JP2005509684A - 促進されたヒドロシリル化反応 - Google Patents
促進されたヒドロシリル化反応 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005509684A JP2005509684A JP2003545665A JP2003545665A JP2005509684A JP 2005509684 A JP2005509684 A JP 2005509684A JP 2003545665 A JP2003545665 A JP 2003545665A JP 2003545665 A JP2003545665 A JP 2003545665A JP 2005509684 A JP2005509684 A JP 2005509684A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solution
- group
- olefin
- sih
- treated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1876—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/14—Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions
Abstract
オレフィン性反応体を用いたヒドリドアルコキシシリル反応体のヒドロシリル化によるケイ素−炭素結合含有化合物の製造方法。
【解決手段】
この方法は、白金触媒と、次式の弱求核性アミンからなる反応促進剤との存在下で実施する。
NZ1Z2Z3
式中、Z1はC6〜C20の炭素原子数のアリール、アルカリール、若しくはアラルキル基、又はオルガノシリル置換基SiR3であり、RはC1〜C20のアルキル又はC6〜C10のアリールであり、Z2は水素、C1〜C20のアルキル、C6〜C20の炭素原子のアリール、アルカリール、若しくはアラルキル基であるか、又はSiR3であり、Rは前に定義した通りであり、Z3はZ1又はZ2と同じであり、適宜、Z1、Z2及びZ3は窒素原子と一緒に芳香族複素環式環を形成している。
Description
本発明の実施の際には、芳香族又はケイ素−置換基のようにアミンの孤立電子対とπ−相互作用することができる置換基を含有する弱求核性アミンを使用することができる。すなわち、弱求核性アミン促進剤は一般式NZ1Z2Z3を有する。この式中、Z1は炭素原子数6〜20のアリール、アルカリール若しくはアラルキル基、又は式SiR3のオルガノシリル基であり、RはC1〜C20、好ましくはC1〜C4のアルキル、又はC6〜C10のアリールであり、Z2は水素、C1〜C20、好ましくはC1〜C4のアルキル、C6〜C20のアリール、アルカリール若しくはアラルキル基、又はSiR3であり、ここでRは前に定義した通りであり、Z3はZ1又はZ2と同じである。適宜、Z1、Z2及びZ3のうちの2つは一緒に窒素原子を含む芳香族複素環式環を形成していてもよい。弱求核性アミンとしては、特に限定されないが、アニリン、ヘキサメチルジシラザン、フェノチアジン、アミノナフタレン、ベンジルアミン、ピリジン及びこれらの対応する誘導体がある。本発明では、アニリン、ベンジルアミン及びヘキサメチルジシラザンが好ましいアミンであり、その選択はヒドリドシラン及びオレフィン反応体に依存する。
促進可能なヒドリドシランは一般に次式で表すことができる。
RnX3-nSiH
式中、Rは炭素原子数1〜18の枝分れ若しくは線状アルキル基、炭素原子数4〜8の環式アルキル基又は炭素原子数6〜12のアリール、アルカリール若しくはアラルキル基であり、適宜、ヒドロシリル化又は促進を妨害しないことを条件として、ハロゲン、酸素又は窒素置換基を含有していてもよく、XはRが上記定義の通りである−ORから選択されるアルコキシ基であり、nは0、1、又は2である。ヒドリドシランはトリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリ−n−プロポキシシラン及びトリイソプロポキシシランの群から選択されるアルコキシシランでよい。トリメトキシシラン及びトリエトキシシランが好ましい。その他のヒドリドアルコキシシランとしては、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン及びジメチルエトキシシランのようなアルキルアルコキシシランがある。
本発明で使用することができるオレフィンは、ある種の官能性置換基を有していてもよい脂肪族不飽和分子である。本明細書で使用する「オレフィン」という用語はその最も広い意味で使用されており、従って、アルケン、ビニル基含有化合物及びアリル基含有化合物を包含するものと理解されたい。末端アルケン、例えばエチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、オクテン、ヘキサデセン、オクタデセン、トリビニルシクロヘキセンを始めとする1−アルケン、及び2−メチルプロペン、2−メチルブテン、ジイソブチレンのような2−アルキル−1−アルケン、並びに非末端アルケン、例えばtert−アミレン及び2−ブテンを有利に使用することができる。1−アルケンが好ましい。他の適当なオレフィンとしては、エポキシオレフィン、例えばビニルシクロヘキセンモノオキシド、アリルグリシジルエーテル、及びアリルオレフィン、例えば、特に限定されないがアリルエステル、アリルポリエーテル、及びアリル第三アミン、並びにこれらのメタリル誘導体がある。その他のオレフィンとしてはアミノオレフィン、例えばN−アリルアニリン、N,N−ジメタリルアミン及びN−エチルメタリルアミンがある。ビニル基含有化合物としては、ビニルエステル及びエーテル、ビニルシラン、アクリレート及びメタクリレートがある。
触媒としては、白金を含有しており、均一又は不均一ヒドロシリル化触媒として機能するものが包含される。典型的な触媒としては、クロロ白金酸及びその各種溶液、例えば、クロロ白金酸が化学的に修飾されている溶液、クロロ白金酸塩及びその溶液、白金を含有するビニルシロキサン錯体及びその溶液(Karstedt触媒)、白金のオレフィン及びジオレフィン錯体及びその溶液、並びに炭素、アルミナ、シリカ、有機変性シリカ、又は卑金属を始めとする各種の支持体上に金属として堆積した白金がある。ホスフィン、アセチルアセトネート基、又はアミンのような強く結合した配位子を含有する白金錯体は、かかる配位子がヒドロシリル化又は促進を妨害しないことを条件として促進可能である。触媒は、仕込み原料全体を基準にして0.5〜100ppm、好ましくは5〜50ppm、最も好ましくは5〜15ppmのレベルで使用すべきである。
アミンによる促進は、設備の点で、構造・装置の大きさ又は材料の種類に関して制限を受けることはない。現在ヒドロシリル化反応を実施することができる広範囲の実験室又は工業規模の設備が使用できる。ヒドロシリル化プロセスは回分式、半回分式又は連続式に行うことができる。
オレフィンとアルコキシシランの反応の一般手順
1.)過剰のオレフィンの存在下。典型的な反応を実施するために、(アルコキシシランに対して)1.05〜1.30モル当量のオレフィンを、室温において、アミン及び白金前触媒又は前触媒溶液で処理した。この溶液を暖めた。90℃で、この溶液を1.00モル当量のアルコキシシランで処理した。アルコキシシランの添加により、発熱反応が生じた。シランの添加中ずっと、この溶液の温度を90〜100℃に維持した。アルコキシシランの添加完了後、この溶液の温度を1時間90℃に維持した。その後、溶液を室温まで放冷した。この粗反応の部分試料をGC分析した。
室温において、20.00gの純1−オクテンを0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、1−オクテン溶液を19.10gのCl3SiHで処理した。Cl3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、20.00gの純1−オクテンを0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、1−オクテン溶液を18.00gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、20.00gの純1−オクテンを0.019mlの酢酸、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、1−オクテン溶液を18.00gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、20.00gの純1−オクテンを0.020mlのアニリン、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、1−オクテン溶液を18.00gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、20.68gの純VCMXを0.020gのアニリン、0.018mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、VCMX溶液を18.43gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、20.07gの純AGEを0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、AGE溶液を18.0gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、20.10gの純AGEを0.020gのフェノチアジン、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、AGE溶液を18.0gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、20.10gの純AGEを0.025mLのNH[Si(CH3)3]2、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、AGE溶液を18.0gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、19.80gの純(MeO)3SiHを0.016mlのPt2(M*M*)3で処理し、暖めた。約85℃で、TMS溶液を20.02gのN−アリルアニリンで処理した。N−アリルアニリンの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、19.80gの純(MeO)3SiHを0.40gのアニリン、0.016mlのPt2(M*M*)3で処理し、暖めた。約85℃で、(MeO)3SiH溶液を20.02gのN−アリルアニリンで処理した。N−アリルアニリンの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、19.80gの純(MeO)3SiHを0.016mlのPt2(M*M*)3で処理し、暖めた。約85℃で、(MeO)3SiH溶液を、20.02gのN−アリルアニリン中に溶解した0.40gのアニリンからなる溶液で処理した。N−アリルアニリンの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、12.10gの純TVCを0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、TVC溶液を19.80gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、12.10gの純TVCを0.016gのアニリン、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、TVC溶液を19.8gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、12.10gの純TVCを0.032gのアニリン、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、TVC溶液を19.8gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を2時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、12.10gの純TVCを0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、メチルジエトキシシラン溶液を、0.020mlのアニリンを含有するTVC溶液で処理した。TVCの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、6.50gの純TVCを0.007mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、TVC溶液を24.48gの(EtO)3SiH溶液で処理した。(EtO)3SiHの添加完了後、この溶液を2時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、6.50gの純TVCを0.007mlのCPA、0.031mLのアニリンで処理し、暖めた。90℃で、(EtO)3SiH溶液を24.48gの(EtO)3SiHで処理した。(EtO)3SiHの添加完了後、この溶液を2時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、31.51gの純オイゲノールメチルエーテルを0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、オイゲノールメチルエーテル溶液を18.0gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、31.51gの純オイゲノールメチルエーテルを0.025gの酢酸、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、オイゲノールメチルエーテル溶液を18.0gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、31.51gの純オイゲノールメチルエーテルを0.025gのベンジルアミン、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、オイゲノールメチルエーテル溶液を18.0gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、107.78gの純ヘキサデセンを0.440mlのCPAで処理し、暖めた。90℃でヘキサデセン溶液を48.9gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、36.6gの純ヘキサデセンを0.112gの酢酸、0.017mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、ヘキサデセン溶液を22.3gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、36.7gの純ヘキサデセンを0.081gのアニリン、0.012mlのPt2(M*M*)3で処理し、暖めた。90℃で、ヘキサデセン溶液を18.6gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Claims (15)
- ヒドリドアルコキシシランと(b)オレフィンとを、(c)白金触媒及び(d)次式の弱求核性アミンの存在下で反応させることを含んでなる方法。
NZ1Z2Z3
式中、Z1は炭素原子数C6〜C20のアリール、アルカリール若しくはアラルキル基、又は式SiR3のオルガノシリル置換基であり、RはC1〜C20アルキル又はC6〜C10アリールであり、Z2は水素、C1〜C20アルキル、炭素原子数C6〜C20のアリール、アルカリール若しくはアラルキル基、又はSiR3であり、Rは前に定義した通りであり、Z3はZ1又はZ2と同じであり、適宜、Z1、Z2及びZ3の2つは窒素原子と一緒に芳香族複素環式環を形成してもよい。 - ヒドリドアルコキシシランが次式に対応する、請求項1記載の方法。
RnX3-nSiH
式中、Rは炭素原子数1〜18の枝分れ若しくは線状アルキル基、炭素原子数4〜8の環式アルキル基、又は炭素原子数6〜12のアリール、アルカリール若しくはアラルキル基であり、適宜ハロゲン、酸素又は窒素置換基を含有していてもよいが、但し、かかる置換基がヒドロシリル化又は促進のいずれも妨害しないことを条件とし、Xは−ORであり、Rは上記定義の通りであり、nは0、1又は2である。 - nが0又は1であり、Xがエトキシ及びメトキシからなる群から選択される、請求項2記載の方法。
- ヒドリドアルコキシシランが、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリ−n−プロポキシシラン、トリイソプロポキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン及びジメチルエトキシシランからなる群から選択される、請求項2記載の方法。
- ヒドリドアルコキシシランが、トリメトキシシラン及びトリエトキシシランからなる群から選択される、請求項2記載の方法。
- オレフィンが、アルケン、ビニル基含有化合物及びアリル基含有化合物からなる群から選択される、請求項1記載の方法。
- オレフィンが、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、オクテン、ヘキサデセン、オクタデセン、トリビニルシクロヘキセン、2−メチルプロペン、2−メチルブテン、ジイソブチレン、tert−アミレン、2−ブテン、ビニルシクロヘキセンモノオキシド、アリルグリシジルエーテル、アリルエステル、アリルポリエーテル、アリル第三アミン及びこれらのメタリル誘導体、N−アリルアニリン、N,N−ジメタリルアミン、N−エチルメタリルアミン、ビニルエステル及びエーテル、ビニルシラン、アクリレート及びメタクリレートからなる群から選択される、請求項1記載の方法。
- オレフィンが、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、オクテン、ヘキサデセン、オクタデセン、トリビニルシクロヘキセン、2−メチルプロペン、2−メチルブテン及びジイソブチレンからなる群から選択される、請求項1記載の方法。
- 白金触媒がクロロ白金酸である、請求項1記載の方法。
- ヒドリドアルコキシシラン及びオレフィンの合計重量の25〜20000重量ppmのレベルで弱求核性アミンを使用する、請求項1記載の方法。
- 弱求核性アミンが、アニリン、ヘキサメチルジシラザン、フェノチアジン、アミノナフタレン、ベンジルアミン、ピリジン及びこれらの誘導体からなる群から選択される、請求項1記載の方法。
- オレフィンがアミノオレフィンである、請求項1記載の方法。
- オレフィンがヘキサデセンである、請求項1記載の方法。
- 略周囲温度〜約150℃の温度及び約0.2〜約2.0気圧の圧力で反応を実施する、請求項1記載の方法。
- ヒドリドアルコキシシランに対してモル過剰のオレフィンを反応に使用する、請求項1記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/004,156 US6590117B1 (en) | 2001-11-15 | 2001-11-15 | Promoted hydrosilation reactions |
PCT/US2002/032826 WO2003044028A1 (en) | 2001-11-15 | 2002-10-15 | Promoted hydrosilation reactions |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005509684A true JP2005509684A (ja) | 2005-04-14 |
JP2005509684A5 JP2005509684A5 (ja) | 2006-01-05 |
JP4336202B2 JP4336202B2 (ja) | 2009-09-30 |
Family
ID=21709437
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003545665A Expired - Fee Related JP4336202B2 (ja) | 2001-11-15 | 2002-10-15 | 促進されたヒドロシリル化反応 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6590117B1 (ja) |
EP (1) | EP1448573B1 (ja) |
JP (1) | JP4336202B2 (ja) |
KR (2) | KR101012999B1 (ja) |
CN (1) | CN1329402C (ja) |
AT (1) | ATE360023T1 (ja) |
BR (1) | BR0214261A (ja) |
CA (1) | CA2467371A1 (ja) |
DE (1) | DE60219667T2 (ja) |
ES (1) | ES2284937T3 (ja) |
WO (1) | WO2003044028A1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012121852A (ja) * | 2010-12-09 | 2012-06-28 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ヒドロシリル化方法、有機ケイ素化合物の製造方法、及び有機ケイ素化合物 |
JP2012121854A (ja) * | 2010-12-09 | 2012-06-28 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ヒドロシリル化方法、有機ケイ素化合物の製造方法、及び有機ケイ素化合物 |
JP2013231009A (ja) * | 2012-05-01 | 2013-11-14 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | シリル基で保護された2級アミノ基を有するオルガノキシシラン化合物及びその製造方法 |
US8946464B2 (en) | 2010-12-09 | 2015-02-03 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrosilylation method, method for producing organosilicon compound, and organosilicon compound |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10359588A1 (de) * | 2003-12-18 | 2005-07-28 | Wacker-Chemie Gmbh | Lagerstabile Zusammensetzungen von Organosiliciumverbindungen |
DE102007013609A1 (de) | 2007-03-21 | 2008-09-25 | Wacker Chemie Ag | Siloxyfunktionelle Aromaten als Co-Katalysatoren in der Übergangsmetall-katalysierten Hydrosilylierung |
DE102007013608A1 (de) | 2007-03-21 | 2008-09-25 | Wacker Chemie Ag | Si-substituierte Chinone als Co-Katalysatoren in der Übergangsmetall-katalysierten Hydrosilylierung |
CN103936782A (zh) * | 2014-04-03 | 2014-07-23 | 山东硅科新材料有限公司 | 一种催化硅氢加成制备长链烷基硅氧烷的方法 |
JP6625024B2 (ja) * | 2016-07-01 | 2019-12-25 | 信越化学工業株式会社 | アミノアルキル基含有シロキサン、アミノアルキル基及びポリオキシアルキレン基含有シロキサン、及びこれらの製造方法 |
CN107011374A (zh) * | 2017-05-27 | 2017-08-04 | 安徽硅宝有机硅新材料有限公司 | 一种苯胺基丙基三烷氧基硅烷及制备方法 |
KR102293698B1 (ko) * | 2018-02-06 | 2021-08-27 | 와커 헤미 아게 | 아미노프로필알콕시실란의 제조 방법 |
CN110734730A (zh) * | 2018-07-20 | 2020-01-31 | 东莞市博君来胶粘材料科技有限公司 | 一种硅烷改性聚醚双组份密封胶及其制备方法 |
CN109824713B (zh) * | 2019-03-05 | 2021-07-09 | 湖北江瀚新材料股份有限公司 | 一种长链烷基三烷氧基硅烷的制备方法 |
WO2021108068A1 (en) * | 2019-11-26 | 2021-06-03 | Dow Silicones Corporation | Processes for making polysiloxazanes and using same for producing amino-functional polyorganosiloxanes |
CN111925386B (zh) * | 2020-09-24 | 2020-12-22 | 长沙科航特种织造有限公司 | 一种新型碳化硅陶瓷先驱体的制备方法 |
CN112457497A (zh) * | 2020-11-05 | 2021-03-09 | 浙江工业大学 | 一种长链烷基改性含氢硅油润滑油的制备方法 |
CN114524839A (zh) * | 2022-01-12 | 2022-05-24 | 湖北江瀚新材料股份有限公司 | 一种硬脂氧基三甲基硅烷的制备方法 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2971970A (en) | 1958-12-29 | 1961-02-14 | Gen Electric | Organosilicon process |
DE1156073B (de) * | 1962-06-29 | 1963-10-24 | Goldschmidt Ag Th | Verfahren zur Herstellung von siliciumhaltigen Kohlenwasserstoffverbindungen |
US3925434A (en) | 1975-01-22 | 1975-12-09 | Union Carbide Corp | The reaction of chlorosilanes with unsaturated organic compounds |
DE3000768A1 (de) | 1980-01-10 | 1981-07-16 | Wacker-Chemie GmbH, 8000 München | Verfahren zum anlagern von si-gebundenem wasserstoff an aliphatische mehrfachbindung |
US4417069A (en) * | 1983-02-22 | 1983-11-22 | General Electric Company | Method of preparing β-phenylethylchlorosilanes |
US4481364A (en) | 1983-09-26 | 1984-11-06 | Union Carbide Corporation | Preparation of aminopropyltrialkoxysilanes and/or aminoalkylalkoxysilanes |
US4584361A (en) | 1985-06-03 | 1986-04-22 | Dow Corning Corporation | Storage stable, one part polyorganosiloxane compositions |
US4614812A (en) | 1985-12-31 | 1986-09-30 | Union Carbide Corporation | Novel process for promoting hydrosilation reactions using a second hydrosilane |
US4804768A (en) | 1986-09-30 | 1989-02-14 | Union Carbide Corporation | Process for producing epoxyorganoalkoxysilanes |
JPH0788394B2 (ja) | 1987-04-22 | 1995-09-27 | 東燃株式会社 | エポキシ基含有シラン化合物の製造方法 |
US5103033A (en) | 1991-06-24 | 1992-04-07 | Dow Corning Corporation | Process for preparation of β-cyanoalkylsilanes |
US5359111A (en) | 1991-09-18 | 1994-10-25 | Dow Corning Corporation | Method for controlling hydrosilylation in a reaction mixture |
US5191103A (en) | 1991-12-30 | 1993-03-02 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Process and composition for promoting hydrosilylation reactions using sterically hindered nitrogen-containing and phosphorus-containing compounds |
JP2864866B2 (ja) * | 1992-04-07 | 1999-03-08 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物の製造方法 |
US5258480A (en) | 1992-05-18 | 1993-11-02 | General Electric Company | Syntheses of epoxysilicones |
GB9223335D0 (en) * | 1992-11-06 | 1992-12-23 | Dow Corning | Hydrosilylation process |
US5283348A (en) | 1993-07-09 | 1994-02-01 | Dow Corning Corporation | Process for preparation of β-cyanoalkylsilanes |
DE19508459A1 (de) | 1995-03-09 | 1996-09-12 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Alkylsilanen mit sperrigen Alkylresten |
US5623083A (en) | 1996-03-28 | 1997-04-22 | Dow Corning Corporation | Acetylenic alcohols and ethers as accelerators for hydrosilation of siloxyhydrides |
US5756795A (en) | 1996-12-30 | 1998-05-26 | Dow Corning Corporation | Unsaturated accelerators for hydrosilation |
EP2221310B1 (en) * | 1999-03-11 | 2014-09-03 | Momentive Performance Materials Inc. | Promoted hydrosilation reactions |
-
2001
- 2001-11-15 US US10/004,156 patent/US6590117B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-10-15 KR KR1020107000969A patent/KR101012999B1/ko active IP Right Grant
- 2002-10-15 WO PCT/US2002/032826 patent/WO2003044028A1/en active Application Filing
- 2002-10-15 ES ES02778555T patent/ES2284937T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2002-10-15 CA CA002467371A patent/CA2467371A1/en not_active Abandoned
- 2002-10-15 EP EP02778555A patent/EP1448573B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-10-15 BR BR0214261-9A patent/BR0214261A/pt not_active Withdrawn
- 2002-10-15 JP JP2003545665A patent/JP4336202B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-10-15 DE DE60219667T patent/DE60219667T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-10-15 AT AT02778555T patent/ATE360023T1/de not_active IP Right Cessation
- 2002-10-15 CN CNB028270878A patent/CN1329402C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-10-15 KR KR1020047007414A patent/KR100950824B1/ko active IP Right Grant
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012121852A (ja) * | 2010-12-09 | 2012-06-28 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ヒドロシリル化方法、有機ケイ素化合物の製造方法、及び有機ケイ素化合物 |
JP2012121854A (ja) * | 2010-12-09 | 2012-06-28 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ヒドロシリル化方法、有機ケイ素化合物の製造方法、及び有機ケイ素化合物 |
US8946464B2 (en) | 2010-12-09 | 2015-02-03 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrosilylation method, method for producing organosilicon compound, and organosilicon compound |
US9156864B2 (en) | 2010-12-09 | 2015-10-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrosilylation method, method for producing organosilicon compound, and organosilicon compound |
US9163037B2 (en) | 2010-12-09 | 2015-10-20 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrosilylation method, method for producing organosilicon compound, and organosilicon compound |
JP2013231009A (ja) * | 2012-05-01 | 2013-11-14 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | シリル基で保護された2級アミノ基を有するオルガノキシシラン化合物及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4336202B2 (ja) | 2009-09-30 |
DE60219667T2 (de) | 2008-02-07 |
KR100950824B1 (ko) | 2010-04-02 |
EP1448573A1 (en) | 2004-08-25 |
EP1448573B1 (en) | 2007-04-18 |
DE60219667D1 (de) | 2007-05-31 |
CA2467371A1 (en) | 2003-05-30 |
BR0214261A (pt) | 2004-09-21 |
ES2284937T3 (es) | 2007-11-16 |
KR20100018081A (ko) | 2010-02-16 |
US6590117B1 (en) | 2003-07-08 |
KR20050036899A (ko) | 2005-04-20 |
ATE360023T1 (de) | 2007-05-15 |
CN1329402C (zh) | 2007-08-01 |
WO2003044028A1 (en) | 2003-05-30 |
CN1615313A (zh) | 2005-05-11 |
KR101012999B1 (ko) | 2011-02-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4336202B2 (ja) | 促進されたヒドロシリル化反応 | |
KR100651094B1 (ko) | 고 수율 히드로실화 방법 | |
EP1237894B1 (en) | Process for producing epoxyorganosilicon compounds | |
JP3947772B2 (ja) | 逆添加による高純度の有機官能性アルキルジアルコキシシラン | |
US6858746B2 (en) | Process for the hydrosilylation of unsaturated aliphatic compounds | |
EP0228095A2 (en) | Process for the preparation of olefinic silanes and siloxanes | |
US6809213B2 (en) | Preparation of secondary aminoisobutylalkoxysilanes | |
EP2963046B1 (en) | Mononuclear ruthenium complex and organic synthesis reaction using same | |
EP2221310B1 (en) | Promoted hydrosilation reactions | |
EP0545702B1 (en) | 2-Trimethoxysilylpropionate | |
JP2022096499A (ja) | オルガノシロキサン化合物の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051017 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051017 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20071127 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090127 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090427 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090602 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090626 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120703 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4336202 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120703 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130703 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |