JP2006032937A5 - - Google Patents

Claims (16)

1. 第１のレーザ発振器から射出されたレーザビーム１をダイクロイックミラー１を通過させ、前記レーザビーム１とは波長の異なる第２のレーザ発振器から射出されたレーザビーム２を前記ダイクロイックミラー１で反射させてレーザビームを合成し、合成されたレーザビームを照射レーザビームとし、
   前記照射レーザビームをアクロマートレンズを通過させ、照射面上に投影するレーザ照射方法であって、
   前記アクロマートレンズは、複数のレンズから構成され、かつ波長の異なる複数のレーザビームの焦点距離が異なっていて同一スポットを照射するものであるレーザ照射方法。
2. 第１のレーザ発振器から射出されたレーザビーム１をダイクロイックミラー１を通過させ、前記レーザビーム１とは波長の異なる第２のレーザ発振器から射出されたレーザビーム２を前記ダイクロイックミラー１で反射させて前記レーザビーム１と前記レーザビーム２を合成し、合成されたレーザビームをダイクロイックミラー２を通過させ、前記レーザビーム１および前記レーザビーム２とは波長の異なる第３のレーザ発振器から射出されたレーザビーム３を前記ダイクロイックミラー２で反射させて３つのレーザビームを合成し、合成されたレーザビームを照射レーザビームとし、
   前記レーザビームをアポクロマートレンズを通過させ、照射面上に投影するレーザ照射方法であって、
   前記アポクロマートレンズは、複数のレンズから構成され、かつ波長の異なる複数のレーザビームの焦点距離が異なっていて同一スポットを照射するものであるレーザ照射方法。
3. 第１のレーザ発振器から射出されたレーザビーム１をダイクロイックミラー１を通過させ、前記レーザビーム１とは波長の異なる第２のレーザ発振器から射出されたレーザビーム２を前記ダイクロイックミラー１で反射させてレーザビームを合成し、合成された第１の合成レーザビームをλ／２波長板を通過させた後に偏光子を通過させ、
   第３のレーザ発振器から射出されたレーザビーム１Ａをダイクロイックミラー１Ａを通過させ、レーザビーム１Ａとは波長の異なる第４のレーザ発振器から射出されたレーザビーム２Ａを前記ダイクロイックミラー１Ａで反射させてレーザビームを合成し、合成された第２の合成レーザビームを前記偏光子で反射させて前記第１の合成レーザビームと前記第２の合成レーザビームを更に合成し、合成された合成レーザビームを照射レーザビームとし、前記照射レーザビームを照射面上に投影することを特徴とするレーザ照射方法。
4. 第１のレーザ発振器から射出されたレーザビーム１をダイクロイックミラー１を通過させ、前記レーザビーム１とは波長の異なる第２のレーザ発振器から射出されたレーザビーム２を前記ダイクロイックミラー１で反射させてレーザビームを合成し、合成されたレーザビームをダイクロイックミラー２を通過させ、前記レーザビーム１および前記レーザビーム２とは波長の異なる第３のレーザ発振器から射出されたレーザビーム３を前記ダイクロイックミラー２で反射させて３つのレーザビームを合成し、合成された第１の合成レーザビームをλ／２波長板を通過させた後に偏光子を通過させ、
   第４のレーザ発振器から射出されたレーザビーム１Ａをダイクロイックミラー１Ａを通過させ、前記レーザビーム１Ａとは波長の異なる第５のレーザ発振器から射出されたレーザビーム２Ａを前記ダイクロイックミラー１Ａで反射させてレーザビームを合成し、合成されたレーザビームをダイクロイックミラー２Ａを通過させ、前記レーザビーム１Ａおよび前記レーザビーム２Ａとは波長の異なる第６のレーザ発振器から射出されたレーザビーム３Ａを前記ダイクロイックミラー２Ａで反射させて３つのレーザビームを合成し、合成された第２の合成レーザビームを前記偏光子で反射させて前記第１の合成レーザビームと前記第２の合成レーザビームを更に合成し、合成された合成レーザビームを照射レーザビームとし、前記照射レーザビームを照射面上に投影することを特徴とするレーザ照射方法。
5. 前記照射レーザビームを照射面上に投影する前に所定形状にするために集光レンズを通過させる請求項３又は４に記載のレーザ照射方法。
6. 前記集光レンズがアクロマートレンズ又はアポクロマートレンズである請求項５に記載のレーザ照射方法。
7. 前記アクロマートレンズ又は前記アポクロマートレンズは、複数のレンズから構成され、かつ波長の異なる複数のレーザビームの焦点距離が異なっていて同一スポットを照射するものである請求項６に記載のレーザ照射方法。
8. 請求項１ないし７のいずれか１項に記載の前記照射レーザビームを用いて非単結晶半導体膜をアニールする方法。
9. 請求項１ないし７のいずれか１項に記載の前記照射レーザビームを用いて非単結晶半導体膜をアニールし、アニールにより得られた半導体膜を用いて半導体装置を作製する方法。
10. レーザビーム１を射出する第１のレーザ発振器、前記レーザビーム１とは異なる波長のレーザビーム２を射出する第２のレーザ発振器、前記レーザビーム１を通過させ、前記レーザビーム２を反射させてレーザビームを合成するダイクロイックミラー１、及びそこで合成された照射レーザビームを投影する照射面を設置するステージを備え、
    前記照射レーザビームを前記照射面上に投影する前に通過させ、所定形状にするためのアクロマートレンズを備えたレーザ照射装置であって、
    前記アクロマートレンズは、複数のレンズから構成され、かつ波長の異なる複数のレーザビームの焦点距離が異なっていて同一スポットを照射するものであることを特徴とするレーザ照射装置。
11. レーザビーム１を射出する第１のレーザ発振器、前記レーザビーム１とは異なる波長のレーザビーム２を射出する第２のレーザ発振器、前記レーザビーム１を通過させ、前記レーザビーム２を反射させてレーザビームを合成するダイクロイックミラー１、前記レーザビーム１および前記レーザビーム２とは異なる波長のレーザビーム３を射出する第３のレーザ発振器、前記ダイクロイックミラー１で合成されたレーザビームを通過させ、前記レーザビーム３を反射させてそれらレーザビームを合成するダイクロイックミラー２、及び前記ダイクロイックミラー２で合成された照射レーザビームを投影する照射面を設置するステージを備え、
    前記照射レーザビームを前記照射面上に投影する前に通過させ、所定形状にするためのアポクロマートレンズを備えたレーザ照射装置であって、
    前記アポクロマートレンズは、複数のレンズから構成され、かつ波長の異なる複数のレーザビームの焦点距離が異なっていて同一スポットを照射するものであることを特徴とするレーザ照射装置。
12. レーザビーム１を射出する第１のレーザ発振器、前記レーザビーム１とは異なる波長のレーザビーム２を射出する第２のレーザ発振器、前記レーザビーム１を通過させ、前記レーザビーム２を反射させてレーザビームを合成するダイクロイックミラー１、及び前記ダイクロイックミラー１で合成された第１の合成レーザビームを通過させるλ／２波長板を備え、
    レーザビーム１Ａを射出する第３のレーザ発振器、前記レーザビーム１Ａとは異なる波長のレーザビーム２Ａを射出する第４のレーザ発振器、前記レーザビーム１Ａを通過させ、前記レーザビーム２Ａを反射させてレーザビームを合成し、第２の合成レーザビームを形成するダイクロイックミラー１Ａを備え、
    更に前記λ／２波長板を通過した前記第１の合成レーザビームを通過させ、前記第２の合成レーザビームを反射させて合成レーザビームを合成する偏光子を備え、
    並びに前記偏光子で合成された照射レーザビームを投影する照射面を設置するステージを備えたことを特徴とするレーザ照射装置。
13. レーザビーム１を射出する第１のレーザ発振器、前記レーザビーム１とは異なる波長のレーザビーム２を射出する第２のレーザ発振器、前記レーザビーム１を通過させ、前記レーザビーム２を反射させてレーザビームを合成するダイクロイックミラー１、前記レーザビーム１および前記レーザビーム２とは異なる波長のレーザビーム３を射出する第３のレーザ発振器、前記ダイクロイックミラー１で合成されたレーザビームを通過させ、前記レーザビーム３を反射させてそれらレーザビームを合成するダイクロイックミラー２、及びそこで合成された第１の合成レーザビームを通過させるλ／２波長板を備え、
    レーザビーム１Ａを射出する第４のレーザ発振器、前記レーザビーム１Ａとは異なる波長のレーザビーム２Ａを射出する第５のレーザ発振器、前記レーザビーム１Ａを通過させ、前記レーザビーム２Ａを反射させてレーザビームを合成するダイクロイックミラー１Ａ、前記レーザビーム１Ａおよび前記レーザビーム２Ａとは異なる波長のレーザビーム３Ａを射出する第６のレーザ発振器、及び前記ダイクロイックミラー１Ａで合成されたレーザビームを通過させ、前記レーザビーム３Ａを反射させてそれらレーザビームを合成し、第２の合成レーザビームを形成するダイクロイックミラー２Ａを備え、
    前記λ／２波長板を通過した前記第１の合成レーザビームを通過させ、前記第２の合成レーザビームを反射させて合成レーザビームを更に合成する偏光子を備え、
    並びに前記偏光子で合成された照射レーザビームを投影する照射面を設置するステージを備えたことを特徴とするレーザ照射装置。
14. 前記照射レーザビームを照射面上に投影する前に通過させ、所定形状にするための集光レンズを備える請求項１２又は１３に記載のレーザ照射装置。
15. 前記集光レンズがアクロマートレンズ又はアポクロマートレンズである請求項１４に記載のレーザ照射装置。
16. 前記アクロマートレンズ又は前記アポクロマートレンズは、複数のレンズから構成され、かつ波長の異なる複数のレーザビームの焦点距離が異なっていて同一スポットを照射するものである請求項１５に記載のレーザ照射装置。