JP2006030889A - 液晶表示装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 検出対象を精度良く検出でき且つ透過表示と反射表示とが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 液晶表示装置1では、アレイ基板11は、アレイ基板11の前面から与えられる光を検出する光センサ1112を備え、対向基板13は、光源14からの光が透過するカラーフィルタ132と、カラーフィルタ132を透過した光が透過し且つ複数の画素電極113に対向する透明な透明電極134aと、他の複数の画素電極113に対向し且つ外光を反射する反射電極135を備える。検出対象である光は直接的に光センサ1112に与えられるので光を精度良く検出できる。また、光源14からの光が透明電極134aを透過するとともに外光が反射電極135で反射するので、透過表示と反射表示が可能になる。
【選択図】図1

Description

本発明は、検出対象を精度良く検出でき且つ透過表示と反射表示とが可能な液晶表示装置に関するものである。
液晶表示装置は、薄型、軽量、低消費電力という特徴から、携帯電話端末、スマートフォン、PDA(Personal Digital Assistant:携帯情報端末)、パーソナルコンピュータに利用される。
このような液晶表示装置は、複数の走査線と複数の信号線とが交差するアレイ基板と、該アレイ基板に対し液晶層を挟んで対向する対向基板と、走査線や信号線を駆動する駆動回路を備え、走査線と信号線とが公差する各交差部に構成された画素に映像信号を書き込み、これにより液晶層の光の透過率を変化させることで表示を行う。
このような液晶表示装置の中でも、光源を備える液晶表示装置は、暗所でも表示が可能であることから、液晶表示装置の主流となっている。
また、近年では、画素を構成するスイッチ素子としてのTFT(Thin Film Transistor:薄膜トランジスタ)や画素電極とともに、駆動回路をアレイ基板に内蔵することで、液晶表示装置のコンパクト化および低コスト化が図られる。
また、近年の液晶表示装置には、いわゆるスキャナーの機能を備えたものがあり、このような液晶表示装置には検出素子として光センサが内蔵される。
そして、その検出動作においては、光源から液晶表示装置を通過した光が印刷物などに反射し、その光の強度を光センサで検出することで、印刷物の画像読み取りが可能となる。
なお、上記の構成の光センサにより、光ペンからの光の強度を検出することで、ペン入力が可能となる。また、光センサに代えて、圧電素子などを用いれば、タッチパネルの機能を実現することができる。
特開2002−303863号公報
このような液晶表示装置では、光センサや圧電素子などの検出素子をTFTと同一の製造プロセスで製造することで工程削減を図れることから、検出素子はアレイ基板内に設けられる。また、光や圧力などの検出対象を精度よく検出しなければならず、よって、検出対象をアレイ基板の前面から与えるようにしたいので、光源は対向基板の背面に配置される。
ところで、近年の液晶表示装置には、光源からの光による透過表示ができ、しかも外光による反射表示で日付や時刻など表示できるようにすることで省電力化を図っているものがある。かかる液晶表示装置では、アレイ基板に配置された一部の画素電極が反射電極となっている。
また、最近では、上記した2つの液晶表示装置の利点を兼ね備えた液晶表示装置の実現が望まれている。
しかしながら、2つの液晶表示装置における構造上の特徴を単純に組み合わせて、すなわち検出素子と反射電極を共にアレイ基板内に配置すると、外光が液晶層を透過しないので、輝度を制御することができず、そのため反射表示が行えないという問題がある。
本発明は、上記した課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、検出対象を精度良く検出でき且つ透過表示と反射表示とが可能な液晶表示装置を提供することにある。
上記の課題を解決するために、請求項1記載の液晶表示装置は、複数の走査線と複数の信号線とが交差するアレイ基板と、該アレイ基板に対し液晶層を挟んで対向する対向基板とを備えるとともに、前記走査線と信号線とが交差する各交差部に各画素が配置され、前記アレイ基板は、前記液晶層に電界を印加する透明な画素電極を前記各画素に備えるとともに当該アレイ基板の前面から与えられる検出対象を検出する検出素子を備え、前記対向基板は、該対向基板の背面に配置された光源からの光が透過するカラーフィルタと、該カラーフィルタを透過した光が透過し且つ複数の前記画素電極に対向する透明な透明電極と、他の複数の画素電極に対向し且つ外光を反射する反射電極を備えたことを特徴とする。 請求項1記載の液晶表示装置によれば、アレイ基板は、アレイ基板の前面から与えられる検出対象を検出する検出素子を備え、対向基板は、光源からの光が透過するカラーフィルタと、カラーフィルタを透過した光が透過し且つ複数の画素電極に対向する透明な透明電極と、他の複数の画素電極に対向し且つ外光を反射する反射電極を備えたことで、検出対象が直接的に検出素子に与えられるので検出対象を精度良く検出でき、しかも、光源からの光が透明電極を透過するとともに外光が反射電極で反射し、これらが共に液晶層を通過するので、透過表示と反射表示とを可能にすることができる。
請求項2記載の液晶表示装置は、請求項1記載の液晶表示装置において、前記反射電極は凹凸を有することを特徴とする。
請求項2記載の液晶表示装置によれば、反射電極が凹凸を有することで、反射電極で反射した光が散乱し、よって視野角を大きくすることができる。
請求項3記載の液晶表示装置は、請求項1または2記載の液晶表示装置において、前記反射電極を前記カラーフィルタの前記液晶層側に配置したことを特徴とする。
請求項3記載の液晶表示装置によれば、反射電極をカラーフィルタの液晶層側に配置したことで、外光がカラーフィルタを透過しないので、モノクロの反射表示を行うことができる。
本発明の液晶表示装置によれば、アレイ基板は、アレイ基板の前面から与えられる検出対象を検出する検出素子を備え、対向基板は、光源からの光が透過するカラーフィルタと、カラーフィルタを透過した光が透過し且つ複数の画素電極に対向する透明な透明電極と、他の複数の画素電極に対向し且つ外光を反射する反射電極を備えたことで、検出対象が直接的に検出素子に与えられるので検出対象を精度良く検出でき、しかも、光源からの光が透明電極を透過するとともに外光が反射電極で反射し、これらが共に液晶層を通過するので、透過表示と反射表示とを可能にすることができる。
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
図1は、本発明の実施の形態に係る液晶表示装置1の部分的な断面図である。
液晶表示装置1のアレイ基板11には、図示しない複数の走査線と複数の信号線とが交差するように形成されており、このアレイ基板11に液晶層12を挟んで対向基板13が対向している。
液晶表示装置1では、信号線と走査線とが交差する交差部にR(赤),G(緑),B(青)の各画素が規則的に配置され、この画素による表示内容がアレイ基板11の手前から視認されることになる。このために、対向基板13の背面に、面光源である光源14が配置されている。
信号線の数は、例えば、RGBの各色につき240とし、走査線の数を320として、合計で約23万画素の液晶表示装置1(QVGA(Quarter Video Graphics Array)液晶表示装置)を構成することができる。また、全ての画素からなる表示領域を対角2.2インチのサイズにすることができ、このサイズでは、水平走査方向の画素ピッチが50μmほど、垂直走査方向の画素ピッチが150μmほど、アレイ基板11と対向基板13の間隔(セルギャップ)が5μmほどになる。
液晶表示装置1は、光源14からの光が液晶層12を透過して表示が行われる透過表示領域Aと、外光を反射して表示を行う反射表示領域Bとを備える。例えば、透過表示領域Aは、表示領域を構成する大部分の画素からなり、反射表示領域Bは残りの複数の画素からなる。
アレイ基板11は、例えば厚さ0.7mmの透明なガラス基板111を備え、ガラス基板111の各画素領域には、図示しない信号線と走査線とに接続されたスイッチ素子1111が形成されている。また、ガラス基板111の液晶層12側には透明樹脂層112が形成され、各スイッチ素子1111は透明樹脂層112を介して、例えば、ITO(Indium Tin Oxide:酸化インジウムスズ)を材質とする透明な画素電極113に接続されている。各信号線は図示しない信号線駆動回路に、各走査線は図示しない走査線駆動回路に接続されている。

また、アレイ基板11の透過表示領域Aにおける各画素領域には光センサ1112が形成され、各光センサ1112は、図示しない検出回路に接続されている。
一方、対向基板13はガラス基板131を備え、ガラス基板131の液晶層12側の表示領域全面にカラーフィルタ132が形成される。
カラーフィルタ132では、樹脂製の遮光膜が信号線と走査線に沿って、つまり格子状に配置され、格子で囲まれた各画素領域に、この画素に対応する色のフィルタが配置される。
対向基板13では、カラーフィルタ132上の表示領域全面に透明樹脂層133が形成される。透明樹脂層133は、透過表示領域Aでは平坦であり、一方、反射表示領域Bでは凹凸が形成される。
また、透明樹脂層133上の表示領域全面に、例えば、ITOを材質とする透明な電極134が形成される。電極134は、透明樹脂層133の形状に対応して、反射表示領域Bで凹凸を有している。
そして、電極134上の反射表示領域Bに、アルミニウムなどを材質とする不透明な、つまり外光を反射する反射電極135が形成され、電極134の形状に対応して、この反射電極135にも凹凸が形成されている。
液晶表示装置1では、透過表示領域Aの電極134が透明電極(以下、符号134aを付す)を構成している。
また、透明電極134aと反射電極135の上には、図示しない配光膜が形成され、例えば、この配光膜は、液晶層12を所定の方向にプレチルト6°で配光させるようにラビング処理されている。
以上の構成を有する対向基板13の光源14側には偏光板13Aが配置され、先に説明したアレイ基板11の手前側には偏光板11Aが配置される。
図2ないし図4は、例えばポリシリコンプロセスによって、アレイ基板11上に光センサ1112、スイッチ素子1111としてのnチャネルTFT100、並びに駆動回路を構成するpチャネルTFT200を形成するときの製造工程を示す図であり、図2は光センサ1112の部分を、図3はnチャネルTFT100の部分を、図4はpチャネルTFT200の部分をそれぞれ示すものである。
以下、図2ないし図4を参照して、光センサ1112、nチャネルTFT100、pチャネルTFT200の製造方法を説明する。
図2(a)、図3(a)、図4(a):まず、ガラス基板111上に、SiNx(窒化シリコン)やSiOx(酸化シリコン)などからなるアンダーコート層をCVD(Chemical Vaopour Deposition)法などにより形成する。アンダーコート層を形成するのは、ガラス基板111上に不純物(リン、ボロン)が拡散されるのを防止するためである。次に、PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)法やスパッタリング法などにより、アンダーコート層の上にアモルファスシリコンを50Å程度堆積させて、アモルファスシリコン膜を成膜する。
図2(b)、図3(b)、図4(b):次に、アモルファスシリコン膜にレーザーを照射することでアモルファスシリコン膜をポリシリコン膜に結晶化させる。
図2(c)、図3(c)、図4(c):そして、低濃度のボロンを全面にイオンドーピングし、さらにマスク、露光、エッチングして、p−層を形成する。
図2(d)、図3(d)、図4(d):次に、PECVD法などで形成したSiOx膜からなる第1絶縁層を形成する。
図2(e)、図3(e)、図4(e):レジストをマスクとして用いた上で、光センサ1112のN型電極領域11121、並びにnチャネルTFT100のソース領域101およびドレイン領域102に、高濃度のリンをイオンドーピングし、n+層を形成する。
図2(f)、図3(f)、図4(f):レジストを除去した後の第1絶縁層上に、Mo(モリブデン)−Ta(タンタル)合金やMo−W(タングステン)合金などを用いて第1メタル層を成膜する。
図2(g)、図3(g)、図4(g):光センサ1112のP型電極領域11122、並びにpチャンネルTFT200のソース領域201およびドレイン領域202が開口するようにパターニングして、高濃度のボロンをイオンドーピングする。
第1メタル層がマスクとなり、P型電極領域11122、ソース領域201およびにドレイン領域202にp+層が形成される。pチャンネルTFT200では、このときにパターニングされた第1メタル層がゲート電極200Gとなる。
図2(h)、図3(h)、図4(h):さらに、第1メタル層を、光センサ1112の受光部1112J、並びにnチャネルTFT100のn−領域103とn−領域104が開口するようにパターニングする。nチャンネルTFT100では、このときパターニングされた第1メタル層がゲート電極100Gとなる。また、光センサ1112では、このときパターニングされた第1メタル層がゲート電極1112Gとなる。
さらに、光センサ1112を覆うようにレジストを形成し、低濃度のリンをイオンドーピングする。
第1メタル層およびレジストがマスクとなり、nチャネルTFT100のn−領域103およびn−領域104にn−層が形成される。
光センサ1112は、受光部1112Jがp−層により構成されて、いわゆるPIN型の光センサとなる。
次に、レジストを除去し、注入した不純物を活性化するため、500℃程度でアニールした後に、水素のプラズマ中にさらして水素化を行う。
図2(i)、図3(i)、図4(i):次に、第1絶縁層上に、CVD法などにより、SiOxからなる第2絶縁層を形成する。
図2(j)、図3(j)、図4(j):次に、光センサ1112のN型電極領域11121およびP型電極領域11122、nチャネルTFT100のソース領域101およびドレイン領域102、pチャネルTFT200のソース領域201およびドレイン領域202にコンタクトホールを設けて露出させ、この露出させた領域に第2メタル層を成膜し、パターニングして、光センサ1112のP型電極1112P、N型電極1112Nおよび遮光帯1112S、nチャネルTFT100のソース電極100Sおよびドレイン電極100D、並びにpチャネルTFT200のソース電極200Sとドレイン電極200Dを形成する。
次に、図1を用いて、液晶表示装置1の表示動作を説明する。
液晶表示装置1では、複数の走査線が順次に駆動されて、例えば、1つの走査線により書き込まれるRの画素に対応するスイッチ素子1111が導通すると、信号線に供給された映像信号が画素電極113に印加される。一方、反射電極135と透明電極134aにも所定の信号が供給される。これにより、画素電極113と反射電極135の間の液晶層12、画素電極113と透明電極134aの間の液晶層12に電界が印加される。また、映像信号の振幅に応じて電界強度が変化し、これにより液晶層12における光の透過率が変化する。
光源14からの光の一部は、つまり、透過表示領域Aでは、偏光板13A、ガラス基板131、カラーフィルタ132、透明樹脂層133、透明電極134a、図示しない配光膜、液晶層12、図示しない配光膜、画素電極113、透明樹脂層112、ガラス基板111、偏光板11Aを順次に透過して外部に出射する。
一方、反射表示領域Bでは、外光が、偏光板11A、ガラス基板111、透明樹脂層112、画素電極113、図示しない配光膜、液晶層12、図示しない配光膜を順次に透過して反射電極135に到達し、この反射電極135で反射した光は、図示しない配光膜、液晶層12、図示しない配光膜、画素電極113、透明樹脂層112、ガラス基板111、偏光板11Aを順次に透過して外部に出射する。ここで、反射電極135が凹凸を有するので、反射電極135で反射した光が散乱する。
液晶表示装置1では、液晶層12における光の透過率を、前述のように制御することで、液晶層12から出射する光の強度、つまり画素の輝度を制御することができる。よって、表示領域に、文字や画像や映像を表示することができる。
特に、反射電極135が凹凸をもたせたことで、反射電極135で反射した光が散乱することとなり、よって視野角を広くすることができる。
また、反射電極135をカラーフィルタ132の液晶層12側に配置したことで、外光がカラーフィルタ132を透過しないので、反射表示領域Bではモノクロ表示を行うことができる。
次に、図1と同様の断面図である図5を用いて、液晶表示装置1の検出動作を説明する。
例えば、液晶層12における光の透過率が透過表示領域Aで一定になるように映像信号を制御した上で、アレイ基板11の透過表示領域Aの前面に検出対象物P(印刷物など)を位置させる。
光源14からの光は、偏光板13A、ガラス基板131、カラーフィルタ132を透過する。カラーフィルタ132を透過した光の一部は、つまり反射表示領域Bでは、透明樹脂層133を経て反射電極135に到達し反射する。
一方、カラーフィルタ132を透過した光の残りは、透明樹脂層133、透明電極134a、図示しない配光膜、液晶層12、図示しない配光膜、画素電極113、透明樹脂層112、ガラス基板111、偏光板11Aを順次に透過して外部に出射し、検出対象物Pに反射し、アレイ基板11に入射する。そして、その光の強度を各光センサ1112で電気信号に変換し、その電気信号を検出回路が検出することで、検出対象物Pの画像を読み取る。
以上のように、液晶表示装置1によれば、アレイ基板11は、アレイ基板11の前面から与えられる検出対象である光を検出する検出素子として光センサ1112を備え、対向基板13は、光源14からの光が透過するカラーフィルタ132と、カラーフィルタ132を透過した光が透過し且つ複数の画素電極113に対向する透明な透明電極134aと、他の複数の画素電極113に対向し且つ外光を反射する反射電極135を備えたことで、検出対象である光が直接的に検出素子である光センサ1112に与えられるので検出対象である光を精度良く検出でき、しかも、光源14からの光が透明電極134aを透過するとともに外光が反射電極135で反射し、これらが共に液晶層12を通過するので、透過表示と反射表示とを可能にすることができる。
また、反射電極135は凹凸が有することで、反射電極135で反射した光が散乱し、よって視野角を大きくすることができる。
また、反射電極135をカラーフィルタ132の液晶層12側に配置したことで、外光がカラーフィルタ132を透過しないので、モノクロの反射表示を行うことができる。
なお、液晶表示装置1では、光センサ1112を透過表示領域Aの各画素に設けることとしたが、光センサ1112を反射表示領域Bの各画素に設ける、または、透過表示領域Aの各画素と反射表示領域Bの各画素とに設けるようにしてもよい。また、光センサ1112を、表示領域内の所定の検出領域において、単に均等に設けるようにしてもよい。また、光センサ1112は、PIN型に限らず、例えば、PN型などの他の型の光センサを備えるようにしてもよい。
また、液晶表示装置1では、光センサ112で、光ペンからの光の強度を検出することで、ペン入力が可能となる。また、各光センサ112に代えて、圧電素子など検出素子を用いれば、タッチパネルの機能を実現でき、しかも、圧電素子をアレイ基板11に設けることで、検出対象である圧力を精度良く検出できる。
なお、このように、光ペンからの光の強度を検出する場合や圧電素子で圧力を検出する場合は、光センサ1112や圧電素子をアレイ基板11の表示領域以外に設けてもよい。
本発明の実施の形態に係る液晶表示装置1の部分的な断面図である。 アレイ基板11上に光センサ1112、nチャネルTFT100、およびpチャネルTFT200を形成するときの光センサ1112の部分を示す図である。 アレイ基板11上に光センサ1112、nチャネルTFT100、およびpチャネルTFT200を形成するときのnチャネルTFT100の部分を示す図である。 アレイ基板11上に光センサ1112、nチャネルTFT100、およびpチャネルTFT200を形成するときのpチャネルTFT200の部分を示す図である。 液晶表示装置1の検出動作を説明するときに用いた、図1と同様の断面図である。
符号の説明
1 液晶表示装置
11 アレイ基板
12 液晶層
13 対向基板
111、131 ガラス基板
113 画素電極
134a 透明電極
135 反射電極
1112 光センサ
A 透過表示領域
B 反射表示領域

Claims (3)

  1. 複数の走査線と複数の信号線とが交差するアレイ基板と、該アレイ基板に対し液晶層を挟んで対向する対向基板とを備えるとともに、前記走査線と信号線とが交差する各交差部に各画素が配置され、
    前記アレイ基板は、前記液晶層に電界を印加する透明な画素電極を前記各画素に備えるとともに当該アレイ基板の前面から与えられる検出対象を検出する検出素子を備え、
    前記対向基板は、該対向基板の背面に配置された光源からの光が透過するカラーフィルタと、該カラーフィルタを透過した光が透過し且つ複数の前記画素電極に対向する透明な透明電極と、他の複数の画素電極に対向し且つ外光を反射する反射電極を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
  2. 前記反射電極は凹凸を有することを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。
  3. 前記反射電極を前記カラーフィルタの前記液晶層側に配置したことを特徴とする請求項1または2記載の液晶表示装置。
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