JP2005509684A - 促進されたヒドロシリル化反応 - Google Patents

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Abstract

【課題】
オレフィン性反応体を用いたヒドリドアルコキシシリル反応体のヒドロシリル化によるケイ素−炭素結合含有化合物の製造方法。
【解決手段】
この方法は、白金触媒と、次式の弱求核性アミンからなる反応促進剤との存在下で実施する。
NZ123
式中、Z1はC6〜C20の炭素原子数のアリール、アルカリール、若しくはアラルキル基、又はオルガノシリル置換基SiR3であり、RはC1〜C20のアルキル又はC6〜C10のアリールであり、Z2は水素、C1〜C20のアルキル、C6〜C20の炭素原子のアリール、アルカリール、若しくはアラルキル基であるか、又はSiR3であり、Rは前に定義した通りであり、Z3はZ1又はZ2と同じであり、適宜、Z1、Z2及びZ3は窒素原子と一緒に芳香族複素環式環を形成している。

Description

本発明は、ヒドロシリル化触媒の存在下弱求核性アミンを用いて比較的温和な条件下でアルコキシヒドリドシランのヒドロシリル化の収率及び速度改良する方法を提供する。
ケイ素組成物の製造において、遷移金属触媒がヒドロシリル化反応を促進することは以前から知られている。遷移金属を触媒とする各ヒドロシリル化反応は全く異なっているので、どの遷移金属が、特定のヒドリドシリル反応体と特定の不飽和反応体とのヒドロシリル化反応を効率よく触媒するか予測するのは困難である。例えば、ケイ素原子上の置換基が、1−アルケンとの白金(Pt)触媒反応で得られる付加物収率に及ぼす効果は、次に示す順の活性を有する(R=Et)。
Cl3SiH>Cl2RSiH>(RO)3SiH>(RO)2RSiH>R3SiH
Pt触媒ヒドロシリル化反応の一般的な傾向として、クロロシランの方がアルコキシシランより反応性が高い(Comprehensive Handbook on Hydrosilylation;B.Marciniec,Ed.;Pergamon Press,New York,1992;Ch.4;J.LSpeier Adv.Organomet.Chem.1979,17,407;E.Lukevics Russ.Chem.Rev.1977,46,197)。しかし、異なる遷移金属又はオレフィンについて評価すると、上記の傾向は異なり得る。例えば、ヘプテンとロジウム(Rh)のヒドロシリル化反応では、上記の傾向は逆転する。オルガノ官能性シランの商業生産においてはPt触媒ヒドロシリル化反応が比較的重要であるため、ヒドロシリル化においてアルコキシシランの反応性と選択性の両方がクロロシランの場合より改善される方法が有効であろう。
当技術分野の多くの特許に、各種の促進剤が、ヒドロシリル化反応の速度及び/又は選択性を増大することができるということが開示されている。化学構造又は性質の点からみて、各種タイプの促進剤は非常に異なっており、従って、促進はヒドリドシリル反応体、不飽和反応体及びヒドロシリル化触媒の各々の化学構造及び性質にも依存することから、いかなる化学構造又は性質が促進にとって重要であるのか、またさらにはどのヒドロシリル化反応が促進され得るのかを予測するのは不可能である。例えば、トリクロロシランと塩化アリルとの反応はフェノチアジンのような弱アミンによって促進されるが(V.T.Chuangの米国特許第3925434号)、メチルジクロロシランと塩化アリルの反応にはトリブチルアミンのようなより塩基性の第三アミンが必要である(独国特許第1156073号、C.Huら、Fenzi Cuibua,1988,2,38−43;Chem.Abstr.,1989,111,78085m参照)。これらの反応はいずれも、第2のヒドリドシランを用いて(米国特許第4614812号)異なる促進メカニズムによって促進することができる。アルカリ金属の炭酸塩又は重炭酸塩はアリルアミンとヒドリドアルコキシシランのヒドロシリル化を促進する(米国特許第4481364号)。他のヒドロシリル化反応が、ホスフィン、酸素ガス(D.L.Kleyerらの米国特許第5359111号)、酸素含有有機物質、例えばアルデヒド、不飽和ケトン(R.Reitmeierらの米国特許第5663400号、H.M.Bankらの米国特許第5623083号)、第三アルコール及びこれらのシリル化誘導体、並びにプロパルギルアルコール及びこれらのシリル化誘導体(H.M.Bankらの米国特許第5756795号)、無機又は有機塩、例えばナトリウムアルコキシド並びにスズ及びコバルトの化合物、並びに他の有機化合物、例えばアルコール、ジオール、エーテル及びエステルによって促進される。カルボン酸、並びにこれらのケトン及びエステルも、ヒドリドアルコキシシランとアリルアミンの白金触媒ヒドロシリル化反応を促進するようである(ソ連特許第415268号)。トリメトキシシランが関与するヒドロシリル化を促進するのに酢酸を使用することは、オレフィンとしてビニルシクロヘキセンオキシドを用いることと同一である。すなわち、酢酸は過酢酸(米国特許第2687406号)又はアリルグリシジルエーテル(J.Am.Chem.Soc.1959,81,3350)を用いてエポキシオレフィンを製造する早期過程の不純物であることが発見されていたからである。
ヒドロシリル化の促進作用は極めて特異的であり、ある効果的な促進剤は特定のヒドリドシランと特定のオレフィンとの単一のヒドロシリル化反応で作用し得る。反応速度、収率、又は選択性を増大することに加えて、促進剤は、所望でない重合又はあまり望ましくない異性体生成物の生成といったように収率/選択性を低下させる望ましくない副反応を防止するすることによって作用し得る。例えば、添加されたメタノールは、トリメトキシシランとエポキシオレフィン、すなわちビニルシクロヘキセンモノエポキシド及びアリルグリシジルエーテルとの白金触媒ヒドロシリル化の反応生成物中の所望でないβ−異性体の含量を低減するのに有効であることが開示されている(H.Takaiら、米国特許第4966981号)。
ヒドリドシランとアクリロニトリルのヒドロシリル化でアミン、特に銅(Cu)の存在下での第三アミンの使用が頻繁に報告されて来ている(B.A.Bluestein、米国特許第2971970号(1961年)、Z.V.Belyakovaら、Zhurnal Obshchei Khimii(訳文)1964,34,1480−1484;A.Rajkumarら、Organometallics 1989,8,549−550;H.M.Bank、米国特許第5283348号及び米国特許第5103033号)。米国特許第4292434号(T.Lindnerら)には、アミン−白金触媒の製造及びヒドロシリル化反応におけるその使用が記載されている。K.R.Mehtaらは米国特許第5191103号に、白金触媒の存在下で立体障害アミン、ホスフィン又はこれらと等価な塩を使用してヒドロシリル化反応を促進することを報告している。
ヒドロシリル化反応を促進することに加えて、アミンは、ヒドロシリル化反応に対する抑制剤であることが報告されている。例えば、G.Janikらは米国特許第4584361号に、アミンが40℃より低温でポリオルガノシロキサン組成物を抑制したが、135℃では抑制しなかったことを報告している。また、R.P.Eckbergらも、エポキシシリコーンの製造の際にRh触媒とPt触媒両方の存在下で第三アミンを使用してエポキシ重合を抑制することを報告している。
米国特許第3925434号 独国特許第1156073号 米国特許第4614812号 米国特許第4481364号 米国特許第5359111号 米国特許第5663400号 米国特許第5623083号 米国特許第5756795号 ソ連特許第415268号 米国特許第2687406号 米国特許第4966981号 米国特許第2971970号 米国特許第5283348号 米国特許第5103033号 米国特許第4292434号 米国特許第5191103号 米国特許第4584361号 Comprehensive Handbook on Hydrosilylation;B.Marciniec,Ed.;Pergamon Press,New York,1992;Ch.4 J.LSpeier Adv.Organomet.Chem.,1979,17,407 E.Lukevics Russ.Chem.Rev.,1977,46,197 C.Huら,Fenzi Cuibua,1988,2,38−43 Chem.Abstr.,1989,111,78085m J.Am.Chem.Soc.1959,81,3350 Z.V.Belyakovaら,Zhurnal Obshchei Khimii(訳文)1964,34,1480−1484 A.Rajkumarら,Organometallics 1989,8,549−550
多くのオレフィン、特にアミノ官能性オレフィンのヒドロシリル化反応は、非常に遅いか、又は全く起こらない。ヒドロシリル化を起こすオレフィンの場合、所望でないβ−異性体の生成が副反応として競合する。使用するこの種のシランはまた反応の速度にも影響を及ぼす。通例、ヒドロシリル化反応は遅いので、競合する副反応、例えば、オレフィンの異性化又は重合が増大する。従って、オレフィンの遷移金属触媒ヒドロシリル化反応の反応性及び選択性を改良する方法が相変わらず商業上望ましい課題である。
本発明により、(a)ヒドリドアルコキシシランと、(b)オレフィンとを、(c)白金触媒及び(d)式NZ123の弱求核性アミンの存在下で反応させることからなる方法が提供される。前記式中、Z1は炭素原子数C6〜C20のアリール、アルカリール若しくはアラルキル基、又は式SiR3のオルガノシリル基であり、式中RはC1〜C20のアルキル又はC6〜C10のアリールであり、Z2は水素、C1〜C20のアルキル、C6〜C20のアリール、アルカリール若しくはアラルキル基、又はSiR3であり、この式で、Rは前に定義した通りであり、Z3はZ1又はZ2と同じであり、適宜Z1、Z2及びZ3の2つが窒素原子と一緒に芳香族複素環式環を形成していてもよい。本発明の方法は、所望反応生成物に関して改良された収率及び選択性を示す。
本発明は、ヒドロシリル化触媒の存在下弱求核性アミンを用いて比較的温和な条件下でアルコキシヒドリドシランのヒドロシリル化の収率及び速度改良する方法を提供する。
アミン
本発明の実施の際には、芳香族又はケイ素−置換基のようにアミンの孤立電子対とπ−相互作用することができる置換基を含有する弱求核性アミンを使用することができる。すなわち、弱求核性アミン促進剤は一般式NZ123を有する。この式中、Z1は炭素原子数6〜20のアリール、アルカリール若しくはアラルキル基、又は式SiR3のオルガノシリル基であり、RはC1〜C20、好ましくはC1〜C4のアルキル、又はC6〜C10のアリールであり、Z2は水素、C1〜C20、好ましくはC1〜C4のアルキル、C6〜C20のアリール、アルカリール若しくはアラルキル基、又はSiR3であり、ここでRは前に定義した通りであり、Z3はZ1又はZ2と同じである。適宜、Z1、Z2及びZ3のうちの2つは一緒に窒素原子を含む芳香族複素環式環を形成していてもよい。弱求核性アミンとしては、特に限定されないが、アニリン、ヘキサメチルジシラザン、フェノチアジン、アミノナフタレン、ベンジルアミン、ピリジン及びこれらの対応する誘導体がある。本発明では、アニリン、ベンジルアミン及びヘキサメチルジシラザンが好ましいアミンであり、その選択はヒドリドシラン及びオレフィン反応体に依存する。
ヒドリドシラン
促進可能なヒドリドシランは一般に次式で表すことができる。
n3-nSiH
式中、Rは炭素原子数1〜18の枝分れ若しくは線状アルキル基、炭素原子数4〜8の環式アルキル基又は炭素原子数6〜12のアリール、アルカリール若しくはアラルキル基であり、適宜、ヒドロシリル化又は促進を妨害しないことを条件として、ハロゲン、酸素又は窒素置換基を含有していてもよく、XはRが上記定義の通りである−ORから選択されるアルコキシ基であり、nは0、1、又は2である。ヒドリドシランはトリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリ−n−プロポキシシラン及びトリイソプロポキシシランの群から選択されるアルコキシシランでよい。トリメトキシシラン及びトリエトキシシランが好ましい。その他のヒドリドアルコキシシランとしては、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン及びジメチルエトキシシランのようなアルキルアルコキシシランがある。
オレフィン
本発明で使用することができるオレフィンは、ある種の官能性置換基を有していてもよい脂肪族不飽和分子である。本明細書で使用する「オレフィン」という用語はその最も広い意味で使用されており、従って、アルケン、ビニル基含有化合物及びアリル基含有化合物を包含するものと理解されたい。末端アルケン、例えばエチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、オクテン、ヘキサデセン、オクタデセン、トリビニルシクロヘキセンを始めとする1−アルケン、及び2−メチルプロペン、2−メチルブテン、ジイソブチレンのような2−アルキル−1−アルケン、並びに非末端アルケン、例えばtert−アミレン及び2−ブテンを有利に使用することができる。1−アルケンが好ましい。他の適当なオレフィンとしては、エポキシオレフィン、例えばビニルシクロヘキセンモノオキシド、アリルグリシジルエーテル、及びアリルオレフィン、例えば、特に限定されないがアリルエステル、アリルポリエーテル、及びアリル第三アミン、並びにこれらのメタリル誘導体がある。その他のオレフィンとしてはアミノオレフィン、例えばN−アリルアニリン、N,N−ジメタリルアミン及びN−エチルメタリルアミンがある。ビニル基含有化合物としては、ビニルエステル及びエーテル、ビニルシラン、アクリレート及びメタクリレートがある。
触媒
触媒としては、白金を含有しており、均一又は不均一ヒドロシリル化触媒として機能するものが包含される。典型的な触媒としては、クロロ白金酸及びその各種溶液、例えば、クロロ白金酸が化学的に修飾されている溶液、クロロ白金酸塩及びその溶液、白金を含有するビニルシロキサン錯体及びその溶液(Karstedt触媒)、白金のオレフィン及びジオレフィン錯体及びその溶液、並びに炭素、アルミナ、シリカ、有機変性シリカ、又は卑金属を始めとする各種の支持体上に金属として堆積した白金がある。ホスフィン、アセチルアセトネート基、又はアミンのような強く結合した配位子を含有する白金錯体は、かかる配位子がヒドロシリル化又は促進を妨害しないことを条件として促進可能である。触媒は、仕込み原料全体を基準にして0.5〜100ppm、好ましくは5〜50ppm、最も好ましくは5〜15ppmのレベルで使用すべきである。
プロセス
アミンによる促進は、設備の点で、構造・装置の大きさ又は材料の種類に関して制限を受けることはない。現在ヒドロシリル化反応を実施することができる広範囲の実験室又は工業規模の設備が使用できる。ヒドロシリル化プロセスは回分式、半回分式又は連続式に行うことができる。
反応条件も、温度、圧力、又は不活性溶媒の有無に関して狭く限定されることはない。現在各種のヒドロシリル化反応に使用されている条件を、本発明の促進されたヒドロシリル化に使用することができる。反応温度若しくは触媒濃度又は両者を低下させるという追加の利点を伴って効果的な促進を達成することが可能である。好ましい反応条件として、温度は略周囲温度〜約150℃以下であり、60〜120が炭素原子数Cが最も好ましい。一般に、本方法は約0.2〜2.0気圧(0.02〜0.2MPa)の圧力で行われ、周囲圧力が好ましいが、個々の反応体の揮発性に応じて高温又は低温を維持するためにより高い圧力又はより低い圧力で操作してもよい。
反応器内の滞留時間は臨界的なものではないが、装置の容積と所望の生産速度を考えて許容できる限界内で満足のいくヒドロシリル化生成物の変換率、すなわち>80%を達成するのに充分なものとするべきである。典型的な許容できる滞留時間は0.5〜4時間である。
オレフィンは、好ましくは5〜20%のモル過剰で存在するべきであるが、化学量論当量又はモル過剰のシランを使用してもよい。本発明の促進剤を使用すると、競合するオレフィン異性化副反応が低減するために、より少ないモル過剰でオレフィンを使用することが可能になる。
アミンはヒドロシリル化の開始時に存在していてもよいし、又は反応が良好に進行しない場合には反応中に添加してもよい(注意。アミンは、不完全な反応、すなわちヒドリドシリル反応体とオレフィン反応体の両方がかなりの量で蓄積されている状態で添加すべきではない。急速な発熱反応が起こる場合がある)。アミンは25〜20000ppm(wt/wt)の濃度で使用することができるが、好ましいアミン濃度はオレフィン−シラン系に依存する。最良の実施形態は、アルコキシシランを伴わないでオレフィンと共にアミンを導入することであるが、アルコキシシランと共にアミンを導入することもできる。
アミンによる促進は、例えば蒸留により精製することができ、従ってアミンから分離することができるヒドロシリル化生成物に対して有効である。このアミンは、沸点がより高いか又は低く、ストリッピングにより除去されるか若しくは蒸留残渣中に残留し、単離して廃棄するか若しくは次のバッチの生成物を促進するのに再使用することができる。
以下の実施例と比較例は本発明をより詳細に説明するためのものであり、本明細書及び特許請求の範囲を限定する意味はない。特に断らない限り、以下の実施例に示す部及びパーセントは全て重量である。略号g、mL、VCMX、AGE、TVC、CPA、Pt2(M**3溶液、Si−H、AcOH、MeOH、EtOH及びGCは、それぞれ、グラム、ミリリットル、4−ビニルシクロヘキセンモノオキシド、アリルグリシジルエーテル、トリビニルシクロヘキサンの3種の構造異性体の混合物、エタノール中10%(wt/wt)ヘキサクロロ白金酸からなる溶液、12%(wt/wt)トリス(テトラメチルジビニルジシロキサン)二白金(0)の溶液、水素化ケイ素含有化学種、酢酸、メタノール、エタノール及びガスクロマトグラフィーを表す。VCMXを用いた実施例ではGC分析に関して非溶出重質物のパーセントを決定するために内部標準を使用した。非溶出重質物は、特定の分析に使用するGC条件下で溶出しなかった全ての成分と定義される。*は内部標準を使用しなかったことを示す。
本発明の実施例
オレフィンとアルコキシシランの反応の一般手順
1.)過剰のオレフィンの存在下。典型的な反応を実施するために、(アルコキシシランに対して)1.05〜1.30モル当量のオレフィンを、室温において、アミン及び白金前触媒又は前触媒溶液で処理した。この溶液を暖めた。90℃で、この溶液を1.00モル当量のアルコキシシランで処理した。アルコキシシランの添加により、発熱反応が生じた。シランの添加中ずっと、この溶液の温度を90〜100℃に維持した。アルコキシシランの添加完了後、この溶液の温度を1時間90℃に維持した。その後、溶液を室温まで放冷した。この粗反応の部分試料をGC分析した。
2.)過剰のアルコキシシランの存在下。典型的な反応を実施するために、(所望のオレフィンに対して)1.05〜1.30モル当量のアルコキシシランを、室温において、アミン及び白金前触媒又は前触媒溶液で処理した。このアミンはアルコキシシラン又はオレフィンのいずれかに溶解させることができる。この溶液を約80℃(還流(MeO)3SiH)に暖め、1.00モル当量の所望のオレフィン(又はオレフィン−アミン溶液)で処理した。オレフィン(又はオレフィン−アミン溶液)の添加により、発熱反応が生じた。オレフィンの添加中ずっと、この溶液の温度を90〜100℃に維持した。オレフィンの添加完了後、この溶液の温度を1時間90℃に維持した。その後、この溶液を室温まで放冷した。この溶液の部分試料をGC分析した。
比較例1
室温において、20.00gの純1−オクテンを0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、1−オクテン溶液を19.10gのCl3SiHで処理した。Cl3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684
比較例2
室温において、20.00gの純1−オクテンを0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、1−オクテン溶液を18.00gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684
比較例3
室温において、20.00gの純1−オクテンを0.019mlの酢酸、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、1−オクテン溶液を18.00gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684
実施例1
室温において、20.00gの純1−オクテンを0.020mlのアニリン、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、1−オクテン溶液を18.00gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684
実施例2〜8では反応は全て、(MeO)3SiHに対して20%モル過剰の1−オクテン(純度98%)、アミン促進剤及び10ppmのPt(クロロ白金酸の溶液として)を用いて90℃で行い、添加完了後1時間90℃に維持した。溶液は全て、ガスクロマトグラフィーを用いて分析した。実施例2〜8のGCデータを表1にまとめて示す。
Figure 2005509684
実施例9
室温において、20.68gの純VCMXを0.020gのアニリン、0.018mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、VCMX溶液を18.43gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684
実施例10〜17では反応は全て、(MeO)3SiHに対して10%モル過剰のVCMX(純度97%)、アミン促進剤及び10ppmのPt(クロロ白金酸の溶液として)を用いて90℃で行い、添加完了後1時間90℃に維持した。溶液は全てガスクロマトグラフィーで分析した。実施例10〜17のGCデータをまとめて表2に示す。
Figure 2005509684
比較例4
室温において、20.07gの純AGEを0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、AGE溶液を18.0gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684
実施例18
室温において、20.10gの純AGEを0.020gのフェノチアジン、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、AGE溶液を18.0gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684
実施例19
室温において、20.10gの純AGEを0.025mLのNH[Si(CH332、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、AGE溶液を18.0gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684
実施例20〜22では反応は全て、(MeO)3SiHに対して20%モル過剰のAGE(純度99%)、アミン促進剤及び10ppmのPt(クロロ白金酸の溶液として)を用いて90℃で行い、添加完了後1時間90℃に維持した。全ての溶液をガスクロマトグラフィーで分析した。比較例4と実施例18〜22のGCデータをまとめて表3に示す。
Figure 2005509684
比較例5
室温において、19.80gの純(MeO)3SiHを0.016mlのPt2(M**3で処理し、暖めた。約85℃で、TMS溶液を20.02gのN−アリルアニリンで処理した。N−アリルアニリンの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684
実施例23
室温において、19.80gの純(MeO)3SiHを0.40gのアニリン、0.016mlのPt2(M**3で処理し、暖めた。約85℃で、(MeO)3SiH溶液を20.02gのN−アリルアニリンで処理した。N−アリルアニリンの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684
実施例24
室温において、19.80gの純(MeO)3SiHを0.016mlのPt2(M**3で処理し、暖めた。約85℃で、(MeO)3SiH溶液を、20.02gのN−アリルアニリン中に溶解した0.40gのアニリンからなる溶液で処理した。N−アリルアニリンの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684
実施例25〜28では反応は全て、N−アリルアニリン(純度97%)に対して10%モル過剰の(MeO)3SiH、アミン促進剤及び20ppmのPt([Pt2(M**3]の溶液として)を用いて85℃で行い、添加完了後1時間90℃に維持した。全ての溶液をガスクロマトグラフィーで分析した。比較例5と実施例23〜28のGCデータをまとめて表4に示す。
Figure 2005509684
比較例6
室温において、12.10gの純TVCを0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、TVC溶液を19.80gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684
実施例29
室温において、12.10gの純TVCを0.016gのアニリン、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、TVC溶液を19.8gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684
実施例30
室温において、12.10gの純TVCを0.032gのアニリン、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、TVC溶液を19.8gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を2時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684
実施例31〜36では反応は全て、TVCに対して10%モル過剰の(MeO)3SiH、アミン促進剤及び10ppmのPt(クロロ白金酸の溶液として)を用いて90℃で行い、添加完了後1時間90℃に維持した。全ての溶液をガスクロマトグラフィーで分析した。実施例29〜36のGCデータをまとめて表5に示す。
Figure 2005509684
比較例7
室温において、12.10gの純TVCを0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、メチルジエトキシシラン溶液を、0.020mlのアニリンを含有するTVC溶液で処理した。TVCの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684
実施例37〜38では反応は全て、TVCに対して10%モル過剰のMe(EtO)2SiH、アミン促進剤及び10ppmのPt(クロロ白金酸の溶液として)を用いて90℃で行い、添加完了後1時間90℃に維持した。全ての溶液をガスクロマトグラフィーで分析した。比較例7と実施例37〜38のGCデータをまとめて表6に示す。
Figure 2005509684
比較例8
室温において、6.50gの純TVCを0.007mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、TVC溶液を24.48gの(EtO)3SiH溶液で処理した。(EtO)3SiHの添加完了後、この溶液を2時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684
実施例39
室温において、6.50gの純TVCを0.007mlのCPA、0.031mLのアニリンで処理し、暖めた。90℃で、(EtO)3SiH溶液を24.48gの(EtO)3SiHで処理した。(EtO)3SiHの添加完了後、この溶液を2時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684
比較例9
室温において、31.51gの純オイゲノールメチルエーテルを0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、オイゲノールメチルエーテル溶液を18.0gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684
比較例10
室温において、31.51gの純オイゲノールメチルエーテルを0.025gの酢酸、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、オイゲノールメチルエーテル溶液を18.0gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684
実施例40
室温において、31.51gの純オイゲノールメチルエーテルを0.025gのベンジルアミン、0.010mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、オイゲノールメチルエーテル溶液を18.0gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684
実施例41〜44では反応は全て、(MeO)3SiHに対して20%モル過剰のオイゲノールメチルエーテル、アミン促進剤及び10ppmのPt(クロロ白金酸の溶液として)を用いて90℃で行い、添加完了後1時間90℃に維持した。全ての溶液をガスクロマトグラフィーで分析した。比較例9及び10並びに実施例40〜44のGCデータをまとめて表7に示す。
Figure 2005509684
比較例11
室温において、107.78gの純ヘキサデセンを0.440mlのCPAで処理し、暖めた。90℃でヘキサデセン溶液を48.9gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684
比較例12
室温において、36.6gの純ヘキサデセンを0.112gの酢酸、0.017mlのCPAで処理し、暖めた。90℃で、ヘキサデセン溶液を22.3gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684
実施例45
室温において、36.7gの純ヘキサデセンを0.081gのアニリン、0.012mlのPt2(M**3で処理し、暖めた。90℃で、ヘキサデセン溶液を18.6gの(MeO)3SiHで処理した。(MeO)3SiHの添加完了後、この溶液を1時間90℃に維持した。この溶液をGC分析した。
Figure 2005509684

Claims (15)

  1. ヒドリドアルコキシシランと(b)オレフィンとを、(c)白金触媒及び(d)次式の弱求核性アミンの存在下で反応させることを含んでなる方法。
    NZ123
    式中、Z1は炭素原子数C6〜C20のアリール、アルカリール若しくはアラルキル基、又は式SiR3のオルガノシリル置換基であり、RはC1〜C20アルキル又はC6〜C10アリールであり、Z2は水素、C1〜C20アルキル、炭素原子数C6〜C20のアリール、アルカリール若しくはアラルキル基、又はSiR3であり、Rは前に定義した通りであり、Z3はZ1又はZ2と同じであり、適宜、Z1、Z2及びZ3の2つは窒素原子と一緒に芳香族複素環式環を形成してもよい。
  2. ヒドリドアルコキシシランが次式に対応する、請求項1記載の方法。
    n3-nSiH
    式中、Rは炭素原子数1〜18の枝分れ若しくは線状アルキル基、炭素原子数4〜8の環式アルキル基、又は炭素原子数6〜12のアリール、アルカリール若しくはアラルキル基であり、適宜ハロゲン、酸素又は窒素置換基を含有していてもよいが、但し、かかる置換基がヒドロシリル化又は促進のいずれも妨害しないことを条件とし、Xは−ORであり、Rは上記定義の通りであり、nは0、1又は2である。
  3. nが0又は1であり、Xがエトキシ及びメトキシからなる群から選択される、請求項2記載の方法。
  4. ヒドリドアルコキシシランが、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリ−n−プロポキシシラン、トリイソプロポキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン及びジメチルエトキシシランからなる群から選択される、請求項2記載の方法。
  5. ヒドリドアルコキシシランが、トリメトキシシラン及びトリエトキシシランからなる群から選択される、請求項2記載の方法。
  6. オレフィンが、アルケン、ビニル基含有化合物及びアリル基含有化合物からなる群から選択される、請求項1記載の方法。
  7. オレフィンが、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、オクテン、ヘキサデセン、オクタデセン、トリビニルシクロヘキセン、2−メチルプロペン、2−メチルブテン、ジイソブチレン、tert−アミレン、2−ブテン、ビニルシクロヘキセンモノオキシド、アリルグリシジルエーテル、アリルエステル、アリルポリエーテル、アリル第三アミン及びこれらのメタリル誘導体、N−アリルアニリン、N,N−ジメタリルアミン、N−エチルメタリルアミン、ビニルエステル及びエーテル、ビニルシラン、アクリレート及びメタクリレートからなる群から選択される、請求項1記載の方法。
  8. オレフィンが、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、オクテン、ヘキサデセン、オクタデセン、トリビニルシクロヘキセン、2−メチルプロペン、2−メチルブテン及びジイソブチレンからなる群から選択される、請求項1記載の方法。
  9. 白金触媒がクロロ白金酸である、請求項1記載の方法。
  10. ヒドリドアルコキシシラン及びオレフィンの合計重量の25〜20000重量ppmのレベルで弱求核性アミンを使用する、請求項1記載の方法。
  11. 弱求核性アミンが、アニリン、ヘキサメチルジシラザン、フェノチアジン、アミノナフタレン、ベンジルアミン、ピリジン及びこれらの誘導体からなる群から選択される、請求項1記載の方法。
  12. オレフィンがアミノオレフィンである、請求項1記載の方法。
  13. オレフィンがヘキサデセンである、請求項1記載の方法。
  14. 略周囲温度〜約150℃の温度及び約0.2〜約2.0気圧の圧力で反応を実施する、請求項1記載の方法。
  15. ヒドリドアルコキシシランに対してモル過剰のオレフィンを反応に使用する、請求項1記載の方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012121852A (ja) * 2010-12-09 2012-06-28 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ヒドロシリル化方法、有機ケイ素化合物の製造方法、及び有機ケイ素化合物
JP2012121854A (ja) * 2010-12-09 2012-06-28 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ヒドロシリル化方法、有機ケイ素化合物の製造方法、及び有機ケイ素化合物
JP2013231009A (ja) * 2012-05-01 2013-11-14 Shin-Etsu Chemical Co Ltd シリル基で保護された2級アミノ基を有するオルガノキシシラン化合物及びその製造方法
US8946464B2 (en) 2010-12-09 2015-02-03 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Hydrosilylation method, method for producing organosilicon compound, and organosilicon compound

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10359588A1 (de) * 2003-12-18 2005-07-28 Wacker-Chemie Gmbh Lagerstabile Zusammensetzungen von Organosiliciumverbindungen
DE102007013609A1 (de) 2007-03-21 2008-09-25 Wacker Chemie Ag Siloxyfunktionelle Aromaten als Co-Katalysatoren in der Übergangsmetall-katalysierten Hydrosilylierung
DE102007013608A1 (de) 2007-03-21 2008-09-25 Wacker Chemie Ag Si-substituierte Chinone als Co-Katalysatoren in der Übergangsmetall-katalysierten Hydrosilylierung
CN103936782A (zh) * 2014-04-03 2014-07-23 山东硅科新材料有限公司 一种催化硅氢加成制备长链烷基硅氧烷的方法
JP6625024B2 (ja) * 2016-07-01 2019-12-25 信越化学工業株式会社 アミノアルキル基含有シロキサン、アミノアルキル基及びポリオキシアルキレン基含有シロキサン、及びこれらの製造方法
CN107011374A (zh) * 2017-05-27 2017-08-04 安徽硅宝有机硅新材料有限公司 一种苯胺基丙基三烷氧基硅烷及制备方法
KR102293698B1 (ko) * 2018-02-06 2021-08-27 와커 헤미 아게 아미노프로필알콕시실란의 제조 방법
CN110734730A (zh) * 2018-07-20 2020-01-31 东莞市博君来胶粘材料科技有限公司 一种硅烷改性聚醚双组份密封胶及其制备方法
CN109824713B (zh) * 2019-03-05 2021-07-09 湖北江瀚新材料股份有限公司 一种长链烷基三烷氧基硅烷的制备方法
WO2021108068A1 (en) * 2019-11-26 2021-06-03 Dow Silicones Corporation Processes for making polysiloxazanes and using same for producing amino-functional polyorganosiloxanes
CN111925386B (zh) * 2020-09-24 2020-12-22 长沙科航特种织造有限公司 一种新型碳化硅陶瓷先驱体的制备方法
CN112457497A (zh) * 2020-11-05 2021-03-09 浙江工业大学 一种长链烷基改性含氢硅油润滑油的制备方法
CN114524839A (zh) * 2022-01-12 2022-05-24 湖北江瀚新材料股份有限公司 一种硬脂氧基三甲基硅烷的制备方法

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2971970A (en) 1958-12-29 1961-02-14 Gen Electric Organosilicon process
DE1156073B (de) * 1962-06-29 1963-10-24 Goldschmidt Ag Th Verfahren zur Herstellung von siliciumhaltigen Kohlenwasserstoffverbindungen
US3925434A (en) 1975-01-22 1975-12-09 Union Carbide Corp The reaction of chlorosilanes with unsaturated organic compounds
DE3000768A1 (de) 1980-01-10 1981-07-16 Wacker-Chemie GmbH, 8000 München Verfahren zum anlagern von si-gebundenem wasserstoff an aliphatische mehrfachbindung
US4417069A (en) * 1983-02-22 1983-11-22 General Electric Company Method of preparing β-phenylethylchlorosilanes
US4481364A (en) 1983-09-26 1984-11-06 Union Carbide Corporation Preparation of aminopropyltrialkoxysilanes and/or aminoalkylalkoxysilanes
US4584361A (en) 1985-06-03 1986-04-22 Dow Corning Corporation Storage stable, one part polyorganosiloxane compositions
US4614812A (en) 1985-12-31 1986-09-30 Union Carbide Corporation Novel process for promoting hydrosilation reactions using a second hydrosilane
US4804768A (en) 1986-09-30 1989-02-14 Union Carbide Corporation Process for producing epoxyorganoalkoxysilanes
JPH0788394B2 (ja) 1987-04-22 1995-09-27 東燃株式会社 エポキシ基含有シラン化合物の製造方法
US5103033A (en) 1991-06-24 1992-04-07 Dow Corning Corporation Process for preparation of β-cyanoalkylsilanes
US5359111A (en) 1991-09-18 1994-10-25 Dow Corning Corporation Method for controlling hydrosilylation in a reaction mixture
US5191103A (en) 1991-12-30 1993-03-02 Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation Process and composition for promoting hydrosilylation reactions using sterically hindered nitrogen-containing and phosphorus-containing compounds
JP2864866B2 (ja) * 1992-04-07 1999-03-08 信越化学工業株式会社 有機ケイ素化合物の製造方法
US5258480A (en) 1992-05-18 1993-11-02 General Electric Company Syntheses of epoxysilicones
GB9223335D0 (en) * 1992-11-06 1992-12-23 Dow Corning Hydrosilylation process
US5283348A (en) 1993-07-09 1994-02-01 Dow Corning Corporation Process for preparation of β-cyanoalkylsilanes
DE19508459A1 (de) 1995-03-09 1996-09-12 Wacker Chemie Gmbh Verfahren zur Herstellung von Alkylsilanen mit sperrigen Alkylresten
US5623083A (en) 1996-03-28 1997-04-22 Dow Corning Corporation Acetylenic alcohols and ethers as accelerators for hydrosilation of siloxyhydrides
US5756795A (en) 1996-12-30 1998-05-26 Dow Corning Corporation Unsaturated accelerators for hydrosilation
EP2221310B1 (en) * 1999-03-11 2014-09-03 Momentive Performance Materials Inc. Promoted hydrosilation reactions

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012121852A (ja) * 2010-12-09 2012-06-28 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ヒドロシリル化方法、有機ケイ素化合物の製造方法、及び有機ケイ素化合物
JP2012121854A (ja) * 2010-12-09 2012-06-28 Shin-Etsu Chemical Co Ltd ヒドロシリル化方法、有機ケイ素化合物の製造方法、及び有機ケイ素化合物
US8946464B2 (en) 2010-12-09 2015-02-03 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Hydrosilylation method, method for producing organosilicon compound, and organosilicon compound
US9156864B2 (en) 2010-12-09 2015-10-13 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Hydrosilylation method, method for producing organosilicon compound, and organosilicon compound
US9163037B2 (en) 2010-12-09 2015-10-20 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Hydrosilylation method, method for producing organosilicon compound, and organosilicon compound
JP2013231009A (ja) * 2012-05-01 2013-11-14 Shin-Etsu Chemical Co Ltd シリル基で保護された2級アミノ基を有するオルガノキシシラン化合物及びその製造方法

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