JP2005511772A - カルボン酸塩の製造方法 - Google Patents
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Abstract
アルコールからカルボン酸塩を製造するための触媒であって、
該触媒は、
a) 銅からなり、又は、
b) 99.9〜10質量%の銅と、0.01〜90質量%の鉄と、0〜50質量%の1種以上の他の金属を含み、
必要によりドープされてもよく、
塩基を使用して、銅塩の溶液からの沈殿、又は他の金属塩を必要により含む銅と鉄の塩の溶液からの共沈によって、水酸化物を得て、該水酸化物を水素によって還元することを特徴とする触媒。
該触媒は、
a) 銅からなり、又は、
b) 99.9〜10質量%の銅と、0.01〜90質量%の鉄と、0〜50質量%の1種以上の他の金属を含み、
必要によりドープされてもよく、
塩基を使用して、銅塩の溶液からの沈殿、又は他の金属塩を必要により含む銅と鉄の塩の溶液からの共沈によって、水酸化物を得て、該水酸化物を水素によって還元することを特徴とする触媒。
Description
本発明は、銅を基礎とするカルボン酸塩の製造のための触媒に関する。
WO−A1−94/24091は、クロム、チタン、ニオブ、タンタル、バナジウム、モリブデン、マグネシウム、タングステン、コバルト、ニッケル、ビスマス、スズ、アンチモン、鉛、及びゲルマニウムの塩で、銅とジルコニウムの塩を共沈することによる、アミノカルボン酸塩の製造のための触媒を開示している。
しかし、これらの触媒は、要望される点が残されたままであった。
本発明の目的は、カルボン酸塩を製造するための改良された触媒を提供することにある。
本発明者等は、この目的が、アルコールからカルボン酸塩を製造するための触媒であって、
a) 銅からなり、又は、
b) 99.9〜10質量%の銅と、0.01〜90質量%の鉄と、0〜50質量%の1種以上の他の金属を含み、
必要によりドープされていてもよく、
塩基を使用して、銅塩の溶液からの沈殿、又は他の金属塩を必要により含む銅と鉄の塩の溶液からの共沈によって、水酸化物を得て、該水酸化物を水素によって還元することを特徴とする新規且つ改良された触媒によって達成されることを見いだした。
a) 銅からなり、又は、
b) 99.9〜10質量%の銅と、0.01〜90質量%の鉄と、0〜50質量%の1種以上の他の金属を含み、
必要によりドープされていてもよく、
塩基を使用して、銅塩の溶液からの沈殿、又は他の金属塩を必要により含む銅と鉄の塩の溶液からの共沈によって、水酸化物を得て、該水酸化物を水素によって還元することを特徴とする新規且つ改良された触媒によって達成されることを見いだした。
本発明による上記触媒は、以下のようにして得ることができる。
銅塩の溶液を沈殿(析出)してもよく、あるいは、銅塩の溶液と鉄塩の溶液及び必要により他の金属塩の溶液の混合物を共沈してもよく、これらはバッチ法又は連続法で、7〜14の範囲のpHで塩基を用いて行うことができ、5〜100℃の範囲、好ましくは15〜90℃の範囲、特に好ましくは20〜85℃の範囲の温度で、0.1〜5barの範囲の圧力、好ましくは大気圧下で行うことができ、そして沈殿又は共沈生成物、一般には対応する水酸化物は、例えば水で洗浄して、50〜250℃で乾燥して、最適には300〜700℃でか焼して、次いで150〜300℃で水素流中で還元してもよい。しかし、この還元は、か焼前に行うこともでき、所望により、か焼を繰り返すことができる。
銅又は銅/鉄触媒は、共沈の後に又はそれに続く乾燥又はか焼の後に、浸漬、無電解メッキ、電解メッキ、CVD(化学蒸着)、又はスパッタリング、好ましくは浸漬又は無電解メッキ、特に好ましくは浸漬によってドープすることができる。ドーピングに有用な元素には、「その他の金属」として言及したものが含まれ、可溶性の塩の形態で、又は金属そのものとして施すことができる。塩を施すときに、続けて行われるか焼は一般に定着のために使用される。ドープ剤の量は、広い範囲の中で変更してもよいが、一般に0.001〜5質量%、好ましくは0.005〜3質量%、一層好ましくは0.01〜2質量%、特に0.02〜1質量%である。
有用な塩基の例には、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ土類金属炭酸水素塩、アンモニア、水溶性アミン、及びそれらの混合物が含まれる。有用なアルカリ金属水酸化物には、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ルビジウム、及び水酸化セシウムが含まれ、好ましくは水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、及び水酸化カリウムであり、特に好ましくは水酸化ナトリウム、及び水酸化カリウムである。有用なアルカリ土類金属水酸化物には、水酸化ベリリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、及び水酸化バリウムが含まれ、好ましくは水酸化マグネシウム、及び水酸化カルシウムであり、特に好ましくは水酸化カルシウムである。有用なアルカリ金属炭酸塩には、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ルビジウム、及び炭酸セシウムが含まれ、好ましくは炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、及び炭酸カリウムであり、特に好ましくは炭酸ナトリウム、及び炭酸カリウムである。有用なアルカリ土類金属炭酸塩には、炭酸ベリリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、及び炭酸バリウムが含まれ、好ましくは炭酸マグネシウム、及び炭酸カルシウムであり、特に好ましくは炭酸カルシウムである。有用なアルカリ金属炭酸水素塩には、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ルビジウム、及び炭酸水素セシウムが含まれ、好ましくは炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、及び炭酸水素カリウムであり、特に好ましくは炭酸水素ナトリウム、及び炭酸水素カリウムである。有用なアルカリ土類金属炭酸水素塩には、炭酸水素ベリリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素ストロンチウム、及び炭酸水素バリウムが含まれ、好ましくは炭酸水素マグネシウム、及び炭酸水素カルシウムであり、特に好ましくは炭酸水素カルシウムである。有用な水溶性アミンの例には、アンモニア、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、及びトリエチルアミンが含まれ、好ましくはアンモニア、ジメチルアミン、トリメチルアミン、及びトリエチルアミンであり、特に好ましくはアンモニア及びトリメチルアミンである。
有用なその他の金属には、周期表のIIa、IIIa、IVa、Va、VIa、IIb、IIIb、IVb、VIIb、及びVIII族の全ての金属が含まれ、例えばベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ホウ素、ガリウム、インジウム、タリウム、ゲルマニウム、スズ、鉛、アンチモン、ビスマス、セレン、テルル、銀、金、亜鉛、カドミウム、スカンジウム、イットリウム、ランタン、チタン、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、テクネチウム、レニウム、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、及び白金があり、セリウムもあり、好ましくはニッケル、コバルト、クロム、亜鉛、ランタン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、イリジウム、及び白金であり、特に好ましくはニッケル、コバルト、亜鉛、ランタンである。
銅、鉄及びその他の金属の有用な塩には、一般に全ての好ましくは水溶性の無機及び有機塩が含まれる。
有用な銅塩には、一般に全ての好ましくは水溶性の無機及び有機塩が含まれ、例えば硝酸銅、塩化銅、硫酸銅、炭酸銅、炭酸水素銅、硫酸水素銅、アセチルアセトン酸銅、及び酢酸銅があり、好ましくは硝酸銅、塩化銅、炭酸銅、及び酢酸銅であり、より好ましくは硝酸銅、塩化銅、及び酢酸銅である。
有用な鉄塩には、一般に全ての好ましくは水溶性の無機及び有機塩が含まれ、例えば硝酸鉄、塩化鉄、硫酸鉄、ヘキサシアノ鉄酸鉄、炭酸鉄、炭酸水素鉄、硫酸水素鉄、アセチルアセトン酸鉄、及び酢酸鉄があり、好ましくは硝酸鉄、塩化鉄、炭酸鉄、及び酢酸鉄であり、より好ましくは硝酸鉄、塩化鉄、及び酢酸鉄である。
有用な他の金属塩には、一般に全ての好ましい水溶性の無機及び有機塩が含まれ、例えば硝酸塩、塩化物、硫酸塩、シアン化物、水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、硫酸水素塩、アセチルアセトン酸塩、及び酢酸塩があり、好ましくは硝酸塩、塩化物、硫酸塩、炭酸塩、炭酸水素塩、及び酢酸塩であり、より好ましくは硝酸塩、塩化物、炭酸塩、及び酢酸塩である。
出発物質に由来して、銅触媒は不純物を含む。一般に、精製は行われない。
銅/鉄触媒は、99.9〜10質量%、好ましくは95〜20質量%、より好ましくは90〜30質量%の銅、0.01〜90質量%、好ましくは3〜75質量%、好ましくは3〜75質量%、より好ましくは5〜60質量%の鉄、0〜50質量%、好ましくは0.1〜35質量%、より好ましくは0.5〜25質量%の1種以上の他の金属、すなわち1〜8種、好ましくは1〜5種、より好ましくは1〜3種で、特に好ましくは1〜2種の他の金属を含んでなる。
触媒は、銅に加えて、1〜90質量%の鉄を含み、NaOHを使用してpH10〜11.5で、及び50〜80℃の温度で析出させて、180〜220℃で乾燥させ、450〜550℃でか焼して、200〜300℃で水素を使用して還元したものが、非常に好適である。水素を使用した還元の後に、触媒は、0〜35質量%の含量で酸化銅(II)及び/又は酸化銅(I)を含んでいた。特に好適な実施の態様においては、触媒は、4質量%未満、好ましくは3.99〜0質量%、より好ましくは3.99〜1質量%、特に3.99〜2質量%の含有量のアルミニウムを有している。さらに特に好適な実施の態様には、ジルコニウムを含まない触媒の製造が含まれる。
水素を使用した還元前に、1〜75nm、より好ましくは2〜50nmのCuO結晶サイズを有する本発明の触媒を使用して、アルコールからカルボン酸塩の製造をすることは、好適である。
本発明によってアルコールからカルボン酸塩を製造する方法は、以下のように行うことができる。
圧力容器、例えばオートクレーブ、管式反応器、循環式反応器、又は撹拌タンクバッテリー等は、所望の順序でアルコール、塩基、水、及び触媒で充填することができる。塩基は、好ましくは充填前に水に溶解する。好適には、触媒を最初に充填し、次いでアルコールを塩基水溶液とは別に添加する、あるいは塩基水溶液とアルコールを同時に添加する。密閉圧力容器は、120〜280℃、好ましくは140〜240℃、より好ましくは150〜220℃の温度に加熱し、それによって所望により内部圧力を増大させることもできる。この反応は、水の蒸気圧から75barの範囲、好ましくは2〜50barの範囲、より好ましくは3〜30barの範囲、特に4〜15barの範囲の圧力で、行うことができる。本製造方法の特に好ましい実施の態様において、反応混合物は、4000ppm未満、好ましくは3999〜0ppm、より好ましくは3999〜1000ppm、特に好ましくは3999〜2000ppmのアルミニウムイオンを含有している。
有用なアルコールには、エチレングリコール(誘導体)、例えばエチレングリコールオリゴマー、又はポリマー性エチレングリコール、及びアミノアルコール、例えばエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)イソプロピルアミン、又はテトラキス(ヒドロキシエチル)1,2−プロピレンジアミン等がある。特に有用なアルコールは、次の一般式(I):
R−CH2CH2OH (I)
を有するものである。
R−CH2CH2OH (I)
を有するものである。
上記一般式(I)のアルコールにおける、R、R1、及びR2基は、以下のように定義される。
R : -(OCH2CH2OH) 又は -NR1R2 であり、好ましくは -NR1R2 であり、
R1とR2はそれぞれ独立に :
- 水素、
- フェニル、
- CH2CH2OH、
- C1〜C20−アルキル、好ましくはC1〜C8−アルキル、より好ましくはC1〜C4−アルキル、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、及びtert−ブチル、特にメチル、及びエチル、
- C2〜C5−ジアルキルアミノ、例えばジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジエチルアミノ、エチル−n−プロピルアミノ、エチル−iso−プロピルアミノ、メチル−n−プロピルアミノ、メチル−iso−プロピルアミノ、メチル−n−ブチルアミノ、メチル−iso−ブチルアミノ、メチル−sec−ブチルアミノ、及びメチル−tert−ブチルアミノ、好ましくはジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジエチルアミノ、エチル−n−プロピルアミノ、エチル−iso−プロピルアミノ、メチル−n−プロピルアミノ、及びメチル−iso−プロピルアミノ、より好ましくはジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジエチルアミノ、及びエチル−n−プロピルアミノである。
R1とR2はそれぞれ独立に :
- 水素、
- フェニル、
- CH2CH2OH、
- C1〜C20−アルキル、好ましくはC1〜C8−アルキル、より好ましくはC1〜C4−アルキル、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、及びtert−ブチル、特にメチル、及びエチル、
- C2〜C5−ジアルキルアミノ、例えばジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジエチルアミノ、エチル−n−プロピルアミノ、エチル−iso−プロピルアミノ、メチル−n−プロピルアミノ、メチル−iso−プロピルアミノ、メチル−n−ブチルアミノ、メチル−iso−ブチルアミノ、メチル−sec−ブチルアミノ、及びメチル−tert−ブチルアミノ、好ましくはジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジエチルアミノ、エチル−n−プロピルアミノ、エチル−iso−プロピルアミノ、メチル−n−プロピルアミノ、及びメチル−iso−プロピルアミノ、より好ましくはジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、ジエチルアミノ、及びエチル−n−プロピルアミノである。
アミノカルボン酸及び式(I)の塩は、例えば、界面活性剤、医薬品、農薬、例えば殺虫剤、及び食品及び飼料添加剤において、キレート剤に有用な中間体である。エチレングリコール(誘導体)から製造されたオキシカルボン酸及び式(I)の塩は、例えば界面活性剤に有用な中間体である。
[実施例1]
炭酸ナトリウム593gの水溶液2.5リットルを、70℃で20分間かけて、pH7(HNO3を添加した)とした硝酸銅1536.3gの水溶液2.5リットル中へ、撹拌しつつ連続的に導入した。70℃で30分間撹拌を続けた後に、濾過をして、総量100リットルの水で洗浄し、さらに200℃で4時間乾燥し、水素を使用して230℃で4時間かけて還元を行った。
得られた触媒は、96.5質量%の銅含量と、3.5質量%の赤銅鉱含量とを有していた。水素を使用した還元前のCuO結晶サイズは、25nmであった。
炭酸ナトリウム593gの水溶液2.5リットルを、70℃で20分間かけて、pH7(HNO3を添加した)とした硝酸銅1536.3gの水溶液2.5リットル中へ、撹拌しつつ連続的に導入した。70℃で30分間撹拌を続けた後に、濾過をして、総量100リットルの水で洗浄し、さらに200℃で4時間乾燥し、水素を使用して230℃で4時間かけて還元を行った。
得られた触媒は、96.5質量%の銅含量と、3.5質量%の赤銅鉱含量とを有していた。水素を使用した還元前のCuO結晶サイズは、25nmであった。
[実施例2]
炭酸ナトリウム948.8gの水溶液4リットルを、70℃で35分間かけて、pH9(HNO3を添加した)とした硝酸銅1536.3gの水溶液2.5リットル中へ、撹拌しつつ連続的に導入した。70℃で30分間撹拌を続けた後に、濾過をして、総量100リットルの水で洗浄し、さらに200℃で4時間乾燥し、水素を使用して230℃で4時間かけて還元を行った。
得られた触媒は、97質量%の銅含量と、3質量%の赤銅鉱含量とを有していた。水素を使用した還元前のCuO結晶サイズは、28nmであった。
炭酸ナトリウム948.8gの水溶液4リットルを、70℃で35分間かけて、pH9(HNO3を添加した)とした硝酸銅1536.3gの水溶液2.5リットル中へ、撹拌しつつ連続的に導入した。70℃で30分間撹拌を続けた後に、濾過をして、総量100リットルの水で洗浄し、さらに200℃で4時間乾燥し、水素を使用して230℃で4時間かけて還元を行った。
得られた触媒は、97質量%の銅含量と、3質量%の赤銅鉱含量とを有していた。水素を使用した還元前のCuO結晶サイズは、28nmであった。
[実施例3]
水酸化ナトリウム660gの水溶液2リットルを、70℃で20分間かけて、pH11(HNO3を添加した)とした硝酸銅1536.3gの水溶液2.5リットル中へ、撹拌しつつ連続的に導入した。70℃で30分間撹拌を続けた後に、濾過をして、総量100リットルの水で洗浄し、さらに200℃で4時間乾燥し、水素を使用して230℃で4時間かけて還元を行った。
得られた触媒は、92質量%の銅含量と、8質量%の赤銅鉱含量とを有していた。水素を使用した還元前のCuO結晶サイズは、21nmであった。
水酸化ナトリウム660gの水溶液2リットルを、70℃で20分間かけて、pH11(HNO3を添加した)とした硝酸銅1536.3gの水溶液2.5リットル中へ、撹拌しつつ連続的に導入した。70℃で30分間撹拌を続けた後に、濾過をして、総量100リットルの水で洗浄し、さらに200℃で4時間乾燥し、水素を使用して230℃で4時間かけて還元を行った。
得られた触媒は、92質量%の銅含量と、8質量%の赤銅鉱含量とを有していた。水素を使用した還元前のCuO結晶サイズは、21nmであった。
[実施例4]
濾過され洗浄された析出材料を製造するために、実施例3を繰り返した。析出材料は、次に150℃で4時間乾燥した。
50gの乾燥した析出材料に、1.00ml/gと割り当てられるように、8.95gの硝酸鉄(III)水和物の水溶液50mlを、1時間かけて浸透させた。続けて乾燥を120℃で4時間かけて行い、か焼を500℃で2時間かけて行い、還元を水素を使用して230℃で4時間かけて行った。
得られた触媒は、3質量%の鉄含有量とを有していた。水素を使用した還元前のCuO結晶サイズは、20nmであった。
濾過され洗浄された析出材料を製造するために、実施例3を繰り返した。析出材料は、次に150℃で4時間乾燥した。
50gの乾燥した析出材料に、1.00ml/gと割り当てられるように、8.95gの硝酸鉄(III)水和物の水溶液50mlを、1時間かけて浸透させた。続けて乾燥を120℃で4時間かけて行い、か焼を500℃で2時間かけて行い、還元を水素を使用して230℃で4時間かけて行った。
得られた触媒は、3質量%の鉄含有量とを有していた。水素を使用した還元前のCuO結晶サイズは、20nmであった。
[実施例5]
水酸化ナトリウムの40質量%水溶液2274gを、70℃で20分間かけて、硝酸銅1238.7gと硝酸鉄(III)水和物357.9gの水溶液2.5リットル中へ、撹拌しつつ連続的に導入した。70℃で30分間撹拌を続けた後に、濾過をして、総量100リットルの水で洗浄し、さらに200℃で4時間乾燥し、水素を使用して230℃で4時間かけて還元を行った。
得られた触媒は、72質量%の鉄含有量とを有していた。水素を使用した還元前のCuO結晶サイズは、9nmであった。
水酸化ナトリウムの40質量%水溶液2274gを、70℃で20分間かけて、硝酸銅1238.7gと硝酸鉄(III)水和物357.9gの水溶液2.5リットル中へ、撹拌しつつ連続的に導入した。70℃で30分間撹拌を続けた後に、濾過をして、総量100リットルの水で洗浄し、さらに200℃で4時間乾燥し、水素を使用して230℃で4時間かけて還元を行った。
得られた触媒は、72質量%の鉄含有量とを有していた。水素を使用した還元前のCuO結晶サイズは、9nmであった。
[実施例6]
44質量%の銅含有量を有する触媒を製造するために、実施例5を繰り返した。水素を使用した還元前のCuO結晶サイズは、10nmであった。
44質量%の銅含有量を有する触媒を製造するために、実施例5を繰り返した。水素を使用した還元前のCuO結晶サイズは、10nmであった。
[実施例7]
10質量%の銅含有量を有する触媒を製造するために、実施例5を繰り返した。水素を使用した還元前のCuO結晶サイズは、13nmであった。
10質量%の銅含有量を有する触媒を製造するために、実施例5を繰り返した。水素を使用した還元前のCuO結晶サイズは、13nmであった。
[比較例A]
WO−A−94/24091の実施例19を繰り返して、触媒を製造した。
WO−A−94/24091の実施例19を繰り返して、触媒を製造した。
[水素化手順]
内部容積300mlを有するオートクレーブに、40gのジエタノールアミン、32gの水酸化ナトリウム、85gの水、及び対応する触媒4gを充填した。反応は、170℃の温度、9barの一定圧力で、水素形成が終了するまで行った。放出された水素の量を、反応時間の関数として記録した。反応終了の後に、反応生成物を分析した。この結果を次の表にまとめた。
内部容積300mlを有するオートクレーブに、40gのジエタノールアミン、32gの水酸化ナトリウム、85gの水、及び対応する触媒4gを充填した。反応は、170℃の温度、9barの一定圧力で、水素形成が終了するまで行った。放出された水素の量を、反応時間の関数として記録した。反応終了の後に、反応生成物を分析した。この結果を次の表にまとめた。
Claims (7)
- アルコールからカルボン酸塩を製造するための触媒であって、
該触媒は、
a) 銅からなり、又は、
b) 99.9〜10質量%の銅と、0.01〜90質量%の鉄と、0〜50質量%の1種以上の他の金属を含み、
必要によりドープされていてもよく、且つ、
塩基を使用して、銅塩の溶液からの沈殿、又は他の金属塩を必要により含む銅と鉄の塩の溶液からの共沈によって、水酸化物を得て、該水酸化物を水素によって還元することを特徴とする触媒。 - 使用される塩基が、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ土類金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩、アルカリ土類金属炭酸水素塩、又はそれらの混合物である、請求項1に記載の触媒。
- 使用される金属が、周期表のIIa、IIIa、IVa、Va、VIa、Ib、IIb、IIIb、IVb、Vb、VIb、VIIb,VIII族の金属又はそれらの混合物である、請求項1に記載の触媒。
- CuO粒子が還元前に1〜75nmの結晶サイズを有している、請求項1に記載の触媒。
- アルミニウム含有量が4質量%未満である、請求項1に記載の触媒。
- カルボン酸塩の製造方法であって、
次の一般式(I):
R−CH2CH2OH (I)
(但し、Rは、−(OCH2CH2OH)又は、−NR1R2であり、
R1及びR2は、それぞれ独立に、水素、フェニル基、−CH2CH2OH、C1〜C20−アルキル基、又はC2〜C5−ジアルキルアミノ基である)
で表されるアルコールを、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、又はそれらの混合物と、請求項1に記載の銅触媒の存在下、水中で、120〜280℃の温度、及び水蒸気圧と75barの間の圧力下にて、反応させることを特徴とする製造方法。 - 反応混合物中のアルミニウムイオン含有量が4000ppm未満である、請求項6に記載のカルボン酸塩の製造方法。
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