JP2006021491A - 積層構造体、積層構造体を用いた光学素子、表示素子、演算素子及びこれらの製造方法 - Google Patents

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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008060544A (ja) * 2006-08-04 2008-03-13 Ricoh Co Ltd 積層構造体及びその製造方法、多層配線基板、アクティブマトリックス基板、並びに電子表示装置
WO2009011445A1 (en) * 2007-07-18 2009-01-22 Ricoh Company, Ltd. Laminate structure, electronic device, and display device
JP2009026901A (ja) * 2007-07-18 2009-02-05 Ricoh Co Ltd 積層構造体、電子素子、電子素子アレイ及び表示装置
JP2009026899A (ja) * 2007-07-18 2009-02-05 Ricoh Co Ltd 積層構造体、電子素子、電子素子アレイ及び表示装置
JP2009026900A (ja) * 2007-07-18 2009-02-05 Ricoh Co Ltd 積層構造体、電子素子及びそれらの製造方法、表示装置
WO2009099227A1 (en) * 2008-02-07 2009-08-13 Ricoh Company, Ltd. Laminated structure, method of manufacturing a laminated structure, electronic element, electronic element array, image displaying medium, and image displaying device
WO2009113549A1 (ja) * 2008-03-10 2009-09-17 日産化学工業株式会社 画像形成用下層膜組成物
JP2013223854A (ja) * 2012-03-21 2013-10-31 Ricoh Co Ltd 表面処理装置、表面処理方法、パターン形成装置、及び構造体
WO2014050252A1 (ja) * 2012-09-26 2014-04-03 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、電子配線基板、光学デバイスおよびパターン形成装置
TWI453235B (zh) * 2008-10-23 2014-09-21 Nissan Chemical Ind Ltd 形成畫像用下層膜
WO2023031713A1 (en) * 2021-09-03 2023-03-09 3M Innovative Properties Company Film having spatially varying layer

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002261048A (ja) * 2000-12-28 2002-09-13 Seiko Epson Corp 素子製造方法および素子製造装置
JP2004087976A (ja) * 2002-08-28 2004-03-18 Dainippon Printing Co Ltd 導電性パターン形成体の製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002261048A (ja) * 2000-12-28 2002-09-13 Seiko Epson Corp 素子製造方法および素子製造装置
JP2004087976A (ja) * 2002-08-28 2004-03-18 Dainippon Printing Co Ltd 導電性パターン形成体の製造方法

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008060544A (ja) * 2006-08-04 2008-03-13 Ricoh Co Ltd 積層構造体及びその製造方法、多層配線基板、アクティブマトリックス基板、並びに電子表示装置
US8253137B2 (en) 2007-07-18 2012-08-28 Ricoh Company, Ltd. Laminate structure, electronic device, and display device
WO2009011445A1 (en) * 2007-07-18 2009-01-22 Ricoh Company, Ltd. Laminate structure, electronic device, and display device
JP2009026901A (ja) * 2007-07-18 2009-02-05 Ricoh Co Ltd 積層構造体、電子素子、電子素子アレイ及び表示装置
JP2009026899A (ja) * 2007-07-18 2009-02-05 Ricoh Co Ltd 積層構造体、電子素子、電子素子アレイ及び表示装置
JP2009026900A (ja) * 2007-07-18 2009-02-05 Ricoh Co Ltd 積層構造体、電子素子及びそれらの製造方法、表示装置
KR101282534B1 (ko) 2007-07-18 2013-07-04 가부시키가이샤 리코 적층 구조체, 전자 소자, 및 표시 장치
US8502203B2 (en) 2008-02-07 2013-08-06 Ricoh Company, Ltd. Laminated structure, method of manufacturing a laminated structure, electronic element, electronic element array, image displaying medium, and image displaying device
KR101225355B1 (ko) * 2008-02-07 2013-01-22 가부시키가이샤 리코 적층 구조체, 적층 구조체의 제조 방법, 전자 소자, 전자 소자 어레이, 화상 표시 매체 및 화상 표시 장치
WO2009099227A1 (en) * 2008-02-07 2009-08-13 Ricoh Company, Ltd. Laminated structure, method of manufacturing a laminated structure, electronic element, electronic element array, image displaying medium, and image displaying device
WO2009113549A1 (ja) * 2008-03-10 2009-09-17 日産化学工業株式会社 画像形成用下層膜組成物
JP5445788B2 (ja) * 2008-03-10 2014-03-19 日産化学工業株式会社 画像形成用下層膜組成物
CN103788653A (zh) * 2008-03-10 2014-05-14 日产化学工业株式会社 用于形成图像的下层膜组合物
KR101547588B1 (ko) * 2008-03-10 2015-08-26 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 화상 형성용 하층막 조성물
TWI453235B (zh) * 2008-10-23 2014-09-21 Nissan Chemical Ind Ltd 形成畫像用下層膜
JP2013223854A (ja) * 2012-03-21 2013-10-31 Ricoh Co Ltd 表面処理装置、表面処理方法、パターン形成装置、及び構造体
WO2014050252A1 (ja) * 2012-09-26 2014-04-03 富士フイルム株式会社 パターン形成方法、電子配線基板、光学デバイスおよびパターン形成装置
JP2014067847A (ja) * 2012-09-26 2014-04-17 Fujifilm Corp パターン形成方法、電子配線基板、光学デバイスおよびパターン形成装置
CN104661762A (zh) * 2012-09-26 2015-05-27 富士胶片株式会社 图案形成方法、电子配线基板、光学元件及图案形成装置
WO2023031713A1 (en) * 2021-09-03 2023-03-09 3M Innovative Properties Company Film having spatially varying layer

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