JP2005519299A - 光学画像形成システムのゆがみを測定するモアレ方法及び測定システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 光学画像形成システムの収差を測定するモアレ方法および測定システムにおいて、画像形成システムの物体面上に物体パターンを有する物体格子を配置する。画像形成システムの像面上に像パターンを有する像格子を配置する。物体パターン及び像パターンはそれぞれ、異なった格子特性の小格子を設けた多数のセルを有し、物体パターンを画像形成システムによって像パターン上に投影すると、物体パターンの前記小格子の像が、それぞれ像パターンの対応の小格子に少なくとも部分的に重ね合わされて、それに伴ってモアレ小模様を生じるように、物体パターン及び像パターンを互いに適応させている。モアレ小模様を検出する。モアレ小模様を評価する。
Description
K. Hibino、B.F. Oreb、D.I. Farrant、K.G. Larkin著の"Phase-Shifting Algorithms for Nonlinear and Spatially Nonuniform Phase Shifts(非線形及び空間的不等位相シフト用の位相シフトアルゴリズム)アメリカ光学協会ジャーナルA14(1997年)918頁、
J. Schmit、K. Creath 著 "Window Function Influence on Phase Error on Phase-Shifting Algorithms" (位相シフトアルゴリズムにおける位相誤差に対するウィンドー機能の影響)応用光学35(1996年)5642頁。
2 投影対物レンズ
3 物体格子
4 像格子
5 光学軸
6 照明装置
7 検出装置、結像光学素子
8 結像光学素子
9 二次元検出器
15、16 正方形セル
20 直交寄木状格子
25 寄木状格子
30 六角形寄木状格子
35 変位方向
60 寄木状格子
Claims (33)
- 光学画像形成システムの収差を測定するモアレ方法であって、
画像形成システムの物体面上に物体パターンを有する物体格子を配置することと、
画像形成システムの像面上に像パターンを有する像格子を配置することとを含み、
前記物体パターン及び前記像パターンはそれぞれ、異なった格子特性の小格子を設けた多数のセルを有し、
前記物体パターンを画像形成システムによって前記像パターン上に投影すると、前記物体パターンの前記小格子の像が、それぞれ前記像パターンの対応の小格子に少なくとも部分的に重ね合わされて、それに伴ってモアレ小模様を生じるように、前記物体パターン及び前記像パターンを互いに適応させており、さらに、
モアレ小模様を検出することと、
モアレ小模様を評価することと、
を含む方法。 - モアレ小模様の評価は、
モアレ小模様から第1ゆがみ成分及び少なくとも1つの第2ゆがみ成分を決定するステップを含み、該第1ゆがみ成分は、像面の第1像方向に割り当てられ、前記第2ゆがみ成分は、像面の、前記第1像方向に直角に延びる第2像方向に割り当てられる、請求項1に記載の方法。 - 少なくとも2つの異なった像方向のゆがみ成分は、測定中に同時に決定される、請求項2に記載の方法。
- 画像形成システムの物体面または像面に平行に延びる少なくとも1つの変位方向に前記物体パターン及び前記像パターンを相対的に変位させて、異なった位相角でモアレ小模様を生じることと、
前記モアレ小模様の少なくとも1つの像位置で前記モアレ小模様の強度を局部的に検出して、前記像位置に割り当てられた、時間的に交互する位相シフト信号を決定することと、
を含む、請求項1に記載のモアレ方法。 - 時間的に交互する位相シフト信号の初期位相を決定するステップと、
初期位相に基づいて少なくとも1つのゆがみ成分を決定するステップと、
を含む、請求項4に記載のモアレ方法。 - 前記物体パターン及び前記像パターンはそれぞれ、第1周期性方向の第1小格子を設けた第1セル群と、該第1周期性方向に直角に延びる第2周期性方向の第2小格子を設けた少なくとも1つの第2セル群とを有し、相対変位は、前記第1及び第2周期性方向に直角に延びる変位方向に行われる、請求項4に記載のモアレ方法。
- 前記相対変位は、前記物体格子及び前記像格子の周期性方向の間に対称的に位置しない変位方向に行われる、請求項6に記載のモアレ方法。
- 前記相対変位は、像方向に割り当てられた交互位相シフト信号について異なった周期性長さを生じるように行われる、請求項3に記載のモアレ方法。
- 前記相対変位は、最初は完全に第1変位方向に、その後に完全に前記第1変位方向に直角に延びる第2変位方向に、時間的にずらして行われるか、または、変位方向を何度も交互させる、請求項3に記載のモアレ方法。
- 前記第1変位方向及び前記第2変位方向の前記物体パターン及び前記像パターン間の所定の相対位置を異なった順序で設定し、それにより、相対位置の置換を行なう、請求項3に記載のモアレ方法。
- 1つの像位置に割り当てられた位相シフト信号のフーリエ変換を行なって、第1及び少なくとも1つの第2周期性方向について周波数スペクトルを決定するステップと、
フーリエ空間内で周期性方向の周波数スペクトルを分離するステップと、
周期性方向間のクロストークによって生じる周波数を取り除いて、浄化周波数スペクトルを生成するステップと、
周波数スペクトルからさまざまな周波数方向について初期位相を決定するステップと、を含む、請求項3に記載のモアレ方法。 - 1つの像位置に割り当てられた位相シフト信号のフーリエ変換を行なって、第1及び少なくとも1つの第2周期性方向について周波数スペクトルを決定するステップと、
フーリエ空間内で周期性方向の周波数スペクトルを分離するステップと、
周期性方向間のクロストークによって生じる周波数を取り除いて、浄化周波数スペクトルを生成するステップと、
浄化周波数スペクトルの逆変換を行なって、浄化位相シフト信号を決定するステップと、
逆変換によって得られた浄化位相シフト信号からさまざまな周波数方向について初期位相を決定するステップと、
を含む、請求項3に記載のモアレ方法。 - 横方向間隔が間に存在するセルの領域だけが、モアレ小模様の形成に使用される、請求項1に記載のモアレ方法。
- 横方向間隔が隣接セル間に存在する物体パターン及び/または像パターンが使用される、請求項1に記載のモアレ方法。
- 同一の周期性方向の隣接セルの小格子が互いに対して位相シフトを起こし、それにより、それらが異なった初期位相を有するように形成された物体パターン及び/または像パターンが使用される、請求項1に記載のモアレ方法。
- 少なくとも1つの像方向のモアレ模様全体を同一方向のモアレ小模様から補間するステップと、
前記少なくとも1つのモアレ像全体を光学的に表示するステップと、
を含む、請求項1に記載のモアレ方法。 - 光学画像形成システムの収差をモアレ模様によって測定する測定システムであって、
画像形成システムの物体面上に配置することができ、異なった格子特性の小格子を設けた多数のセルを有する物体パターンを有する物体格子と、
画像形成システムの像面上に配置することができ、異なった格子特性の小格子を設けた多数のセルを有する像パターンを有する像格子とを備えており、
前記物体パターンを画像形成システムによって前記像パターン上に投影すると、前記物体パターンの前記小格子の像が、それぞれ前記像パターンの対応の小格子に重ね合わされて、それに伴ってモアレ小模様を生じるように前記物体パターン及び前記像パターンを互いに適応させており、さらに、
モアレ小模様を生じるために前記物体パターンを前記像パターン上に投影する装置と、
モアレ小模様を検出する装置と、
モアレ小模様を評価する装置と、
を備えた測定システム。 - モアレ小模様を評価する前記装置は、モアレ小模様から第1ゆがみ成分及び少なくとも1つの第2ゆがみ成分を決定する装置を有し、前記第1ゆがみ成分は、像面の第1像方向に割り当てられ、前記第2ゆがみ成分は、像面の、前記第1像方向に直角に延びる第2像方向に割り当てられる、請求項17に記載の測定システム。
- 画像形成システムの物体面及び像面に平行な変位方向に前記物体パターン及び前記像パターンを相対的に変位させる変位装置が設けられている、請求項17に記載の測定システム。
- 前記変位装置は、前記物体パターン及び前記像パターンの第1周期性方向及び第2周期性方向に直角に並べられた変位方向を設定することができるように構成されている、請求項18に記載の測定システム。
- 前記変位装置は、前記物体パターン及び前記像パターンの第1周期性方向及び少なくとも1つの第2周期性方向間に非対称的に位置する変位方向を設定することができるように構成されている、請求項18に記載の測定システム。
- 前記物体格子及び前記像格子は、それぞれ周期性方向が交互に異なった線格子である小格子を設けた多数のセルを有する、請求項17に記載の測定システム。
- 前記物体格子及び前記像格子は、異なった格子周期を有する小格子を設けた多数のセルを有する、請求項17に記載の測定システム。
- 前記物体格子及び前記像格子は、互いに直交する2つの周期性方向を交互に有する小格子を設けた多数のセルを有する、請求項17に記載の測定システム。
- 前記物体格子及び前記像格子は、小格子を設けた多数のセルに細分割され、2つ、3つ、4つ、または6つの異なった周期性方向を有する小格子が設けられる、請求項17に記載の測定システム。
- 前記物体格子及び前記像格子の少なくとも一方が、表面を埋め尽くすように配置された多数のセルを有する、請求項17に記載の測定システム。
- 前記セルは、2つ、3つ、4つまたは6つ折り対称の多角形の形状を有する、請求項17に記載の測定システム。
- 物体パターン及び像パターンの少なくとも一方が、隣接セル間に横方向間隔が存在するようにして設けられている、請求項17に記載の測定システム。
- 物体パターン及び像パターンの少なくとも一方が、同一の周期性方向の隣接セルの小格子が相対的に位相シフトを起こし、それにより、それらが異なった初期位相を有するように形成されている、請求項17に記載の測定システム。
- 光学画像形成システムのゆがみを測定するモアレ方法であって、
画像形成システムの物体面上に物体パターンを有する物体格子を配置することと、
画像形成システムの像面上に像パターンを有する像格子を配置することとを含み、
前記物体パターン及び前記像パターンはそれぞれ、第1周期性方向及び少なくとも1つの第2周期性方向を有する多次元格子を有し、
前記物体パターンを画像形成システムによって前記像パターン上に投影すると、前記物体パターンの像が前記像パターンに少なくとも部分的に重ね合わされて、多次元モアレ模様を生じるように、前記物体パターン及び前記像パターンを互いに適応させており、さらに、
画像形成システムの物体面または像面に平行に延びる少なくとも1つの変位方向に前記物体パターン及び前記像パターンを相対的に変位させて、異なった位相角で多次元モアレ小模様を生じ、前記変位方向は、前記物体格子及び前記像格子の周期性方向間に非対称的に位置することと、
前記モアレ模様の少なくとも1つの像位置で前記モアレ模様の強度を局部的に検出して、前記像位置に割り当てられた、時間的に交互する位相シフト信号を決定することと、
を含む、モアレ方法。 - 前記位相シフト信号から第1ゆがみ成分及び少なくとも1つの第2ゆがみ成分を同時に決定することを含み、前記第1ゆがみ成分は、像面の第1像方向に割り当てられ、前記第2ゆがみ成分は、像面の前記第1像方向に直角に延びる第2像方向に割り当てられる、請求項30に記載のモアレ方法。
- 時間的に交互する位相シフト信号の初期位相を決定することと、
該初期位相に基づいて少なくとも1つのゆがみ成分を決定することと、
を含む、請求項30に記載のモアレ方法。 - 1つの像位置に割り当てられた位相シフト信号のフーリエ変換を行なって、第1及び少なくとも1つの第2周期性方向について周波数スペクトルを決定することと、
フーリエ空間内で周期性方向の周波数スペクトルを分離することと、
周期性方向間のクロストークによって生じた周波数を除去して、浄化周波数スペクトルを生じることと、
浄化周波数スペクトルの逆変換を行なって、浄化位相シフト信号を決定することと、
浄化位相シフト信号を決定することと、
逆変換によって得られた浄化位相シフト信号からさまざまな周期性方向について初期位相を決定することと、
を含む、請求項30に記載のモアレ方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US36255202P | 2002-03-08 | 2002-03-08 | |
PCT/EP2003/002283 WO2003076891A2 (en) | 2002-03-08 | 2003-03-06 | Moiré method and measuring system for measuring the distortion of an optical imaging system |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2005519299A true JP2005519299A (ja) | 2005-06-30 |
Family
ID=27805190
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003575066A Pending JP2005519299A (ja) | 2002-03-08 | 2003-03-06 | 光学画像形成システムのゆがみを測定するモアレ方法及び測定システム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7019824B2 (ja) |
EP (1) | EP1483559A2 (ja) |
JP (1) | JP2005519299A (ja) |
AU (1) | AU2003212309A1 (ja) |
WO (1) | WO2003076891A2 (ja) |
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CN105241637A (zh) * | 2015-09-02 | 2016-01-13 | 天津大学 | 物面倾斜成像系统采样体积的测量方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU2003212309A8 (en) | 2003-09-22 |
US7019824B2 (en) | 2006-03-28 |
AU2003212309A1 (en) | 2003-09-22 |
EP1483559A2 (en) | 2004-12-08 |
WO2003076891A2 (en) | 2003-09-18 |
US20050122506A1 (en) | 2005-06-09 |
WO2003076891A3 (en) | 2004-05-27 |
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A621 | Written request for application examination |
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|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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