JP2006049019A - 透明導電膜とその製造方法、及び透明導電膜形成用ペースト - Google Patents
透明導電膜とその製造方法、及び透明導電膜形成用ペースト Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006049019A JP2006049019A JP2004226133A JP2004226133A JP2006049019A JP 2006049019 A JP2006049019 A JP 2006049019A JP 2004226133 A JP2004226133 A JP 2004226133A JP 2004226133 A JP2004226133 A JP 2004226133A JP 2006049019 A JP2006049019 A JP 2006049019A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transparent conductive
- conductive film
- acetylacetone
- paste
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Conductive Materials (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
Abstract
透明性と導電性に優れた透明導電膜を、スクリーン印刷法、ワイヤーバーコート法などの低コストかつ簡便な膜形成法を使用することで形成できる透明導電膜形成用ペーストを提供する。
【解決手段】
透明導電膜形成用ペーストを、アセチルアセトンインジウム、アセチルアセトン錫、セルロース誘導体を、アルキルフェノ−ル及び/又はアルケニルフェノール、二塩基酸エステル及び/又は酢酸ベンジル、アセチルアセトン中で加熱溶解することで取得するに際して、アセチルアセトンインジウムとアセチルアセトン錫の合計含有量を1〜30重量%、セルロース誘導体の含有量を5重量%以下、アセチルアセトンの含有量を0.5〜10重量%未満とする。このペーストを基板上に塗布、乾燥した後、400℃以上の温度で焼成することにより所望のITO透明導電膜を得ることができる。
【選択図】 なし
Description
本発明では、インジウム化合物としてアセチルアセトンインジウム(以下AcAcInと記す場合がある)、有機錫化合物としてアセチルアセトン錫(以下AcAcSnと記す場合がある)、粘性剤としてセルロース誘導体、溶剤としてアルキルフェノール及び/又はアルケニルフェノール、二塩基酸エステル及び/又は酢酸ベンジルを含有する透明導電膜形成用ペーストにアセチルアセトンの少量を添加することで、塗布、乾燥、焼成後に得られるITO透明導電膜の導電性の向上を図ったものである。
[比較例1]
[比較例2]
[比較例3]
[比較例4]
[比較例5]
[特性評価試験]
透明導電膜の透過率(%)
=[(透明導電膜付ガラス基板ごと測定した透過率)/(ガラス基板の透過率)]×100
Claims (9)
- アセチルアセトンインジウム、アセチルアセトン錫、セルロース誘導体、アルキルフェノール及び/又はアルケニルフェノール、二塩基酸エステル及び/又は酢酸ベンジル、アセチルアセトンを含有する透明導電膜形成用ペーストであって、アセチルアセトンインジウムとアセチルアセトン錫との合計含有量が1〜30重量%、セルロース誘導体の含有量が5重量%以下、アセチルアセトンの含有量が0.5〜10重量%未満であることを特徴とする透明導電膜形成用ペースト。
- アセチルアセトンインジウムとアセチルアセトン錫の合計含有量が5〜20重量%であることを特徴とする請求項1に記載の透明導電膜形成用ペースト。
- アセチルアセトンインジウムとアセチルアセトン錫の含有割合がアセチルアセトンインジウム/アセチルアセトン錫重量比=95/5〜80/20であることを特徴とする請求項1または2に記載の透明導電膜形成用ペースト。
- セルロース誘導体が、ヒドロキシプロピルセルロースであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の透明導電膜形成用ペースト。
- 更にペースト粘度低下用の有機溶剤を希釈剤として含ませることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の透明導電膜形成用ペースト。
- B型粘度計で測定した場合の粘度が25℃において5〜50000mPa・sであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の透明導電膜形成用ペースト。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の透明導電膜形成用ペーストを基板上に塗布し、乾燥した後、400℃以上の温度で焼成することを特徴とする透明導電膜の製造方法。
- 上記透明導電膜形成用ペーストの基板上への塗布をスクリーン印刷法またはワイヤーバーコート法で行うことを特徴とする請求項7に記載の透明導電膜の製造方法。
- 請求項7または8に記載の透明導電膜の製造方法で得られた透明導電膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004226133A JP2006049019A (ja) | 2004-08-02 | 2004-08-02 | 透明導電膜とその製造方法、及び透明導電膜形成用ペースト |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004226133A JP2006049019A (ja) | 2004-08-02 | 2004-08-02 | 透明導電膜とその製造方法、及び透明導電膜形成用ペースト |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006049019A true JP2006049019A (ja) | 2006-02-16 |
Family
ID=36027340
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004226133A Pending JP2006049019A (ja) | 2004-08-02 | 2004-08-02 | 透明導電膜とその製造方法、及び透明導電膜形成用ペースト |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006049019A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007308688A (ja) * | 2006-04-20 | 2007-11-29 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 透明導電膜形成用ネガ型感光性塗布液及び透明導電パターン膜とその製造方法 |
KR20110083627A (ko) | 2008-11-12 | 2011-07-20 | 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 | 금속 산화물 미립자 분산 슬러리 |
WO2014034439A1 (ja) * | 2012-08-29 | 2014-03-06 | 住友金属鉱山株式会社 | 透明導電膜形成用塗布液の製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06203658A (ja) * | 1992-12-28 | 1994-07-22 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 透明導電膜形成用塗布液 |
-
2004
- 2004-08-02 JP JP2004226133A patent/JP2006049019A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06203658A (ja) * | 1992-12-28 | 1994-07-22 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 透明導電膜形成用塗布液 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007308688A (ja) * | 2006-04-20 | 2007-11-29 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 透明導電膜形成用ネガ型感光性塗布液及び透明導電パターン膜とその製造方法 |
KR20110083627A (ko) | 2008-11-12 | 2011-07-20 | 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 | 금속 산화물 미립자 분산 슬러리 |
WO2014034439A1 (ja) * | 2012-08-29 | 2014-03-06 | 住友金属鉱山株式会社 | 透明導電膜形成用塗布液の製造方法 |
CN104025208A (zh) * | 2012-08-29 | 2014-09-03 | 住友金属矿山株式会社 | 透明导电膜形成用涂布液的制造方法 |
US20150232674A1 (en) * | 2012-08-29 | 2015-08-20 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Production method for coating liquid for formation of transparent conductive film |
US10283230B2 (en) | 2012-08-29 | 2019-05-07 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Production method for coating liquid for formation of transparent conductive film |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1306522C (zh) | 透明导电膜形成用组合物、透明导电膜形成用溶液以及透明导电膜的形成方法 | |
US8007692B2 (en) | Coating liquid for nickel film formation, nickel film, and production method thereof | |
JP5418502B2 (ja) | 透明導電膜の製造方法及び透明導電膜、透明導電基板並びにそれを用いたデバイス | |
JP2006128098A (ja) | 透明導電膜形成用塗布液及び透明導電膜並びにその製造方法 | |
JP3338966B2 (ja) | 透明導電膜形成用塗布液 | |
JP2006049019A (ja) | 透明導電膜とその製造方法、及び透明導電膜形成用ペースト | |
JP2009135098A (ja) | 透光性導電膜形成用塗布液及び透光性導電膜 | |
JP2011108637A (ja) | 低屈折率透明導電膜の製造方法及び低屈折率透明導電膜、低屈折率透明導電基板並びにそれを用いたデバイス | |
JP2009048986A (ja) | 透明導電膜形成用塗布液及び透明導電膜の製造方法並びに透明導電膜 | |
JP2011018542A (ja) | 透明導電性基材及びその製造方法 | |
CN104025208B (zh) | 透明导电膜形成用涂布液的制造方法 | |
JP2007005290A (ja) | 透明導電膜とその製造方法、及び透明導電膜形成用塗布液 | |
JP5413708B2 (ja) | 透明導電膜、透明導電基板及びそれを用いたデバイス並びに透明導電膜の製造方法 | |
JP2008153136A (ja) | ニッケル膜形成用塗布液、及びニッケル膜とその製造方法 | |
JP4655529B2 (ja) | 透明導電膜とその製造方法、及び透明導電膜形成用塗布液 | |
JP2008127657A (ja) | ニッケル膜形成用塗布液及びニッケル膜の製造方法並びにニッケル膜 | |
JP2011028861A (ja) | 透明導電膜の製造方法及び透明導電膜、透明導電基板並びにそれを用いたデバイス | |
JP2009164116A (ja) | 低屈折率透明導電膜形成用塗布液及び低屈折率透明導電膜 | |
JP2009164116A5 (ja) | ||
KR0149293B1 (ko) | 투명 도전성 코팅 조성물 | |
JP2008013653A (ja) | 透明導電膜形成用インキとその製造方法 | |
JP3995909B2 (ja) | 透明導電膜形成用ペーストとそれを用いた透明導電膜及びその製造方法 | |
JP2012209123A (ja) | 透明導電膜の製造方法及び透明導電膜、透明導電基板並びにそれを用いたデバイス | |
JP2005125305A (ja) | 透明導電膜形成用処理剤および透明導電膜形成方法 | |
JPH0530001B2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070501 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20070501 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20070501 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090826 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091207 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091210 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100402 |