JP2005509684A - 促進されたヒドロシリル化反応 - Google Patents
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- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 title claims abstract description 45
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims abstract description 39
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 39
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 28
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 28
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 18
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 11
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 125000006737 (C6-C20) arylalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims abstract description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims abstract description 4
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 41
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- -1 triisopropoxysilane Chemical compound 0.000 claims description 21
- GQEZCXVZFLOKMC-UHFFFAOYSA-N 1-hexadecene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC=C GQEZCXVZFLOKMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 15
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 10
- LQFLWKPCQITJIH-UHFFFAOYSA-N n-allyl-aniline Chemical compound C=CCNC1=CC=CC=C1 LQFLWKPCQITJIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- MHNNAWXXUZQSNM-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-1-ene Chemical compound CCC(C)=C MHNNAWXXUZQSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 6
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 5
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N but-2-ene Chemical compound CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 claims description 4
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 claims description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 4
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FXNDIJDIPNCZQJ-UHFFFAOYSA-N 2,4,4-trimethylpent-1-ene Chemical group CC(=C)CC(C)(C)C FXNDIJDIPNCZQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XAYDWGMOPRHLEP-UHFFFAOYSA-N 6-ethenyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CCCC2OC21C=C XAYDWGMOPRHLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical compound CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)OCC GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N octadecene Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCC=C CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 3
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LDCWGVLBCJEQMT-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(2-methylprop-2-enyl)prop-2-en-1-amine Chemical compound CC(=C)CNCC(C)=C LDCWGVLBCJEQMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)OC PKTOVQRKCNPVKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N dimethylacetylene Natural products CC#CC XNMQEEKYCVKGBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N ethoxy(dimethyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)C DRUOQOFQRYFQGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000005394 methallyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- MDLRQEHNDJOFQN-UHFFFAOYSA-N methoxy(dimethyl)silicon Chemical compound CO[Si](C)C MDLRQEHNDJOFQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- AXTLFVLHXSDZOW-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-2-methylprop-2-en-1-amine Chemical compound CCNCC(C)=C AXTLFVLHXSDZOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OZWKZRFXJPGDFM-UHFFFAOYSA-N tripropoxysilane Chemical compound CCCO[SiH](OCCC)OCCC OZWKZRFXJPGDFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 claims description 2
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical class [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 abstract description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 108
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 17
- ZYEMGPIYFIJGTP-UHFFFAOYSA-N O-methyleugenol Chemical compound COC1=CC=C(CC=C)C=C1OC ZYEMGPIYFIJGTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 9
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N n-Octanol Natural products CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 5
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012041 precatalyst Substances 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 3
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 3
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N Peracetic acid Chemical compound CC(=O)OO KFSLWBXXFJQRDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 2
- ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N methylene hexane Natural products CCCCCC=C ZGEGCLOFRBLKSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 2
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- NWRZGFYWENINNX-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-tris(ethenyl)cyclohexane Chemical compound C=CC1CCCCC1(C=C)C=C NWRZGFYWENINNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDRZFSPCVYEJTP-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylcyclohexene Chemical compound C=CC1=CCCCC1 SDRZFSPCVYEJTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLJFKNONPLNAPF-UHFFFAOYSA-N 3-Vinyl-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1C(C=C)CCC2OC21 SLJFKNONPLNAPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical class OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005595 acetylacetonate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- ZGNMUTLEGVXIES-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methyl-trimethylsilyloxysilane;platinum Chemical compound [Pt].[Pt].C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C.C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C.C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C ZGNMUTLEGVXIES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001869 cobalt compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003057 platinum Chemical class 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N prop-2-yn-1-ol Chemical compound OCC#C TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052990 silicon hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 150000003509 tertiary alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1876—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
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Abstract
オレフィン性反応体を用いたヒドリドアルコキシシリル反応体のヒドロシリル化によるケイ素−炭素結合含有化合物の製造方法。
【解決手段】
この方法は、白金触媒と、次式の弱求核性アミンからなる反応促進剤との存在下で実施する。
NZ1Z2Z3
式中、Z1はC6〜C20の炭素原子数のアリール、アルカリール、若しくはアラルキル基、又はオルガノシリル置換基SiR3であり、RはC1〜C20のアルキル又はC6〜C10のアリールであり、Z2は水素、C1〜C20のアルキル、C6〜C20の炭素原子のアリール、アルカリール、若しくはアラルキル基であるか、又はSiR3であり、Rは前に定義した通りであり、Z3はZ1又はZ2と同じであり、適宜、Z1、Z2及びZ3は窒素原子と一緒に芳香族複素環式環を形成している。
Description
本発明の実施の際には、芳香族又はケイ素−置換基のようにアミンの孤立電子対とπ−相互作用することができる置換基を含有する弱求核性アミンを使用することができる。すなわち、弱求核性アミン促進剤は一般式NZ1Z2Z3を有する。この式中、Z1は炭素原子数6〜20のアリール、アルカリール若しくはアラルキル基、又は式SiR3のオルガノシリル基であり、RはC1〜C20、好ましくはC1〜C4のアルキル、又はC6〜C10のアリールであり、Z2は水素、C1〜C20、好ましくはC1〜C4のアルキル、C6〜C20のアリール、アルカリール若しくはアラルキル基、又はSiR3であり、ここでRは前に定義した通りであり、Z3はZ1又はZ2と同じである。適宜、Z1、Z2及びZ3のうちの2つは一緒に窒素原子を含む芳香族複素環式環を形成していてもよい。弱求核性アミンとしては、特に限定されないが、アニリン、ヘキサメチルジシラザン、フェノチアジン、アミノナフタレン、ベンジルアミン、ピリジン及びこれらの対応する誘導体がある。本発明では、アニリン、ベンジルアミン及びヘキサメチルジシラザンが好ましいアミンであり、その選択はヒドリドシラン及びオレフィン反応体に依存する。
促進可能なヒドリドシランは一般に次式で表すことができる。
RnX3-nSiH
式中、Rは炭素原子数1〜18の枝分れ若しくは線状アルキル基、炭素原子数4〜8の環式アルキル基又は炭素原子数6〜12のアリール、アルカリール若しくはアラルキル基であり、適宜、ヒドロシリル化又は促進を妨害しないことを条件として、ハロゲン、酸素又は窒素置換基を含有していてもよく、XはRが上記定義の通りである−ORから選択されるアルコキシ基であり、nは0、1、又は2である。ヒドリドシランはトリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリ−n−プロポキシシラン及びトリイソプロポキシシランの群から選択されるアルコキシシランでよい。トリメトキシシラン及びトリエトキシシランが好ましい。その他のヒドリドアルコキシシランとしては、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン及びジメチルエトキシシランのようなアルキルアルコキシシランがある。
本発明で使用することができるオレフィンは、ある種の官能性置換基を有していてもよい脂肪族不飽和分子である。本明細書で使用する「オレフィン」という用語はその最も広い意味で使用されており、従って、アルケン、ビニル基含有化合物及びアリル基含有化合物を包含するものと理解されたい。末端アルケン、例えばエチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、オクテン、ヘキサデセン、オクタデセン、トリビニルシクロヘキセンを始めとする1−アルケン、及び2−メチルプロペン、2−メチルブテン、ジイソブチレンのような2−アルキル−1−アルケン、並びに非末端アルケン、例えばtert−アミレン及び2−ブテンを有利に使用することができる。1−アルケンが好ましい。他の適当なオレフィンとしては、エポキシオレフィン、例えばビニルシクロヘキセンモノオキシド、アリルグリシジルエーテル、及びアリルオレフィン、例えば、特に限定されないがアリルエステル、アリルポリエーテル、及びアリル第三アミン、並びにこれらのメタリル誘導体がある。その他のオレフィンとしてはアミノオレフィン、例えばN−アリルアニリン、N,N−ジメタリルアミン及びN−エチルメタリルアミンがある。ビニル基含有化合物としては、ビニルエステル及びエーテル、ビニルシラン、アクリレート及びメタクリレートがある。
触媒としては、白金を含有しており、均一又は不均一ヒドロシリル化触媒として機能するものが包含される。典型的な触媒としては、クロロ白金酸及びその各種溶液、例えば、クロロ白金酸が化学的に修飾されている溶液、クロロ白金酸塩及びその溶液、白金を含有するビニルシロキサン錯体及びその溶液(Karstedt触媒)、白金のオレフィン及びジオレフィン錯体及びその溶液、並びに炭素、アルミナ、シリカ、有機変性シリカ、又は卑金属を始めとする各種の支持体上に金属として堆積した白金がある。ホスフィン、アセチルアセトネート基、又はアミンのような強く結合した配位子を含有する白金錯体は、かかる配位子がヒドロシリル化又は促進を妨害しないことを条件として促進可能である。触媒は、仕込み原料全体を基準にして0.5〜100ppm、好ましくは5〜50ppm、最も好ましくは5〜15ppmのレベルで使用すべきである。
アミンによる促進は、設備の点で、構造・装置の大きさ又は材料の種類に関して制限を受けることはない。現在ヒドロシリル化反応を実施することができる広範囲の実験室又は工業規模の設備が使用できる。ヒドロシリル化プロセスは回分式、半回分式又は連続式に行うことができる。
オレフィンとアルコキシシランの反応の一般手順
1.)過剰のオレフィンの存在下。典型的な反応を実施するために、(アルコキシシランに対して)1.05〜1.30モル当量のオレフィンを、室温において、アミン及び白金前触媒又は前触媒溶液で処理した。この溶液を暖めた。90℃で、この溶液を1.00モル当量のアルコキシシランで処理した。アルコキシシランの添加により、発熱反応が生じた。シランの添加中ずっと、この溶液の温度を90〜100℃に維持した。アルコキシシランの添加完了後、この溶液の温度を1時間90℃に維持した。その後、溶液を室温まで放冷した。この粗反応の部分試料をGC分析した。
室温において、20.00gの純1−オクテンを0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、1−オクテン溶液を19.10gのCl3SiHで処理した。Cl3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、20.00gの純1−オクテンを0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、1−オクテン溶液を18.00gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、20.00gの純1−オクテンを0.019mlの酢酸、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、1−オクテン溶液を18.00gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、20.00gの純1−オクテンを0.020mlのアニリン、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、1−オクテン溶液を18.00gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、20.68gの純VCMXを0.020gのアニリン、0.018mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、VCMX溶液を18.43gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、20.07gの純AGEを0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、AGE溶液を18.0gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、20.10gの純AGEを0.020gのフェノチアジン、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、AGE溶液を18.0gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、20.10gの純AGEを0.025mLのNH[Si(CH3)3]2、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、AGE溶液を18.0gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、19.80gの純(MeO)3SiHを0.016mlのPt2(M*M*)3で処理し、暖めた。約85℃で、TMS溶液を20.02gのN−アリルアニリンで処理した。N−アリルアニリンの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、19.80gの純(MeO)3SiHを0.40gのアニリン、0.016mlのPt2(M*M*)3で処理し、暖めた。約85℃で、(MeO)3SiH溶液を20.02gのN−アリルアニリンで処理した。N−アリルアニリンの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、19.80gの純(MeO)3SiHを0.016mlのPt2(M*M*)3で処理し、暖めた。約85℃で、(MeO)3SiH溶液を、20.02gのN−アリルアニリン中に溶解した0.40gのアニリンからなる溶液で処理した。N−アリルアニリンの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、12.10gの純TVCを0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、TVC溶液を19.80gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、12.10gの純TVCを0.016gのアニリン、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、TVC溶液を19.8gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、12.10gの純TVCを0.032gのアニリン、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、TVC溶液を19.8gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を2時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、12.10gの純TVCを0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、メチルジエトキシシラン溶液を、0.020mlのアニリンを含有するTVC溶液で処理した。TVCの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、6.50gの純TVCを0.007mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、TVC溶液を24.48gの(EtO)3SiH溶液で処理した。(EtO)3SiHの添加完了後、この溶液を2時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、6.50gの純TVCを0.007mlのCPA、0.031mLのアニリンで処理し、暖めた。90℃で、(EtO)3SiH溶液を24.48gの(EtO)3SiHで処理した。(EtO)3SiHの添加完了後、この溶液を2時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、31.51gの純オイゲノールメチルエーテルを0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、オイゲノールメチルエーテル溶液を18.0gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、31.51gの純オイゲノールメチルエーテルを0.025gの酢酸、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、オイゲノールメチルエーテル溶液を18.0gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、31.51gの純オイゲノールメチルエーテルを0.025gのベンジルアミン、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、オイゲノールメチルエーテル溶液を18.0gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、107.78gの純ヘキサデセンを0.440mlのCPAで処理し、暖めた。90℃でヘキサデセン溶液を48.9gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、36.6gの純ヘキサデセンを0.112gの酢酸、0.017mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、ヘキサデセン溶液を22.3gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
室温において、36.7gの純ヘキサデセンを0.081gのアニリン、0.012mlのPt2(M*M*)3で処理し、暖めた。90℃で、ヘキサデセン溶液を18.6gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Claims (15)
- ヒドリドアルコキシシランと(b)オレフィンとを、(c)白金触媒及び(d)次式の弱求核性アミンの存在下で反応させることを含んでなる方法。
NZ1Z2Z3
式中、Z1は炭素原子数C6〜C20のアリール、アルカリール若しくはアラルキル基、又は式SiR3のオルガノシリル置換基であり、RはC1〜C20アルキル又はC6〜C10アリールであり、Z2は水素、C1〜C20アルキル、炭素原子数C6〜C20のアリール、アルカリール若しくはアラルキル基、又はSiR3であり、Rは前に定義した通りであり、Z3はZ1又はZ2と同じであり、適宜、Z1、Z2及びZ3の2つは窒素原子と一緒に芳香族複素環式環を形成してもよい。 - ヒドリドアルコキシシランが次式に対応する、請求項1記載の方法。
RnX3-nSiH
式中、Rは炭素原子数1〜18の枝分れ若しくは線状アルキル基、炭素原子数4〜8の環式アルキル基、又は炭素原子数6〜12のアリール、アルカリール若しくはアラルキル基であり、適宜ハロゲン、酸素又は窒素置換基を含有していてもよいが、但し、かかる置換基がヒドロシリル化又は促進のいずれも妨害しないことを条件とし、Xは−ORであり、Rは上記定義の通りであり、nは0、1又は2である。 - nが0又は1であり、Xがエトキシ及びメトキシからなる群から選択される、請求項2記載の方法。
- ヒドリドアルコキシシランが、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリ−n−プロポキシシラン、トリイソプロポキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン及びジメチルエトキシシランからなる群から選択される、請求項2記載の方法。
- ヒドリドアルコキシシランが、トリメトキシシラン及びトリエトキシシランからなる群から選択される、請求項2記載の方法。
- オレフィンが、アルケン、ビニル基含有化合物及びアリル基含有化合物からなる群から選択される、請求項1記載の方法。
- オレフィンが、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、オクテン、ヘキサデセン、オクタデセン、トリビニルシクロヘキセン、2−メチルプロペン、2−メチルブテン、ジイソブチレン、tert−アミレン、2−ブテン、ビニルシクロヘキセンモノオキシド、アリルグリシジルエーテル、アリルエステル、アリルポリエーテル、アリル第三アミン及びこれらのメタリル誘導体、N−アリルアニリン、N,N−ジメタリルアミン、N−エチルメタリルアミン、ビニルエステル及びエーテル、ビニルシラン、アクリレート及びメタクリレートからなる群から選択される、請求項1記載の方法。
- オレフィンが、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、オクテン、ヘキサデセン、オクタデセン、トリビニルシクロヘキセン、2−メチルプロペン、2−メチルブテン及びジイソブチレンからなる群から選択される、請求項1記載の方法。
- 白金触媒がクロロ白金酸である、請求項1記載の方法。
- ヒドリドアルコキシシラン及びオレフィンの合計重量の25〜20000重量ppmのレベルで弱求核性アミンを使用する、請求項1記載の方法。
- 弱求核性アミンが、アニリン、ヘキサメチルジシラザン、フェノチアジン、アミノナフタレン、ベンジルアミン、ピリジン及びこれらの誘導体からなる群から選択される、請求項1記載の方法。
- オレフィンがアミノオレフィンである、請求項1記載の方法。
- オレフィンがヘキサデセンである、請求項1記載の方法。
- 略周囲温度〜約150℃の温度及び約0.2〜約2.0気圧の圧力で反応を実施する、請求項1記載の方法。
- ヒドリドアルコキシシランに対してモル過剰のオレフィンを反応に使用する、請求項1記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/004,156 US6590117B1 (en) | 2001-11-15 | 2001-11-15 | Promoted hydrosilation reactions |
PCT/US2002/032826 WO2003044028A1 (en) | 2001-11-15 | 2002-10-15 | Promoted hydrosilation reactions |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005509684A true JP2005509684A (ja) | 2005-04-14 |
JP2005509684A5 JP2005509684A5 (ja) | 2006-01-05 |
JP4336202B2 JP4336202B2 (ja) | 2009-09-30 |
Family
ID=21709437
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003545665A Expired - Fee Related JP4336202B2 (ja) | 2001-11-15 | 2002-10-15 | 促進されたヒドロシリル化反応 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6590117B1 (ja) |
EP (1) | EP1448573B1 (ja) |
JP (1) | JP4336202B2 (ja) |
KR (2) | KR101012999B1 (ja) |
CN (1) | CN1329402C (ja) |
AT (1) | ATE360023T1 (ja) |
BR (1) | BR0214261A (ja) |
CA (1) | CA2467371A1 (ja) |
DE (1) | DE60219667T2 (ja) |
ES (1) | ES2284937T3 (ja) |
WO (1) | WO2003044028A1 (ja) |
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-
2001
- 2001-11-15 US US10/004,156 patent/US6590117B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-10-15 BR BR0214261-9A patent/BR0214261A/pt not_active Withdrawn
- 2002-10-15 JP JP2003545665A patent/JP4336202B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-10-15 KR KR1020107000969A patent/KR101012999B1/ko active IP Right Grant
- 2002-10-15 KR KR1020047007414A patent/KR100950824B1/ko active IP Right Grant
- 2002-10-15 DE DE60219667T patent/DE60219667T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-10-15 CN CNB028270878A patent/CN1329402C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2002-10-15 EP EP02778555A patent/EP1448573B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-10-15 ES ES02778555T patent/ES2284937T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2002-10-15 WO PCT/US2002/032826 patent/WO2003044028A1/en active Application Filing
- 2002-10-15 CA CA002467371A patent/CA2467371A1/en not_active Abandoned
- 2002-10-15 AT AT02778555T patent/ATE360023T1/de not_active IP Right Cessation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US9156864B2 (en) | 2010-12-09 | 2015-10-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Hydrosilylation method, method for producing organosilicon compound, and organosilicon compound |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1329402C (zh) | 2007-08-01 |
DE60219667D1 (de) | 2007-05-31 |
KR100950824B1 (ko) | 2010-04-02 |
EP1448573B1 (en) | 2007-04-18 |
EP1448573A1 (en) | 2004-08-25 |
KR101012999B1 (ko) | 2011-02-10 |
CA2467371A1 (en) | 2003-05-30 |
ATE360023T1 (de) | 2007-05-15 |
KR20100018081A (ko) | 2010-02-16 |
US6590117B1 (en) | 2003-07-08 |
KR20050036899A (ko) | 2005-04-20 |
DE60219667T2 (de) | 2008-02-07 |
CN1615313A (zh) | 2005-05-11 |
WO2003044028A1 (en) | 2003-05-30 |
ES2284937T3 (es) | 2007-11-16 |
BR0214261A (pt) | 2004-09-21 |
JP4336202B2 (ja) | 2009-09-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A711 | Notification of change in applicant |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120703 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120703 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130703 Year of fee payment: 4 |
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R250 | Receipt of annual fees |
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