JP2002220409A - 光重合性組成物及びドライフィルム、それらを用いたプリント配線板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】高い感光性、熱安定性を有しつつ、優れたテン
ティング強度を有する光重合性組成物及びドライフィル
ム、それらを用いたプリント配線板の製造方法を提供す
ること。 【解決手段】アルカリ可溶性樹脂（Ａ）２０〜８０質量
部、架橋性化合物（Ｂ）８０〜２０質量部（アルカリ可
溶性樹脂（Ａ）と架橋性化合物（Ｂ）の合計は１００質
量部とする。）、光重合開始剤（Ｃ）０．１〜１５質量
部及び一分子中に２個以上のメルカプト基を有する多官
能チオール化合物（Ｄ）０．１〜１５質量部を含むこと
を特徴とする光重合性組成物及びドライフィルム、それ
らを用いたプリント配線板の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光硬化型の光重合性
組成物に関するものであり、さらに詳しくは、単層また
は多層プリント配線板の製造、金属加工あるいは印刷用
製版などの分野でエッチングやめっきのレジスト、ソル
ダーマスク用レジスト、プラズマディスプレイパネルの
隔壁形成、液晶ディスプレイなどに使われるカラーフィ
ルタ製造などに用いられる光重合性組成物及びドライフ
ィルム、それらを用いたプリント配線板の製造方法に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】プリント配線板の製造方法には、大きく
分けてテンティング法とめっき法とがある。テンティン
グ法は、チップ搭載のための銅スルーホールをレジスト
で保護し、エッチング、レジスト剥離を経て、電気回路
形成を行う。一方、めっき法は、スルーホールに銅を析
出させ、半田めっきで保護し、レジスト剥離、エッチン
グして回路を形成する方法である。これらの製造方法に
おいて、レジストとしては光重合性組成物が使用されて
おり、未硬化部分をアルカリ性水溶液で除去するアルカ
リ現像型が主流となっている。また、現像方法としては
生産性向上、高解像度を目的として、高圧スプレー方式
が用いられることも多い。従って、使用する光重合性組
成物の硬化物からなるレジストには、現像液や水洗液に
よって破れないテンティング強度が要求される。

【０００３】テンティング強度を改善した組成物として
は、例えば、特開平８−１４６６０３号公報、特開平９
−３２５４８５号公報、特開平９−３２５４８６号公
報、特開平９−３２５４８７号公報には分子内にウレタ
ン結合を有する重合可能なエチレン性不飽和基を持つ光
重合性化合物を含む感光性樹脂組成物が記載されてい
る。また、特開２０００−３０３６号公報にはウレタン
オリゴマーを含むネガ型光画像形成性組成物が、特開２
０００−１７１９７０号公報にはビニルウレタン化合物
を含む感光性樹脂組成物が開示されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような感光性樹脂組成物は主成分となっているバインダ
ー樹脂や架橋性化合物の構造を変更したものであるため
に、その中での光重合開始剤の熱安定性が悪くなった
り、感度が低下することにより感光性が低下するといっ
た問題があった。小量の添加剤の添加のみでテンティン
グ強度を向上させた組成物はなかった。

【０００５】本発明は、かかる状況に鑑みてなされたも
のであり、高い感光性、熱安定性を有しつつ、優れたテ
ンティング強度を有する光重合性組成物及びドライフィ
ルム、それらを用いたプリント配線板の製造方法を提供
することを課題とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、アルカリ可溶性樹
脂（Ａ）２０〜８０質量部、架橋性化合物（Ｂ）８０〜
２０質量部（アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と架橋性化合物
（Ｂ）の合計は１００質量部とする。）、光重合開始剤
（Ｃ）０．１〜１５質量部及び一分子中に２個以上のメ
ルカプト基を有する多官能チオール化合物（Ｄ）０．１
〜１５質量部を必須成分として含む光重合性組成物及び
ドライフィルム、それらを用いたプリント配線板の製造
方法により上記問題が解決できることを見出し、本発明
を完成するに至ったものである。

【０００７】すなわち、本発明は以下の（１）〜（１
９）に示される光重合性組成物及びドライフィルム、そ
れらを用いたプリント配線板の製造方法に関する。

【０００８】（１）アルカリ可溶性樹脂（Ａ）２０〜８
０質量部、架橋性化合物（Ｂ）８０〜２０質量部（アル
カリ可溶性樹脂（Ａ）と架橋性化合物（Ｂ）の合計は１
００質量部とする。）、光重合開始剤（Ｃ）０．１〜１
５質量部及び一分子中に２個以上のメルカプト基を有す
る多官能チオール化合物（Ｄ）０．１〜１５質量部を含
むことを特徴とする光重合性組成物。 （２）アルカリ可溶性樹脂（Ａ）がα，β−不飽和カル
ボン酸に由来する繰り返し単位を有する共重合体である
ことを特徴とする（１）に記載の光重合性組成物。 （３）アルカリ可溶性樹脂（Ａ）の酸価が４５〜１６０
ｍｇＫＯＨ／ｇであることを特徴とする（１）または
（２）に記載の光重合性組成物。

【０００９】（４）光重合開始剤（Ｃ）が紫外光及び／
または可視光重合開始剤であることを特徴とする（１）
ないし（３）のいずれかに記載の光重合性組成物。 （５）光重合開始剤（Ｃ）が硼素系化合物及び／または
チタノセン化合物であることを特徴とする（１）ないし
（４）のいずれかに記載の光重合性組成物。 （６）光重合開始剤（Ｃ）が硼素系化合物であることを
特徴とする（１）ないし（５）のいずれかに記載の光重
合性組成物。

【００１０】（７）硼素系化合物が一般式（１）：

【００１１】

【化３】

【００１２】（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は同じであ
っても異なっていてもよく、それぞれ独立して、水素原
子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキ
ル基、複素環基、脂環基を示す。ただし、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ
₃及びＲ₄が全て水素原子の場合は除く。Ｚ⁺は４級アン
モニウムカチオン、４級ピリジニウムカチオン、４級キ
ノリニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、スルホニ
ウムカチオン、オキソニウムカチオン、ヨードニウムカ
チオンまたは金属カチオンを示す。）で表される硼素系
化合物であることを特徴とする（５）または（６）に記
載の光重合性組成物。 （８）硼素系化合物がナフチル基を有する硼素系化合物
であることを特徴とする（５）ないし（７）のいずれか
に記載の光重合性組成物。

【００１３】（９）ナフチル基を有する硼素系化合物が
一般式（２）：

【００１４】

【化４】

【００１５】（式中、Ｒ₅〜Ｒ₁₂、Ｒ'₅〜Ｒ'_{1 1}及びＲ''
₅〜Ｒ''_{1 1}は同じであっても異なっていてもよく、それ
ぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシル基、アリール基、アラルキル基、複素環
基、脂環基を示す。Ｚ⁺は４級アンモニウムカチオン、
４級ピリジニウムカチオン、４級キノリニウムカチオ
ン、ホスホニウムカチオン、スルホニウムカチオン、オ
キソニウムカチオン、ヨードニウムカチオンまたは金属
カチオンを示す。）で表される硼素系化合物であること
を特徴とする（８）に記載の光重合性組成物。 （１０）多官能チオール化合物（Ｄ）がエステル結合を
有する多官能チオール化合物であることを特徴とする
（１）ないし（９）のいずれかに記載の光重合性組成
物。 （１１）エステル結合を有する多官能チオール化合物が
チオグリコール酸及び／または３−メルカプトプロピオ
ン酸のエステルであることを特徴とする（１０）に記載
の光重合性組成物。

【００１６】（１２）多官能チオール化合物（Ｄ）が一
分子中に３個以上のメルカプト基を有する多官能チオー
ル化合物であることを特徴とする（１）ないし（１１）
のいずれかに記載の光重合性組成物。 （１３）増感剤を含むことを特徴とする（１）ないし
（１２）のいずれかに記載の光重合性組成物。 （１４）増感剤が増感色素であることを特徴とする（１
２）に記載の光重合性組成物。

【００１７】（１５）連鎖移動剤〔ただし、多官能チオ
ール化合物（Ｄ）を除く。〕を含むことを特徴とする
（１）ないし（１３）のいずれかに記載の光重合性組成
物。 （１６）（１）ないし（１５）のいずれかに記載の光重
合性組成物の硬化物からなることを特徴とするレジスト
パターン。 （１７）（１）ないし（１５）のいずれかに記載の光重
合性組成物からなる感光層と支持体とからなることを特
徴とするドライフィルム。

【００１８】（１８）（１７）に記載のドライフィルム
を、回路形成用基板上に光重合性組成物層が密着するよ
うにして積層し、活性光をパターンを通して照射し、現
像することを特徴とするレジストパターンの製造方法。 （１９）（１８）に記載のレジストパターンの製造方法
により、製造されたレジストパターンを有する回路形成
用基板をエッチングまたはめっきする工程を有すること
を特徴とするプリント配線板の製造方法。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。

【００２０】本発明に用いられるアルカリ可溶性樹脂
（Ａ）としては、アルカリ現像可能であれば特に制限は
なく、例えば、スルホン酸基、リン酸基、フェノール性
水酸基、カルボキシル基、ジカルボン酸無水物等の酸基
を有する樹脂を利用することができる。これらのうち基
板との接着性が高いことからカルボキシル基を有する樹
脂が好ましい。

【００２１】カルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹
脂としては、α，β−不飽和カルボン酸（Ａ−１）の１
種またはそれ以上を他のエチレン性不飽和基含有化合物
（Ａ−２）の１種またはそれ以上と共重合させて得られ
たものを好適に使用することができる。

【００２２】α，β−不飽和カルボン酸（Ａ−１）とし
ては、具体的には例えば、アクリル酸、メタクリル酸、
プロピオール酸、ケイヒ酸、クロトン酸、ソルビン酸等
のモノカルボン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸
等のジカルボン酸などを挙げることができ、また、さら
に前記ジカルボン酸のハーフエステル及び酸無水物も用
いることができる。これらのα，β−不飽和カルボン酸
（Ａ−１）は、１種または２種以上を用いることができ
る。これらのうちモノカルボン酸が好ましく、アクリル
酸、メタクリル酸がより好ましい。

【００２３】エチレン性不飽和基含有化合物（Ａ−２）
としては、特に制限されるものではないが、具体的には
例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）
アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イ
ソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）
アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、
ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メ
タ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イ
ソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル
（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、
ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）ア
クリレート等のアルキル（メタ）アクリレート類、シク
ロヘキシル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）ア
クリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシ
クロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテ
ニルオキシエチル（メタ）アクリレート等の脂環式（メ
タ）アクリレート類、ベンジル（メタ）アクリレート、
フェニル（メタ）アクリレート、フェニルカルビトール
（メタ）アクリレート、ノニルフェニル（メタ）アクリ
レート、ノニルフェニルカルビトール（メタ）アクリレ
ート、ノニルフェノキシ（メタ）アクリレート等の芳香
族（メタ）アクリレート類、２−ヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）ア
クリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル
（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アク
リレート類、２−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリ
レート、２−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレー
ト、２−ｔｅｒｔ−ブチルアミノエチル（メタ）アクリ
レート等のアミノ基を有する（メタ）アクリレート類、
（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）ア
クリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミ
ド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、
（メタ）アクリロイルモルホリン等の（メタ）アクリル
アミド類、スチレン、ビニルトルエン、メチルスチレン
等のスチレン類、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルホ
ルミアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−メチル−Ｎ
−ビニルホルムアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−ビニルアセト
アミド、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニルカルバゾ
ール等のＮ−ビニル化合物類、グリシジル（メタ）アク
リレート、アリル（メタ）アクリレート、酢酸ビニル、
（メタ）アクリロニトリルなどが挙げられる。なおここ
で「（メタ）アクリ」とは、「アクリ」、「メタクリ」
のいずれをも意味する。これらのエチレン性不飽和基含
有化合物（Ａ−２）は、１種または２種以上を用いるこ
とができる。これらのうち好ましくは、上記の各種（メ
タ）アクリレート類、スチレン類である。

【００２４】本発明に用いられるアルカリ可溶性樹脂
（Ａ）の酸価（ＪＩＳ Ｋ ６９０１に準拠して測定す
る。）は、４５〜１６０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲が好まし
く、より好ましくは７０〜１４０ｍｇＫＯＨ／ｇであ
る。アルカリ可溶性樹脂（Ａ）の酸価が４５ｍｇＫＯＨ
／ｇ未満であると、アルカリ水溶液によって現像できな
いかまたは現像時間が長くなり、生産性の低下を引き起
こす傾向がある。一方、酸価が１６０ｍｇＫＯＨ／ｇを
超えると、その現像時間が極めて短くなりすぎ、高解像
度パターンを得るには現像時間のコントロールが困難と
なり、また硬化部の耐アルカリ水性も低下することがあ
る。

【００２５】本発明に用いられるアルカリ可溶性樹脂
（Ａ）の分子量は、重量平均分子量で２０，０００〜５
００，０００の範囲のものが望ましい。重合平均分子量
が２０，０００未満のものはドライフィルムとした際に
コールドフロー現象を起こしやすく、重量平均分子量が
５００，０００を超えたものは未露光部分のアルカリ現
像液に対する溶解性が不足し、その現像性が劣り現像時
間が長くなり、解像度の低下及び回路パターンの生産性
の低下を引き起こすことがある。なお、ここでいう重量
平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ー法により測定され、標準ポリスチレンを用いて作成し
た検量線により換算された値である。

【００２６】本発明の光重合性組成物中の樹脂成分に
は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）以外の樹脂成分を、アル
カリ可溶性を損ねない範囲で添加することもできる。こ
の様な樹脂成分としては、エチレン性不飽和基含有化合
物（Ａ−２）の重合体及び共重合体、アルカリ可溶性樹
脂（Ａ）とグリシジル（メタ）アクリレートとの反応物
などが挙げられる。

【００２７】本発明に用いられる架橋性化合物（Ｂ）と
しては、一分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有
する架橋性の化合物であればよく、特に限定されるもの
ではないが、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）との相溶性の点
から（メタ）アクリレートの構造を有する化合物が好ま
しく、例えば、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、
１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，
４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−
ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナン
ジオールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン
酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、
２，２−ビス［４−（メタ）アクリロキシポリエトキシ
フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（メタ）アク
リロキシポリプロピレンオキシフェニル］プロパン等の
アルキレングリコールの（メタ）アクリレート類、グリ
セリンジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールエタンジ（メタ）ア
クリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリ
レート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレ
ート、トリメチロールプロパントリス［ポリエトキシ
（メタ）アクリレート］、トリメチロールプロパントリ
ス［ポリプロピレンオキシ（メタ）アクリレート］、ペ
ンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエ
リスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサ（メタ）アクリレート等の３価以上のアル
コールの（メタ）アクリレート類、ビスフェノールＡビ
ス［ジオキシエチレンジ（メタ）アクリレート］、ビス
フェノールＡビス［トリオキシエチレンジ（メタ）アク
リレート］、ビスフェノールＡビス［ペンタオキシエチ
レンジ（メタ）アクリレート］、ビスフェノールＡビス
［デカオキシエチレンジ（メタ）アクリレート］、ビス
フェノールＡビス［ジグリシジルエーテル（メタ）アク
リレート］等のビスフェノールＡに由来する単位を有す
る（メタ）アクリレート類、エポキシ（メタ）アクリレ
ート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、さらには、
トリス［（メタ）アクリロキシエチル］イソシアヌレー
ト、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、トリ
メチロールプロパントリグリシジルエーテルトリ（メ
タ）アクリレートなどを挙げることができる。これらは
１種使用してもよいが２種以上を併用することもでき
る。これらのうち、反応性が高い点からアクリレートが
好ましい。

【００２８】本発明に用いられるアルカリ可溶性樹脂
（Ａ）と架橋性化合物（Ｂ）との割合は、アルカリ可溶
性樹脂（Ａ）２０〜８０質量部及び架橋性化合物（Ｂ）
８０〜２０質量部であり、好ましくは、アルカリ可溶性
樹脂（Ａ）５５〜８０質量部及び架橋性化合物（Ｂ）４
５〜２０質量部である。アルカリ可溶性樹脂（Ａ）の含
有量が２０質量部未満の光重合性組成物は、ドライフィ
ルムとして使用する場合の粘着性が強く、室温で圧力を
かけない状態で基板に粘着するため取り扱い性が悪く、
またフィルム形成性が損なわれ、十分な膜強度が得られ
ずコールドフローが発生しやすいので好ましくない。ア
ルカリ可溶性樹脂（Ａ）の含有量が８０質量部を超える
と、ドライフィルムとして使用する場合の粘着性が低
く、ラミネート後も基板と完全に密着せず、また光硬化
膜がもろく基材との密着力が損なわれ、十分な耐薬品
性、特に耐めっき性、耐エッチング性が得られないこと
があるので好ましくない。

【００２９】本発明に用いられる光重合開始剤（Ｃ）
は、光によりラジカルを発生する化合物であればよく、
特に、限定されるものではないが、具体的には例えば、
ベンゾフェノン、４−メチルベンゾフェノン、２，４，
６−トリメチルベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、
４−フェニルベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフ
ェノン、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェ
ノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフ
ァイドなどのベンゾフェノン系化合物、ベンゾインメチ
ルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフ
ェニルエーテル等のベンゾインエーテル、メチルベンゾ
イン、エチルベンゾイン等のベンゾイン系化合物、ベン
ジルメチルケタール等のベンジル誘導体、チオキサント
ン、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチ
オキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサント
ン、２−クロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロ
ポキシチオキサントンなどのチオキサントン系化合物、
２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，
４’，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾー
ル、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニル
イミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−
４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量
体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニ
ルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）
−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−
メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール
二量体などの２，４，５−トリアリールイミダゾール二
量体、アンスラキノン、２−エチルアンスラキノン、フ
ェナントレン、硼素系化合物、チタノセン化合物などが
挙げられる。これらのうち紫外光及び／または可視光重
合開始剤が好ましい。また、感光性が高いことから硼素
系化合物、チタノセン化合物が好ましく、硼素系化合物
がよりこのましい。

【００３０】なお、ここで紫外光とは２００〜４００ｎ
ｍの波長の光であり、可視光とは４００〜７８０ｎｍの
波長の光を指す。また本発明における紫外光及び／また
は可視光とは、紫外光、可視光のいずれかと、紫外光と
可視光の両方を意味する。

【００３１】硼素系化合物のうち、下記一般式（１）：

【００３２】

【化５】

【００３３】（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は同じであ
っても異なっていてもよく、それぞれ独立して、水素原
子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキ
ル基、複素環基、脂環基を示す。ただし、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ
₃及びＲ₄が全て水素原子の場合は除く。Ｚ⁺は４級アン
モニウムカチオン、４級ピリジニウムカチオン、４級キ
ノリニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、スルホニ
ウムカチオン、オキソニウムカチオン、ヨードニウムカ
チオンまたは金属カチオンを示す。）で表される硼素系
化合物（Ｃ−１）が好ましい。

【００３４】一般式（１）におけるＲ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及び
Ｒ₄を以下に具体的に例示して説明する。

【００３５】アルキル基とは、具体的には炭素数１〜１
０の置換あるいは無置換の直鎖または分岐アルキル基が
好ましく、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、３−メトキシプロ
ピル、４−クロロブチル、２−ジエチルアミノエチルな
どが挙げられる。

【００３６】アルケニル基とは、具体的には置換または
無置換のアルケニル基で、炭素数２〜１２のものが好ま
しく、例えばビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペ
ンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル
基、ドデシニル基、プレニル基などが挙げられる。

【００３７】アリール基とは、具体的には置換または無
置換のアリール基であり、例えばフェニル、トリル、キ
シリル、４−エチルフェニル、４−ブチルフェニル、４
−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、４−メトキシフェニル、
４−ジエチルアミノフェニル、２−メチルフェニル、２
−メトキシフェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、６
−メトキシ−２−ナフチル、４−メチル−１−ナフチ
ル、フェナントリル、アントリルなどが挙げられる。

【００３８】アラルキル基とは、置換または無置換のア
ラルキル基であり、例えばベンジル基、フェネチル基、
プロピオフェニル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフ
チルメチル基、４−メトキシベンジル基などが挙げられ
る。

【００３９】複素環基とは、置換または無置換の複素環
基であり、例えばピリジニル基、キノリニル基、メチル
ピリジニル基、インドリル基などが挙げられる。

【００４０】脂環基とは、置換または無置換の脂環基で
あり、例えばシクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキ
シル基、シクロペンチル基、シクロヘプチル基などが挙
げられる。

【００４１】上記一般式（１）中のカチオン部（Ｚ⁺）
は、４級アンモニウムカチオン、４級ピリジニウムカチ
オン、４級キノリウムカチオン、ホスホニウムカチオ
ン、スルホニウムカチオン、オキソニウムカチオン、ヨ
ードニウムカチオン、金属カチオンであり、金属カチオ
ンとしては、例えばナトリウム、カリウム、リチウム、
マグネシウム、カルシウムなどが挙げられる。また、金
属カチオンを除く、上記カチオン部（Ｚ⁺）は置換また
は無置換のカチオンであり、置換基としては、特に限定
はされないが、例えば、炭素数１〜１０個のメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチ
ル、ｓｅｃ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、
オクチル、２−エチルヘキシル等のアルキル基、フェニ
ル、トリル、キシリル等のアリール基などが挙げられ
る。これらのカチオンうち、４級アンモニウムカチオン
が好ましく、アルキル基を有するテトラアルキルアンモ
ニウムカチオンがより好ましい。

【００４２】より具体的に一般式（１）で表される硼素
系化合物（Ｃ−１）としては、例えば、テトラメチルア
ンモニウム・エチルトリ−ｎ−ブチルボレイト、テトラ
−ｎ−ブチルアンモニウム・フェネチルトリメチルボレ
イト、テトラエチルアンモニウム・フェニルトリイソブ
チルボレイト、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム・フェ
ネチルトリ（４−メチルフェニル）ボレイト、テトラメ
チルアンモニウム・エチルトリフェニルボレイト、（２
−ヒドロキシエチル）トリメチルアンモニウム・ｎ−ブ
チルトリ（４−メチルフェニル）ボレイト、テトラエチ
ルアンモニウム・ｎ−オクチルトリ（４，５−ジエチル
フェニル）ボレイト、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム
・ｎ−ペンチルトリ（４−メトキシフェニル）ボレイ
ト、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム・ｎ−ブチルトリ
（６−メトキシ−２−ナフチル）ボレイト、テトラ−ｎ
−ブチルアンモニウム・ブチルトリ（４−メチル−１−
ナフチル）ボレイト、（２−ヒドロキシエチル）トリメ
チルアンモニウム・メチルトリ（１−ナフチル）ボレイ
ト、（２−ヒドロキシエチル）トリメチルアンモニウム
・ｎ−ブチルトリ（６−メトキシ−２−ナフチル）ボレ
イト、ピリジニウム・ｎ−ブチルトリナフチルボレイ
ト、ジフェニルヨードニウム・ｎ−ブチルトリ（４−メ
チルナフチル）ボレイト、トリエチルスルフォニウム・
ｎ−オクチルトリ（４，５−ジエチルナフチル）ボレイ
ト、ナトリウム・エチルトリアセナフチルボレイトなど
が挙げられ、これらの単独あるいは２種以上を混合して
用いることができる。これらのうち、アリール基を有す
るものが熱安定性及び感光性に優れる点で好ましい。

【００４３】アリール基を有する硼素系化合物のうち、
熱安定性及び感光性が高い点から、ナフチル基を有する
硼素系化合物が好ましく、特に下記一般式（２）：

【００４４】

【化６】

【００４５】（式中、Ｒ₅〜Ｒ₁₂、Ｒ'₅〜Ｒ'_{1 1}及びＲ''
₅〜Ｒ''_{1 1}はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルコキシル基、アリール基、アラ
ルキル基、複素環基、脂環基を示す。ただしＲ₅〜
Ｒ₁₂、Ｒ'₅〜Ｒ'_{1 1}及びＲ''₅〜Ｒ''_{1 1}は同じであっても
異なっていてもよい。Ｚ⁺は４級アンモニウムカチオ
ン、４級ピリジニウムカチオン、４級キノリニウムカチ
オン、ホスホニウムカチオン、スルホニウムカチオン、
オキソニウムカチオン、ヨードニウムカチオンまたは金
属カチオンを示す。）で表される硼素系化合物が好まし
い。

【００４６】上記一般式（２）におけるＲ₅〜Ｒ₁₂、Ｒ'
₅〜Ｒ'_{1 1}及びＲ''₅〜Ｒ''_{1 1}を以下に具体的に例示して
説明する。

【００４７】アルキル基とは、具体的には炭素数１〜１
０の置換あるいは無置換の直鎖または分岐アルキル基が
好ましく、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、３−メトキシプロ
ピル、４−クロロブチル、２−ジエチルアミノエチルな
どが挙げられる。

【００４８】アルケニル基とは、置換または無置換のア
ルケニル基であり、具体的には炭素数２〜１２のものが
好ましく、例えばビニル基、プロペニル基、ブテニル
基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オク
テニル基、ドデシニル基、プレニル基などが挙げられ
る。

【００４９】アルコキシル基とは、具体的には炭素数１
〜１０の置換あるいは無置換の直鎖または分岐アルコキ
シル基が好ましく、例えばメトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅ
ｃ−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシ、２−メトキシプロポキシ、３−ジエチ
ルアミノブトキシなどが挙げられる。

【００５０】アリール基とは、置換または無置換のアリ
ール基であり、具体的には例えば、フェニル、トリル、
キシリル、４−エチルフェニル、４−ブチルフェニル、
４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、４−メトキシフェニ
ル、４−ジエチルアミノフェニル、２−メチルフェニ
ル、２−メトキシフェニル、ナフチル、４−メチルナフ
チルなどが挙げられる。

【００５１】アラルキル基とは、置換または無置換のア
ラルキル基であり、具体的には例えば、ベンジル基、フ
ェネチル基、プロピオフェニル基、１−ナフチルメチル
基、２−ナフチルメチル基、４−メトキシベンジル基な
どが挙げられる。

【００５２】複素環基とは、置換または無置換の複素環
基であり、具体的には例えば、ピリジニル基、キノリニ
ル基、メチルピリジニル基、インドリル基などが挙げら
れる。

【００５３】脂環基とは、置換または無置換の脂環基で
あり、具体的には例えば、シクロヘキシル基、４−メチ
ルシクロヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘプチ
ル基などが挙げられる。

【００５４】上記一般式（２）中のカチオン部（Ｚ⁺）
は、４級アンモニウムカチオン、４級ピリジニウムカチ
オン、４級キノリウムカチオン、ホスホニウムカチオ
ン、スルホニウムカチオン、オキソニウムカチオン、ヨ
ードニウムカチオン、金属カチオンであり、金属カチオ
ンとしては、例えばナトリウム、カリウム、リチウム、
マグネシウム、カルシウムなどが挙げられる。また、金
属カチオンを除く、上記カチオン部（Ｚ⁺）は置換また
は無置換のカチオンであり、置換基としては、特に限定
はされないが、例えば、炭素数１〜１０個のメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチ
ル、ｓｅｃ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、
オクチル、２−エチルヘキシル等のアルキル基、フェニ
ル、トリル、キシリル等のアリール基などが挙げられ
る。これらのカチオンうち、４級アンモニウムカチオン
が好ましく、アルキル基を有するテトラアルキルアンモ
ニウムカチオンがより好ましい。

【００５５】より具体的に一般式（２）で表される硼素
系化合物としては、例えば、テトラ−ｎ−ブチルアンモ
ニウム・ｎ−ブチルトリ（６−メトキシ−２−ナフチ
ル）ボレイト、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム・ブチ
ルトリ（４−メチル−１−ナフチル）ボレイト、（２−
ヒドロキシエチル）トリメチルアンモニウム・メチルト
リ（１−ナフチル）ボレイト、（２−ヒドロキシエチ
ル）トリメチルアンモニウム・ｎ−ブチルトリ（６−メ
トキシ−２−ナフチル）ボレイト、ピリジニウム・ｎ−
ブチルトリナフチルボレイト、ジフェニルヨードニウム
・ｎ−ブチルトリ（４−メチルナフチル）ボレイト、ト
リエチルスルフォニウム・ｎ−オクチルトリ（４，５−
ジエチルナフチル）ボレイトなどが挙げられる。

【００５６】本発明に用いられるチタノセン化合物は、
光を直接吸収し、または光増感されて分解し、活性ラジ
カルを発生する機能を有する。該チタノセン化合物とし
ては、チタノセン構造を有する種々のものを用いること
ができるが、例えば特開昭５９−１５２３９６号公報、
特開昭６１−１５１１９７号公報に記載されている各種
チタノセン化合物から適宜選んで用いることができる。
好ましくは一般式（３）：

【００５７】

【化７】

【００５８】（式中、Ｒ₁₃〜Ｒ₂₂はそれぞれ独立に、水
素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０のアルコキシル
基または複素環を示す。Ｒ₂₃〜Ｒ₃₂は水素原子またはメ
チル基を示す。）で表されるチタノセン化合物（Ｃ−
２）が挙げられる。

【００５９】上記一般式（３）におけるＲ₁₃〜Ｒ₂₂を以
下に具体的に例示して説明する。

【００６０】ハロゲン原子としては、例えば、フッ素、
塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。

【００６１】炭素数１〜１０のアルコキシル基とは、具
体的には置換あるいは無置換の直鎖または分岐アルコキ
シル基が好ましく、例えばメトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅ
ｃ−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシ、２−メトキシプロポキシ、３−ジエチ
ルアミノブトキシなどが挙げられる。

【００６２】複素環基とは、置換または無置換の複素環
基であり、例えば、ピロリル基、ピリジニル基、キノリ
ニル基、メチルピリジニル基、インドリル基などが挙げ
られる。

【００６３】より具体的に、一般式（３）で表されるチ
タノセン化合物（Ｃ−２）としては、例えば、ジシクロ
ペンタジエニル−Ｔｉ−ジクロライド、ジシクロペンタ
ジエニル−Ｔｉ−ビスフェニル、ジシクロペンタジエニ
ル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロ
フェニ−１−イル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビ
ス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イ
ル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス２，４，６−
トリフルオロフェニ−１−イル、ジシクロペンタジエニ
ル−Ｔｉ−ビス２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、
ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス２，４−ジ−フル
オロフェニ−１−イル、ジメチルシクロペンタジエニル
−Ｔｉ−ビス２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェ
ニ−１−イル、ジメチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−
ビス−２，６−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジシク
ロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロ−
３−（ピロール−１−イル）フェニ−１−イル等を挙げ
ることができる。これらの単独あるいは２種以上を混合
して用いることができる。これらのうち好ましくはジシ
クロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロ
−３−（ピロール−１−イル）フェニ−１−イルであ
り、市販のものとして、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ７８４（チ
バスペシャリティケミカルズ株式会社製）がある。

【００６４】本発明に用いられる光重合開始剤（Ｃ）の
含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と架橋性化合物
（Ｂ）との合計１００質量部に対して、０．１〜１５質
量部、好ましくは、０．３〜５質量部である。光重合開
始剤（Ｃ）の配合量が０．１質量部未満のものは感光性
が低下し好ましくない。一方、光重合開始剤（Ｃ）の配
合量が１５質量部を超えると深部での感光性が低下する
ので好ましくない。

【００６５】本発明の光重合性組成物は、必要に応じ
て、増感剤を加えることによってさらに感光性を高める
ことができる。増感剤は光重合開始剤（Ｃ）とは異なる
波長に吸収の極大を持つものであり、用いる光重合開始
剤（Ｃ）に応じて適宜選択することができる。具体的に
は例えば、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフ
ェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェ
ノンなどのベンゾフェノン系化合物、チオキサントン、
２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチ
オキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサント
ン、２−クロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロ
ポキシチオキサントンなどのチオキサントン系化合物、
ベンジル、アンスラキノン、２−エチルアンスラキノ
ン、フェナントレン、増感色素などが利用できる。こら
れのうち増感色素が好ましい。増感剤の使用量は光重合
開始剤（Ｃ）／増感剤＝０．０１〜１００（質量比）で
あることが好ましく、光重合開始剤（Ｃ）／増感剤＝
０．１〜５０（質量比）がより好ましい。

【００６６】本発明に用いられる増感色素として好まし
いものとしては陽イオン染料とカウンターアニオンの組
合せ、または電気的中性染料が挙げられる。

【００６７】陽イオン染料とカウンターアニオンの組合
せにおける陽イオン染料としては、シアニン、キサンテ
ン、オキサジン、チアジン、ジアリールメタン、トリア
リールメタン、ピリリウムなどが挙げられ、カウンター
アニオンは任意の陰イオンであり、例えば塩素アニオ
ン、臭素アニオン、ヨウ素アニオンなどのハロゲンアニ
オン、ベンゼンスルホン酸アニオン、ｐ−トルエンスル
ホン酸アニオン、メタンスルホン酸アニオン、ヘキサフ
ルオロホスホニウムアニオン、有機硼素アニオンなどが
挙げられる。

【００６８】電気的中性染料は、有機染料が対イオンか
ら構成されていないものであって、同一分子内の共鳴に
よる＋・−を含むものを言い、その種類としてはメロシ
アニン、クマリン、インジゴ、芳香族アミン、フタロシ
アニン、アゾ、キノン系染料などが挙げられる。

【００６９】本発明に用いられる増感色素の具体的な例
としては、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５
５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、マラカ
イトグリーン（ＣＩ４２０００）、フクシン（ＣＩ４２
５１０）、クリスタルバイオレット−カルビノールベー
ス（ＣＩ４２５５５：１）、パラフクシン（ＣＩ４２５
００）、ローダミンＢ（ＣＩ４５１７０）、ヴィクトリ
アブルーＢ（ＣＩ４４０４５）、ビクトリアピュアブル
ーＢＯＨ（ＣＩ４２５９５）、ブリリアントグリーン
（ＣＩ４２０４０）、ナイトブルーＢＸ（ＣＩ５１１８
５）、ニュートラルレッド（ＣＩ５００４０）、サフラ
ニンＯ（ＣＩ５０２４０）、ベイシックオレンジ２１
（ＣＩ４８０３５）、ベイシックオレンジ２２、ベイシ
ックイエロー１１、ベイシックイエロー２２、ベイシッ
クイエロー３６、ベイシックレッド１（ＣＩ４５１６
０）、ベイシックレッド５（ＣＩ５００４０）、ベイシ
ックレッド１３（ＣＩ４８０１５）、ベイシックレッド
１４、ベイシックバイオレット７（ＣＩ４８０２０）、
ベイシックバイオレット１１（ＣＩ４５１７５）、クリ
スタルバイオレットのｐ−トルエンスルホン酸塩、また
はナフタレンスルホン酸塩など、ヴィクトリアブルーＢ
のｐ−トルエンスルホン酸塩、テトラフルオロホウ素
塩、またはテトラフェニルホウ素塩など、ベイシックオ
レンジ２１のｐ−トルエンスルホン酸塩、テトラフルオ
ロホウ素塩、またはテトラフェニルホウ素塩など、ベイ
シックレッド５のナフタレンスルホン酸塩、テトラフル
オロホウ素塩、またはテトラフェニルホウ素塩など、３
−（２−ベンゾチアゾリン）−７−（ジエチルアミノ）
クマリン、３−（２−ベンズイミダゾリル）−７−（ジ
エチルアミノ）クマリン、２，３，６，７−テトラヒド
ロ−１１−オキソ−１Ｈ、５Ｈ、１１Ｈ−［１］ベンゾ
ピラノ［６，７，８−ｉｊ］キナリジン−１０−カルボ
ン酸エチル、Ｎ、Ｎ’−ジエチルインジゴ、チオキソイ
ンジゴ、２−ジメチルアミノアントラキノン、４−ヒド
ロキシアゾベンゼン、４−フェニルアミノ−４’−ニト
ロアゾベンゼンなどを挙げることができる。なお、ここ
で（）内のＣＩを付した番号は、カラーインデックス番
号を示す。これらの増感色素は必要に応じて２種類以上
を混合して適用してもよい。これらの増感色素は、露光
に用いる波長に応じて、適宜選択すればよい。

【００７０】本発明に用いられる光重合開始剤（Ｃ）と
上記増感色素を併用するに際し、感光性、熱安定性なら
びに紫外光及び／または可視光領域における吸収波長の
大きさの面から、好ましくは一般式（１）で表される硼
素系化合物（Ｃ−１）と増感色素の組合せ、チタノセン
化合物と増感色素の組合せであり、より好ましくは一般
式（２）で表される硼素系化合物と増感色素の組合せ、
一般式（３）で表されるチタノセン化合物（Ｃ−２）と
増感色素の組合せである。

【００７１】本発明に用いられる多官能チオール化合物
（Ｄ）とは、一分子中に２個以上のメルカプト基を有す
る化合物であり、具体的には例えば、１，２−エタンジ
チオール、１，３−プロパンジチオール、１，４−ブタ
ンジチオール、２，３−ブタンジチオール、１，５−ペ
ンタンジチオール、１，６−ヘキサンジチオール、１，
８−オクタンジチオール、１，９−ノナンジチオール、
２，３−ジメルカプト−１−プロパノール、ジチオエリ
スリトール、２，３−ジメルカプトサクシン酸、１，２
−ベンゼンジチオール、１，２−ベンゼンジメタンチオ
ール、１，３−ベンゼンジチオール、１，３−ベンゼン
ジメタンチオール、１，４−ベンゼンジメタンチオー
ル、３，４−ジメルカプトトルエン、４−クロロ−１，
３−ベンゼンジチオール、２，４，６−トリメチル−
１，３−ベンゼンジメタンチオール、４，４’−チオジ
フェノール、２−ヘキシルアミノ−４，６−ジメルカプ
ト−１，３，５−トリアジン、２−ジエチルアミノ−
４，６−ジメルカプト−１，３，５−トリアジン、２−
シクロヘキシルアミノ−４，６−ジメルカプト−１，
３，５−トリアジン、２−ジ−ｎ−ブチルアミノ−４，
６−ジメルカプト−１，３，５−トリアジン、エチレン
グリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、ブ
タンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコー
ルビスチオグリコレート、２，５−ジメルカプト−１，
３，４−チアジアゾール、２，２’−（エチレンジチ
オ）ジエタンチオール、２，２−ビス（２−ヒドロキシ
−３−メルカプトプロポキシフェニルプロパン）等の２
個のメルカプト基を有する化合物、１，２，６−ヘキサ
ントリオールトリチオグリコレート、１，３，５−トリ
チオシアヌル酸、トリメチロールプロパントリス（３−
メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパン
トリスチオグリコレート等の３個のメルカプト基を有す
る化合物、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メル
カプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラ
キスチオグリコレート等の４個以上のメルカプト基を有
する化合物が挙げられる。これらの多官能チオール化合
物（Ｄ）には、市販のものとして、エチレングリコール
ビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリ
スチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキ
スチオプロピオネート（いずれも淀化学株式会社製。）
等がある。

【００７２】上記の多官能チオール化合物のうち、一分
子中のメルカプト基の個数が多いものが少量の添加でテ
ンティング強度の改良効果が高いことから、一分子中に
３個以上のメルカプト基を有する多官能チオール化合物
が好ましく、また、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）との相溶
性が高いことから、エステル結合を有する多官能チオー
ル化合物が好ましい。エステル結合を有する多官能チオ
ール化合物のうちチオグリコール酸、３−メルカプトプ
ロピオン酸のエステルが好ましい。さらに、具体的な化
合物としては、トリメチロールプロパントリス（３−メ
ルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテト
ラキス（３−メルカプトプロピオネート）が好ましい。

【００７３】本発明における多官能チオール化合物
（Ｄ）の配合量は、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）と架橋性
化合物（Ｂ）との合計１００質量部に対して、０．１〜
１５質量部である。好ましくは、０．１〜５質量部であ
る。多官能チオール化合物（Ｄ）の配合量が０．１質量
部未満ではテンティング強度の向上が見られないので、
好ましくない。一方、多官能チオール化合物（Ｄ）の配
合量が１５質量部を超えても、テンティング強度の向上
に大きな変化が無く、経済的観点からも望ましくない。

【００７４】本発明に用いられる多官能チオール化合物
（Ｄ）は、連鎖移動剤としての機能を通常有するが、必
要に応じて多官能チオール化合物（Ｄ）以外の連鎖移動
剤を加えることによって、本発明の光重合性組成物の感
光性をさらに高めることができる。連鎖移動剤として
は、具体的には例えば、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−ｐ
−ヒドロキシフェニルグリシン等のＮ−フェニルグリシ
ン系化合物、２−メルカプトオキサゾール、２−メルカ
プトチアゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、
２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベン
ゾオキサゾール、２−メルカプトニコチン酸、２−メル
カプトピリジン、２−メルカプト−３−ピリジノール、
２−メルカプトピリジン−Ｎ−オキサイド、４−アミノ
−６−ヒドロキシ−２−メルカプトピリミジン、４−ア
ミノ−６−ヒドロキシ−２−メルカプトピリミジン、４
−アミノ−２−メルカプトピリミジン、６−アミノ−５
−ニトロソ−２−チオウラシル、４，５−ジアミノ−６
−ヒドロキシ−２−メルカプトピリミジン、４，６−ジ
アミノ−２−メルカプトピリミジン、２，４−ジアミノ
−６−メルカプトピリミジン、４，６−ジヒドロキシ−
２−メルカプトピリミジン、４，６−ジメチル−２−メ
ルカプトピリミジン、４−ヒドロキシ−２−メルカプト
−６−メチルピリミジン、４−ヒドロキシ−２−メルカ
プト−６−プロピルピリミジン、２−メルカプト−４−
メチルピリミジン、２−メルカプトピリミジン、２−チ
オウラシル、３，４，５，６−テトラヒドロ−２−ピリ
ミジンチオール、４，５−ジフェニル−２−イミダゾー
ルチオール、２−メルカプトイミダゾール、２−メルカ
プト−１−メチルイミダゾール、４−アミノ−３−ヒド
ラジノ−５−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、
３−アミノ−５−メルカプト−１，２，４−トリアゾー
ル、２−メチル−４Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３
−チオール、４−メチル−４Ｈ−１，２，４−トリアゾ
ール−３−チオール、１Ｈ−１，２，４−トリアゾール
−３−チオール、２−アミノ−５−メルカプト−１，
３，４−チアジアゾール、５−アミノ−１，３，４−チ
アジアゾール−２−チオール、２，５−ジメルカプト−
１，３，４−チアジアゾール、フルフリルメルカプタ
ン、２−メルカプト−５−チアゾリドン、２−メルカプ
トチアゾリン、２−メルカプト−４（３Ｈ）−キナゾリ
ノン、１−フェニル−１Ｈ−テトラゾール−５−チオー
ル、２−キノリンチオール、２−メルカプト−５−メチ
ルベンズイミダゾール、２−メルカプト−５−ニトロベ
ンズイミダゾール、６−アミノ−２−メルカプトベンゾ
チアゾール、５−クロロ−２−メルカプトベンゾチアゾ
ール、６−エトキシ−２−メルカプトベンゾチアゾー
ル、６−ニトロ−２−メルカプトベンゾチアゾール、２
−メルカプトナフトイミダゾール、２−メルカプトナフ
トオキサゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリア
ゾール、４−アミノ−６−メルカプトピラゾロ［２，４
−ｄ］ピリジン、２−アミノ−６−プリンチオール、６
−メルカプトプリン、４−メルカプト−１Ｈ−ピラゾロ
［２，４−ｄ］ピリミジン等の単官能チオール化合物、
トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、ジイソプロ
ピルエチルアミン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルアニリン、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ，Ｎ
−ジメチル−１−ナフチルアミン、ｐ−ジメチルアミノ
安息香酸エチル等のアミン系化合物、フェノキシ酢酸な
どが挙げられる。これらは１種使用してもよいが２種以
上を併用することもできる。

【００７５】上記の連鎖移動剤のうち、好ましくは、Ｎ
−フェニルグリシン系化合物であり、より好ましくはＮ
−フェニルグリシンである。また、連鎖移動剤の使用量
は光重合開始剤（Ｃ）／連鎖移動剤＝０．０１〜１００
（質量比）であることが好ましく、光重合開始剤（Ｃ）
／連鎖移動剤＝０．１〜５０（質量比）がより好まし
い。

【００７６】本発明の光重合性組成物は、アルカリ可溶
性樹脂（Ａ）、架橋性化合物（Ｂ）、光重合開始剤
（Ｃ）及び一分子中に２個以上のメルカプト基を有する
多官能チオール化合物（Ｄ）を必須成分として含有し、
必要に応じて、増感剤、連鎖移動剤を含有するが、更に
種々の目的の為に各種添加剤を添加することができる。

【００７７】添加剤としては、密着促進剤、重合禁止
剤、充填剤、可塑剤などの種々の添加剤を挙げることが
できる。

【００７８】密着促進剤としては、具体的には少量の添
加で金属面への密着性を向上できるテトラゾールまたは
その誘導体が好ましく、例えば、１−フェニルテトラゾ
ール、５−アミノテトラゾール、１−アミノ−１−メチ
ルテトラゾール、５−アミノ−２−フェニルテトラゾー
ル、５−メルカプト−１−フェニルテトラゾールなどが
挙げられる。これらは１種使用してもよいが２種以上を
併用することもできる。またその使用量は、アルカリ可
溶性樹脂（Ａ）と架橋性化合物（Ｂ）との合計１００質
量部に対して、０．１〜１０質量部が好ましい。

【００７９】本発明の光重合性組成物は、必要に応じて
メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、メチルセロソルブ、エチルセロ
ソルブ、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル等の溶媒または
これらの混合溶媒に溶解させ、粘度を調整し、固形分２
０〜９０質量％程度の溶液として用いることができる。

【００８０】本発明の光重合性組成物の使用形態には、
特に制限はないが、導電性を有する面、例えば、銅、銅
系合金、ニッケル、クロム、鉄等の鉄系合金、好ましく
は銅、銅系合金、鉄系合金の表面上に、液状レジストと
して塗布して乾燥後、必要に応じて保護フィルムを被覆
して用いるか、ドライフィルムの形態で用いられること
が好ましい。

【００８１】また、光重合性組成物層の厚みは、用途に
より異なるが、乾燥後の厚みで１〜２００μｍであるこ
とが好ましく、１〜１００μｍであることがより好まし
く、１〜４０μｍであることが特に好ましい。この厚み
が１μｍ未満では工業的に塗工困難な傾向があり、２０
０μｍを超える場合では本発明の効果が小さく、また感
度が不十分となり、レジスト底部の光硬化性が悪化する
傾向がある。液状レジストに保護フィルムを被覆して用
いる場合は、保護フィルムとして、ポリエチレン、ポリ
プロピレン等の不活性なポリオレフィンフィルム等が用
いられるが、光重合性組成物層からの剥離性の見地か
ら、ポリエチレンフィルムが好ましい。

【００８２】上記ドライフィルムを形成させるには本発
明の光重合性組成物を、必要に応じて溶媒を用いて溶解
させ、ブレードコーター、ロッドコーター、ナイフコー
ター、ロールドコーター、ロールドクターコーター、ト
ランスファーロールドコーター、グラビアコーター、キ
スロールコーター、カーテンコーターなどを用いて支持
体に塗布し、乾燥すればよい。支持体はポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエス
テル等の耐熱性及び耐溶剤性を有する重合体フィルムを
用いるが、耐熱性の点からポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレートが好ましい。また、支持
体は後の工程において、剥離が容易であることが好まし
い。乾燥は、４０〜１５０℃、５〜１５０分程度で行う
ことができる。使用する乾燥機としては、溶媒を使用す
る場合には安全性の立場から、蒸気による空気加熱方式
の熱源を備えたものを用いるのが好ましい。本発明の光
重合性組成物に溶媒を使用した場合は、溶媒を揮散させ
る必要があり、その場合の光重合性組成物層中の残存有
機溶剤量は、後工程での有機溶媒の拡散を防止する点か
ら、５質量％以下とすることが好ましい。乾燥後のドラ
イフィルムレジストは、必要ならばポリエチレンやポリ
プロピレン等からなる重合体フィルムを保護フィルムと
してラミネートしてもよい。また保護フィルムは、光重
合性組成物層及び支持体間の接着力よりも、光重合性組
成物層及び保護フィルム間の接着力の方が小さいものが
好ましい。ここで用いられる重合体フィルムの厚みは、
特に限定されるものではないが、支持体の場合には塗工
に支障の無い程度の厚みであればよく、保護フィルムの
場合、ドライフィルムをロール上に巻き取って保管する
際に支障の無い程度の厚みで有ればよい。具体的には１
〜１００μｍ程度とすることができる。

【００８３】上記ドライフィルムを用いてレジストパタ
ーンを製造するに際しては、前記の保護フィルムが存在
している場合には、保護フィルムを除去後、光重合性組
成物層及び／または回路形成用基板を加熱しながら回路
形成用基板に圧着することにより積層する方法などが挙
げられ、密着性及び追従性の見地から減圧下で積層する
こともできる。積層する際の条件に特に制限は無いが、
加熱温度は７０〜１３０℃とすることが好ましく、圧着
圧力は、０．１〜１ＭＰａとすることができる。

【００８４】上記の様に製造された積層体を水銀ラン
プ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ＵＶレー
ザー、アルゴンイオンレーザー、ＹＡＧレーザーやＧａ
Ｎなどの発光ダイオードなどの光源からの活性光をパタ
ーンを通して照射して露光することにより光重合性組成
物からなる感光層を硬化させることが可能である。

【００８５】露光後、感光層上に重合体フィルムが存在
している場合には、これらを除去した後現像する。現像
液としては、安全かつ安定であり、操作性が良好であれ
ば特に制限はないが、環境への影響が少ない点からアル
カリ水溶液を使用することが好ましい。アルカリ水溶液
の塩基としては、例えばリチウム、ナトリウムまたはカ
リウムの水酸化物等の水酸化アルカリ、リチウム、ナト
リウム、カリウムまたはアンモニウムの炭酸塩または重
炭酸塩等の炭酸アルカリ、カリウム、ナトリウム等のリ
ン酸塩のアルカリ金属リン酸塩、カリウム、ナトリウム
等のピロリン酸塩のアルカリ金属ピロリン酸塩が用いら
れ、その中でも炭酸ナトリウムが好ましい。

【００８６】アルカリ水溶液のｐＨは、未露光部の感光
層が除去され、露光部の感光層がレジストとして基板上
に残る適切なｐＨの範囲とする必要があることから、９
〜１１とすることが好ましく、また、その温度は、感光
層の現像性に合わせて調節される。また、アルカリ水溶
液には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進するための少
量の有機溶媒等を混入させてもよい。

【００８７】上記有機溶媒としては、例えば、アセトー
ル、アセトン、酢酸エチル、炭素数１〜４のアルコキシ
ル基をもつアルコキシエタノール、エチルアルコール、
イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ジエチレ
ングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチ
ルエーテル等が挙げられる。これらは、単独でまたは２
種類以上を組み合わせて使用することができる。有機溶
剤の濃度は、通常、２〜９０質量％とすることが好まし
く、その現像温度は、現像性にあわせて調整することが
できる。また、現像液中には、界面活性剤、消泡剤等を
少量混入することもできる。

【００８８】現像方法は、特に限定されるものではな
く、公知の現像方法が使用できる。このような現像方法
としては、例えば、ディップ方式、バトル方式、高圧ス
プレー方式、ブラッシング、スクラッピング等が挙げら
れるが、解像度が高くなるという点から、高圧スプレー
方式が好ましい。本発明の光重合性組成物の硬化物から
なるレジストを使用することにより、高圧スプレー方式
を用いた現像時のレジストの破れによる不良品の発生が
抑えられ、プリント配線板製造時の歩留まりを大幅に改
善することができる。

【００８９】この現像操作により、未露光部の感光層が
除去され、露光部の感光層がレジストパターンを形成し
て基板上に残る。

【００９０】現像後の処理として、必要に応じて６０〜
２５０℃程度の加熱または０．２〜１０ｍＪ／ｃｍ²程
度の露光を行うことによりレジストパターンをさらに硬
化してもよい。

【００９１】さらにプリント配線板を製造する場合は、
現像されたレジストパターンをマスクとして回路形成用
基板を、エッチング、めっき等の公知の方法で処理す
る。

【００９２】エッチング方法には塩化第二銅溶液、塩化
第二鉄溶液、過酸化水素系エッチング液を用いることが
できるが、エッチファクタが良好な点から塩化第二鉄溶
液を用いることが望ましい。

【００９３】めっき法としては、例えば、銅めっき（硫
酸銅めっき、ピロリン酸銅めっき等）、はんだめっき
（ハイスローはんだめっき等）、ニッケルめっき〔ワッ
ト浴（硫酸ニッケル−塩化ニッケル）めっき、スルファ
ミン酸ニッケルめっき等〕、金めっき（ハード金めっ
き、金めっき等）などが挙げられる。

【００９４】ついでレジストが残る基板からレジストを
剥離させることができる。レジストを剥離させるために
は、例えば、この基板を、現像に用いたアルカリ水溶液
よりさらに強アルカリ性の水溶液を使用することができ
る。このような強アルカリ性の水溶液としては、例え
ば、１〜１０質量％の水酸化ナトリウム水溶液、１〜１
０質量％水酸化カリウム水溶液等が挙げられる。剥離方
式としては、例えば、浸漬方式、スプレー方式等が挙げ
られる。

【００９５】

【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明は、
これらの実施例に何ら限定されるものではない。

【００９６】使用したアルカリ可溶性樹脂（Ａ）及び架
橋性化合物（Ｂ）を表１に示す。

【００９７】

【表１】

【００９８】開始剤として、下記ＰＩ（１）〜ＰＩ
（４）の組成の光重合開始剤（Ｃ）及び増感剤を用い
た。 ＰＩ（１）：テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム・ブチル
トリ（４−メチル−１−ナフチル）ボレイト（昭和電工
株式会社製）／ベイシックイエロー３６＝３／１（質量
比） ＰＩ（２）：ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−
２，６−ジフルオロ−３−（ピロール−１−イル）フェ
ニ−１−イル（チバスペシャリティケミカルズ株式会社
製、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ７８４） ＰＩ（３）：テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム・ブチル
トリ（４−メチル−１−ナフチル）ボレイト（昭和電工
株式会社製）／ベイシックレッド１４＝３／１（質量
比） ＰＩ（４）：テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム・ブチル
トリ（４−メチル−１−ナフチル）ボレイト（昭和電工
株式会社製）／２，４−ジエチルチオキサントン／Ｎ−
フェニルグリシン＝４／１／３（質量比）

【００９９】チオール化合物として下記の多官能チオー
ル化合物（Ｄ）及び単官能チオール化合物を用いた。 多官能チオール化合物（Ｄ） ＤＢＡＤＭＴ；２−ジ−ｎ−ブチルアミノ−４，６−ジ
メルカプト−１，３，５−トリアジン（ジスネットＤＢ
三協化成株式会社製） ＮＤＴ；１，９−ノナンジチオール ＥＧＴＰ：エチレングリコールビス（３−メルカプトプ
ロピオネート） （エチレングリコールビスチオプロピ
オネート 淀化学株式会社製）

【０１００】

【化８】

【０１０１】ＴＭＴＰ：トリメチロールプロパントリス
（３−メルカプトプロピオネート）（トリメチロールプ
ロパントリスチオプロピオネート 淀化学株式会社製）

【０１０２】

【化９】 ＰＥＴＰ：ペンタエリスリトールテトラキス（３−メル
カプトプロピオネート） （ペンタエリスリトールテト
ラキスチオプロピオネート 淀化学株式会社製）

【０１０３】

【化１０】

【０１０４】単官能チオール化合物 ＭＢＴ：２−メルカプトベンゾチアゾール 上記各成分を用いて、アルカリ可溶性樹脂（Ａ）及び架
橋性化合物（Ｂ）１００質量部、光重合開始剤（Ｃ）２
質量部、チオール化合物０〜１．５質量部、溶媒として
メチルエチルケトン１５０質量部を混合し本発明の光重
合性組成物の溶液を調製した。

【０１０５】得られた本発明の光重合性組成物の溶液
を、厚さ２０μｍのポリエチレンテレフタレートフィル
ム上にブレードコーターにより均一に塗布し、次いで乾
燥機中で５０℃で１時間乾燥し、厚さ３０μｍの本発明
の光重合性組成物を得た。ついで保護フィルムとして厚
さ２０μｍのポリエチレンフィルムをロール表面温度３
０℃、ロール圧力０．１５ＭＰａ、ロール速度０．６ｍ
／分でラミネートしてドライフィルムを得た。

【０１０６】得られたドライフィルムは保護フィルムを
剥離しながら、オーブンで６０℃に予熱した厚さ１．６
ｍｍの銅張積層板上にロール表面温度１００℃、ロール
圧力０．１５ＭＰａ、ロール速度０．６ｍ／分で積層
し、試料を作成した。

【０１０７】露光波長に応じてそれぞれ下記の光源を用
いた。 ３６５ｎｍ ２５０Ｗ超高圧水銀灯（ＵＳＨ−２５０ＢＹ、ウシオ電
機株式会社製）を光源として、３６５±２ｎｍバンドパ
スフィルターを通した紫外線を用いた。光源より２０ｃ
ｍの距離での光照射強度を、光量計（ＵＩＴ−１５０
Ａ、ウシオ電機（株）社製）により測定したところ、
２．３ｍＷ／ｃｍ²であった。

【０１０８】４８８ｎｍ １５０Ｗキセノンランプ（ＵＸＬ−１５０ＹＡ、ウシオ
電機株式会社製）を光源として、４８８±２ｎｍバンド
パスフィルターを通した可視光線を用いた。光源より１
５ｃｍの距離での光照射強度を、光量計（ＩＬ １４０
０Ａ 、ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ ｌｉｇｈｔ Ｉ
ＮＣ．社製）により測定したところ、５０４μＷ／ｃｍ
²であった。

【０１０９】５３２ｎｍ １５０Ｗキセノンランプ（ＵＸＬ−１５０ＹＡ、ウシオ
電機株式会社製）を光源として、５３２±２ｎｍバンド
パスフィルターを通した可視光線を用いた。光源より１
５ｃｍの距離での光照射強度を、光量計（ＩＬ １４０
０Ａ、ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ ｌｉｇｈｔ ＩＮ
Ｃ．社製）により測定したところ、４７６μＷ／ｃｍ²
であった。

【０１１０】評価方法を以下に示す。 感光性 銅張積層板にドライフィルムをラミネートした試料上
に、２１段ステップタブレットグレースケール（日立化
成株式会社製、ＯＤ＝０．０５〜３．０５、ΔＤ＝０．
１５）をのせ、上記光源及び各種フィルターを用いて、
１０ｍＪ／ｃｍ²のエネルギーで露光した。露光後、室
温で１５分間放置し、続いて試料からポリエチレンテレ
フタレートフィルムを剥がし、３０℃で１．０質量％の
炭酸ナトリウム水溶液をスプレー圧０．１５ＭＰａで６
０秒間スプレーすることにより未露光部分を除去するこ
とにより、現像した。感度は、銅張積層板上に形成され
た光硬化膜のステップタブレットの段数を測定すること
により評価した。ステップタブレットの段数が高いほ
ど、感光性が高いことを示す。

【０１１１】テンティング強度 １．６ｍｍ厚の銅張積層板に、直径３ｍｍの穴を、穴の
中心が６ｍｍ間隔になるように、縦×横８個ずつ６４個
あけた。ドライフィルムを両面にラミネートして、５ｍ
Ｊ／ｃｍ²のエネルギーで露光した。露光後、室温で１
５分間放置し、続いてポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを剥がし、３０℃で１．０質量％の炭酸ナトリウム
水溶液をスプレー圧０．１５ＭＰａで１８０秒間スプレ
ーすることにより現像した。そして現像後、テント部の
破れた数を測定し、テント破れ率（下記数式）として評
価した。テント破れ率の割合が低いほどテンティング強
度が高いことを示す。 テント破れ率（％）＝穴破れ数（個）／６４（個）×１
００

【０１１２】熱安定性 ６０℃、２０時間放置後に、上記感光性の評価を再度行
った。

【０１１３】実施例１〜７ 光源として４８８ｎｍの波長の光を用いて、感度、テン
ト破れ率を評価した。 実施例８，９ 光源として５３２ｎｍの波長の光を用いて、感度、テン
ト破れ率を評価した。 実施例１０〜１２ 光源として３６５ｎｍの波長の光を用いて、感度、テン
ト破れ率を評価した。

【０１１４】比較例１，３〜５ 実施例において用いた多官能チオールを添加しなかった
こと以外は、実施例と同様にして試料の調製、評価を行
った。 比較例２，６ 実施例において用いた多官能チオールを単官能チオール
に変更したこと以外は、実施例と同様にして試料の調
製、評価を行った。

【０１１５】上記実施例及び比較例の組成及び評価結果
を表２に示す。

【０１１６】

【表２】 多官能チオールを添加しなかった比較例１及び比較例３
〜５のテント破れ率は実施例と比較して高い結果となっ
た。

【０１１７】多官能チオールを単官能チオールに変更し
た比較例２及び比較例６は、テント破れ率は実施例と比
較して高い結果となった。

【０１１８】

【発明の効果】本発明の光重合性組成物及びドライフィ
ルムは、テンティング強度に優れ、かつ熱安定性、感光
性も良好であるので、プリント配線板分野等に利用でき
有用である。また、本発明の光重合性組成物及びドライ
フィルムを用いたプリント配線板の製造方法は、レジス
トの破れによる不良品の発生が抑えられプリント配線板
製造時の歩留まりを大幅に改善することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/004 ５１２ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５１２ ５Ｅ３４３ 7/039 7/039 Ｈ０５Ｋ 3/00 Ｈ０５Ｋ 3/00 Ｆ 3/06 3/06 Ｊ 3/18 3/18 Ｄ // Ｃ０８Ｌ 57:00 Ｃ０８Ｌ 57:00 (72)発明者 室伏 克己 神奈川県川崎市川崎区扇町５−１ 昭和電 工株式会社総合研究所川崎研究室内 Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AA11 AB11 AB15 AD01 CA39 CA41 CA48 CB13 CB42 CC17 CC20 FA17 FA39 4F071 AA32X AA33 AA33X AA36X AA77 AH13 BB12 BC01 BC02 4J011 PA68 PA69 PA70 PB30 PC08 QA13 QA17 QA22 QA23 QA24 QA34 QB16 RA03 RA15 SA83 SA86 SA87 SA88 TA03 TA08 UA01 WA01 4J026 AA38 AA42 AA43 AA44 AA49 AA50 BA36 BA37 BA38 DB36 GA07 5E339 AD01 AD03 BC02 BE13 CC01 CC02 CC10 CD01 CE12 CE16 CF16 CF17 CG04 DD02 GG01 5E343 AA01 AA12 BB21 BB71 CC62 DD32 ER16 ER18 GG01

Claims (19)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】アルカリ可溶性樹脂（Ａ）２０〜８０質量
   部、架橋性化合物（Ｂ）８０〜２０質量部（アルカリ可
   溶性樹脂（Ａ）と架橋性化合物（Ｂ）の合計は１００質
   量部とする。）、光重合開始剤（Ｃ）０．１〜１５質量
   部及び一分子中に２個以上のメルカプト基を有する多官
   能チオール化合物（Ｄ）０．１〜１５質量部を含むこと
   を特徴とする光重合性組成物。
2. 【請求項２】アルカリ可溶性樹脂（Ａ）がα，β−不飽
   和カルボン酸に由来する繰り返し単位を有する共重合体
   であることを特徴とする請求項１に記載の光重合性組成
   物。
3. 【請求項３】アルカリ可溶性樹脂（Ａ）の酸価が４５〜
   １６０ｍｇＫＯＨ／ｇであることを特徴とする請求項１
   または請求項２に記載の光重合性組成物。
4. 【請求項４】光重合開始剤（Ｃ）が紫外光及び／または
   可視光重合開始剤であることを特徴とする請求項１ない
   し請求項３のいずれかに記載の光重合性組成物。
5. 【請求項５】光重合開始剤（Ｃ）が硼素系化合物及び／
   またはチタノセン化合物であることを特徴とする請求項
   １ないし請求項４のいずれかに記載の光重合性組成物。
6. 【請求項６】光重合開始剤（Ｃ）が硼素系化合物である
   ことを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれかに
   記載の光重合性組成物。
7. 【請求項７】硼素系化合物が一般式（１）： 【化１】 （式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は同じであっても異なっ
   ていてもよく、それぞれ独立して、水素原子、アルキル
   基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、複素環
   基、脂環基を示す。ただし、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄が全
   て水素原子の場合は除く。Ｚ⁺は４級アンモニウムカチ
   オン、４級ピリジニウムカチオン、４級キノリニウムカ
   チオン、ホスホニウムカチオン、スルホニウムカチオ
   ン、オキソニウムカチオン、ヨードニウムカチオンまた
   は金属カチオンを示す。）で表される硼素系化合物であ
   ることを特徴とする請求項５または請求項６に記載の光
   重合性組成物。
8. 【請求項８】硼素系化合物がナフチル基を有する硼素系
   化合物であることを特徴とする請求項５ないし請求項７
   のいずれかに記載の光重合性組成物。
9. 【請求項９】ナフチル基を有する硼素系化合物が一般式
   （２）： 【化２】 （式中、Ｒ₅〜Ｒ₁₂、Ｒ'₅〜Ｒ'_{1 1}及びＲ''₅〜Ｒ''_{1 1}は
   同じであっても異なっていてもよく、それぞれ独立し
   て、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ
   ル基、アリール基、アラルキル基、複素環基、脂環基を
   示す。Ｚ⁺は４級アンモニウムカチオン、４級ピリジニ
   ウムカチオン、４級キノリニウムカチオン、ホスホニウ
   ムカチオン、スルホニウムカチオン、オキソニウムカチ
   オン、ヨードニウムカチオンまたは金属カチオンを示
   す。）で表される硼素系化合物であることを特徴とする
   請求項８に記載の光重合性組成物。
10. 【請求項１０】多官能チオール化合物（Ｄ）がエステル
    結合を有する多官能チオール化合物であることを特徴と
    する請求項１ないし請求項９のいずれかに記載の光重合
    性組成物。
11. 【請求項１１】エステル結合を有する多官能チオール化
    合物がチオグリコール酸及び／または３−メルカプトプ
    ロピオン酸のエステルであることを特徴とする請求項１
    ０に記載の光重合性組成物。
12. 【請求項１２】多官能チオール化合物（Ｄ）が一分子中
    に３個以上のメルカプト基を有する多官能チオール化合
    物であることを特徴とする請求項１ないし請求項１１の
    いずれかに記載の光重合性組成物。
13. 【請求項１３】増感剤を含むことを特徴とする請求項１
    ないし請求項１２のいずれかに記載の光重合性組成物。
14. 【請求項１４】増感剤が増感色素であることを特徴とす
    る請求項１２に記載の光重合性組成物。
15. 【請求項１５】連鎖移動剤〔ただし、多官能チオール化
    合物（Ｄ）を除く。〕を含むことを特徴とする請求項１
    ないし請求項１３のいずれかに記載の光重合性組成物。
16. 【請求項１６】請求項１ないし請求項１５のいずれかに
    記載の光重合性組成物の硬化物からなることを特徴とす
    るレジストパターン。
17. 【請求項１７】請求項１ないし請求項１５のいずれかに
    記載の光重合性組成物からなる感光層と支持体とからな
    ることを特徴とするドライフィルム。
18. 【請求項１８】請求項１７に記載のドライフィルムを、
    回路形成用基板上に光重合性組成物層が密着するように
    して積層し、活性光をパターンを通して照射し、現像す
    ることを特徴とするレジストパターンの製造方法。
19. 【請求項１９】請求項１８に記載のレジストパターンの
    製造方法により、製造されたレジストパターンを有する
    回路形成用基板をエッチングまたはめっきする工程を有
    することを特徴とするプリント配線板の製造方法。