JP2005513406A - 光起電装置用ベーキングオーブン - Google Patents

光起電装置用ベーキングオーブン Download PDF

Info

Publication number
JP2005513406A
JP2005513406A JP2003555596A JP2003555596A JP2005513406A JP 2005513406 A JP2005513406 A JP 2005513406A JP 2003555596 A JP2003555596 A JP 2003555596A JP 2003555596 A JP2003555596 A JP 2003555596A JP 2005513406 A JP2005513406 A JP 2005513406A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
baking oven
semiconductor material
oven according
housing
rolls
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2003555596A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4511186B2 (ja
Inventor
マリアーノ ツァルコーネ
アメリゴ ロマニョーリ
Original Assignee
エニテクノロジー、ソシエタ、ペル、アチオニ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by エニテクノロジー、ソシエタ、ペル、アチオニ filed Critical エニテクノロジー、ソシエタ、ペル、アチオニ
Publication of JP2005513406A publication Critical patent/JP2005513406A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4511186B2 publication Critical patent/JP4511186B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67098Apparatus for thermal treatment
    • H01L21/67109Apparatus for thermal treatment mainly by convection

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Tunnel Furnaces (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)
  • Electric Stoves And Ranges (AREA)

Abstract

半導体材料から出発する、光起電装置用ベーキングオーブンについて説明され、そのベーキングオーブンの内部での半導体材料のエントレインメントが、セラミック材料で作られた、自身の軸線を中心に回転する一連のロールによって行われる。

Description

本発明は、半導体材料から出発する、光起電装置用ベーキングオーブンに関し、そのベーキングオーブン内部では、半導体材料のエントレインメント(entrainment)が、自身の軸線を中心に回転するセラミック材料で作られた一連のロールによって行われる。
太陽電池として普通知られている光起電装置の生産には、変化する厚さの半導体材料のスライスを使用することが知られている。
これらの光起電装置の生産は、異なる種類の処理の中で、材料の種々のベーキング工程を有し、そのベーキング工程の機能は、溶液中又はセリグラフペースト中に分散したドーピング要素、又は金属接点を半導体に固定することにある。
これらのベーキング工程を行うために、材料がいかなる中断もなく、挿入され且つ加工される連続炉が使用される。
半導体材料のベーキングオーブンへの導入は、典型的には、間接加熱室の外側で二つのロールによって引かれ、オーブンの中を通るチェーンを使用して行われる。
しかしながら、上述した装置は、種々の欠点をし、最も重要なものは、
(1)チェーンが、通常は、処理された半導体材料中の金属不純物の一部に汚染を生じさせることがある金属材料で作られ、
(2)半導体材料が曝される温度分布が、搬送チェーンに依存することである。チェーンは、一般的に、ベークされるべき半導体材料の温度より高い内部温度を有し、その結果、移動するときに、チェーンにより、かなりの量の熱が運ばれる。
特許出願EP1010960号は、光起電装置用ベーキングオーブンに関し、エントレインメント装置とベーキングオーブンの加熱装置との非相互作用に基づく。特に、ロールは石英で作られ、摩擦により、個別でなく、チェーン又はベルトを介して動かされる。
この特許により作動すると、安定性及び必然的に均一性の問題を引き起こすことがあるランプ加熱によって、ベーク分布が得られ、その上、ロールの動きが個別でないので、エントレインメントが非均一性を受けることがある。その上、半導体の加熱のために選択された放射線を透過する石英ロールは、極めて高価である。
ベーキングオーブンの中での半導体材料の搬送が、シャフト及びベルト駆動装置によりロール自身の軸線を中心に回転するセラミックロールを用いたエントレインメントによって行なわれるベーキングオーブンを使用することによって、上述の欠点を解消することが可能であることが今や分かった。
ロールの製造に使用される高純度セラミック材料は、金属汚染を徹底的に減す。その上、半導体材料を移動させるロールは、それらの位置がベーキングオーブン内に固定され、且つ、運動は、ロール自身の軸線を中心としたロールの回転によって伝達されるので、温度エントレインメント作用が無い。この方法で、もっと大変まともな温度分布を得ることができる。
これにより、本発明の目的は、半導体材料から光起電装置を準備するためのベーキングオーブンに関し、そのベーキングオーブンは、
(a)湾曲した、又は平らな側壁、天井、底、ロールの挿入を可能にする側通路によって構成されたハウジングと、
(b)シャフト及びベルト駆動装置を介して、ロールの同時運動を可能にする電動機と、
(c)ハウジングの内部の温度を一定に保つための装置と、
(d)ベーキング工程中に形成されたガスの除去装置と、を有する。
ハウジングは、好ましくは、セラミック材料からなり、ハウジングの内部の一方のロールと他方のロールとの間の距離は、半導体材料が、その回転移動中、少なくとも三つのロールに載るような距離である。
ベーキングオーブンの製造に使用されたセラミック材料は、焼結シリカ、石英、及び、シリコンと化学的な相互作用のない他の材料の中から選択される。
光起電装置の準備のために使用することができる半導体材料は、厚さ100〜500μのシリコンスライス、又は、厚さが数ミクロンから100ミクロンまで変化する薄膜(フィルム)の半導体材料から選択される。
ベーキングオーブンの加熱を、既知の方法により、電気抵抗体又は赤外線ランプを使用することによって行うことができる。
ベーキングオーブン内部の温度は、典型的には、100℃乃至200℃の範囲である。
図1を参照して、本発明の典型的な実施形態の説明を行う。実施形態は例示であり、実施形態を、本発明の範囲を制限するものとして決して考えるべきではない。
図1は、焼結シリカで作られた、連続した或る数のロール(1)からなるベーキングオーブンを示し、それぞれのロールの同時運動は、シャフト及びベルト駆動装置(13,11)を介して、電動機(16)による。間接加熱室(6)及びその天井(5)も、焼結シリカで作られ、一連の給電される抵抗体(3)によって加熱される。温度は、一定に保たれるように、電子装置で制御される。ベーキングオーブンは、間接加熱室の断熱装置(2)を囲むフレーム(9)を備え、工程煙霧の除去装置(18)を有する。
本発明によるベーキングオーブンを使用して得られたデバイスは、金属汚染が無く、デバイスを、例えば、光電池の生産に使用することができるすばらしい品質を特徴とする。
本発明による装置の機能のより良い例示の例を以下に示す。
焼結シリカで作られた連続した300本のロールからなるエントレインメント装置で、燐タイプの不純物を拡散するためのベーキングオーブンを作った。それぞれのロールの同時運動は、シャフト及びベルト駆動装置(13,11)を介して、電動機(16)による。焼結シリカで作られた間接加熱室(6)が、一連の給電される抵抗体(3)によって加熱される。
温度は、一定値を維持するために、電子装置で制御される。900℃の設定値を選択するとき、観測された変化は0.5℃未満であった。
燐のドーピング剤を堆積させたシリコンスライスを、ベーキングオーブンの中へ通した。通過は約二十分間続いた。
かくして、得られたシリコンスライスは、燐不純物のすばらしい拡散を有し、高品質の光電池の生産に使用することができた。
連続した或る数のロールからなるベーキングオーブンを示す。
符号の説明
1 ロール
2 断熱材
3 抵抗体
4 抵抗体支持体
5 間接加熱室の天井
6 間接加熱室
7 ボールベアリング
8 軸受支持体
9 フレーム
10 シャフト支持体
11 クロスベルト
12 プーリー
13 シャフト
14 ピニオン
15 チェーン
16 電動機
17 クラウン
18 煙突

Claims (7)

  1. 半導体材料から出発する、光起電装置用ベーキングオーブンであって、前記ベーキングオーブンの内部での、前記半導体材料のエントレインメントが、セラミック材料で作られ、自身の軸線を中心に回転する一連のロールによって行われる、ベーキングオーブン。
  2. (a)湾曲した、或いは平らな側壁、天井、底、及びロールの挿入を可能にする横通路によって構成されたハウジングと、
    (b)シャフト及ベルト駆動装置を介して、前記ロールの同時運動を可能にする電動機と、
    (c)前記ハウジング(a)の内部の温度を一定に保つための装置と、
    (d)ハウジング(a)の断熱装置と、
    (e)ベーキング工程中に形成されたガスの除去装置と、を有する請求項1記載のベーキングオーブン。
  3. 前記ハウジング(a)は、セラミック材料からなる間接加熱室である、請求項2記載のベーキングオーブン。
  4. 前記セラミック材料は、焼結シリカ、石英、及び、シリコンと低い化学的相互作用を有する他の材料の中から選択される、請求項1記載のベーキングオーブン。
  5. 一方のロールと他方のロールとの間の距離は、半導体材料が、その回転移動中に、ロールの少なくとも三つに載るような距離である、請求項1記載のベーキングオーブン。
  6. 加熱は、電気抵抗体又は赤外線ランプで行われる、請求項1記載のベーキングオーブン。
  7. 光起電装置の準備に使用することができる半導体材料は、100〜500ミクロンの厚さを有するシリコンスライス、又は、厚さが数ミクロンから100ミクロンまで変化する薄膜(フィルム)の半導体材料から選択される、請求項1記載のベーキングオーブン。
JP2003555596A 2001-12-13 2002-11-27 光起電装置用ベーキングオーブン Expired - Fee Related JP4511186B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
ITMI20012628 ITMI20012628A1 (it) 2001-12-13 2001-12-13 Forno di cottura di dispositivi fotovoltaici
PCT/EP2002/013372 WO2003054975A2 (en) 2001-12-13 2002-11-27 Baking oven for photovoltaic devices

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005513406A true JP2005513406A (ja) 2005-05-12
JP4511186B2 JP4511186B2 (ja) 2010-07-28

Family

ID=11448688

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003555596A Expired - Fee Related JP4511186B2 (ja) 2001-12-13 2002-11-27 光起電装置用ベーキングオーブン

Country Status (6)

Country Link
EP (1) EP1454367A2 (ja)
JP (1) JP4511186B2 (ja)
CN (1) CN100356589C (ja)
AU (1) AU2002358050B2 (ja)
IT (1) ITMI20012628A1 (ja)
WO (1) WO2003054975A2 (ja)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008061537A1 (de) * 2008-12-03 2010-06-10 Aci-Ecotec Gmbh & Co. Kg Aushärtevorrichtung für photovoltaische Dünnschicht-Solarzellen
DE102009019127A1 (de) * 2009-04-29 2011-05-05 Eisenmann Anlagenbau Gmbh & Co. Kg Ofen zur Herstellung von photovoltaischen Dünnschichtzellen
DE102010016512A1 (de) 2010-04-19 2011-10-20 Roth & Rau Ag Mehrtagen-Rollenofen
DE102010016509A1 (de) 2010-04-19 2011-10-20 Roth & Rau Ag Durchlaufanlage sowie Verfahren zum Gasmanagement und zur Temperatursteuerung in einer Durchlaufanlage
DE202010013032U1 (de) * 2010-12-01 2011-02-17 Roth & Rau Ag Transportrolle
DE202011110836U1 (de) 2011-02-21 2016-09-02 Ctf Solar Gmbh Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten
US8795785B2 (en) 2011-04-07 2014-08-05 Dynamic Micro System Methods and apparatuses for roll-on coating
US8739728B2 (en) 2011-04-07 2014-06-03 Dynamic Micro Systems, Semiconductor Equipment Gmbh Methods and apparatuses for roll-on coating
US8720370B2 (en) 2011-04-07 2014-05-13 Dynamic Micro System Semiconductor Equipment GmbH Methods and apparatuses for roll-on coating
CN102393139A (zh) * 2011-11-16 2012-03-28 杨桂玲 一种辊道式太阳电池硅片烧结炉

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6332295U (ja) * 1986-08-12 1988-03-02
JPH08176649A (ja) * 1994-12-20 1996-07-09 Koyo Rindobaagu Kk ローラハース炉用ローラ
JPH11108559A (ja) * 1997-10-09 1999-04-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd 焼成炉およびその制御方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2788957A (en) * 1953-03-30 1957-04-16 Drever Co Refractory roller furnace conveyor system
US3867748A (en) * 1974-03-07 1975-02-25 Libbey Owens Ford Co Supporting and driving frangible rollers
US4343395A (en) * 1977-11-10 1982-08-10 Holcroft & Co. Roller hearth furnace
JPH0714353Y2 (ja) * 1988-07-08 1995-04-05 中外炉工業株式会社 ローラハース型熱処理炉
DE3826523A1 (de) * 1988-08-04 1990-02-08 Juergen Gerlach Waermebehandlungseinrichtung fuer fortlaufend bewegtes material
US5266027A (en) * 1992-08-12 1993-11-30 Ngk Insulators, Ltd. Roller-hearth continuous furnace
NL1010836C2 (nl) * 1998-12-17 2000-06-23 O T B Engineering B V Oven voor het vervaardigen van zonnecellen.
CN1107618C (zh) * 1999-09-03 2003-05-07 北新建材(集团)有限公司 板材自动包装线

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6332295U (ja) * 1986-08-12 1988-03-02
JPH08176649A (ja) * 1994-12-20 1996-07-09 Koyo Rindobaagu Kk ローラハース炉用ローラ
JPH11108559A (ja) * 1997-10-09 1999-04-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd 焼成炉およびその制御方法

Also Published As

Publication number Publication date
AU2002358050B2 (en) 2007-10-11
AU2002358050A1 (en) 2003-07-09
WO2003054975A2 (en) 2003-07-03
CN100356589C (zh) 2007-12-19
WO2003054975A3 (en) 2004-01-08
CN1602554A (zh) 2005-03-30
ITMI20012628A1 (it) 2003-06-13
JP4511186B2 (ja) 2010-07-28
EP1454367A2 (en) 2004-09-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4511186B2 (ja) 光起電装置用ベーキングオーブン
KR100814594B1 (ko) 반도체 처리용 열처리 장치 및 방법
US6444940B1 (en) Heat treating device and heat treating method
KR100217542B1 (ko) 열 처리 방법
US20050266685A1 (en) Method and apparatus for controlling a semiconductor fabrication temperature
JP2003037075A (ja) 移載装置の制御方法および熱処理方法並びに熱処理装置
JPH03116828A (ja) 半導体ウエハの熱処理装置
JP2007081348A (ja) 熱処理温度の調整方法、基板熱処理方法、及び基板熱処理装置
JP4393009B2 (ja) 縦型熱処理装置
US4556437A (en) Method of diffusing silicon slices with doping materials
US3956036A (en) Method of diffusing silicon slices with dopant at high temperatures
CN111128696A (zh) 外延硅晶片的制造方法及外延硅晶片
JPH01117319A (ja) 半導体装置の製造方法
JP4889896B2 (ja) 多孔質シリカの脱ヒドロキシル化およびアルキル化のための真空/気相反応器
KR20020033169A (ko) 반도체 제조장치
KR20070015646A (ko) 실리콘 태양전지의 제조방법
JP2010199493A (ja) 基板処理装置
JPH11154649A (ja) 急速熱処理装置
JP2002184711A (ja) 半導体ウェハの熱処理装置及び熱処理方法
JPS6112674Y2 (ja)
JPS62158354A (ja) 半導体装置の製造方法
JP2000356471A (ja) 連続搬送焼成炉
JPH07130675A (ja) 半導体ウェーハのホウ素拡散方法
JPH10213377A (ja) 熱処理炉
JPS6369977A (ja) 均一な被膜を形成する為の光cvd装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20051028

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081104

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090202

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090721

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20091020

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20091027

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20091124

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20091201

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100405

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100506

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4511186

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514

Year of fee payment: 3

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140514

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees