JP2005525459A - 防炎成形材料 - Google Patents

Abstract

本発明は、ポリエステル、メラミンシアヌレート、燐含有防炎剤少なくとも１種、Ｃ−原子１０〜４０を有する飽和又は不飽和の脂肪族カルボン酸とＣ−原子２〜４０を有する脂肪族飽和アルコール又はアミンとのエステル又はアミド少なくとも１種及び加工助剤から成る、熱可塑性成形材料に関する。

Description

本発明は、
Ａ）ポリエステル１種以上 ５５〜９３．９９質量％
Ｂ）メラミンシアヌレート ３〜１５質量％
Ｃ）燐含有防炎剤少なくとも１種 ３〜１５質量％
Ｄ）Ｃ−原子１０〜４０を有する飽和又は不飽和の脂肪族カルボン酸とＣ−原子２〜４０を有する脂肪族飽和アルコール又はアミンとのエステル又はアミド少なくとも１種
０．０１〜５質量％
Ｅ）加工助剤 ０〜１０質量％
から成る熱可塑性成形材料に関する。

更に本発明は、繊維、シート及び成形体を製造するための、本発明の成形材料の使用並びにこの際に得られる全ての種類の成形体に関する。

ハロゲン不含の防炎ポリエステルに関する市場の関心は増大している。防炎剤の主要件は、特に明るい固有色、熱可塑性プラスチック中へ取り込むための充分な熱安定性並びに仕上げ加工された成形材料の良好な機械特性と同時のその防炎作用効果である。

ハロゲン含有系と並んで、熱可塑性プラスチック中では、原則的に４種のハロゲン不含のＦＲ−系（flame-retardant system＝難燃化剤系)が使用される：
− 作用効果を示すために多量に使用しなければならない無機の防炎剤、
− 窒素含有ＦＲ−系、例えば熱可塑性樹脂、例えばポリアミド中で限られた作用効果を示すメラミンシアヌレート。強化されたポリアミド中では、これは、短いガラス繊維と組み合わせてのみ有効である。ポリエステル中では、メラミンシアヌレートは有効ではない、
− ポリエステル中では一般に有効でない燐含有ＦＲ−系、
− 燐−／窒素含有ＦＲ−系、例えば２００℃を超える温度で加工される熱可塑性樹脂に対して充分な熱安定性を有しないポリ燐酸アンモニウム又は燐酸メラミン。

特開平０３−２８１６５２号公報から、メラミンシアヌレート及びガラス繊維並びに燐含有防炎剤を含有するポリアルキレンテレフタレートが公知である。この成形材料は、燐酸の誘導体、例えば熱負荷時に「ブリード」する傾向を有する燐酸エステル（価電子状態＋５）を含有する。

ＥＰ−Ａ０９３２６４３も同様に、燐含有防炎剤及びメラミンシアヌレートからの組成物で防炎化仕上げされている難燃性ポリエステル成形材料を記載している。

しかしながら、流動性は、填料（強化、防炎−添加剤）の高含有率により負に影響される。しかしながら良好な流動性は、まさに薄壁用途にとっては非常に重要である。

本発明の課題は、薄壁用途のためにも好適である、防炎及び機械特性を考慮して誂えられた添加剤を有する耐炎性ポリエステル成形材料の提供であり、この際、本発明の成形材料から、その壁厚が≦１．６ｍｍ、有利には≦１．０ｍｍである薄壁を有する成形部材が製造可能である。

意外にも、相応する強化成形材料に比べて未強化のポリエステル成形材料中では、メラミンシアヌレート及びＣ−原子１０〜４０を有する飽和又は不飽和の脂肪族カルボン酸とＣ−原子２〜４０を有する脂肪族飽和アルコール又はアミンとのエステル又はアミド少なくとも１種と組み合わされた少なくとも１種の燐含有防炎剤明らかにわずかな量を用いて、防炎（例えば少なくともＵＬ９４−Ｖ２、白熱線強度ＧＷＦＩ ９６０℃）及び機械（衝撃強度）に関する好適な要求特性を調節することができ、更にこの成形材料は薄壁用途にも好適であることが判明した。

本発明の目的物は、
Ａ）ポリエステル１種以上 ５５〜９３．９９質量％
Ｂ）メラミンシアヌレート ３〜１５質量％
Ｃ）燐含有防炎剤少なくとも１種 ３〜１５質量％
Ｄ）Ｃ−原子１０〜４０を有する飽和又は不飽和の脂肪族カルボン酸とＣ−原子２〜４０を有する脂肪族飽和アルコール又はアミンとのエステル又はアミド少なくとも１種
０．０１〜５質量％
Ｅ）安定剤、酸化抑制剤、熱分解及び紫外線による分解を妨げる薬剤、滑剤、離型剤、ゴム弾性ポリマー（耐衝撃性改良剤とも称される）、着色剤、有利に染料及び顔料、成核剤及び可塑化剤の群から選択される加工助剤 ０〜１０質量％
（ここで、成分Ａ〜Ｅの質量百分率の合計は１００％である）
から成る熱可塑性成形材料である。

有利な実施形は、従属請求項に記載されている。

本発明の更なる目的物は、防炎剤Ｃ）として、一般式（Ｉ）：

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は同一又は異なるもので、Ｃ−原子８〜４０を有するアルキル−、アリール−、アルキルアリール−又はシクロアルキル基を表す］のホスフィンオキシド少なくとも１種を含有する、本発明の熱可塑性成形材料である。

請求項１に記載の熱可塑性成形材料は、防炎剤Ｃとして、一般式：

［式中、Ｒ^１〜Ｒ^２０は、相互に無関係に、水素、Ｃ−原子６までを有する直鎖又は分枝鎖のアルキル基を表し、ｎは０．５〜５０の平均値であり、
Ｂは、それぞれ、Ｃ_１〜Ｃ_１２−アルキル、有利にメチル又はハロゲン、有利に塩素又は臭素を表し、ｑはそれぞれ相互に無関係に０、１又は２であり、
Ｘは、単結合、Ｃ＝Ｏ、Ｓ、Ｏ、ＳＯ_２、Ｃ（ＣＨ_３）_２、Ｃ_１〜Ｃ_５−アルキレン、Ｃ_２〜Ｃ_５−アルキリデン、Ｃ_５〜Ｃ_６−シクロアルキリデン、Ｃ_６〜Ｃ_１２−アリーレン（これに更に、ヘテロ原子を含有していてよい芳香環が縮合されていてもよい）又は式（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）：

の基（ここで、Ｙは、炭素であり、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれのＹに対して独立して選択可能であり、相互に無関係に、水素又はＣ_１〜Ｃ_６−アルキル、有利に水素、メチル又はエチルであり、ｍは４〜７の整数、有利に４又は５であり、ここで、少なくとも１個の原子Ｙ上のＲ^２１とＲ^２２は同時にアルキルであることを前提とする）を表す］の化合物少なくとも１種を含有する。式中のＲ^１〜Ｒ^２０が相互に無関係に水素又はメチル基を表し、この際ｑ＝０であるようなこの式の燐化合物が有利である。殊に、式中のＸがＳＯ_２、Ｏ、Ｓ、Ｃ＝Ｏ、Ｃ_２〜Ｃ_５−アルキリデン、Ｃ_５〜Ｃ_６−シクロアルキリデン又はＣ_６〜Ｃ_１２−アリーレンを表す化合物が有利である。XがＣ（ＣＨ_３）_２である化合物が全く特別に有利である。

更に目的物は、その中の成分Ｃ）が、トリフェニルホスフィンオキシド、トリフェニルホスフィンスルフィド、燐酸トリフェニル、レゾルシノール−ビス（ジフェニルホスフェート）、トリフェニルホスフィン又は全く特別有利にビスフェノール−Ａ−ジホスフェート又はこれらの混合物から構成されている、本発明による熱可塑性成形材料である。

本発明による成形材料は、成分（Ａ）として、熱可塑性ポリエステル１種又は複数の熱可塑性ポリエステルの混合物５５〜９３．９９、有利に６５〜９３、殊に７５〜９３質量％を含有する。

一般に、芳香族ジカルボン酸及び脂肪族又は芳香族のジヒドロキシ化合物をベースとするポリエステルが使用される。

第１群の有利なポリエステルは、アルコール分中にＣ−原子２〜１０を有するポリアルキレンテレフタレートである。

このようなポリアルキレンテレフタレートは、アルコール分中にＣ−原子２〜１０を有するポリアルキレンテレフタレートである。

このようなポリアルキレンテレフタレートは自体公知であり、文献中に記載されている。これらは主鎖中に芳香族ジカルボン酸に由来する１個の芳香環を有する。この芳香環は、例えば塩素又は臭素のようなハロゲンで又はＣ_１〜Ｃ_４−アルキル基、例えばメチル−、エチル−、ｉ−又はｎ−プロピル−及びｎ−、ｉ−又はｔ−ブチル基で置換されていてもよい。

これらのポリアルキレンテレフタレートは、自体公知方法で、芳香族ジカルボン酸、そのエステル又は他のエステル形成性誘導体と脂肪族ジヒドロキシ化合物との反応により製造することができる。

有利なジカルボン酸としては、２，６−ナフタリンジカルボン酸、テレフタル酸及びイソフタル酸又はそれらの混合物が挙げられる。３０モル％まで、有利には１０モル％より少ない芳香族ジカルボン酸が脂肪族又は環状脂肪族のジカルボン酸、例えばアジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジ酸及びシクロヘキサンジカルボン酸で置換されていてもよい。

脂肪族ジヒドロキシ化合物の内、炭素原子２〜６を有するジオール、殊に１，２−エタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール及びネオペンチルグリコール又はこれらの混合物が有利である。

特に有利なポリエステル（Ａ）としては、Ｃ−原子２〜６を有するアルカンジオールから誘導されるポリアルキレンテレフタレートが挙げられる。それらの内、殊に、ポリエチレンテレフタレート及びポリブチレンテレフタレート又はこれらの混合物が有利である。

ポリエステル（Ａ）の粘度数は、一般に７０〜２２０、有利に８０〜１６０の範囲内にある（フェノール／ｏ−ジクロロベンゼン混合物（質量割合１：１、２５℃まで）中の０．５質量％溶液中で測定）。

殊に、そのカルボキシル末端基含分が１００ｍ当量／ｋｇまで、有利に５０ｍ当量／ｋｇまで、殊に４０ｍ当量／ｋｇまでのポリエステルが有利である。このようなポリエステルは、例えばＤＥ−Ａ４４０１０５５に記載の方法により製造することができる。カルボキシル末端基含分は、通例、滴定法（例えば電位差滴定法）で測定される。

殊に有利な成形材料は、成分Ａ）として、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）とポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）との混合物を含有する。この混合物中のこのポリエチレンテレフタレートの割合は、Ａ）１００質量％に対して５０まで、殊に１０〜３０質量％であるのが有利である。

このような本発明の成形材料は、非常に良好な防炎特性及び良好な機械特性を示す。

更に、有利にＰＥＴリサイクル物（スクラップ−ＰＥＴとも称される）を、ポリアルキレンテレフタレート、例えばＰＢＴと混合して使用することもできる。

リサイクル物とは、一般に次のものであると理解される：
１）いわゆる産業廃棄リサイクル物：ここで、これは、重縮合時又は加工時の製造廃棄物、例えば射出成形加工時のスプルー、射出成形加工又は押出しの際の始動屑又は押出し成形板又はシートの縁部である。
２）一般廃棄リサイクル物：ここで、これは、利用後に最終使用者により集められ、かつ再処理されるプラスチック製品である。量的に広い支配性の品物は、ミネラルウオーター、ソフトドリンク及びジュース用の吹込み成形されたＰＥＴボトルである。

双方の種類のリサイクル物は、粉砕物として又は顆粒の形で存在することができる。後者の場合には、原料リサイクル物が分離及び精製の後に押出し機中で溶融され、造粒される。これにより、大抵、更なる加工工程のための取り扱い、流動性及び計量性が容易にされる。

造粒された又は粉砕物として存在するリサイクル物も使用でき、この際、最大エッジ長さは６ｍｍ、有利に５ｍｍより小さいものであるべきである。

加工時の（痕跡量の水分による）ポリエステルの加水分解に基づき、このリサイクル物を予め乾燥することが推奨される。この乾燥後の残留水分含有率は、０．０１〜０．７、殊に０．２〜０．６％であるのが有利である。

更なる群として、芳香族ジカルボン酸及び芳香族ジヒドロキシ化合物から誘導される完全芳香族ポリエステルが挙げられる。

芳香族ジカルボン酸として、ポリアルキレンテレフタレートの場合に記載した化合物が好適である。有利に、イソフタル酸５〜１００モル％及びテレフタル酸０〜９５モル％からの混合物、殊にテレフタル酸約８０％とイソフタル酸２０％との混合物からこの双方の酸のほぼ当量までの混合物が使用される。

芳香族ジヒドロキシ化合物は、有利に、一般式（Ｉ）：

［式中、ＺはＣ−原子８までを有するアルキレン−又はシクロアルキレン基、Ｃ−原子１２までを有するアリーレン基、カルボニル基、スルホニル基、酸素−又は硫黄原子又は化学結合を表し、ｍは０〜２の値を有する］を有する。化合物（Ｉ）は、フェニレン基上に置換基としてのＣ_１〜Ｃ_６−アルキル−又はアルコキシ基及びフッ素、塩素又は臭素を有することができる。

これら化合物の母体としては、例えば次のものが挙げられる：
ジヒドロキシジフェニル、
ジ−（ヒドロキシフェニル）アルカン、
ジ−（ヒドロキシフェニル）シクロアルカン、
ジ−（ヒドロキシフェニル）スルフィド、
ジ−（ヒドロキシフェニル）エーテル、
ジ−（ヒドロキシフェニル）ケトン、
ジ−（ヒドロキシフェニル）スルホキシド、
α，α’−ジ−（ヒドロキシフェニル）−ジアルキルベンゼン、
ジ−（ヒドロキシフェニル）スルホン、ジ−（ヒドロキシベンゾイル）ベンゼン、レゾルシン及びヒドロキノン並びにそれらの核アルキル化又は核ハロゲン化された誘導体。

それらの内、次のものが有利である：
４−ジヒドロキシビフェニル、
２，４−ジ−（４’−ヒドロキシビフェニル）−２−メチルブタン、
α，α’−ジ（３’−メチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロパン及び
２，２−ジ−（３’−クロロ−４’−ヒドロキシフェニル）プロパン、
並びに殊に
２，２−ジ−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ジ−（３’，５−ジクロロジヒドロキシフェニル）プロパン、
１，１−ジ−（４’−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、
３，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン及び
２，２−ジ−（３’，５’−ジメチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロパン及びこれらの混合物。

勿論、ポリアルキレンテレフタレートと完全芳香族ポリエステルとの混合物も使用できる。これらは一般に、ポリアルキレンテレフタレート２０〜９８質量％及び完全芳香族ポリエステル２〜８０質量％を含有する。

本発明の意味でのポリエステルには、芳香族ジヒドロキシ化合物、殊にビス−（４−ヒドロキシフェニル）２，２’−プロパン（ビスフェノールＡ）又はその誘導体と例えばホスゲンとの重合により得られるポリカーボネートも包含される。相応する生成物は、自体公知であり、文献中に記載されており、並びに大部分は市場でも入手可能である。このポリカーボネートの量は、成分（Ａ）１００質量％に対して９０質量％まで、有利に５０質量％までである。

勿論、ポリエステルブロックコポリマー、例えばコポリエーテルエステルも使用できる。このような生成物は自体公知であり、文献中に、例えばＵＳ−Ａ３６５１０１４中にも記載されている。市場でも相応する生成物、例えば、ハイトレル（Hytrel)^（Ｒ）(Du Pont）が得られる。

成分B）として、本発明の熱可塑性成形材料は、防炎剤としてのメラミンシアヌレート３〜１５、有利に３〜１０、殊に３〜６質量％を含有する。

本発明により使用されるメラミンシアヌレート（成分B)は、有利に当モル量のメラミン（式I)とシアヌル酸又はイソシアヌル酸（式（ＩＩａ）及び（ＩＩｂ））とからの反応生成物である。

これは、例えば、９０〜１００℃での出発化合物の水溶液の反応により得られる。市場で得られる製品は、１．５〜７μｍの平均粒径ｄ_５０を有する白色粉末である。

本発明の成形材料中には、好適な防炎剤Ｃ）が、成分Ａ）〜Ｅ）の合計質量に対して３〜１５、有利に３〜１０、殊に有利に３〜６質量％の量で含有されている。

成分Ｃ）とは、その中の燐が価電子状態−３〜＋５を有する、有機及び／又は無機の燐含有化合物である。価電子状態とは、Lesebuch der Anorganischen Chemie von A．F．Holleｍan und Ｅ．Wiberg，Walter des Gruyter und Co．（1964,57,bis 70.Auflage）、166~177頁中に記載されているような概念「酸化状態」と理解される。価電子状態−３〜＋５の燐化合物は、ホスフィン（−３）、ジホスフィン（−２）、ホスフィンオキシド（−１）、燐元素（＋０）、ハイポホスファイト（＋３）、ハイポジホスフェート（＋４）及び燐酸（＋５）から誘導される。

多くの燐含有化合物から、いくつかの例のみを挙げる。

価電子状態−３を有するホスフィン−群の燐化合物の例は、芳香族ホスフィン、例えばトリフェニルホスフィン、トリトリルホスフィン、トリオニルホスフィン、トリナフチルホスフィン等である。トリフェニルホスフィンが特に好適である。

価電子状態−２を有するジホスフィン群の燐化合物の例は、テトラフェニルジホスフィン、テトラナフチルジホスフィン等である。テトラナフチルジホスフィンが特に好適である。価電子状態−１の燐化合物は、ホスフィンオキシドから誘導される。

一般式：

［式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は同一又は異なるもので、Ｃ−原子８〜４０を有するアルキル−、アリール−、アルキルアリール−又はシクロアルキル基である］のホスフィンオキシドが好適である。

ホスフィンオキシドの例は次のものである：トリフェニルホスフィンオキシド、トリトリルホスフィンオキシド、トリスノニルフェニルホスフィンオキシド、トリシクロヘキシルホスフィンオキシド、トリス−（ｎ−ブチル）−ホスフィンオキシド、トリス−（ｎ−ヘキシル）−ホスフィンオキシド、トリス−（ｎ−オクチル）−ホスフィンオキシド、トリス−（シアノエチル）−ホスフィンオキシド、ベンジルビスー（シクロヘキシル）−ホスフィンオキシド、ベンジルビスフェニルホスフィンオキシド、トリシクロヘキシルホスフィンオキシド及びトリス−（ｎ−オクチル）−ホスフィンオキシド。

トリフェニルホスフィンスルフィド及び前記ホスフィンオキシドの誘導体のようなそれも同様に好適である。

価電子状態±０の燐は、燐元素である。赤燐及び黒燐もこれに該当する。赤燐が有利である。

酸化状態＋１の燐化合物は、例えばハイポホスファイトである。これらは塩の特徴を有するか又は純粋に有機特性を有することができる。例は、次亜燐酸カルシウム及び次亜燐酸マグネシウム、更に二重ハイポホスファイト（Doppelhypophosphite）又は錯ハイポホスファイト又は有機ハイポホスファイト、例えばセルロース次亜燐酸エステル、次亜燐酸とジオール、例えば１，１０−ドデシルジオールとのエステルである。置換されたホスフィン酸及びその無水物、例えばジフェニルホスフィン酸も使用できる。更に、ジ−ｐ−トリルホスフィン酸、ジ−クレジルホスフィン酸アンヒドリドも使用できる。しかしながら、ヒドロキノン−、エチレングリコール−、プロピレングリコール−ビス（ジフェニルホスフィン酸）エステルのような化合物等も使用できる。更に、アリール（アルキル）ホスフィン酸アミド、例えばジフェニルホスフィン酸−ジメチルアミド及びスルホンアミドアリール（アルキル）−ホスフィン酸誘導体、例えばｐ−トリルスルホンアミドジフェニルホスフィン酸も好適である。ヒドロキノン−及びエチレングリコール−ビス−（ジフェニルホスフィン酸）エステル及びヒドロキノンのビスフェニルホスフィネートが有利に使用される。

酸化状態＋３の燐化合物は、亜燐酸から誘導される。ペンタエリスリット、ネオペンチルグリコール又はブレンツカテキンから誘導される環状ホスホネートが好適である。更に、価電子状態＋３の燐は、トリアリール（アルキル）ホスファイト、例えばトリフェニルホスファイト、トリス（４−デシルフェニル）−ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト又はフェニルジデシルホスファイト等中に含有されている。ジホスファイト、例えばプロピレングリコール−１，２−ビス（ジホスファイト）又はペンタエリスリット、ネオペンチルグリコール又はブレンツカテキンから誘導される環状ホスファイトも使用される。

メチルネオペンチルグリコールホスホネート及び−ホスファイト並びにジメチルペンタエリスリットジホスホネート及び−ホスファイトが特に有利である。

酸化状態＋４の燐化合物としては、特にハイポジホスフェート、例えばテトラフェニルハイポジホスフェート又はビスネオペンチルハイポジホスフェートがこれに該当する。

酸化状態＋５の燐化合物としては、特にアルキル−及びアリール置換されたホスフェートがこれに該当する。例は、フェニルビスドデシルホスフェート、フェニルエチルヒドロゲンホスフェート、フェニル−ビス（３，５，５−トリメチルヘキシル）ホスフェート、エチルジフェニルホスフェート、２−エチルヘキシルジ（トリル）ホスフェート、ジフェニルヒドロゲンホスフェート、ビス（２−エチルヘキシル）−ｐ−トリルホスフェート、トリトリルホスフェート、ビス（２−エチルヘキシル）フェニルホスフェート、ジ（ノニル）フェニルホスフェート、フェニルメチルヒドロゲンホスフェート、ジ（ドデシル）−ｐ−トリル−ホスフェート、ｐ−トリル−ビス（２，５，５−トリメチルヘキシル）ホスフェート又は２−エチルヘキシルジフェニルホスフェートである。各々の基が１個のアリールオキシ基である燐化合物が特に好適である。

特に燐酸トリフェニル及びレゾルシノール−ビス−（ジフェニルホスフェート）及び次の一般式のその核置換誘導体：

［式中、置換基は次のものを表す：
Ｒ^４、Ｒ^７は、Ｃ−原子６〜２０を有する芳香族基、有利に、Ｃ−原子１〜４を有するアルキル基、有利にメチルで置換されていてよいフェニル基、
Ｒ^８は、２価のフェノール、有利に、

かつ、ｎ＝１〜１００、有利に１〜５］が好適である。

この関係で、式：

［式中、Ｒ^１〜Ｒ^２０は、相互に無関係に、水素、Ｃ−原子６までの直鎖又は分枝鎖のアルキル基を表し、ｎは０．５〜５０の平均値であり、
Ｂは、それぞれ、Ｃ_１〜Ｃ_１２−アルキル、有利にメチル又はハロゲン、有利に塩素又は臭素を表し、ｑはそれぞれ相互に無関係に０、１又は２であり、
Ｘは、単結合、Ｃ＝Ｏ、Ｓ、Ｏ、ＳＯ_２、Ｃ（ＣＨ_３）_２、Ｃ_１〜Ｃ_５−アルキレン、Ｃ_２〜Ｃ_５−アルキリデン、Ｃ_５〜Ｃ_６−シクロアルキリデン、Ｃ_６〜Ｃ_１２−アリーレン（これに、更に場合によりヘテロ原子を有する芳香環が縮合されていてよい）、又は式（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）：

（式中、Ｙは炭素を表し、Ｒ^２１及びＲ^２２は、各Ｙに対して独立して選択可能で、相互に無関係に、水素又はＣ_１〜Ｃ_６−アルキル、有利に水素、メチル又はエチルを表し、ｍは４〜７の整数、有利に、４又は５である、但し、少なくとも１個の原子Ｙ上のＲ^２１とＲ^２２は同時にアルキルであることを前提とする）の基を表す］の燐化合物が全く特別に好適である。

式中のＲ^１〜Ｒ^２０が相互に無関係に水素又はメチル基を表し、ｑ＝０であるような式（Ｉ）の燐化合物が有利である。殊に、式中のＸがＳＯ_２、Ｏ、Ｓ、Ｃ＝Ｏ、Ｃ_２〜Ｃ_５−アルキリデン、Ｃ_５〜Ｃ_６−シクロアルキリデン又はＣ_６〜Ｃ_１２−アリーレンを表す化合物が有利である。ＸがＣ（ＣＨ_３）_２である化合物が全く特別に有利である。

オリゴマー化度ｎが、記載の燐含有化合物の製造法から平均値として得られる。この場合に、オリゴマー化度は、通常、ｎ＜１０である。ｎ＝０．５〜５、特に有利に０．７〜２．５を有する化合物が有利である。ｎ＝１を有する分子の割合が６０％〜１００％、有利に７０〜１００％、特に有利に７９％〜１００％の高割合を有する化合物が全く特別に有利である。製造限定的に、前記の化合物は少量の燐酸トリフェニルを含有することもできる。この物質の量は、大抵は５質量％を下回り、この際、本発明の関係では、その燐酸トリフェニル含有率が、式（Ｉ）の使用化合物に対して０〜５％、有利に０〜４％、特に有利に０〜２．５％の範囲にある化合物が有利である。

式（Ｉ）の燐化合物は公知である（例えばＥＰ−Ａ３６３６０８、ＥＰ−Ａ６４０６５５）か、又は公知方法に類似の方法で製造することができる（例えばUllmanns Encyklopaedie der technischen Chemie，Bd.18，S．301ff．1979；Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie，Bd. 12/1, S. 43;Beilstein Bd. 6, S. 177参照）。

本発明の範囲内で全く特別に有利なビスフェノール−Ａ−ジホスフェート（ビスフェノール−Ａ−ビス−ジフェニルホスフェート又はテトラフェニル−ビスフェノール−Ａ−ジホスフェート、ＢＤＰとも称される）は、市場で特にフィロフレックスＢＤＰ（Fyroflex BDP： Fa.Akzo Nobel Chemicals BV，Amersfoort,Holland）、Ｎｃｅｎｄｘ Ｐ−３０（Fa.Albemarle,Baton Rouge,Louisiana, USA）、レオフォス ＢＡＰＰ（Reofos BAPP：Fa.Great Lakes, West Lafayette, Indiana, USA）又はＣＲ ７４１（Fa. Daihachi, Osaka, Japan）として入手可能である。

更に、環状ホスフェートも使用できる。この場合に、ジフェニルペンタエリスリットホスフェート及びフェニルネオペンチルホスフェートが特に好適である。

前記の低分子量燐化合物以外に、なお、オリゴマー又はポリマー燐化合物も使用される。

このようなポリマー鎖中に燐を有するハロゲン不含の有機ポリマー燐化合物は、例えばＤＥ−Ａ２０３６１７３に記載のような、５環状の不飽和ホスフィンジハロゲニドの製造の際に生じる。ジメチルホルムアミド中での蒸気圧浸透圧法で測定されるこのポリホスホリンオキシドの分子量は、５００〜７０００の範囲内、有利に７００〜２０００の範囲内にあるべきである。

この場合に、燐は酸化状態−１を有する。

更に、アリール（アルキル）−ホスフィン酸の無機配位ポリマー、例えばポリ−β−ナトリウム（Ｉ）−メチルフェニルホスフィネートを使用することができる。その製造は、ＤＥ−Ａ３１４０５２０中に記載されている。この燐は酸化数＋１を有する。

更に、このようなハロゲン不含のポリマー燐化合物は、ホスホン酸クロリド、例えばフェニル−、メチル−、プロピル−、スチリル−及びビニルホスホン酸ジクロリドと２官能性フェノール、例えばヒドロキノン、レゾルシン、２，３，５−トリメチルヒドロキノン、ビスフェノール−Ａ、テトラメチルビスフェノール−Ａとの反応により生じることができる。

本発明の成形材料中に含有されうる他のハロゲン不含のポリマー燐化合物は、オキシ塩化燐又は燐酸エステルジクロリドと１−、２−又は３価のフェノール及び他のヒドロキシル基を有する化合物の混合物との反応により製造される（Houben-Weyl-Mueller, Thime-Verlaｇ Stuttgart, Organische Phosphorverbindungen Teil II(1963)参照)。更に、ポリマーホスホネートは、ホスホン酸エステルと２価のフェノールとのエステル交換反応（DE-A2925208参照）又はホスホン酸エステルとジアミン又はジアミド又はヒドラジドとの反応（US-A 4403075 参照）により製造することができる。しかしながら、無機のポリ（燐酸アンモニウム）も使用できる。

ＥＰ−Ｂ８４８６によるオリゴマーペンタエリスリットホスファイト、−ホスフェート及び−ホスホネート、例えばモービル アンチブレーズ^（Ｒ） 19（Mobil Antiblaze ^（Ｒ） 19：Fa.Mobil Oilの登録商標）も使用できる。

成分Ｄ）として、本発明の成形材料は、Ｃ−原子１０〜４０、有利に１６〜２２を有する飽和又は不飽和の脂肪族カルボン酸とＣ−原子２〜４０、有利に２〜６を有する脂肪族飽和アルコール又はアミンとのエステル又はアミド少なくとも１種０．０１〜５、有利に０．０５〜３及び殊に０．１〜２質量％を含有する。

カルボン酸は、１価又は２価であってよい。例として、ペラルゴン酸、パルミチン酸、ラウリン酸、マーガリン酸、ドデカンジ酸、ベヘン酸及び特に有利にステアリン酸、カプリン酸並びにモンタン酸（Ｃ−原子３０〜４０を有する脂肪酸の混合物）が挙げられる。

脂肪族アルコールは、１〜４−価であってよい。アルコールの例は、ｎ−ブタノール、ｎ−オクタノール、ステアリルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンタルグリコール、ペンタエリスリットであり、この際、グリセリン及びペンタエリスリットが有利である。

脂肪族アミンは、１〜３−価であってよい。この例は、ステアリルアミン、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジ（６−アミノヘキシル）−アミンであり、この際、エチレンジアミン及びヘキサメチレンジアミンが特に有利である。有利なエステル又はアミドは、相応してグリセリンジステアレート、グリセリントリステアレート、エチレンジアミンジステアレート、グリセリンモノパルミテート、グリセリントリラウレート、グリセリンモノベヘネート及びペンタエリスリットテトラステアレートである。

種々のエステル又はアミドの又はエステルとアミドとの混合物も組み合わせて使用することができ、この際、混合比は任意である。

本発明の成形材料は、成分Ｅ）として、次の群から選択される慣用の添加剤及び慣用の加工助剤を０〜１０、殊に０〜５、全く特別有利に０〜３質量％を含有する：
安定剤、酸化抑制剤、熱分解及び紫外線による分解を妨げる薬剤、滑剤及び離型剤、ゴム弾性ポリマー（耐衝撃性改良剤とも称される）、着色剤、有利に染料及び顔料、成核剤、可塑剤。

成分Ｅとは、強化物質とは理解されない一般のガラス繊維、ガラス球及び更にガラス、炭素繊維、非晶質珪酸、アスベスト、炭酸マグネシウム、ケイ灰石、カオリン、チョーク、雲母、硫酸バリウム及び長石類からの繊維状又は粒状の強化性充填剤である。

慣用の添加物質Ｅ）は、例えばゴム弾性ポリマー（屡々耐衝撃性改良剤、エラストマー又はゴムとも称される）である。

全く一般的に、これは、有利に次のモノマー少なくとも２種から構成されているコポリマーである：エチレン、プロピレン、ブタジエン、イソブテン、イソプレン、クロロプレン、酢酸ビニル、スチレン、アクリロニトリル及びアルコール成分中にＣ−原子１〜１８を有するアクリル−又はメタクリル酸エステル。

このようなポリマーは、例えば、Houben-Weyl, Methoden der organischen Chemie,Bd. 14/1(Georg-Thieme-Verlag, Stuttgart, 1961)３９２〜４０６頁及びC.B.Bucknallの論文”Toughened Plastics ”(Science Publishers, London, 1977提供）に記載されている。

次に、このようなエラストマーの有利ないくつかの種類を挙げる。

このようなエラストマーの有利な種類は、いわゆるエチレン−プロピレン（ＥＰＭ）又はエチレン−プロピレン−ジエン−（ＥＰＤＭ）−ゴムである。

一般に、ＥＰＭ−ゴムは実質的に二重結合を有しないが、ＥＰＤＭ−ゴムは、C−原子１００個当たり二重結合１〜２０個を有することができる。

ＥＰＤＭ−ゴム用のジエン−モノマーとしては、例えば共役ジエン、例えばイソプレン及びブタジエン、Ｃ−原子５〜２５を有する非共役ジエン、例えばペンタ−１，４−ジエン、ヘキサ−１，４−ジエン、ヘキサ−１，５−ジエン、２，５−ジメチルヘキサ−１，５−ジエン及び−オクタ−１，４−ジエン、環状ジエン、例えばシクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロオクタジエン及びジシクロペンタジエン並びにアルケニルノルボルネン、例えば５−エチリデン−２−ノルボルネン、５−ブチリデン−２−ノルボルネン、２−メタリル−５−ノルボルネン、２−イソプロペニル−５−ノルボルネン及びトリシクロジエン、例えば３−メチル−トリシクロ（５．２．１．０．２．６）−３，８−デカジエン又はこれらの混合物が挙げられる。ヘキサ−１，５−ジエン、５−エチリデンノルボルネン及びジシクロペンタジエンが有利である。ＥＰＤＭ−ゴムのジエン含有率は、ゴムの全質量に対して０．５〜５０、殊に１〜８質量％であるのが有利である。

ＥＰＭ−又はＥＰＤＭ−ゴムは、有利に反応性カルボン酸又はその誘導体とグラフトされていてもよい。ここでは、例えばアクリル酸、メタクリル酸及びそれらの誘導体、例えばグリシジル（メタ）アクリレート並びに無水マレイン酸が挙げられる。

有利なゴムのもう一つの群は、エチレンとアクリル酸及び／又はメタクリル酸及び／又はこれらの酸のエステルとのコポリマーである。加えて、このゴムはなおジカルボン酸、例えばマレイン酸及びフマル酸又はこれらの酸の誘導体、例えばエステル及び無水物及び／又はエポキシ基含有モノマーを含有することもできる。これらジカルボン酸誘導体又はエポキシ基含有モノマーは、有利に、モノマー混合物へのジカルボン酸−又はエポキシ基を含有する一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）のモノマーの添加により、ゴム中へ取り込まれる：

［式中、Ｒ^１〜Ｒ^９は、水素又はＣ−原子１〜６を有するアルキル基を表し、ｍは０〜２０の整数であり、ｇは０〜１０の整数であり、ｐは０〜５の整数である］。

基Ｒ^１〜Ｒ^９が水素を表す（この際、ｍは０又は１であり、ｇは１である）のが有利である。相応する化合物は、マレイン酸、フマル酸、無水マレイン酸、アリルグリシジルエーテル及びビニルグリシジルエーテルである。

式（Ｉ）、（ＩＩ）及び（ＩＶ）の有利な化合物は、マレイン酸、無水マレイン酸及びアクリル酸及び／又はメタクリル酸のエポキシ基含有エステル、例えばグリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート及び３級アルコールとのエステル、例えばｔ−ブチルアクリレートである。後者は、遊離のカルボキシル基を有しないが、その特性において遊離の酸のそれに類似し、従ってこれらは潜カルボキシル基を有するモノマーと称される。

有利に、このコポリマーは、エチレン５０〜９８質量％、エポキシ基含有モノマー及び／又はメタクリル酸及び／又は無水酸基含有モノマー０．１〜２０質量％並びに残りの量の（メタ）アクリル酸エステルから成る。

次の成分：
エチレン ５０〜９８、殊に５５〜９５質量％、
グリシジルアクリレート及び／又はグリシジルメタクリレート、（メタ）アクリル酸及び／又は無水マレイン酸 ０．１〜４０、殊に０．３〜２０質量％ 及び
ｎ−ブチルアクリレート及び／又は２−エチルヘキシルアクリレート １〜４５、殊に１０〜４０質量％
からのコポリマーが特に有利である。

アクリル−及び／又はメタクリル酸の更に有利なエステルは、メチル−、エチル−、プロピル−及びｉ−又はｔ−ブチルエステルである。

更に、ビニルエステル及びビニルエーテルもコモノマーとして使用することができる。

前記のエチレンコポリマーは、自体公知の方法で、有利に高い圧力及び高い温度でのランダム共重合により製造することができる。相応する方法は、一般に公知である。

その製造が例えばBlackleyによる論文”Emulsion Polymerization ”に記載されているエマルジヨンポリマーも有利なエラストマーである。使用可能な乳化剤及び触媒も自体公知である。

原則的に、均一構成のエラストマー又はシェル構造を有するものも使用することができる。このシェル形構造は、個々のモノマーの添加順序により決定され；ポリマーの形態も、この添加順序によって影響される。

ここで、単に代表的にエラストマーのゴム部材の製造のためのモノマーとして、アクリレート、例えばｎ−ブチルアクリレート及び２−エチルヘキシルアクリレート、相応するメタクリレート、ブタジエン及びイソプレン並びにそれらの混合物が挙げられる。これらのモノマーは、他のモノマー、例えばスチレン、アクリロニトリル、ビニルエーテル及び更なるアクリレート又はメタクリレート、例えばメチルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート及びプロピルアクリレートと共重合することができる。

エラストマーの柔軟相又はゴム相（０℃を下回るガラス転移温度を有する）が、核、外皮又は中間シェル（二層より多いシェル構造を有するエラストマーにおいて）を構成することができ；多層シェルエラストマーでは、複数のシェルがゴム相から成ることができる。

ゴム相と並んでなお１以上の硬質成分（２０℃より高いガラス転移温度を有する）がエラストマーの構成に関与している場合には、これらは一般に、主モノマーとしてのスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル、例えばメチルアクリレート、エチルアクリレート及びメチルメタクレートの重合によって製造される。更に、ここでは少割合の他のコモノマーも使用できる。

いくつかの場合に、表面上に反応性基を有するエマルジヨンポリマーを使用することが有利であることが判明した。このような基は、例えば次のものである：エポキシ−、カルボキシル−、潜カルボキシル−、アミノ−又はアミド基並びに一般式：

［式中、置換基は次の定義を有することができる：
Ｒ^１０は、水素又はＣ_１〜Ｃ_４−アルキル基、
Ｒ^１１は、水素、Ｃ_１〜Ｃ_８−アルキル基又はアリール基、殊にフェニル、
Ｒ^１２は、水素、Ｃ_１〜Ｃ_１０−アルキル−、Ｃ_６〜Ｃ_１２−アリール基又は−ＯＲ^１３、
Ｒ^１３は、場合によりＯ−又はＮ−含有基で置換されていてよいＣ_１〜Ｃ_８−アルキル−又はＣ_６〜Ｃ_１２−アリール基、
Ｘは、化学結合、Ｃ_１〜Ｃ_１０−アルキレン−又はＣ_６〜Ｃ_１２−アリーレン基又は

Ｙは、Ｏ−Ｚ又はＮＨ−Ｚ 及び
Ｚは、Ｃ_１〜Ｃ_１０−アルキレン−又はＣ_６〜Ｃ_１２−アリーレン基］のモノマーの共用によって導入することができる官能性基。

Ｐ−Ａ２０８１８７に記載のグラフトモノマーも、表面上の反応性基の導入のために好適である。

更なる例として、なお、アクリルアミド、メタクリルアミド及びアクリル酸又はメタクリル酸の置換されたエステル、例えば（Ｎ−ｔ−ブチルアミノ）−エチルメタクリレート、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチルアクリレート、（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−メチルアクリレート及び（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチルアクリレートが挙げられる。

更に、ゴム相の粒子は架橋されていてもよい。架橋剤として作用するモノマーは、例えばブタ−１，３−ジエン、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート及びジヒドロジシクロペンタジエニルアクリレート並びにＥＰ−Ａ５０２６５に記載の化合物である。

更に、いわゆるグラフト架橋性モノマー（グラフト結合するモノマー）、即ち重合時に異なる速度で反応する２個以上の重合可能な二重結合を有するモノマーを使用することもできる。その中の少なくとも１つの反応性基が残りモノマーとほぼ同じ速度で重合するが、他の反応性基（又は複数の反応性基）は例えば明らかによりゆっくり重合するような化合物を使用するのが有利である。異なる重合速度は、結果としてゴム中に一定割合の不飽和二重結合をもたらす。引き続きこのようなゴム上に更なるもう一相がグラフトされる場合には、ゴム中に存在する二重結合が少なくとも部分的に化学結合の形成下にグラフトモノマーと反応される、即ちグラフトされた相が少なくとも部分的に化学結合を介してグラフトベースと結合される。

このようなグラフト架橋性のモノマーの例は、アリル基含有モノマー、殊にエチレン系不飽和カルボン酸のアリルエステル、例えばアリルアクリレート、アリルメタクリレート、ジアリルマレエート、ジアリルフマレート、ジアリルイタコネート又はこれらジカルボン酸の相応するモノアリル化合物である。更に、多くの他の好適なグラフト架橋性モノマーが存在し、ここで、その詳細に関しては、例えばＵＳ−Ａ４１４８８４６に記載されている。

一般に、耐衝撃性改良性ポリマー中のこれら架橋性モノマーの割合は、耐衝撃性改良性ポリマーに対して５質量％までであり、有利に３質量％を超えない。

次に、有利ないくつかのエマルジヨンポリマーを挙げる。ここでは、先ず、次の構造を有する一つのコア及び少なくとも一つの外シェルを有するグラフトポリマーが挙げられる：

これらのグラフトポリマー、殊にＡＢＳ−及び／又はＡＳＡ−ポリマーを、４０質量％までの量で、有利にＰＢＴの耐衝撃性改良のために、場合によっては４０質量％までのポリエチレンテレフタレートと混合して使用することができる。相応するブレンド−製品は、ウルトラジュール^（Ｒ）Ｓ（Ultradur^（Ｒ）S：以前にはBASF AG のUltrablend^（Ｒ）S）なる商品名で入手可能である。ポリカーボネートとのＡＢＳ／ＡＳＡ−混合物がタールベンド^（Ｒ）（Terlbend^（Ｒ）：BASF AG ）なる商品名で市場で得られる。

多シェル構造を有するグラフトポリマーの代わりに、均一の、即ちブタ−１，３−ジエン、イソプレン及びｎ−ブチルアクリレート又はこれらコポリマーからの単一シェルエラストマーを使用することもできる。この生成物も架橋性モノマー又は反応性基を有するモノマーの共用によって製造することができる。

有利なエマルジヨンポリマーの例は、ｎ−ブチルアクリレート／（メタ）アクリル酸−コポリマー、ｎ−ブチルアクリレート／グリシジルアクリレート−又はｎ−ブチルアクリレート／グリシジルメタクリレート−コポリマー、ｎ−ブチルアクリレートからの又はブタンジエンベースの内核及び前記のコポリマー又はエチレンと反応性基を生じるコモノマーとのコポリマーからの外皮を有するグラフトポリマーである。

記載のエラストマーは、他の慣用法で、例えば懸濁重合によって製造することもできる。

ＤＥ−Ａ３７２５５７６、ＥＰ−Ａ２３５６９０、ＤＥ−Ａ３８００６０３及びＥＰ−Ａ３１９２９０に記載されているようなシリコーンゴムも同様に有利である。

勿論、前記のタイプのゴムの混合物も使用することができる。

酸化抑制剤及び熱安定剤の例としては、立体障害されたフェノール及び／又はホスファイト、ヒドロキノン、芳香族２級アミン、例えばジフェニルアミン、これらの群の種々の置換された代表及びそれらの混合物が、熱可塑性成形材料の質量に対して１質量％までの濃度で挙げられる。

一般に成形材料に対して２質量％までの量で使用されるＵＶ−安定剤としては、種々の置換されたレゾルシン、サリチル酸塩、ベンゾトリアゾール及びベンゾフェノンが挙げられる。

安定剤には、安定化作用をする金属塩、金属化合物も挙げられ、この際、金属酸化物、−硫化物、−硼酸塩、殊に酸化亜鉛、硫化亜鉛、硼酸亜鉛並びにランタニドの酸化物が有利である。

無機顔料、例えば二酸化チタン、群青、酸化鉄及びカーボンブラック、更に有機顔料、例えばフタロシアニン、キナクリドン、ペリレン並びに染料、例えばニグロシン及びアントラキノンを着色剤として添加することができる。

成核剤としては、全成形材料に対して≦１質量％、有利に≦０．５質量％、特に有利に≦０．３質量％の量の慣用の成核剤が使用され、この際、フェニルホスフィン酸ナトリウム、酸化アルミニウム、二酸化珪素並びにタルクが有利である。

通常１質量％までの量で使用される滑剤及び離型剤は、有利に長鎖脂肪酸（例えばステアリン酸又はベヘン酸）、それらの塩（例えばＣａ−又はＺｎ−ステアリン酸塩）並びにアミド誘導体（例えばエチレン−ビス−ステアリルアミド）又はモンタンワックス（Ｃ−原子２８〜３２の鎖長を有する直鎖飽和カルボン酸の混合物）並びに低分子量のポリエチレン−又はポリプロピレンワックスである。

可塑剤の例としては、フタル酸ジオクチルエステル、フタル酸ジベンジルエステル、フタル酸ブチルベンジルエステル、炭化水素油、Ｎ−（ｎ−ブチル）ベンゼンスルホンアミドが挙げられる。

その例は、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン−コポリマー又は少割合の（通常５０質量％までの）共重合可能なエチレン系不飽和モノマーを有するテトラフルオロエチレン−コポリマーである。これらは、例えばSchildknechtにより”Vinyl and Related Polymers”,Wiley-Verlag, 1952, 484〜494頁に、かつWallにより”Fluorpolymers”（Wiley Interscience, 1972）に記載されている。

これらのフッ素含有エチレンポリマーは、成形材料中に均質に分散されて存在し、有利には０．０５〜１０μｍ、殊に０．１〜５μｍの範囲内の粒径ｄ_５０（数平均値）を有する。これらの小さい粒径は、フッ素含有エチレンポリマーの水性分散液の使用及びポリエステル融液中への導入によって特に有利に達成することができる。

本発明による熱可塑性成形材料は、自体公知の方法で製造することができ、この際、出発成分を、慣用の混合装置、例えばスクリュ押出し機、ブラベンダーミル又はバンバリーミル中で混合し、引き続き押出し成形する。この押出し成形の後に、この押出し成形物を冷却し、微粉砕することができる。個々の成分を予め混合し、次いで残りの出発物質を個々に及び／又は混合して添加することもできる。通常、混合温度は、２３０〜２９０℃である。

他のもう一つの操作法により、成分Ｂ）〜Ｄ）並びに場合によっては慣用の添加物質Ｅ）をポリエステルプレポリマーと混合し、配合し、かつ造粒させることができる。得られる顆粒を、引き続き固相で不活性ガス下に連続的に又は断続的に、成分Ａ）の融点を下回る温度で、所望の粘度が得られるまで縮合させる。

本発明による熱可塑性成形材料は、良好な機械特性及び同時に行われる白熱線試験の場合の良好な防炎特性によって優れている。加工処理は、充分にポリマーマトリックスの変化なしに行われ、かつ型付着物は著しく減少される。これは、繊維、シート及び成形体の製造のために、殊に電気−及び電子工学分野での使用において好適である。

成分Ａ： ＰＢＴ Ｐｏｃａｎ^（Ｒ）Ｂ １３００００００００（Fa. Bayer AG, Leverkusen, ドイツ）、
成分Ｂ： メラミンシアヌレート（Ｍｅｌａｐｕｒ^（Ｒ）ＭＣ ２５： Fa. DSM-Melapur, Heerlen, オランダ）、
成分Ｃ／１： ビスフェノール−Ａ−ジホスフェート（Ｒｅｏｆｏｓ^（Ｒ）ＢＡＰＰ：Fa. Great Lakes, West Lafayette, Indiana, USA）、
成分Ｃ／２： 燐酸トリフェニル（Ｄｉｓｆｌａｍｏｌｌ^（Ｒ）ＴＰ：Fa.Bayer AG, Leverkusen, ドイツ）、
成分Ｄ： モンタングリコールワックス（Ｅ−Ｗａｃｈｓ：Fa. Hoechst, Frankfurt a. M., ドイツ）
成分Ｅ／１： 安定剤、ＰＢＴ Ｐｏｃａｎ^（Ｒ）Ｂ １３００００００００中の１０％、
成分Ｅ／２： 成核剤、
成分Ｆ（比較実験）： チョップトグラスファイバー（ＣＳ ７９６２： Fa. Bayer AG, Leverkusen, ドイツ）。

Claims (11)

1. 次の成分：
   Ａ）ポリエステル１種以上 ５５〜９３．９９質量％
   Ｂ）メラミンシアヌレート ３〜１５質量％
   Ｃ）燐含有防炎剤少なくとも１種 ３〜１５質量％
   Ｄ）Ｃ−原子１０〜４０を有する飽和又は不飽和の脂肪族カルボン酸とＣ−原子２〜４０を有する脂肪族飽和アルコール又はアミンとのエステル又はアミド少なくとも１種
   ０．０１〜５質量％
   Ｅ）安定剤、酸化抑制剤、熱分解及び紫外線による分解を妨げる薬剤、滑剤、離型剤、ゴム弾性ポリマー（耐衝撃性改良剤とも称される）、着色剤、有利に染料及び顔料、成核剤、可塑剤の群から選択される加工助剤 ０〜１０質量％
   （ここで、成分Ａ〜Ｅの質量百分率の合計は１００％である）
   から成る、熱可塑性成形材料。
2. 防炎剤Ｃ）として、一般式：
   

   

   ［式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は同一又は異なるもので、Ｃ−原子８〜４０を有するアルキル−、アリール−、アルキルアリール−又はシクロアルキル基を表す］のホスフィンオキシド少なくとも１種を含有する、請求項１に記載の熱可塑性成形材料。
3. 防炎剤Ｃ）として、一般式：
   

   

   ［式中、Ｒ^１〜Ｒ^２０は、相互に無関係に、水素、Ｃ−原子６までを有する直鎖又は分枝鎖のアルキル基を表し、ｎは０．５〜５０の平均値であり、
   Ｂは、それぞれ、Ｃ_１〜Ｃ_１２−アルキル、有利にメチル又はハロゲン、有利に塩素又は臭素を表し、ｑはそれぞれ相互に無関係に０、１又は２であり、
   Ｘは、単結合、Ｃ＝Ｏ、Ｓ、Ｏ、ＳＯ_２、Ｃ（ＣＨ_３）_２、Ｃ_１〜Ｃ_５−アルキレン、Ｃ_２〜Ｃ_５−アルキリデン、Ｃ_５〜Ｃ_６−シクロアルキリデン、Ｃ_６〜Ｃ_１２−アリーレン（これに更に、ヘテロ原子を含有していてよい芳香環が縮合されていてもよい）又は式（ＩＩ）又は（ＩＩＩ）：
   

   

   （ここで、Ｙは、炭素であり、Ｒ^２１及びＲ^２２は、それぞれのＹに対して独立して選択可能であり、相互に無関係に水素又はＣ_１〜Ｃ_６−アルキル、有利に水素、メチル又はエチルであり、ｍは４〜７の整数、有利に４又は５であり、ここで、少なくとも１個の原子Ｙ上のＲ^２１とＲ^２２は、同時にアルキルであることを前提とする）の基を表す］の化合物少なくとも１種を含有する、請求項１に記載の熱可塑性成形材料。
4. 成分Ｃ）は、トリフェニルホスフィンオキシド、トリフェニルホスフィンスルフィド、燐酸トリフェニル、レゾルシノール−ビス（ジフェニルホスフェート）、トリフェニルホスフィン又は全く特別有利にビスフェノール−Ａ−ジホスフェート又はこれらの混合物から構成されている、請求項１から３までのいずれか１項に記載の熱可塑性成形材料。
5. 成分Ｄ）は、ペンタエリスリットテトラステアレート又はエチレングリコールビスモンタノエートである、請求項１から４までのいずれか１項に記載の熱可塑性成形材料。
6. 成分Ａ）は、ポリブチレンテレフタレートから成っている、請求項１から５までのいずれか１項に記載の熱可塑性成形材料。
7. 成分Ａ）は、ポリエチレンテレフタレートとポリブチレンテレフタレートとの混合物から成っている、請求項１から６までのいずれか１項に記載の熱可塑性成形材料。
8. 混合物中のポリエチレンテレフタレートの割合は１０〜３０質量％である、請求項１から７までのいずれか１項に記載の熱可塑性成形材料。
9. ポリエチレンテレフタレートは、０．０１〜０．７％の残留水分含有率を有するリサイクル物から成っている、請求項１から８までのいずれか１項に記載の熱可塑性成形材料。
10. 繊維、シート及び成形体を製造するための、請求項１から９までのいずれか１項に記載の熱可塑性成形材料の使用。
11. 請求項１から９までのいずれか１項に記載の熱可塑性成形材料から得られる成形体、繊維及びシート。