JP2006049702A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006049702A5 JP2006049702A5 JP2004230957A JP2004230957A JP2006049702A5 JP 2006049702 A5 JP2006049702 A5 JP 2006049702A5 JP 2004230957 A JP2004230957 A JP 2004230957A JP 2004230957 A JP2004230957 A JP 2004230957A JP 2006049702 A5 JP2006049702 A5 JP 2006049702A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- charged particle
- particle beam
- lens array
- beam lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Claims (10)
- 複数の開口をそれぞれ有する上電極、中電極および下電極を順に配置してなる荷電粒子線レンズアレイにおいて、
前記上電極と前記中電極の間及び前記中電極と前記下電極の間の少なくとも一方に配置された絶縁体を有し、
前記絶縁体の表面が凹凸形状または波型形状をしていることを特徴とする荷電粒子線レンズアレイ。 - 前記中電極が、前記開口の列ごとに電気的に独立であることを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子線レンズアレイ。
- 前記凹凸形状または前記波型形状のアスペクト比が2以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の荷電粒子線レンズアレイ。
- 前記上電極および前記下電極の少なくともいずれかの電極が前記開口の列ごとにシールド電極を有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の荷電粒子線レンズアレイ。
- 前記シールド電極が円筒形状をしていることを特徴とする請求項4に記載の荷電粒子線レンズアレイ。
- 前記シールド電極が前記上電極および前記下電極の少なくともいずれかの電極と電気的に導通していることを特徴とする請求項4または5に記載の荷電粒子線レンズアレイ。
- 前記上電極及び前記下電極の少なくともいずれかの電極が、SOI基板からなることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の荷電粒子線レンズアレイ。
- 荷電粒子線を放射する荷電粒子源と、
前記荷電粒子源の中間像を複数形成する請求項1〜7のいずれか一項に記載の荷電粒子線レンズアレイを含む補正電子光学系と、
前記複数の中間像を露光対象に縮小投影する投影電子光学系と、
前記露光対象に投影される前記複数の中間像が前記露光対象上で移動するように偏向する偏向器とを有することを特徴とする荷電粒子線露光装置。 - 複数の開口をそれぞれ有する上電極、中電極および下電極を順に配置してなる荷電粒子線レンズアレイの作成方法において、
前記上電極と前記中電極の間及び前記中電極と前記下電極の間の少なくとも一方に配置された絶縁体の表面が凹凸形状または波型形状をしており、
前記上電極と前記中電極と前記下電極とをそれぞれ形成する工程と、
前記上電極と前記中電極と前記下電極とを接合して一体とする工程とを有することを特徴とする荷電粒子線レンズアレイの作製方法。 - 請求項8に記載の露光装置を用いて、露光対象に露光を行う工程と、露光された前記露光対象を現像する工程と、を具備することを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004230957A JP4541798B2 (ja) | 2004-08-06 | 2004-08-06 | 荷電粒子線レンズアレイ、及び該荷電粒子線レンズアレイを用いた荷電粒子線露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004230957A JP4541798B2 (ja) | 2004-08-06 | 2004-08-06 | 荷電粒子線レンズアレイ、及び該荷電粒子線レンズアレイを用いた荷電粒子線露光装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006049702A JP2006049702A (ja) | 2006-02-16 |
JP2006049702A5 true JP2006049702A5 (ja) | 2007-09-13 |
JP4541798B2 JP4541798B2 (ja) | 2010-09-08 |
Family
ID=36027890
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004230957A Expired - Fee Related JP4541798B2 (ja) | 2004-08-06 | 2004-08-06 | 荷電粒子線レンズアレイ、及び該荷電粒子線レンズアレイを用いた荷電粒子線露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4541798B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4648087B2 (ja) * | 2005-05-25 | 2011-03-09 | キヤノン株式会社 | 偏向器の作製方法、荷電粒子線露光装置、および、デバイス製造方法 |
DE102008010123A1 (de) * | 2007-02-28 | 2008-09-04 | Ims Nanofabrication Ag | Vielstrahl-Ablenkarray-Einrichtung für maskenlose Teilchenstrahl-Bearbeitung |
JP5669636B2 (ja) * | 2011-03-15 | 2015-02-12 | キヤノン株式会社 | 荷電粒子線レンズおよびそれを用いた露光装置 |
JP2012195097A (ja) * | 2011-03-15 | 2012-10-11 | Canon Inc | 荷電粒子線レンズおよびそれを用いた露光装置 |
JP2013004216A (ja) | 2011-06-14 | 2013-01-07 | Canon Inc | 荷電粒子線レンズ |
JP2013004680A (ja) * | 2011-06-15 | 2013-01-07 | Canon Inc | 荷電粒子線レンズ |
JP2015511069A (ja) * | 2012-03-19 | 2015-04-13 | ケーエルエー−テンカー コーポレイション | 柱で支持されたマイクロ電子レンズアレイ |
EP3893263A1 (en) * | 2020-04-06 | 2021-10-13 | ASML Netherlands B.V. | Aperture assembly, beam manipulator unit, method of manipulating charged particle beams, and charged particle projection apparatus |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3763446B2 (ja) * | 1999-10-18 | 2006-04-05 | キヤノン株式会社 | 静電レンズ、電子ビーム描画装置、荷電ビーム応用装置、および、デバイス製造方法 |
JP4947842B2 (ja) * | 2000-03-31 | 2012-06-06 | キヤノン株式会社 | 荷電粒子線露光装置 |
JP4585661B2 (ja) * | 2000-03-31 | 2010-11-24 | キヤノン株式会社 | 電子光学系アレイ、荷電粒子線露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2001283756A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-12 | Canon Inc | 電子光学系アレイ、これを用いた荷電粒子線露光装置ならびにデバイス製造方法 |
JP2001284230A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-12 | Canon Inc | 電子光学系アレイ、これを用いた荷電粒子線露光装置ならびにデバイス製造方法 |
JP4615816B2 (ja) * | 2002-11-14 | 2011-01-19 | キヤノン株式会社 | 電子レンズ、その電子レンズを用いた荷電粒子線露光装置、デバイス製造方法 |
-
2004
- 2004-08-06 JP JP2004230957A patent/JP4541798B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20080003916A1 (en) | Field emission device | |
JP5704525B2 (ja) | マイクロレンズアレイを使用したスキャン露光装置 | |
KR970067575A (ko) | 전자빔노광장치와 그 방법 및 디바이스제조방법 | |
CN106062752A (zh) | 用于多带电粒子束平板印刷术的像素融合 | |
JP2008530737A (ja) | 静電ゾーンプレートを備える荷電粒子曝露 | |
US20170229279A1 (en) | Field Curvature Correction for Multi-Beam Inspection Systems | |
JP2008027686A5 (ja) | ||
JP2006049702A5 (ja) | ||
JP6087570B2 (ja) | 描画装置、および物品の製造方法 | |
JP2007094389A5 (ja) | ||
JPH10508975A (ja) | 多電極構造を有する電子蛍光ディスプレイ装置およびその製造方法 | |
KR101977801B1 (ko) | 레티클 형성용 노광 장치 및 이를 이용한 레티클 제조 방법 | |
JP2007019194A5 (ja) | ||
JP5495135B2 (ja) | 凸状パターン形成方法、露光装置及びフォトマスク | |
US20130335503A1 (en) | Drawing apparatus, data processing method, and method of manufacturing article | |
Eder-Kapl et al. | Projection mask-less lithography (PML2): First results from the multi beam blanking demonstrator | |
JP4355219B2 (ja) | 発光型表示装置用の色分離装置の製造方法 | |
JP5083518B2 (ja) | 濃度分布マスク | |
JP2006019439A5 (ja) | ||
JP2006313202A (ja) | マスク製造方法 | |
JP6752948B2 (ja) | プリントヘッド | |
US7180234B2 (en) | Field emission display device and method of manufacturing same | |
JP4268813B2 (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
JP2006019434A5 (ja) | ||
JP4355218B2 (ja) | 発光型表示装置用の色分離装置 |