDラインにも全く同様に適用可能である。
図7は、本発明の実施の形態7に従う集積回路チップTPcの概略ブロック図である。
図7を参照して、本発明の実施の形態7に従う集積回路チップTPcは、第1の回路ブロックと第2の回路ブロックとのVDDラインV1#をGNDラインG1とともに共通にしたものである。
本発明の半導体集積回路装置は、第1の回路ブロックと第2の回路ブロックとのVDDラインが共通であるものである。よって、VDDラインを共通にすることでチップ面積の縮小及びパッケージのリード端子数の低下が可能となる。なお、当該構成は、上記の実施の形態1〜6に対して同様に適用可能である。
以上説明したように、本発明の半導体集積回路装置は、チップ面積の増大、及びパッケージのリード端子数の増大を抑え、且つ寄生インダクタンス成分を低減させることが可能である。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
本発明の実施の形態1に従う集積回路チップTPの概略ブロック図である。 本発明の実施の形態2に従う集積回路チップTPaの概略ブロック図である。 本発明の実施の形態3に従う集積回路チップTPaとリード端子との関係を説明する図である。 本発明の実施の形態4に従うエミッタ接地増幅回路10の回路構成図である。 本発明の実施の形態5に従う高周波通信回路100の概略ブロック図である。 本発明の実施の形態6に従う集積回路チップTPbとリード端子との接続関係を説明する図である。 本発明の実施の形態7に従う集積回路チップTPcの概略ブロック図である。
符号の説明
1〜4 回路ブロック、10 エミッタ接地増幅回路、100 高周波通信回路、PD,PD0〜PD2 ボンディングパッド、RD,RD0〜RD6 リード端子、G1,G3,G4 GNDライン、V1〜V4,V1# VDDライン、TP,TPa,TPb,TPc 集積回路チップ。

Claims (8)

  1. 半導体基板上に設けられた複数の回路を備え、
    前記複数の回路は、互いに並列に動作しない第1の回路と第2の回路とを含み、
    前記半導体基板上に設けられた前記第1の回路と前記第2の回路に対して電源電圧および接地電圧の一方を供給する共通の第1の電源線をさらに備える、半導体集積回路装置。
  2. 前記第1の電源線と電気的に結合される少なくとも1つのボンディングパッドをさらに備える、請求項1に記載の半導体集積回路装置。
  3. 前記半導体基板を収納するパッケージに設けられた外部からの電圧の供給を受けるリードと、
    前記リードと各前記少なくとも1つのボンディングパッドとを電気的に結合するボンディングワイヤとをさらに備え、
    前記リードと、各前記少なくとも1つのボンディングパッドとを電気的に結合するボンディングワイヤの本数は、複数本に設定される、請求項2に記載の半導体集積回路装置。
  4. 前記第1および第2の回路のうちの少なくとも一方は、エミッタ接地増幅回路を含む、請求項1〜3までのいずれか1項に記載の半導体集積回路装置。
  5. 前記第1の回路は、高周波通信回路の受信系回路に対応し、前記第2の回路は、前記高周波通信回路の前記受信系回路と並列に動作しない送信系回路に対応する、請求項1〜4までのいずれか1項に記載の半導体集積回路装置。
  6. 前記半導体基板を収納するパッケージに設けられた外部からの電圧の供給を受けるリードと、
    前記リードと各前記少なくとも1つのボンディングパッドとを電気的に結合するボンディングワイヤとをさらに備え、
    前記半導体基板は、前記少なくとも1つのボンディングパッドを含む複数個のボンディングパッドを備え、
    前記リードは、前記複数個のボンディングパッドのうち他のボンディングパッドよりも前記ボンディングワイヤの長さが短くなる前記少なくとも1つのボンディングパッドと電気的に結合される、請求項2に記載の半導体集積回路装置。
  7. 前記第1の回路と前記第2の回路とは、前記第1の電源線の長さが短くなるように前記少なくとも1つのボンディングパッドと近接して配置される、請求項2,3または6に記載の半導体集積回路装置。
  8. 前記第1の回路と前記第2の回路に対して前記電源電圧および前記接地電圧の他方を供給する共通の第2の電源線をさらに備える、請求項1〜7までのいずれか1項に記載の半導体集積回路装置。
JP2004255950A 2004-09-02 2004-09-02 半導体集積回路装置 Pending JP2006073821A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004255950A JP2006073821A (ja) 2004-09-02 2004-09-02 半導体集積回路装置
DE102005040489A DE102005040489A1 (de) 2004-09-02 2005-08-26 Halbleiter-IC
US11/211,584 US20060043425A1 (en) 2004-09-02 2005-08-26 Semiconductor integrated circuit device which restricts an increase in the area of a chip, an increase in the number of lead terminals of a package, and can reduce parasitic inductance
CNA2005101132348A CN1770451A (zh) 2004-09-02 2005-09-02 改善芯片面积和封装引线端子数量及寄生电感的ic器件

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004255950A JP2006073821A (ja) 2004-09-02 2004-09-02 半導体集積回路装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006073821A true JP2006073821A (ja) 2006-03-16

Family

ID=35941814

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004255950A Pending JP2006073821A (ja) 2004-09-02 2004-09-02 半導体集積回路装置

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20060043425A1 (ja)
JP (1) JP2006073821A (ja)
CN (1) CN1770451A (ja)
DE (1) DE102005040489A1 (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100575591B1 (ko) * 2004-07-27 2006-05-03 삼성전자주식회사 웨이퍼 레벨 적층 패키지용 칩 스케일 패키지 및 그 제조 방법
CN102313862B (zh) * 2010-07-08 2013-09-11 上海华虹Nec电子有限公司 片上型四端口射频器件射频测试的去嵌方法
US8773204B2 (en) * 2012-02-14 2014-07-08 Qualcomm Incorporated Amplifier with reduced source degeneration inductance
CN108089657B (zh) * 2017-12-14 2020-01-10 曙光信息产业(北京)有限公司 主板及服务器
CN109273424B (zh) * 2018-10-15 2024-02-02 矽力杰半导体技术(杭州)有限公司 一种封装组件
CN115004366A (zh) * 2020-01-23 2022-09-02 华为技术有限公司 一种芯片装置和无线通信装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3815835B2 (ja) * 1997-02-18 2006-08-30 本田技研工業株式会社 半導体装置
JP2000299438A (ja) * 1999-04-15 2000-10-24 Hitachi Ltd 半導体集積回路
JP4319339B2 (ja) * 2000-08-30 2009-08-26 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20060043425A1 (en) 2006-03-02
DE102005040489A1 (de) 2006-03-23
CN1770451A (zh) 2006-05-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5519558B2 (ja) 高周波電力増幅装置
JP2010273321A (ja) 高周波電力増幅装置及びそれを有する無線通信装置
JP2000299438A5 (ja)
JP2004281625A (ja) 半導体装置
US7095999B2 (en) Signal processing semiconductor integrated circuit device
JP2011055241A (ja) 高周波電力増幅器
US6281756B1 (en) Transistor with internal matching circuit
JP3737549B2 (ja) 利得制御回路および可変利得電力増幅器
US20060043425A1 (en) Semiconductor integrated circuit device which restricts an increase in the area of a chip, an increase in the number of lead terminals of a package, and can reduce parasitic inductance
CN107070405B (zh) 一种振荡器装置
JP2007329831A (ja) 増幅回路
JP4373332B2 (ja) 発振器および集積回路
JP4744786B2 (ja) 高周波電力増幅モジュール
JP4851618B1 (ja) 半導体パッケージ
JP2006294902A (ja) 差動増幅回路及び無線通信装置
JP2001007657A (ja) 高周波電力増幅装置および無線通信機
JP2009017494A (ja) バイアス回路、電力増幅回路、受信機、送信機及び送受信機
JP2006093773A (ja) 高周波電力増幅モジュール
TWI274416B (en) Integrated circuit with reduced coupling noise
TWI383584B (zh) 補償在相同封裝中之rf或微波電晶體之間之寄生耦接的方法、封裝電子裝置、rf放大器及微波放大器
CN116566329A (zh) 巴伦、射频前端芯片和射频前端模组
CN112272043A (zh) 减小干扰的无线通信电路
US7173326B2 (en) Semiconductor integrated device
JP2006086329A (ja) 電力増幅器モジュール
JP2003224487A (ja) 高周波信号伝達装置とこれを用いた電子チューナ

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060912

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090901

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090903

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100105