JP2006069684A - 液晶パネルの生産設備 - Google Patents

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【課題】製造する液晶パネルのパネルサイズが大形化しても、製造工場におけるカセット保管設備やカセット搬送設備が占める面積が増大せず、搬送効率を始めとする生産効率を向上することができる液晶パネルの生産設備を提供すること。
【解決手段】洗浄・製膜工程へパネルを受け渡すパネル供給位置及びエッチング工程からパネルを受け取るパネル受容位置に、パネルを収容するカセットを保管するカセット保管設備Bx1、Bx2を配設し、前の加工サイクルのパネル受容位置に配設したカセット保管設備Bx2とそれに続く加工サイクルのパネル供給位置に配設したカセット保管設備Bx1との間におけるパネルの移送を、パネルを収容したカセット単位で行うようにするとともに、同一加工サイクル内のパネルの移送を、パネル単位で行うようにする。
【選択図】図1

Description

本発明は、液晶パネルの生産設備に係り、特に、洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程を1加工サイクルとし、同様の加工サイクルを複数回繰り返して行うことによりパネル面上にトランジスタを形成するようにした液晶パネルの生産設備に関するものである。
液晶パネルの製造工場においては、図3(a)に示すように、洗浄・製膜工程(本明細書において、「洗浄・製膜工程」という。)、レジスト塗布・露光・現像工程(本明細書において、「露光工程」という。)及びエッチング・アッシング・検査工程(本明細書において、「エッチング工程」という。)を1加工サイクルとし、同様の加工サイクルを複数回繰り返して行うことにより、具体的には、(1)ゲート形成、(2)N型膜、(3)ソース形成、(4)電極形成、(5)保護膜形成の各加工サイクルを行うことにより、パネル面上にトランジスタを形成するようにしている。
ところで、このような液晶パネルの製造工場における液晶パネルの生産設備においては、従来、図3(b)に示すように、洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置との間でパネルの受け渡しを行う位置に、パネルを収容するカセットを保管するカセット保管設備Bzを配設し、このカセット保管設備Bzと製造装置との間のパネルの受け渡しを、パネル移載装置(図示省略)を用いて、パネル単位で行うようにするとともに、各カセット保管設備Bz間におけるパネルの移送を、カセット搬送装置(図示省略)を用いて、パネルを収容したカセット単位で行うようにしていた。
しかしながら、このように、洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置に対応してカセット保管設備Bzを配設し、各カセット保管設備Bz間におけるパネルの移送を、カセット搬送設備(図示省略)を用いて、パネルを収容したカセット単位で行うようにすると、製造する液晶パネルのパネルサイズの大形化に伴い、製造工場におけるカセット保管設備Bzやカセット搬送設備が占める面積が増大し、製造工場が大形化するとともに、搬送効率を始めとする生産効率を低下させ、これらによって、液晶パネルの生産コストが上昇するという問題があった。
本発明は、上記従来の液晶パネルの生産設備の有する問題点に鑑み、製造する液晶パネルのパネルサイズが大形化しても、製造工場におけるカセット保管設備やカセット搬送設備が占める面積が増大せず、搬送効率を始めとする生産効率を向上することができる液晶パネルの生産設備を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明の液晶パネルの生産設備は、洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程を1加工サイクルとし、同様の加工サイクルを複数回繰り返して行うことによりパネル面上にトランジスタを形成するようにした液晶パネルの生産設備において、洗浄・製膜工程へパネルを受け渡すパネル供給位置及びエッチング工程からパネルを受け取るパネル受容位置に、パネルを収容するカセットを保管するカセット保管設備を配設し、前の加工サイクルのパネル受容位置に配設したカセット保管設備とそれに続く加工サイクルのパネル供給位置に配設したカセット保管設備との間におけるパネルの移送を、パネルを収容したカセット単位で行うようにするとともに、同一加工サイクル内のパネルの移送を、パネル単位で行うようにしたこと特徴とする。
この場合において、前の加工サイクルのパネルの移送方向とそれに続く加工サイクルのパネルの移送方向とが逆方向になるように各加工サイクルの洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置を平行かつ逆方向に設置し、前の加工サイクルのパネル受容位置に配設したカセット保管設備とそれに続く加工サイクルのパネル供給位置に配設したカセット保管設備とを共通化するようにすることができる。
また、前の加工サイクルの洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置と、それに続く加工サイクルの洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置とを、上下階に階を違えて設置するようにすることができる。
また、複数の加工サイクルの洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置を同一階に設置するに当たり、各加工サイクルのパネルの移送方向が同方向になるように各加工サイクルの洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置を平行かつ同方向に設置するようにすることができる。
また、異なる加工サイクル間で洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置の少なくとも一部を共用できるようにようにすることができる。
そして、上記の液晶パネルの生産設備によって、パネルサイズが1800mm×1500mm以上、さらには、2200mm×1800mm以上のパネルを取り扱うことができる。
本発明の液晶パネルの生産設備によれば、洗浄・製膜工程へパネルを受け渡すパネル供給位置及びエッチング工程からパネルを受け取るパネル受容位置に、パネルを収容するカセットを保管するカセット保管設備を配設し、前の加工サイクルのパネル受容位置に配設したカセット保管設備とそれに続く加工サイクルのパネル供給位置に配設したカセット保管設備との間におけるパネルの移送を、パネルを収容したカセット単位で行うようにするとともに、同一加工サイクル内のパネルの移送を、パネル単位で行うようにすることにより、製造する液晶パネルのパネルサイズが大形化しても、製造工場におけるカセット保管設備やカセット搬送設備が占める面積が増大せず、搬送効率を始めとする生産効率を向上することができ、液晶パネルの生産コストを低廉にできる。
また、前の加工サイクルのパネルの移送方向とそれに続く加工サイクルのパネルの移送方向とが逆方向になるように各加工サイクルの洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置を平行かつ逆方向に設置し、前の加工サイクルのパネル受容位置に配設したカセット保管設備とそれに続く加工サイクルのパネル供給位置に配設したカセット保管設備とを共通化するようにすることにより、カセット保管設備を簡略化することができる。
また、前の加工サイクルの洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置と、それに続く加工サイクルの洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置とを、上下階に階を違えて設置するようにすることにとり、カセット保管設備を簡略化することができる。
また、複数の加工サイクルの洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置を同一階に設置するに当たり、各加工サイクルのパネルの移送方向が同方向になるように各加工サイクルの洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置を平行かつ同方向に設置するようにすることにより、製造装置のメンテナンス作業等を簡略化することができる。
また、異なる加工サイクル間で洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置の少なくとも一部を共用できるようにようにすることにより、製造装置の故障や製造装置の稼働頻度の調整等に容易に対応することができる。
以下、本発明の液晶パネルの生産設備の実施の形態を、図面に基づいて説明する。
図1〜図2に、本発明の液晶パネルの生産設備の一実施例を示す。
この液晶パネルの生産設備は、従来の液晶パネルの生産設備と同様、図3(a)に示すように、洗浄・製膜工程(洗浄・製膜工程)、レジスト塗布・露光・現像工程(露光工程)及びエッチング・アッシング・検査工程(エッチング工程)を1加工サイクルとし、同様の加工サイクルを複数回繰り返して行うことにより、具体的には、一例として、(1)ゲート形成、(2)N型膜、(3)ソース形成、(4)電極形成、(5)保護膜形成の各加工サイクルを行うことにより、パネル面上にトランジスタを形成するものである。
そして、本実施例の液晶パネルの生産設備においては、洗浄・製膜工程へパネルを受け渡すパネル供給位置及びエッチング工程からパネルを受け取るパネル受容位置に、パネルを収容するカセットを保管するカセット保管設備Bx1、Bx2を配設し、前の加工サイクルのパネル受容位置に配設したカセット保管設備Bx2とそれに続く加工サイクルのパネル供給位置に配設したカセット保管設備Bx1との間におけるパネルの移送を、パネルを収容したカセット単位で行うようにするとともに、同一加工サイクル内のパネルの移送、すなわち、洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置1、2、3の間でのパネルの受け渡しを、パネル移載装置4を用いて、パネル単位で行うようにするようにしている。
この場合において、洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置1、2、3の間でのパネルの受け渡しは、製造装置1、2、3間に、パネルを一時的に保管するパネル保管設備Byを配設し、パネル移載装置4を用いて行うことができる。
また、パネルを収容したカセット単位で行う前の加工サイクルのパネル受容位置に配設したカセット保管設備Bx2とそれに続く加工サイクルのパネル供給位置に配設したカセット保管設備Bx1との間におけるパネルの移送は、カセット搬送装置(図示省略)を用いて行うほか、前の加工サイクルのパネルの移送方向とそれに続く加工サイクルのパネルの移送方向とが逆方向になるように各加工サイクルの洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置1、2、3を平行かつ逆方向に設置し、さらに、前の加工サイクルのパネル受容位置に配設したカセット保管設備Bx2とそれに続く加工サイクルのパネル供給位置に配設したカセット保管設備Bx1とを共通化することにより、カセット搬送装置として、スタッカークレーン(図示省略)を用いて行うこともでき、これにより、カセット保管設備及びカセット搬送装置を簡略化することができる。
この場合、図2に示すように、前の加工サイクルの洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置1、2、3と、それに続く加工サイクルの洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置1、2、3とを、上下階に階を違えて設置するようにすることもでき、これにより、カセット保管設備及びカセット搬送装置を簡略化することができる。
また、複数の加工サイクルの洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置1、2、3を同一階に設置するに当たり、各加工サイクルのパネルの移送方向が同方向になるように各加工サイクルの洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置1、2、3を平行かつ同方向に設置するようにすることができ、これにより、製造装置1、2、3のメンテナンス作業等を簡略化することができる。
また、異なる加工サイクル間で洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置1、2、3の少なくとも一部を共用できるようにすることができる。
この場合、図2(a)に示すように、通常は使用せずに、製造装置の故障や製造装置の稼働頻度の調整等の際に使用する補助の製造装置1a、2a、3a、3b、3cを、通常使用する製造装置1、2、3と並列して設置するようにすることができる。
これにより、製造装置の故障や製造装置の稼働頻度の調整等に容易に対応することができる。
そして、この液晶パネルの生産設備によって、パネルサイズが1800mm×1500mm以上、さらには、2200mm×1800mm以上のパネルを取り扱うことができる。
この液晶パネルの生産設備によれば、洗浄・製膜工程へパネルを受け渡すパネル供給位置及びエッチング工程からパネルを受け取るパネル受容位置に、パネルを収容するカセットを保管するカセット保管設備Bx1、Bx2を配設し、前の加工サイクルのパネル受容位置に配設したカセット保管設備Bx2とそれに続く加工サイクルのパネル供給位置に配設したカセット保管設備Bx1との間におけるパネルの移送を、パネルを収容したカセット単位で行うようにするとともに、同一加工サイクル内のパネルの移送を、パネル単位で行うようにすることにより、製造する液晶パネルのパネルサイズが大形化しても、製造工場におけるカセット保管設備やカセット搬送設備が占める面積が増大せず、搬送効率を始めとする生産効率を向上することができ、工場建設の初期費用を低廉にできることと相俟って、液晶パネルの生産コストを低廉にできる。
以上、本発明の液晶パネルの生産設備について、その実施例に基づいて説明したが、本発明は上記実施例に記載した構成に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において適宜その構成を変更することができるものである。
本発明の液晶パネルの生産設備は、製造する液晶パネルのパネルサイズが大形化しても、製造工場におけるカセット保管設備やカセット搬送設備が占める面積が増大せず、搬送効率を始めとする生産効率を向上することができることから、大形のパネルサイズの液晶パネルの生産設備に好適に用いることができる。
本発明の液晶パネルの生産設備の一実施例を示す概略説明図である。 同製造装置を、上下階に階を違えて設置する場合を示し、(a)は上下階の平面図、(b)は正面図である。 (a)は液晶パネルの生産工程を示す説明図、(b)は従来の液晶パネルの生産設備の一実施例を示す概略説明図である。
符号の説明
Bx1 カセット保管設備
Bx2 カセット保管設備
By パネル保管設備
1 洗浄・製膜工程を実施する製造装置
2 露光工程を実施する製造装置
3 エッチング工程を実施する製造装置
4 パネル移載装置

Claims (7)

  1. 洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程を1加工サイクルとし、同様の加工サイクルを複数回繰り返して行うことによりパネル面上にトランジスタを形成するようにした液晶パネルの生産設備において、洗浄・製膜工程へパネルを受け渡すパネル供給位置及びエッチング工程からパネルを受け取るパネル受容位置に、パネルを収容するカセットを保管するカセット保管設備を配設し、前の加工サイクルのパネル受容位置に配設したカセット保管設備とそれに続く加工サイクルのパネル供給位置に配設したカセット保管設備との間におけるパネルの移送を、パネルを収容したカセット単位で行うようにするとともに、同一加工サイクル内のパネルの移送を、パネル単位で行うようにしたこと特徴とする液晶パネルの生産設備。
  2. 前の加工サイクルのパネルの移送方向とそれに続く加工サイクルのパネルの移送方向とが逆方向になるように各加工サイクルの洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置を平行かつ逆方向に設置し、前の加工サイクルのパネル受容位置に配設したカセット保管設備とそれに続く加工サイクルのパネル供給位置に配設したカセット保管設備とを共通化するようにしたこと特徴とする請求項1記載の液晶パネルの生産設備。
  3. 前の加工サイクルの洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置と、それに続く加工サイクルの洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置とを、上下階に階を違えて設置するようにしたこと特徴とする請求項1又は2記載の液晶パネルの生産設備。
  4. 複数の加工サイクルの洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置を同一階に設置するに当たり、各加工サイクルのパネルの移送方向が同方向になるように各加工サイクルの洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置を平行かつ同方向に設置するようにしたこと特徴とする請求項1、2又は3記載の液晶パネルの生産設備。
  5. 異なる加工サイクル間で洗浄・製膜工程、露光工程及びエッチング工程をそれぞれ実施する製造装置の少なくとも一部を共用できるようにしたことを特徴とする請求項1、2、3又は4記載の液晶パネルの生産設備。
  6. 請求項1、2、3、4又は5記載の液晶パネルの生産設備によって取り扱われるパネルであって、パネルサイズが1800mm×1500mm以上のパネルであることを特徴とするパネル。
  7. パネルサイズが2200mm×1800mm以上のパネルであることを特徴とする請求項6記載のパネル。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009078209A1 (ja) * 2007-12-18 2009-06-25 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. 薄膜太陽電池製造システム及び共通基板保管ラック

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1167870A (ja) * 1997-08-22 1999-03-09 Hitachi Ltd 半導体ウェハ搬送装置
JPH11224894A (ja) * 1997-09-25 1999-08-17 Innotech Corp 半導体デバイスの製造装置
JP2001168169A (ja) * 1999-12-13 2001-06-22 Tokyo Electron Ltd 基板処理システム
JP2001274215A (ja) * 2000-03-23 2001-10-05 Honda Motor Co Ltd 自動化処理装置
JP2004103947A (ja) * 2002-09-11 2004-04-02 Dainippon Printing Co Ltd 混流型製造ラインシステム及びそのシステムを用いた製造方法
JP2004240418A (ja) * 2003-01-16 2004-08-26 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 液晶表示装置およびその作製方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1167870A (ja) * 1997-08-22 1999-03-09 Hitachi Ltd 半導体ウェハ搬送装置
JPH11224894A (ja) * 1997-09-25 1999-08-17 Innotech Corp 半導体デバイスの製造装置
JP2001168169A (ja) * 1999-12-13 2001-06-22 Tokyo Electron Ltd 基板処理システム
JP2001274215A (ja) * 2000-03-23 2001-10-05 Honda Motor Co Ltd 自動化処理装置
JP2004103947A (ja) * 2002-09-11 2004-04-02 Dainippon Printing Co Ltd 混流型製造ラインシステム及びそのシステムを用いた製造方法
JP2004240418A (ja) * 2003-01-16 2004-08-26 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 液晶表示装置およびその作製方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009078209A1 (ja) * 2007-12-18 2009-06-25 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. 薄膜太陽電池製造システム及び共通基板保管ラック
JP2009147266A (ja) * 2007-12-18 2009-07-02 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 薄膜太陽電池製造装置システム及び共通基板保管ラック

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