JP2005532595A5 - - Google Patents
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Claims (10)
- 厚さ1〜50μmの支持フィルム上に光硬化性樹脂組成物を形成し、場合によっては、前記光硬化性組成物層の上に保護フィルムを積層してドライフィルムレジストを得ることによってドライフィルムレジストを調製する方法であって、
前記光硬化性樹脂が、
(a)アルカリ性可溶性バインダーオリゴマー又はポリマー20〜90重量%、
(b)成分(a)のオリゴマー及びポリマーと適合性がある1種以上の光重合性モノマー5〜60重量%、
(c)1種以上の光開始剤0.01〜20重量%、
(d)添加物及び/又は助剤0〜20重量%、及び
(e)式I
(式中、
R1は、
から選択される残基であり、
R2は、C1〜C12アルキルであるか、又はC1〜C6アルキル、トリフルオロメチル、C1〜C6アルコキシ、C1〜C6アルキルチオ、ハロゲン及びニトロによって一、二又は三置換されていてもよいフェニルであり、
R3は、水素又はC1〜C12アルキルであり、
R4〜R9は、互いに独立して、水素又はC1〜C12アルキルであり、
Xは、O、S、NH又はN−C1〜C12アルキルである)
のロイコトリフェニルメタン染料0.1〜10重量%
を含む((a)〜(e)で100重量%)均質混合物から形成されるものである方法。 - 成分d)が、式
(式中、
Xは、分岐鎖状のC3〜C20アルキル又はC3〜C8シクロアルキルであり、
X1は、水素、直鎖状のC1〜C20アルキル、分岐鎖状のC3〜C20アルキル又はC3〜C8シクロアルキルであり、ただし、X及びX1中の炭素原子の合計は少なくとも4であり、
Yは、直鎖状のC1〜C10アルキル、分岐鎖状のC3〜C10アルキル又はC3〜C8シクロアルキルであり、
A-は、群(BF4)-、(SbF6)-、(PF6)-、(B(C6F5))4 -、C1〜C20アルキルスルホネート、C2〜C20ハロアルキルスルホネート、非置換のC6〜C10アリールスルホネート、ショウノウスルホネート、C1〜C20ペルフルオロアルキルスルホニルメチド、C1〜C20ペルフルオロアルキルスルホニルイミド及びハロゲン、NO2、C1〜C12アルキル、C1〜C12ハロアルキル、C1〜C12アルコキシ又はCOOR1によって置換されているC6〜C10アリールスルホネートから選択される非求核性アニオンであり、
R1は、C1〜C20アルキル、フェニル、ベンジルであるか、又はC1〜C12アルキル、C1〜C12アルコキシもしくはハロゲンによって一又は多置換されているフェニルである)
のジアリールヨードニウムを含む、請求項1〜3のいずれか1項記載の方法。 - 請求項1〜4のいずれか1項記載の方法によって得ることができるドライフィルムレジスト。
- ドライフィルムレジスト要素を調製する方法であって、
(A)厚さ1〜50μmの支持フィルム上に先に定義した成分(a)〜(e)でできた光硬化性樹脂組成物層を形成し、前記光硬化性組成物層の上に保護フィルムを積層してドライフィルムレジストを得る工程と、
(B)使用前に前記保護フィルムを除去し、前記ドライフィルムレジストの適用が望まれる基材の表面に前記光硬化性組成物層を100〜150℃で加熱積層する工程と、
(C)マスクを介して又は直接レーザ照射によって放射線に露光させる工程と、
(D)前記支持フィルムを除去し、現像によって非露光(非硬化)区域を洗い落とす工程と
を含む方法。 - 請求項6記載の方法によって得ることができるドライフィルムレジスト要素。
- 前記ドライフィルムレジストの適用が望まれる基材の表面に光硬化性組成物層を100〜150℃で加熱積層する間に望ましくない発色を避けるための、請求項1記載の光硬化性樹脂組成物(a)〜(e)の使用。
- 印刷回路板及びLSIパッケージングの銅回路パターンを形成するため、たとえばエッチングレジスト及びめっきレジストのため、はんだレジストのため、また、種々のフラットディスプレーパネル用途でセル又は電極パターンを形成するための、請求項7記載のドライフィルムレジスト要素の使用。
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