JP2006063295A - 芳香族アミドブロック共重合体及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 特定の芳香族アミド合物単位からなり、ゲル・パーミエーションクロマトグラフィーで測定した標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が10000〜1000000であることを特徴とする芳香族アミドブロック共重合体。
【選択図】 なし
Description
(ここで、G1、G2はポリエステル残基、G3はジオール化合物残基またはポリオール化合物残基を示し、Xは下記一般式(4)〜(5)に示される群から選ばれる少なくとも1種以上の鎖延長成分単位を示す。)
(式中、R10〜R15はそれぞれ置換又は無置換の炭素数1〜20の1価の炭化水素基を示す。R16、R17はそれぞれ置換又は無置換の炭素数1〜20の2価の炭化水素基を示し、mは4〜150の整数を示す。)
ここで、R10〜R15はそれぞれ置換又は無置換の炭素数1〜20の1価の炭化水素基で、同一でも異なっていてもよい。該炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、クロロプロピル基等の置換又は無置換のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の置換又は無置換のシクロアルキル基;ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、デセニル基等の置換又は無置換のアルケニル基が挙げられる。
(式中、R18〜R21はそれぞれ置換又は無置換の炭素数1〜20の1価の炭化水素基を示し、nは4〜150の整数を示す。)
ここで、R18〜R21はそれぞれ置換又は無置換の炭素数1〜20の1価の炭化水素基で、同一でも異なっていてもよい。該炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、クロロプロピル基等の置換又は無置換のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の置換又は無置換のシクロアルキル基;ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、デセニル基等の置換又は無置換のアルケニル基が挙げられる。
(ここで、R8は、炭素数2〜20の2価の脂肪族炭化水素基を示す。)
上記一般式(6)で示されるジヒドロキシ芳香族アミド化合物を構成するR6およびR7は、それぞれ独立して炭素数1〜20の2価のアルキレン基であり、該アルキレン基としては直鎖状又は分岐状であってもよく、例えばエチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基等の無置換アルキレン基またはこれらにメチル基、エチル基のようなアルキル置換基もしくはフェニル基のようなアリール置換基が1個以上結合したものが挙げられる。なかでも、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基が好ましい。
(ここで、R9は、ポリ(オキシアルキレン)、ポリ(オルガノシロキサン)、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ(ビニルエーテル)からなる群から選ばれる1種以上の2価の有機基を示す。)
上記一般式(8)で示されるジオール化合物またはポリオール化合物は、両末端に水酸基を有する化合物であり、そのR9としては、前記G3と同様の構造を有するものを挙げることができる。該ジオール化合物またはポリオール化合物の具体例としては、例えば、1,2−エタンジオール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2,2−ジメチルプロパン−1,3−ジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール等の脂肪族炭化水素系ジオール;ポリ(オキシエチレン)ポリオール、ポリ(オキシプロピレン)ポリオール、ポリ(オキシテトラメチレン)ポリオール、ポリ(オキシヘキサメチレン)ポリオール、両末端に水酸基を有するエチレンオキシドとプロピレンオキシドの共重合体、両末端に水酸基を有するエチレンオキシドとテトラヒドロフランの共重合体、両末端に水酸基を有するポリ(プロピレンオキシド)のエチレンオキシド付加重合体等のポリ(オキシアルキレン)系ポリオール;ポリ(ジメチルシロキサン)、ポリ(ジエチルシロキサン)等の両末端に水酸基を有するポリ(オルガノシロキサン)系ポリオール;エチレン、プロピレン、イソブチレン等のオレフィン類の単独重合体、ランダム共重合体、交互共重合体、ブロック共重合体の両末端をヒドロキシ化したジヒドロキシポリオレフィン;ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン系炭化水素の両末端をヒドロキシ化したジヒドロキシポリ(ジエン);該ポリ(ジエン)の二重結合を水素添加したジヒドロキシ水素添加ポリ(ジエン);リノール酸、リノレン酸、オレイン酸等の不飽和脂肪酸を二量化し水素添加して得られる水素添加ダイマージオール;ポリ(プロピオラクトン)、ポリ(ブチロラクトン)、ポリ(バレロラクトン)、ポリ(カプロラクトン)、ポリ(メチルバレロラクトン)、ポリ(エナントラクトン)、ポリ(カプリロラクトン)等の両末端に水酸基を有するのポリラクトン系ポリオール;ポリ(エチレンアジペート)、ポリ(テトラメチレンアジペート)、ポリ(ヘキサメチレンアジペート)等の両末端に水酸基を有するポリエステル系ポリオール;ポリ(プロピレンカーボネート)、ポリ(テトラメチレンカーボネート)、ポリ(ヘキサメチレンカーボネート)、ポリ(ノナンメチレンカーボネート)等の両末端に水酸基を有するポリカーボネート系ポリオール;ポリ(メチルビニルエーテル)、ポリ(エチルビニルエーテル)、ポリ(プロピルビニルエーテル)、ポリ(ブチルビニルエーテル)、ポリ(イソブチルビニルエーテル)、ポリ(t−ブチルビニルエーテル)等の両末端に水酸基を有するポリ(ビニルエーテル)系ポリオール等が挙げられる。これらは1つあるいは2つ以上混合して用いてもよい。
カラム(東ソー製、商品名TSK−GEL GMHHR−H)を装着したGPC装置(東ソー製、商品名HLC−8020)により、カラム温度40℃、流量0.4ml/分の条件下で、溶離液に20mmol/lの塩化リチウムを含むN−メチル−2−ピロリドン(以下、単にNMPと記す)を用いて測定し、数平均分子量(Mn)および重量平均分子量(Mw)を標準ポリスチレン換算で算出した。
示差走査熱量計(セイコー電子工業製、商品名DSC200)を用い、昇温速度10℃/分、40〜300℃の範囲で測定した。
芳香族アミドブロック共重合体を圧縮成形して得た厚さ1mmのシートを作成し、硬度計(高分子計器(株)製、商品名MICRO DUROMETER MD−1)を用いJIS−A硬度を測定した。
核磁気共鳴測定装置(日本電子製、商品名JNM−GSX270型)を用い、重水素化ジメチルスルホキシド中、室温の条件下で1H−NMRおよび13C−NMRを測定した。
芳香族アミドブロック共重合体を圧縮成形して得た厚さ2mmのシートより試験片を作成し、JIS K6251(1993年)に準拠して引張り試験を行い、破断強度及び破断伸びを求めた。
厚さ2mmの試験片をスガ試験機(株)製ギヤーオーブン中、150℃で50時間処理を行い、JIS K6251(1993年)に従い切断時伸びを求め、処理前後の切断時伸びより保持率を求め、この値を伸び保持率とした。
窒素導入管、温度計および攪拌翼を備えた500mlの4つ口フラスコに、p−アミノフェノール54.57g(500mmol)及びN−メチル−2−ピロリドン(以下、NMPと記す。)200mlを加え50℃に昇温し溶解させた。そこへピリジン40ml(500mmol)を加え、均一に攪拌した。別途、窒素導入管を備えた200ml滴下ロートに、NMP160ml及びテレフタル酸ジクロライド50.76g(250mmol)を加え、撹拌し均一溶液とし、この溶液を先の溶液中に50℃を保ちながら30分かけて滴下した。さらに50℃で2時間反応を行った。
窒素導入管、温度計、攪拌翼を備えた300mlの4ツ口フラスコに、化合物(b)8.73g(20mmol)、ε−カプロラクトン22.83g(200mmol)、NMP50mlを仕込み、180℃に昇温した後、ジブチルスズジラウレート25mg(0.04mmol)を加え、180℃で8時間開環重合を行った。本反応により下記に示す末端に水酸基を有するプレポリマー溶液を得た。プレポリマーを単離し、1H−NMRスペクトル解析を行った結果、カプロラクトン単位と芳香族アミド単位のモル比[(m+n)/化合物(b)]=9.9であった。
鎖延長剤としてテレフタル酸ジクロライドをアジピン酸ジクロライド3.7g(20mmol)に変更した以外は、実施例1と同様に芳香族アミドブロック共重合体を得た。
開環重合条件を変更した以外は、実施例2と同様に芳香族アミドブロック共重合体を得た。なお、アジピン酸ジクロライドの仕込量は化合物(b)の仕込量と等モルとし、またピリジン仕込量はアジピン酸ジクロライドの2倍モル量とした。結果を表1にまとめた。
窒素導入管、温度計、攪拌翼を備えた500mlの4ツ口フラスコに、化合物(b)10.00g(23mmol)、ε−カプロラクトン26.25g(230mmol)、NMP57gを仕込み、180℃に昇温した後、モノブチルスズトリス(2−エチルヘキサノエート)28mg(0.04mmol)を加え、180℃で1時間開環重合を行い末端に水酸基を有するプレポリマー溶液を得た。その後、80℃まで降温し、鎖延長剤であるジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート5.73g(23mmol)をNMP15gに溶解させた溶液を滴下し、80℃で4時間反応させた。反応終了後の溶液に、テトラヒドロフラン(以下、THFと記す。)150mlを加えて希釈溶解し、メタノール1.5lに投入した。得られた固形分をメタノール1.5lで3回洗浄後、80℃で減圧乾燥し芳香族アミドブロック共重合体を得た。
実施例11と同じ仕込み条件で、180℃1時間開環重合を行った後、鎖延長剤であるヘキサメチレンジイソシアネート3.85g(23mmol)をNMP15gに溶解させた溶液を滴下し、180℃で4時間反応させた。反応終了後の溶液に、THF150mlとNMP100mlを加えて希釈し、メタノール1.5lに投入した。得られた固形分をメタノール1.5lで3回洗浄後、80℃で減圧乾燥し芳香族アミドブロック共重合体を得た。
窒素導入管、温度計、攪拌翼を備えた500mlの4ツ口フラスコに、化合物(b)29.85g(68mmol)、ε−カプロラクトン78.06g(684mmol)、NMP180gを仕込み、180℃に昇温した後、モノブチルスズトリス(2−エチルヘキサノエート)83mg(0.14mmol)を加え、180℃で1時間開環重合を行い末端に水酸基を有するプレポリマー溶液を得た。その後、鎖延長剤であるジフェニルカーボネート14.65g(68mmol)をNMP10gに溶解させた溶液を滴下し、180℃で5時間反応させた。その後、NMP及び副生するフェノールを減圧留去しながら230℃まで昇温し、同温で40分間反応させた。反応容器を窒素で常圧に戻した後、内容物を取り出し、芳香族アミドブロック共重合体を得た。
ジフェニルカーボネートを表2に示す化合物(68mmol)に変更した以外は、実施例13と同様に芳香族アミドブロック共重合体を得た。結果を表2にまとめた。
モノブチルスズトリス(2−エチルヘキサノエート)83mg(0.14mmol)からテトラブチルチタネート48mg(0.14mmol)、開環重合時間を1時間から2時間に変更した以外は実施例13と同様に、末端に水酸基を有するプレポリマー溶液を得た。その後、鎖延長剤としてN,N’−テレフタロイルビスカプロラクタム24.38g(68mmol)をNMP10gに溶解させた溶液を滴下し、180℃で5時間反応させた。その後、NMP及びε−カプロラクタムを減圧留去しながら230℃まで昇温し、同温で1時間反応させた。反応容器を窒素で常圧に戻した後、内容物を取り出し、芳香族アミドブロック共重合体を得た。その結果を表3に示す。
化合物(b)とε−カプロラクトンの仕込比を変更した以外は実施例17同様に芳香族アミドブロック共重合体を得た。この際、テトラブチルチタネートはε−カプロラクトンに対し0.02モル%、NMPの使用量は化合物(b)1mmolに対し2.63gとした。また、実施例18、19では減圧留去後の反応温度を250℃に変更した。結果を表3に示す。
窒素導入管、温度計、攪拌翼を備えた300mlの4ツ口フラスコに、窒素雰囲気下、アジピン酸ジクロライド5.8ml(40mmol)、NMP20mlを加え均一溶液を得た。別途に、窒素導入管を備えた200ml滴下ロートに、ポリ(オキシテトラメチレン)ポリオール[保土谷化学工業製、商品名PTG−1000SN;数平均分子量=1038)]20.76g(20mmol)、ピリジン3.2ml(40mmol)、NMP80mlを加え、撹拌し均一溶液とし、この溶液を先の溶液中に15分かけて滴下し、室温で3時間反応させ、両末端に酸クロライド基を有するポリ(オキシテトラメチレン)を得た。さらに室温で3時間反応させた後、ピリジン3.2ml(40mmol)、化合物(b)8.73g(20mmol)、NMP30mlを加え、さらに120℃で2時間反応させた。室温まで冷却した後、得られた均一溶液をメタノール1.5lに投入し、芳香族アミドブロック共重合体を得た。
ポリ(オキシテトラメチレン)ポリオールを、ポリ(ジメチルシロキサン)ポリオール[信越化学製、商品名X−22−160AS;数平均分子量=959]19.18g(20mmol)に変更した以外は実施例22と同様に芳香族アミドブロック共重合体を得た。
ポリ(オキシテトラメチレン)ポリオールを、ダイマー酸ポリエステルポリオール[ユニケマ製、商品名PRIPLAST3192;数平均分子量=1931]38.62g(20mmol)に変更した以外は実施例22と同様に芳香族アミドブロック共重合体を得た。
ポリ(オキシテトラメチレン)ポリオールを、ポリ(カプロラクトン)ポリオール[ダイセル化学工業製、商品名プラクセル210N;数平均分子量=984)]19.68g(20mmol)に変更した以外は実施例22と同様に芳香族アミドブロック共重合体を得た。
ポリ(オキシテトラメチレン)ポリオールを、ポリ(カプロラクトン)ポリオール[ダイセル化学工業製、商品名プラクセル220N;数平均分子量=1979)]39.58g(20mmol)に変更した以外は実施例22と同様に芳香族アミドブロック共重合体を得た。
ポリ(オキシテトラメチレン)ポリオールを、ポリ(カプロラクトン)ポリオール[ダイセル化学工業製、商品名プラクセル205;数平均分子量=524)]10.48g(20mmol)に変更した以外は実施例22と同様に芳香族アミドブロック共重合体を得た。
窒素導入管、温度計、攪拌翼を備えた300mlの4ツ口フラスコに、窒素雰囲気下、ポリ(オキシテトラメチレン)ポリオール[保土谷化学工業製、商品名PTG−2000SN;数平均分子量=1993)]39.86g(20mmol)を仕込み80℃に昇温した。その後、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート9.97g(40mmol)をNMP30gに溶解した溶液を滴下し、80℃で1時間反応させ、両末端にイソシアネート基を有するポリ(オキシテトラメチレン)を得た。さらに化合物(b)8.73g(20mmol)とNMP40gを加え80℃で3時間反応させた。反応終了後の溶液に、THF150mlを加えて希釈し、メタノール1.5lに投入した。得られた固形分をメタノール1.5Lで3回洗浄後、80℃で減圧乾燥し、芳香族アミドブロック共重合体を得た。
ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート9.97g(40mmol)をヘキサメチレンジイソシアネート6.70g(40mmol)、反応温度を80℃から150℃に変更した以外は実施例28と同様に芳香族アミドブロック共重合体を得た。
窒素導入管、温度計、攪拌翼を備えた1000mlの4つ口フラスコに、4−アミノ安息香酸エチル 198.4g及びN−メチル−2−ピロリドン600mlを加え、攪拌し均一溶液を得た。別途に、窒素導入管を取り付けた500ml滴下ロートに、N−メチル−2−ピロリドン400ml及びテレフタル酸ジクロライド122.16gを加え、攪拌し均一溶液とし、この溶液を先の溶液中に滴下時間10分で滴下した。滴下後、ピリジン94.87gを加え、4.5時間反応を行ったところ、反応とともに結晶が析出した。結晶を吸引濾過した後、N−メチル−2−ピロリドン500mlで洗浄し、次いで、アセトン1000mlで洗浄後、100℃で14時間減圧加熱乾燥し、収率98.0%でN,N’−ビス(4−エトキシカルボニルフェニル)フェニレン1,4−ジカルボキサミドを合成した。その構造式を下記に示す。この化合物を(c)と記す。
還流冷却器を取り付けた1l3つ口丸底フラスコにp−アミノ安息香酸200g(1.458mol)、大過剰の塩化チオニル500mlを加え6時間還流した。過剰の塩化チオニルを減圧留去したのち黄色の固体を得た。得られた黄色固体を1〜2mmHgの減圧下で蒸留し、収率95%でp−スルフィニルアミノベンゾイルクロライドを得た。
Claims (6)
- 下記一般式(1)で示される芳香族アミド化合物単位と、下記一般式(2)および/または(3)の構造単位からなり、ゲル・パーミエーションクロマトグラフィーで測定した標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が10000〜1000000であることを特徴とする芳香族アミドブロック共重合体。
(ここで、R1およびR2は、それぞれ独立して炭素数1〜20の2価のアルキレン基、Ar1およびAr2は、それぞれ独立して炭素数6〜20の2価のアリーレン基を示す。)
(ここで、G1、G2はポリエステル残基、G3はジオール化合物残基またはポリオール化合物残基を示し、Xは下記一般式(4)〜(5)に示される群から選ばれる少なくとも1種以上の鎖延長成分単位を示す。)
(ここで、R3はそれぞれ独立して炭素数2〜20の2価のアルキレン基、R4はカルボニル基または炭素数2〜20の2価の有機基、p、qは0または1を示す。)
(R5は炭素数2〜20の2価の炭化水素基を示す。) - 一般式(2)中G1、G2のポリエステル残基が、ポリラクトン残基であることを特徴とする請求項1に記載の芳香族アミドブロック共重合体。
- 一般式(3)中G3のジオール化合物残基またはポリオール化合物残基が、ポリ(オキシアルキレン)系ポリオール残基、ポリ(オルガノシロキサン)系ポリオール残基、脂肪族炭化水素系ジオール残基、脂肪族炭化水素系ポリオール残基、脂環式炭化水素系ポリオール残基、ポリエステル系ポリオール残基、ポリカーボネート系ポリオール残基、ポリ(ビニルエーテル)系ポリオール残基からなる群から選ばれる1種以上のジオール化合物残基またはポリオール化合物残基であることを特徴とする請求項1に記載の芳香族アミドブロック共重合体。
- 鎖延長剤が、二官能性酸ハライド化合物、二官能性イソシアネート化合物、二官能性カーボネート化合物、二官能性エステル化合物、二官能性アシルラクタム化合物、二官能性エポキシ化合物、二官能性テトラカルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも1種以上の化合物であることを特徴とする請求項4または5に記載の芳香族アミドブロック共重合体の製造方法。
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