JPS6057340A - 焼出し性組成物 - Google Patents
焼出し性組成物Info
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- JPS6057340A JPS6057340A JP58165405A JP16540583A JPS6057340A JP S6057340 A JPS6057340 A JP S6057340A JP 58165405 A JP58165405 A JP 58165405A JP 16540583 A JP16540583 A JP 16540583A JP S6057340 A JPS6057340 A JP S6057340A
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- JP
- Japan
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- phenyl
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- lower alkyl
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
- G03C1/73—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
- G03C1/732—Leuco dyes
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は焼出し性組成物に関するものであり、特に経時
的に安定化された焼出し性組成物に関する。
的に安定化された焼出し性組成物に関する。
露光によシ変色し未蕗光部と露光部？、町視的に区別で
きる組成物（焼出し性組成物）は多く知られている。（
例えばＪ 、 ＫＯ８ＡＲ４ＦｒＬ ｉ ｇ ＩＩ ｔ
−８ｅｎａｉｔｉｖｅ ＳｙｓｔｅｍａＪＪ、Ｗｉｌ
ｅｙ ａｎｄＳｏｎｓ（Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ ／り６１）
３６１−１７０／頁、参照−） そしてこれらの組成物の重要な応用分野は、感光性平版
印刷版、フォトレジスト等であり、画像露光後現像前に
感光部分が可視的にわかることはきわめて有用である。
きる組成物（焼出し性組成物）は多く知られている。（
例えばＪ 、 ＫＯ８ＡＲ４ＦｒＬ ｉ ｇ ＩＩ ｔ
−８ｅｎａｉｔｉｖｅ ＳｙｓｔｅｍａＪＪ、Ｗｉｌ
ｅｙ ａｎｄＳｏｎｓ（Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ ／り６１）
３６１−１７０／頁、参照−） そしてこれらの組成物の重要な応用分野は、感光性平版
印刷版、フォトレジスト等であり、画像露光後現像前に
感光部分が可視的にわかることはきわめて有用である。
（特開昭ｊｊ−１３７１０、特開昭ｊ≠−７≠７２ｔ１
特開昭！３−♂ｌコｇ各号明細書参照） すなわち感光性平版印刷版に焼付けるに際し、いくつか
の原稿を繰返し焼きつける場合があるが、焼出し性組成
物を用いれば既に焼伺けた部分への重ね焼も防止するこ
とができる。またプリント基板製造用のフォトレジスト
に焼出し性組成物を用いれば、フォトマスクが正しく置
かれたかどうかを現像前に知ることができるほか、露光
部に欠陥があるかどうかを検査することが容易である。
特開昭！３−♂ｌコｇ各号明細書参照） すなわち感光性平版印刷版に焼付けるに際し、いくつか
の原稿を繰返し焼きつける場合があるが、焼出し性組成
物を用いれば既に焼伺けた部分への重ね焼も防止するこ
とができる。またプリント基板製造用のフォトレジスト
に焼出し性組成物を用いれば、フォトマスクが正しく置
かれたかどうかを現像前に知ることができるほか、露光
部に欠陥があるかどうかを検査することが容易である。
このような焼出し性組成物に関して特に有効なものは有
機ポリハロゲン化合物又はその他の光酸化剤と各種ロイ
コ染料の組合せである（例えばＰｈｏｔｏｇｒ、Ｓｅｔ
、Ｅｎｇ、、ｊ タｔ−１０３゜／りｔ／および米国特
許第３．０≠２． ｊ１１号参照） このような公知の組成物はなるほど発色濃度が高く、鮮
明な画像を与えるが空気（又は酸素）に曝されることに
よシ変色されやすいという欠点を有している。その改良
を目的に種々の酸化防止剤を添加することが試みられた
。（例えば米ａＡ特許ｊ、０ＩＩ２．！／！号、同ａ、
ｏｔｔ、ａｓり号、特開昭ｊＡ−３／１１／号各明細書
を参照）。
機ポリハロゲン化合物又はその他の光酸化剤と各種ロイ
コ染料の組合せである（例えばＰｈｏｔｏｇｒ、Ｓｅｔ
、Ｅｎｇ、、ｊ タｔ−１０３゜／りｔ／および米国特
許第３．０≠２． ｊ１１号参照） このような公知の組成物はなるほど発色濃度が高く、鮮
明な画像を与えるが空気（又は酸素）に曝されることに
よシ変色されやすいという欠点を有している。その改良
を目的に種々の酸化防止剤を添加することが試みられた
。（例えば米ａＡ特許ｊ、０ＩＩ２．！／！号、同ａ、
ｏｔｔ、ａｓり号、特開昭ｊＡ−３／１１／号各明細書
を参照）。
しかしながらこれらの組成物においてもより長い時間保
存した場合や高温度かつ高湿下において保存した場合に
は、変色してしまう為、なお−ノーの改良が望まれてい
た。
存した場合や高温度かつ高湿下において保存した場合に
は、変色してしまう為、なお−ノーの改良が望まれてい
た。
従って、本発明の目的は、改善された安定性を有する、
ロイコ色素および光酸化剤からなる焼出し性組成物を提
供することである。
ロイコ色素および光酸化剤からなる焼出し性組成物を提
供することである。
本発明の別の目的は、高温、多湿の条Ｙ１下に長時間保
存した後においても、保存前の状態と実質的に同一の性
能を有する、ロイコ色素および光酸化剤から成る焼出し
性組成物を提供すること、ヱ沸る。
存した後においても、保存前の状態と実質的に同一の性
能を有する、ロイコ色素および光酸化剤から成る焼出し
性組成物を提供すること、ヱ沸る。
さらに本発明の目的は、感光性平版印刷版やフォトレジ
ストの製造に用いられる、露光によシ未露光時との溶解
比に差が生じる感光性レジスト形成性組成物中に添加し
たときにその組成物の写真性を損うことなく優れた焼出
し性を付与できかつ、安定性の優れたロイコ色素および
光酸化剤の組合せを提供することである。
ストの製造に用いられる、露光によシ未露光時との溶解
比に差が生じる感光性レジスト形成性組成物中に添加し
たときにその組成物の写真性を損うことなく優れた焼出
し性を付与できかつ、安定性の優れたロイコ色素および
光酸化剤の組合せを提供することである。
本発明の他の目的は以下の詳細な説明により明らかにな
るであろう。
るであろう。
本発明者等は上記目的を達成すべく種々研究を重ねた結
果、ロイコ色素および光酸化剤から成る組成物において
、ロイコ色素として下記一般式（１）のカルバゾリルメ
タン化合物を用いることで達成されることを見出した。
果、ロイコ色素および光酸化剤から成る組成物において
、ロイコ色素として下記一般式（１）のカルバゾリルメ
タン化合物を用いることで達成されることを見出した。
〔この式で、Ｙは式
Ｘ３
で表わされるアミノ置換のフェニル基ｎたは式で表わさ
れるインドリル基であり、ＸｌとＸ２とは互に独立して
水素原子または置換されていないかまたはハロゲン原子
、水酸基、シアノ基、丑たは低級アルコキシ基で置換さ
れている、炭素原子を最高７２個もつアルキル基である
がシクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基あるいは
ハロゲン原子−低級アルキル基ま友は低級アルコキシ基
で置換されているフェニル基またはベンジル基であるか
、あるいはＸｌとＸ２とはそれらに結合する窒素原子と
一緒になって！またはｔ負の、とシわけ飽和の複素環式
基であり、Ｘ３は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、
低級アルキル基または低級アルコキシ基であり％”１と
ｚｌとは互に独立して水素原子または置換されていない
かあるいはハロゲン原子、水酸基、シアン基または低級
アルコキシ基で置換されている、炭素原子を最高１２個
もつアルキル基、炭素原子を最高７２個もつアルケニル
基、炭素原子７〜１２個をもつアシル基であるかフェニ
ル基またはベンジル基であるかあるいはハロゲン原子、
低級アルキル基、低級アルコキシ基またはニトロ基で置
換されているフェニル基またはベンジル基であシ、Ｚ２
は水素原子、低級アルキル基またはフェニル基であシ、
環ＡとＢとＤとは互に独立してシアン基、ニトロ基、ハ
ロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基または
低級アルキルカルボニル基でさらに置換されていてもよ
い〕 本発明に使用される一般式（１）の化合物の好ましい具
体例としては次のＡ ／ −１１ｘ ／≠の化合物を挙
１けることができる。
れるインドリル基であり、ＸｌとＸ２とは互に独立して
水素原子または置換されていないかまたはハロゲン原子
、水酸基、シアノ基、丑たは低級アルコキシ基で置換さ
れている、炭素原子を最高７２個もつアルキル基である
がシクロアルキル基、フェニル基、ベンジル基あるいは
ハロゲン原子−低級アルキル基ま友は低級アルコキシ基
で置換されているフェニル基またはベンジル基であるか
、あるいはＸｌとＸ２とはそれらに結合する窒素原子と
一緒になって！またはｔ負の、とシわけ飽和の複素環式
基であり、Ｘ３は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、
低級アルキル基または低級アルコキシ基であり％”１と
ｚｌとは互に独立して水素原子または置換されていない
かあるいはハロゲン原子、水酸基、シアン基または低級
アルコキシ基で置換されている、炭素原子を最高１２個
もつアルキル基、炭素原子を最高７２個もつアルケニル
基、炭素原子７〜１２個をもつアシル基であるかフェニ
ル基またはベンジル基であるかあるいはハロゲン原子、
低級アルキル基、低級アルコキシ基またはニトロ基で置
換されているフェニル基またはベンジル基であシ、Ｚ２
は水素原子、低級アルキル基またはフェニル基であシ、
環ＡとＢとＤとは互に独立してシアン基、ニトロ基、ハ
ロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基または
低級アルキルカルボニル基でさらに置換されていてもよ
い〕 本発明に使用される一般式（１）の化合物の好ましい具
体例としては次のＡ ／ −１１ｘ ／≠の化合物を挙
１けることができる。
（化合物Ａ／）
（
（化合物！２）
化合物１１ｘ３）
化合物１１Ｇ、≠）
（化合物煮ｊ）
（化合物ＡＡ）
（化合物Ａ７）
（化合物１６．Ｉｒ）
（化合物Ａり）
（比合物羞１０）
（化合物点／／）
（化合物Ａ／２）
（化合物点／３）
α
（化合物点／弘）
これらの化合物はいずれも公知であシ、その合成法は特
開昭ｊ Ｊ −４Ｊ ２２ Ｊに記載されている。
開昭ｊ Ｊ −４Ｊ ２２ Ｊに記載されている。
好ましい光酸化剤は、可視光線、紫外線、赤外線、Ｘ線
等のような活性輻射線に露出されるまでは不活性である
。各種の光酸化剤は、化合物の構造により、スペクトル
の全域にわたって異なるピーク感度を持っている。従っ
て特定の光酸化剤は活性光線の性質に依存して活性化さ
れる。このような輻射線に露出された場合には、光酸ｆ
ヒ剤は、ロイコ色、素をその発色形に酸化する化学種を
生じる。
等のような活性輻射線に露出されるまでは不活性である
。各種の光酸化剤は、化合物の構造により、スペクトル
の全域にわたって異なるピーク感度を持っている。従っ
て特定の光酸化剤は活性光線の性質に依存して活性化さ
れる。このような輻射線に露出された場合には、光酸ｆ
ヒ剤は、ロイコ色、素をその発色形に酸化する化学種を
生じる。
代表的な光酸化剤としては、英国特許第１．０≠７，５
６２号明細書記載のトリアリールイミダゾリルニ量体、
米国特許第３．０≠２，３１１号および同第ｊ 、 １
０２ 、≠７を号明細言記載の四晃化炭素、Ｎ−プロモ
サクシンイミド、トリブロモメチルフェニルスルホンの
ごときハロゲン化炭化水素、米国特許第３，２ざλ、ｔ
り３号記載の２−アジドベンズオキサゾール、ベンゾイ
ルアジド、コーアジドベンズイミダゾールのごときアジ
ド化合物、および米国特許第ｓ、ｔｉｊ、ｓ６ｇ号明細
書記載の３−エチル−１−メトキシ−λ−ピリドチアシ
アニンバークロレート、／−メトキシ−２−メチルピリ
ジニウムｐ−）ルエンスルホネート等の化合物を挙げる
ことができる。
６２号明細書記載のトリアリールイミダゾリルニ量体、
米国特許第３．０≠２，３１１号および同第ｊ 、 １
０２ 、≠７を号明細言記載の四晃化炭素、Ｎ−プロモ
サクシンイミド、トリブロモメチルフェニルスルホンの
ごときハロゲン化炭化水素、米国特許第３，２ざλ、ｔ
り３号記載の２−アジドベンズオキサゾール、ベンゾイ
ルアジド、コーアジドベンズイミダゾールのごときアジ
ド化合物、および米国特許第ｓ、ｔｉｊ、ｓ６ｇ号明細
書記載の３−エチル−１−メトキシ−λ−ピリドチアシ
アニンバークロレート、／−メトキシ−２−メチルピリ
ジニウムｐ−）ルエンスルホネート等の化合物を挙げる
ことができる。
本発明の焼出し性組成物には、ロイコ色素、光酸化剤の
他に結合剤および／又は光硬化成分とを含ませることが
できる。
他に結合剤および／又は光硬化成分とを含ませることが
できる。
この組成物に加えうる結合剤としては、アクリル樹脂、
スチレン樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリウレタ
ン、ポリビニルアルコール、ビニルエステル樹脂等の合
成高分子化合物 ＋−１５ＩＪビニルホールマール、ポ
リビニルブチラール等の合成高分子化合物の変性物、お
よびセルローズ、ゼラチン等の天然高分子化合物および
その変性物を挙げることができる。
スチレン樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリウレタ
ン、ポリビニルアルコール、ビニルエステル樹脂等の合
成高分子化合物 ＋−１５ＩＪビニルホールマール、ポ
リビニルブチラール等の合成高分子化合物の変性物、お
よびセルローズ、ゼラチン等の天然高分子化合物および
その変性物を挙げることができる。
さらにこの組成物に加えうる光硬化性成分は、結合剤の
役割すなわちロイコ色素と光酸化削との混合物を支持体
に接着させる働きをする物質であるとともに、露光、現
像後、ポリマー１１１１像を形成する役割をも担ってい
る。このようなポリマー画像を、フォトレジストや平版
印刷版のインク受容性部として利用することは公知であ
る。その場合には露光によりただちに焼出し像を与える
感光性レジスト形成性組成物が得られる。このような目
的のために適した光硬化性成分としては次のものを挙げ
ることができる。
役割すなわちロイコ色素と光酸化削との混合物を支持体
に接着させる働きをする物質であるとともに、露光、現
像後、ポリマー１１１１像を形成する役割をも担ってい
る。このようなポリマー画像を、フォトレジストや平版
印刷版のインク受容性部として利用することは公知であ
る。その場合には露光によりただちに焼出し像を与える
感光性レジスト形成性組成物が得られる。このような目
的のために適した光硬化性成分としては次のものを挙げ
ることができる。
例えば、米国特許第コ、６１０．／２０号記載のポリビ
ニルシンナメート、米Ｌｉ５１ Ｙｈ許第３，０３ｏ、
２ｏｒ号記載の主鎖に感光基を組み込んだポリエステル
、日本写真学会１９ｔｒ年春季研究発表会講演要旨よ５
頁記載のアジドポリマー（光酸化剤を兼ねる）、米国特
許第３．ｔ７弘、７≠よ号記載のシ／ナミリデンマロン
酸繰り返し単位を有するポリマー、および米国％許第３
．タコタ。
ニルシンナメート、米Ｌｉ５１ Ｙｈ許第３，０３ｏ、
２ｏｒ号記載の主鎖に感光基を組み込んだポリエステル
、日本写真学会１９ｔｒ年春季研究発表会講演要旨よ５
頁記載のアジドポリマー（光酸化剤を兼ねる）、米国特
許第３．ｔ７弘、７≠よ号記載のシ／ナミリデンマロン
酸繰り返し単位を有するポリマー、および米国％許第３
．タコタ。
弘ざり号記載の光架橋型ポリマー尋。さらに日本特許３
！−ｒμり５号記載のエチレン状不飽和化合物、開始剤
およびバインダーからなる光１合性組成物、特公昭ＦＪ
−／２１２６号記載の不飽和ポリエステル、架橋剤およ
び光増感剤からなる光重合性組成物、特公昭弘６−３コ
ア／≠号記載のエチレン状不飽和比合物、開始剤、側鎖
に遊離酸基をもつポリマーおよび保護層からなる光重合
性組成物等を挙げることができる。光硬化性１Ｍ分は、
ロイコ色素１重量部に対して約７〜７０００重量部使用
されるのが好ましく、１０〜２００重量部の範囲が最も
好ましい。ロイコ色素、光酸化剤、バインダー、および
／または光硬化性成分に対して、不活性な溶剤がこれら
の化合物を溶かすのに、普通用いられる。この溶剤でこ
れらを互に混合して液状媒体の感光性組成物をつくり、
これを支持体に便利かつ容易に塗布することができる。
！−ｒμり５号記載のエチレン状不飽和化合物、開始剤
およびバインダーからなる光１合性組成物、特公昭ＦＪ
−／２１２６号記載の不飽和ポリエステル、架橋剤およ
び光増感剤からなる光重合性組成物、特公昭弘６−３コ
ア／≠号記載のエチレン状不飽和比合物、開始剤、側鎖
に遊離酸基をもつポリマーおよび保護層からなる光重合
性組成物等を挙げることができる。光硬化性１Ｍ分は、
ロイコ色素１重量部に対して約７〜７０００重量部使用
されるのが好ましく、１０〜２００重量部の範囲が最も
好ましい。ロイコ色素、光酸化剤、バインダー、および
／または光硬化性成分に対して、不活性な溶剤がこれら
の化合物を溶かすのに、普通用いられる。この溶剤でこ
れらを互に混合して液状媒体の感光性組成物をつくり、
これを支持体に便利かつ容易に塗布することができる。
本発明の組成物をつくるのに用いうる溶剤としては次の
ものを挙げることができる。ホルムアミド、Ｎ。
ものを挙げることができる。ホルムアミド、Ｎ。
Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトア
ミドのようなアミド類；メタノール、エタノール、／−
プロパツール、コープロバノール、ブタノールのアルコ
ール類；アセトン、コーフタノン、シクロヘキサノンな
どのクトン類；エチルアセテート、エチルベンゾエート
などのニスデル類；テトラヒドロフラン、ジオキサンな
どのエーテル類；メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、ジクロロエタンなどの塩素化脂肪族炭化水素類；
ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類；およびジ
メチルスルホキシド、０−ジクロロベンゼン、ジシアノ
ジクロブタン、／−メチル−Ｊ −オキソヘキサメチレ
ンイミンのようなその他の一般溶剤並びにこれらの溶剤
の混合物。
ミドのようなアミド類；メタノール、エタノール、／−
プロパツール、コープロバノール、ブタノールのアルコ
ール類；アセトン、コーフタノン、シクロヘキサノンな
どのクトン類；エチルアセテート、エチルベンゾエート
などのニスデル類；テトラヒドロフラン、ジオキサンな
どのエーテル類；メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、ジクロロエタンなどの塩素化脂肪族炭化水素類；
ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類；およびジ
メチルスルホキシド、０−ジクロロベンゼン、ジシアノ
ジクロブタン、／−メチル−Ｊ −オキソヘキサメチレ
ンイミンのようなその他の一般溶剤並びにこれらの溶剤
の混合物。
本発明の組成物の製造にあたっては、ロイコ色素と光酸
化剤とを重量比で約１０：／ないし約ｌ：１０の割合で
混合するとよい結果が得られる。
化剤とを重量比で約１０：／ないし約ｌ：１０の割合で
混合するとよい結果が得られる。
好ましい比は２：ｌないし／：２である。結合剤は、−
これを用いる場合には一ロイコ色素と光酸化剤とを合わ
せた重量に対して約Ｏ０ｊないし１ｏｏｚ量部の範囲内
でこれを用いることができる。
これを用いる場合には一ロイコ色素と光酸化剤とを合わ
せた重量に対して約Ｏ０ｊないし１ｏｏｚ量部の範囲内
でこれを用いることができる。
組成物は、これを塗布して乾燥させた場合には、その厚
さは、代表的には約０．０２ないし１００ミクロン、フ
ォトレジストに対してはｉｏ、ｉ。
さは、代表的には約０．０２ないし１００ミクロン、フ
ォトレジストに対してはｉｏ、ｉ。
０ミクロンの厚さが好ましくまたはそれ以上であること
かできるが、平版に対しては、０．／ないしｊ、０ミク
ロンの厚さが好ましい。
かできるが、平版に対しては、０．／ないしｊ、０ミク
ロンの厚さが好ましい。
組成物を支持体に塗布するに当っては、この組成物を公
知の方法即ちギーサー、噴霧、ブラシュ、ローラーもし
くは浸漬コーターによる塗布、支持体表面に流す、浸漬
後取り上げる、その他の手段で含浸もしくは拡げる。こ
のようにしてつくられ九妥素は室温でまたは加温してこ
れを乾燥させる。
知の方法即ちギーサー、噴霧、ブラシュ、ローラーもし
くは浸漬コーターによる塗布、支持体表面に流す、浸漬
後取り上げる、その他の手段で含浸もしくは拡げる。こ
のようにしてつくられ九妥素は室温でまたは加温してこ
れを乾燥させる。
この要素は、ついで、活性輻射線の模様に対して露光さ
れ、支持体上に直接画像を形成する。露光は、密接プリ
ント法、レンズによる投射、反射、複反射により、画像
を有するオリジナルから、またはその他の公知の方法に
よりこれを行ないうる、。
れ、支持体上に直接画像を形成する。露光は、密接プリ
ント法、レンズによる投射、反射、複反射により、画像
を有するオリジナルから、またはその他の公知の方法に
よりこれを行ないうる、。
支持体として適する材料は、塗布組成物と直接に化学反
応を起こさない各種の材料の中からこれを選ぶことがで
きる。このような支持体材料としては、繊維をベースに
した゛材料、例えば紙、ポリエチレン塗布紙、ポリプロ
ピレン塗布紙、羊皮紙、布ナト；アルミニウム、銅、マ
グネシウム、也鉛などの金属のシートまたは箔；ガラス
およびクロム、クロム合金、銅、銀、金、白金などの金
属で塗布したガラス；合成樹脂および重合体材料、例え
ばポリ（アルキルアクリレート）例えばポリ（メチルメ
タクリレート）、ポリエステルフィルムベース−例工ば
ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（ビニルアセタ
ール）、ポリアミド−例ＬＩｄす４０ンおよびセルロー
スエステルフィルムベース−例えば硝酸セルロース、酢
酸セルロース、酢酸・プロピオン酸セルロース、酢酸・
酪酸セルロースなど會挙げることができる。
応を起こさない各種の材料の中からこれを選ぶことがで
きる。このような支持体材料としては、繊維をベースに
した゛材料、例えば紙、ポリエチレン塗布紙、ポリプロ
ピレン塗布紙、羊皮紙、布ナト；アルミニウム、銅、マ
グネシウム、也鉛などの金属のシートまたは箔；ガラス
およびクロム、クロム合金、銅、銀、金、白金などの金
属で塗布したガラス；合成樹脂および重合体材料、例え
ばポリ（アルキルアクリレート）例えばポリ（メチルメ
タクリレート）、ポリエステルフィルムベース−例工ば
ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（ビニルアセタ
ール）、ポリアミド−例ＬＩｄす４０ンおよびセルロー
スエステルフィルムベース−例えば硝酸セルロース、酢
酸セルロース、酢酸・プロピオン酸セルロース、酢酸・
酪酸セルロースなど會挙げることができる。
ドライフィルムレジストｉつくるのに有用な支持体材料
としては、ポリエステル又はポリカーボネートなどの重
合体の支持体ｆ：挙げることができる。
としては、ポリエステル又はポリカーボネートなどの重
合体の支持体ｆ：挙げることができる。
印刷版−特に平版印刷版−會つくるのに有用な支持体材
料としては、亜鉛、電解処理、アルミニウム、砂目立て
したアルミニウム、銅および特別につくった金属および
紙の谷支持捧；表面を加水分解したセルロースエステル
フィルム；ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアミド
などの重合体の支持体を挙げることができる。
料としては、亜鉛、電解処理、アルミニウム、砂目立て
したアルミニウム、銅および特別につくった金属および
紙の谷支持捧；表面を加水分解したセルロースエステル
フィルム；ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアミド
などの重合体の支持体を挙げることができる。
このような支持体は、ビニリデンクロライドとアクリル
酸モノマー−例えばアクリロニトリル、アクリル酸メチ
ルなど−のコポリマーおよび不飽オロのジカルボン酸、
例えばイタコン酸など；カルボキシメチルセルロース；
ゼラチン；ポリアクリルアミド；およびこれらと同類の
ポリマー材料のような公知の下引き層で、−感光性組成
物を塗布する前に一前もって塗布することができる。
酸モノマー−例えばアクリロニトリル、アクリル酸メチ
ルなど−のコポリマーおよび不飽オロのジカルボン酸、
例えばイタコン酸など；カルボキシメチルセルロース；
ゼラチン；ポリアクリルアミド；およびこれらと同類の
ポリマー材料のような公知の下引き層で、−感光性組成
物を塗布する前に一前もって塗布することができる。
この支持体は、輻射線感光層を通過したあとの露光輻射
線を吸収したシ、支持体からの好ましがらざる反射を防
ぐために、着色したポリマー層からなるフィルター層ま
たはハレーション防止ノーを有することもできる。
線を吸収したシ、支持体からの好ましがらざる反射を防
ぐために、着色したポリマー層からなるフィルター層ま
たはハレーション防止ノーを有することもできる。
重合体結合剤、例えば上述したポリマーの一つ、中の黄
色藏累は、紫外線輻射線を露光線として用いるときには
、ハレーション防止ノー 効である。
色藏累は、紫外線輻射線を露光線として用いるときには
、ハレーション防止ノー 効である。
光硬化性成分を含んでいる場合には輻射線に露光したの
ちに、輻射線感光層の非露光域を選択的に溶かす溶液（
以下現像液という）で輻射線感光層を７ラツシイング、
ソーキング、スワビイングして、またはその他の処理に
より、これを現像することができる。
ちに、輻射線感光層の非露光域を選択的に溶かす溶液（
以下現像液という）で輻射線感光層を７ラツシイング、
ソーキング、スワビイングして、またはその他の処理に
より、これを現像することができる。
本発明の主な利点は経時的に変色しない安定な焼出し組
成物を与えることであシ、とくに高温高湿の条件下でも
極立った安定性をもつ焼出し組成物を与えることである
。
成物を与えることであシ、とくに高温高湿の条件下でも
極立った安定性をもつ焼出し組成物を与えることである
。
次に実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが本
発明はこれらのみに限足されるものではない。
発明はこれらのみに限足されるものではない。
実施例１〜４、比較例１
表１に示す種々のロイコ色素を含み、他の成分は共通の
次のような塗布液を調製した。
次のような塗布液を調製した。
ポリ（メチルメタクリレート）
（平均分子量ｌ≠ｏ、ｏｏｏ） ｉｒｇトリメチロール
プロパントリ アクリレート ２．参ｇ テトラエチレングリコール ジアクリレート ｔ、ｉｇ ”＋ｆ”−（１’ｌｌ、Ｉ’１７−ジエチルアミン）ベ
ンゾフェノン ｏ、ｏａ、ｑベンゾフェノン ０．グｚ
ｇ フェニルトリブロモメチル スルホン ０．３７ｉ ｐ−メトキシフェノール ｏ、ｏｉｇ ｐ−トルエンスルホンアミド／、４２ｇマラカイトグリ
ーン ０．０．２３ｇ ロイコ色累 ｘｆｌ メチルエチルケトン 弘！μ 各々の塗布液をポリエチレンテレフタレートフィルム（
２５μ厚）に塗布し、１０ｏ０ｃのオーブン中で２分間
乾燥し、約１０μ厚の塗膜を得た。
プロパントリ アクリレート ２．参ｇ テトラエチレングリコール ジアクリレート ｔ、ｉｇ ”＋ｆ”−（１’ｌｌ、Ｉ’１７−ジエチルアミン）ベ
ンゾフェノン ｏ、ｏａ、ｑベンゾフェノン ０．グｚ
ｇ フェニルトリブロモメチル スルホン ０．３７ｉ ｐ−メトキシフェノール ｏ、ｏｉｇ ｐ−トルエンスルホンアミド／、４２ｇマラカイトグリ
ーン ０．０．２３ｇ ロイコ色累 ｘｆｌ メチルエチルケトン 弘！μ 各々の塗布液をポリエチレンテレフタレートフィルム（
２５μ厚）に塗布し、１０ｏ０ｃのオーブン中で２分間
乾燥し、約１０μ厚の塗膜を得た。
銅張積層板上にｌコｏ０Ｃでラミネートシ、プリント配
線パターンをもつ透明フィルムを正ね、λＫＷ超高圧水
銀灯（オーク■製、ジェットプリンター）で減圧下ｉｏ
カウント光照射した。
線パターンをもつ透明フィルムを正ね、λＫＷ超高圧水
銀灯（オーク■製、ジェットプリンター）で減圧下ｉｏ
カウント光照射した。
各々の積層柊は薄い緑色の未露光部と宵色から青紫色の
露光部から成る焼出し画像を得た。露光部の積層板から
ポリエチレンテＷタレートフィルム支持体を剥ぎ取った
後、クロロセン中に６ｏ秒間浸漬し未露光部を溶解して
銅表面上に鮮明なフォトレジスト像を得た。
露光部から成る焼出し画像を得た。露光部の積層板から
ポリエチレンテＷタレートフィルム支持体を剥ぎ取った
後、クロロセン中に６ｏ秒間浸漬し未露光部を溶解して
銅表面上に鮮明なフォトレジスト像を得た。
さて、上で得られた未露光のポリエチレンテレフタレー
トフィルム上のＪ′θμの塗膜に厚さ２３μのポリエチ
レンフィルムをラミネータを用いて積層した。このサン
ドインチ状積層物を相対湿度７１％、温度≠ｊ ’Ｃの
条件で７日間熟成したものを作った。熟成しないものと
熟成したものの積層物からポリエチレンフィルムを剥離
後、前述の如く銅張積層板上にラミネートし画像露光し
て焼出し画像を得た。ｔ２０ｎｍの透過濃度で測定して
熟成前と熟成後の画像のコントラス）（ｊｆｌ光、未露
光の透過濃度差）と熟成後のカブリ（地肌濃度）を測定
した。得られた結果を表／に示す。
トフィルム上のＪ′θμの塗膜に厚さ２３μのポリエチ
レンフィルムをラミネータを用いて積層した。このサン
ドインチ状積層物を相対湿度７１％、温度≠ｊ ’Ｃの
条件で７日間熟成したものを作った。熟成しないものと
熟成したものの積層物からポリエチレンフィルムを剥離
後、前述の如く銅張積層板上にラミネートし画像露光し
て焼出し画像を得た。ｔ２０ｎｍの透過濃度で測定して
熟成前と熟成後の画像のコントラス）（ｊｆｌ光、未露
光の透過濃度差）と熟成後のカブリ（地肌濃度）を測定
した。得られた結果を表／に示す。
表１かられかるように、本発明の組成物である実施例１
〜４は熟成後においても画像のコントラストが高く、カ
ブリも低いレベルに抑えられていて優れたものであった
が、従来から公知のロイコクリスタルバイオレットは、
熟成後は紫色に着色していてカブリが高いうえ、画像の
コントラストも低下していた。
〜４は熟成後においても画像のコントラストが高く、カ
ブリも低いレベルに抑えられていて優れたものであった
が、従来から公知のロイコクリスタルバイオレットは、
熟成後は紫色に着色していてカブリが高いうえ、画像の
コントラストも低下していた。
即ち、本発明の組成物は、従来のものに比べ格段に優れ
た経時安定性を有していることがわかる。
た経時安定性を有していることがわかる。
実施例５〜８、比較例２
表λに示す種々のロイコ色素を含へ、他の成分は共通で
ある次のような塗布液を調製した。
ある次のような塗布液を調製した。
当モルのジエチルｐ−７二二レン
ジアクリレートと／、グージー
β−ヒドロキシエトキシシクロ
ヘキサンとの重縮合で得られた
感光性ポリエステル（平均分子
敞約ざｏｏ） ｘｏ’ｇ
λ−（ベンゾイルメチリデン）−
３−メチルナフト−（／、、２−
ｄ〕チアゾリン ／、２９
ジオクチルフクレート グ、０９
０イコ色累 ｙ９
λ、≠−ビスー（トリクロロ
メチル）−Ａ−（Ｐ−メト
キンスチリル） −＝ ｓ −）リ
アジン θ、、Ｊ９
ジクロロエタン 、２００ｍ１！
モノクロルベンゼン ＩＩＩ Ｏｎｌｌ各々の脂布液を
、表面を電解処理したアルミニウム板支持体に、２０Ｏ
ｒ、ｐｏｍの回転速度で回転塗布し１０００（：、で２
分間乾燥した。感光ハ４の膜厚は約／、ｊμであった。
、表面を電解処理したアルミニウム板支持体に、２０Ｏ
ｒ、ｐｏｍの回転速度で回転塗布し１０００（：、で２
分間乾燥した。感光ハ４の膜厚は約／、ｊμであった。
このプレート金相対湿度７！係、温度ｌＡｊ’Ｃの条件
でｊ ｌ：ｌ ｌｉｌ熟成した後、マクベス反射濃度計
を用いて、カブ’） １＋％度を測定した。′−１：た
、熟成しないも０と熟成したもののブｖ−）に対し、画
像露光して画像のコントラスト（未露光部と露光部の反
射ａ庶産）を測定した。結果を表２に示す。
でｊ ｌ：ｌ ｌｉｌ熟成した後、マクベス反射濃度計
を用いて、カブ’） １＋％度を測定した。′−１：た
、熟成しないも０と熟成したもののブｖ−）に対し、画
像露光して画像のコントラスト（未露光部と露光部の反
射ａ庶産）を測定した。結果を表２に示す。
表２かられかるように、本発明の組成物である実施例５
〜８は、熟成後においても画像のコントラストが高く、
カブリも低いが、公知のロイコ色素を用いた比較例２は
結成後画像のコントラストが低下して、カブリも高い。
〜８は、熟成後においても画像のコントラストが高く、
カブリも低いが、公知のロイコ色素を用いた比較例２は
結成後画像のコントラストが低下して、カブリも高い。
この結果から、本発明の組成物は、優れた経時安定性を
有していることが判る。
有していることが判る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ロイコ色素と光酸化剤を含む焼出し性組成物において、
ロイコ色素として少なくとも／ Ｊｉｌ？の一般式（１
）で示されるカルバゾリルメタン化合物を含有すること
を特徴とする焼出し性組成物。 １ 〔この式で、Ｙは式 で表わされるアミン基置換のフェニル基マたは式で表わ
されるインドリル基であ’）、ＸｓとＸ２とは互に独立
して水素原子ま７ＩｃＦｉ置換されていないかあるいは
ハロゲン原子、水酸基、シアノ基または低級アルコキシ
基で置換されている、炭素原子を最高１２個もつアルキ
ル基であるかシクロアルキル基、フェニル基、ベンジル
基するイハハロゲン原子、低級アルキル基または１八級
アルコキシ基で置換されているフェニル基またはベンジ
ル基であるかあるいはＸｌとＸ２はそれらに結合する窒
素原子と一緒になってｊまたはｔ員の複素環式基であシ
、Ｘｓは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、低級アル
キル基または低級アルコキシ基であ’）、Ｒ１とＺｌと
は互に独立して水素原子、または置換されていないかあ
るいはハロゲン原子、水酸基、シアノ基または低級アル
コキシ基で置換されている、炭素原子を最高７２個もつ
アルキル基、炭素原子を最高１２個もつアルケニル基、
炭素原子を７〜１２個もつアシル基であるがフェニル基
またはベンジル基であるがあるいはハロゲン原子、低級
アルキル基、低級アルコキシ＆またはニトロ基で置換さ
れているフェニル基またはベンジル基であ’）、Ｚ２は
水素原子、吐級アルキルノ、すまたはフェニル基であシ
、環ＡとＢとＤとｅよ互に独立してシアン基、ニトロ基
、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基捷
たは低級アルキルカルボニル基でさらに置換されていて
もよい〕
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58165405A JPS6057340A (ja) | 1983-09-08 | 1983-09-08 | 焼出し性組成物 |
| DE19843433026 DE3433026A1 (de) | 1983-09-08 | 1984-09-07 | Auskopiermittel |
| US06/649,002 US4598036A (en) | 1983-09-08 | 1984-09-10 | Print-out compositions |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58165405A JPS6057340A (ja) | 1983-09-08 | 1983-09-08 | 焼出し性組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6057340A true JPS6057340A (ja) | 1985-04-03 |
Family
ID=15811783
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58165405A Pending JPS6057340A (ja) | 1983-09-08 | 1983-09-08 | 焼出し性組成物 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4598036A (ja) |
| JP (1) | JPS6057340A (ja) |
| DE (1) | DE3433026A1 (ja) |
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| JPH03288853A (ja) * | 1990-04-05 | 1991-12-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
| JPWO2020262689A1 (ja) * | 2019-06-28 | 2020-12-30 | ||
| WO2020262690A1 (ja) * | 2019-06-28 | 2020-12-30 | 富士フイルム株式会社 | 機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法 |
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| US5187007A (en) * | 1985-12-27 | 1993-02-16 | Lintec Corporation | Adhesive sheets |
| DE3639266A1 (de) * | 1985-12-27 | 1987-07-02 | Fsk K K | Haftfolie |
| JPS62212643A (ja) * | 1986-03-14 | 1987-09-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
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| DE3735088A1 (de) * | 1987-10-16 | 1989-04-27 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch |
| DE3824551A1 (de) * | 1988-07-20 | 1990-02-15 | Basf Ag | Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial, dessen verwendung und dafuer geeignete neue leukoverbindung |
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