JP2022096499A - オルガノシロキサン化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】分岐鎖アルキル基を含むオルガノシロキサン化合物の製造方法を提供する。【解決手段】（Ａ）式（３）TIFF2022096499000020.tif2699（Ｒ2はアルキル基等を表し、Ｒ6は水素原子等を表し、ｎは０～７、ｍは０～８、ｎ＋ｍは０～８の整数である。）で表されるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物と、特定のアルケニル基含有化合物とを（Ｃ）ロジウム系触媒の存在下でヒドロシリル化反応させる、オルガノシロキサン化合物の製造方法。【選択図】なし
Description
本発明は、オルガノシロキサン化合物の製造方法に関し、さらに詳しくは、分岐鎖アルキル基を含むオルガノシロキサン化合物の製造方法に関する。
オルガノシロキサン化合物は、粘度特性、耐熱性、化学安定性、表面張力特性などの特異的な特性から、シリコーン油剤や化粧料の揮発性油剤をはじめ、多様な分野で幅広く用いられている。
これらのオルガノシロキサン化合物の製造方法の一つとして、触媒存在下で、ケイ素－水素結合を有するシロキサン化合物と、不飽和結合を有する化合物とを反応させて製造する、ヒドロシリル化反応が工業的にも用いられる。このヒドロシリル化反応の触媒としては、Ｋａｒｓｔｅｄｔ触媒やＳｐｅｉｅｒ触媒に代表される白金系触媒が主に用いられている。
これらの白金系触媒は、非常に活性が高く、有用であるが、反応基質となる不飽和結合を有する化合物によっては、しばしば課題を有することが知られている。
これらのオルガノシロキサン化合物の製造方法の一つとして、触媒存在下で、ケイ素－水素結合を有するシロキサン化合物と、不飽和結合を有する化合物とを反応させて製造する、ヒドロシリル化反応が工業的にも用いられる。このヒドロシリル化反応の触媒としては、Ｋａｒｓｔｅｄｔ触媒やＳｐｅｉｅｒ触媒に代表される白金系触媒が主に用いられている。
これらの白金系触媒は、非常に活性が高く、有用であるが、反応基質となる不飽和結合を有する化合物によっては、しばしば課題を有することが知られている。
例えば、特許文献１には、ジシロキサン化合物とアルケン等の不飽和結合を有する化合物とのヒドロシリル化反応が開示されている。具体的には、実施形態の１つとして、テトラメチルジシロキサン化合物の一方のケイ素－水素結合にアルケンを付加反応させてアルキル基を導入し、もう一方のケイ素－水素結合にアリルポリエーテルを反応させてオキシアルキレン基を導入し、アルキル基およびオキシアルキレン基含有ジシロキサン化合物を製造する方法が提案されている。
このアルキル基の導入の際に用いられる白金系触媒の使用量は、直鎖状アルキル基を導入する場合に比べて、分岐鎖アルキル基を導入する場合の方が非常に多い。
このアルキル基の導入の際に用いられる白金系触媒の使用量は、直鎖状アルキル基を導入する場合に比べて、分岐鎖アルキル基を導入する場合の方が非常に多い。
特許文献２には、油性インクジェットインクについて記載されているが、実施形態の１つとして記載されている分岐鎖アルキル基を導入した化合物について、製造する際の白金系触媒の使用量や、製造の際の課題については記載がない。
特許文献１に報告されているように、白金触媒存在下での分岐鎖オレフィンの反応性は十分ではなく、分岐鎖アルキル基を含むオルガノシロキサン化合物の製造方法には、白金系触媒の使用量の低減や、残存触媒の除去など多くの課題がある。一方で、分岐鎖アルキル基を含むオルガノシロキサン化合物は、特許文献に示されるような化粧品用途やシリコーン油剤としての用途の他、さらなる用途開発が期待されるため、その製造方法の効率化は重要な課題である。
このように、分岐鎖アルキル基を導入したオルガノシロキサン化合物の例は公知ではあるが、これらを製造する際の課題については潜在的に認識されているものの、解決策については報告されてはいなかった。
このように、分岐鎖アルキル基を導入したオルガノシロキサン化合物の例は公知ではあるが、これらを製造する際の課題については潜在的に認識されているものの、解決策については報告されてはいなかった。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、分岐鎖アルキル基を有するオルガノシロキサン化合物の効率的な製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題を解決するため、オルガノハイドロジェンシロキサン化合物と分岐状アルケニル化合物とを付加反応させて分岐鎖アルキル基を含むオルガノシロキサン化合物を製造する方法において、金属触媒という点から鋭意検討を行った結果、ヒドロシリル化反応において主に使用される白金系触媒ではなく、ロジウム系触媒を用いることで効率的に反応が進行することを見出すとともに、ロジウム系触媒を用いた場合、アルケニル化合物について不飽和結合の内部異性化物が混在した化合物を用いても、白金系触媒では反応が見られなかった異性化物が反応するという予想外の反応が進行することを見出し、本発明を完成した。
従って、本発明は、
１． （Ａ）下記式（３）
［式（３）中、Ｒ2は、それぞれ独立に、炭素数１～５の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、炭素数６～１０のアリール基、または炭素数７～１０のアラルキル基を表し、Ｒ6は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、炭素数６～１０のアリール基、または炭素数７～１０のアラルキル基を表し、Ｒ6のうち少なくとも１個が水素原子である。ｎは、０～７の整数、ｍは、０～８の整数であり、ｎ＋ｍは、０～８の整数である。］
で表されるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物と、
（Ｂ）下記式（４）
［式（４）中、Ｒ3は、それぞれ独立に、炭素数１～５の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表し、Ｒ4およびＲ5は、水素原子、または炭素数１～５の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基を表す。］
で表されるアルケニル基含有化合物とを、
（Ｃ）ロジウム系触媒の存在下でヒドロシリル化反応させる、下記式（１）
［式（１）中、Ｒ1は、それぞれ独立に、炭素数１～５の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、炭素数６～１０のアリール基、炭素数７～１０のアラルキル基、または下記式（２）
（式（２）中、Ｒ3、Ｒ4、およびＲ5は、上記式（４）と同じ意味を表す。破線は、式（１）との結合手を示す。）
で示される基を表し、Ｒ1のうち少なくとも１個は、上記式（２）で表される基である。Ｒ2、ｎ、ｍ、およびｎ＋ｍは、上記式（３）と同じ意味を表す。］
で表されるオルガノシロキサン化合物の製造方法、
２． 上記式（２）において、Ｒ4が、水素原子であり、Ｒ5が、メチル基である１記載のオルガノシロキサン化合物の製造方法、
３． 上記式（１）において、Ｒ1が、メチル基または上記式（２）で表される基であり、Ｒ2が、メチル基である１または２記載のオルガノシロキサン化合物の製造方法、
４． 上記式（１）において、ｎおよびｍが、それぞれ０～３の整数であり、ｎ＋ｍが、０～３の整数である１～３のいずれかに記載のオルガノシロキサン化合物の製造方法、
５． 上記式（１）において、ｎが、０であり、ｍが、０または１であり、かつｎ＋ｍが、０または１である１～４のいずれかに記載のオルガノシロキサン化合物の製造方法、
６． 上記（Ｃ）成分が、酢酸ロジウムおよびそのダイマー、オクタン酸ロジウムおよびそのダイマー、［（シクロオクタジエニル）ロジウムクロリド］ダイマー、ならびにトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウムクロリドからなる群より選ばれる１種以上である１～５のいずれかに記載のオルガノシロキサン化合物の製造方法
を提供する。
１． （Ａ）下記式（３）
で表されるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物と、
（Ｂ）下記式（４）
で表されるアルケニル基含有化合物とを、
（Ｃ）ロジウム系触媒の存在下でヒドロシリル化反応させる、下記式（１）
で示される基を表し、Ｒ1のうち少なくとも１個は、上記式（２）で表される基である。Ｒ2、ｎ、ｍ、およびｎ＋ｍは、上記式（３）と同じ意味を表す。］
で表されるオルガノシロキサン化合物の製造方法、
２． 上記式（２）において、Ｒ4が、水素原子であり、Ｒ5が、メチル基である１記載のオルガノシロキサン化合物の製造方法、
３． 上記式（１）において、Ｒ1が、メチル基または上記式（２）で表される基であり、Ｒ2が、メチル基である１または２記載のオルガノシロキサン化合物の製造方法、
４． 上記式（１）において、ｎおよびｍが、それぞれ０～３の整数であり、ｎ＋ｍが、０～３の整数である１～３のいずれかに記載のオルガノシロキサン化合物の製造方法、
５． 上記式（１）において、ｎが、０であり、ｍが、０または１であり、かつｎ＋ｍが、０または１である１～４のいずれかに記載のオルガノシロキサン化合物の製造方法、
６． 上記（Ｃ）成分が、酢酸ロジウムおよびそのダイマー、オクタン酸ロジウムおよびそのダイマー、［（シクロオクタジエニル）ロジウムクロリド］ダイマー、ならびにトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウムクロリドからなる群より選ばれる１種以上である１～５のいずれかに記載のオルガノシロキサン化合物の製造方法
を提供する。
本発明の製造方法によれば、分岐鎖アルキル基を含むオルガノシロキサン化合物を効率的に製造することができ、さらに不飽和結合の内部異性化物についても反応の進行が見られるため、不飽和結合の内部異性化物が混在した化合物を用いても白金系触媒より効率的に目的物が得られる。これにより、化粧品用途やシリコーン油剤としての用途の他、さらなる用途開発が期待されるため、有用性が高いものである。
以下、本発明をさらに詳しく説明する。
本発明のオルガノシロキサン化合物の製造方法は、（Ａ）下記式（３）で表されるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物と、（Ｂ）下記式（４）で表されるアルケニル基含有化合物とを、（Ｃ）ロジウム系触媒の存在下で反応させるものである。
以下、上記（Ａ）～（Ｃ）成分について詳述する。
本発明のオルガノシロキサン化合物の製造方法は、（Ａ）下記式（３）で表されるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物と、（Ｂ）下記式（４）で表されるアルケニル基含有化合物とを、（Ｃ）ロジウム系触媒の存在下で反応させるものである。
以下、上記（Ａ）～（Ｃ）成分について詳述する。
［（Ａ）オルガノハイドロジェンシロキサン化合物］
本発明で用いられるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物は、下記式（３）で表される。
本発明で用いられるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物は、下記式（３）で表される。
上記式（３）において、Ｒ2は、それぞれ独立に、炭素数１～５の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、炭素数６～１０のアリール基、または炭素数７～１０のアラルキル基を表す。
上記Ｒ2の炭素数１～５の直鎖または分岐鎖のアルキル基の具体例としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル、ｎ－ペンチル基等が挙げられ、炭素数６～１０のアリール基の具体例としては、フェニル、トリル、キシリル、ビフェニル基等が挙げられ、炭素数７～１０のアラルキル基の具体例としては、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル基等が挙げられる。
これらの中でも、Ｒ2は、好ましくは炭素数１～３のアルキル基であり、より好ましくはメチル基である。
上記Ｒ2の炭素数１～５の直鎖または分岐鎖のアルキル基の具体例としては、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル、ｎ－ペンチル基等が挙げられ、炭素数６～１０のアリール基の具体例としては、フェニル、トリル、キシリル、ビフェニル基等が挙げられ、炭素数７～１０のアラルキル基の具体例としては、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル基等が挙げられる。
これらの中でも、Ｒ2は、好ましくは炭素数１～３のアルキル基であり、より好ましくはメチル基である。
また、Ｒ6は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～５の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、炭素数６～１０のアリール基、または炭素数７～１０のアラルキル基を表す。
Ｒ6の炭素数１～５の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数６～１０のアリール基、および炭素数７～１０のアラルキル基の具体例としては、上記Ｒ2で挙げた基と同様のものが挙げられるが、好ましくは炭素数１～３のアルキル基であり、より好ましくはメチル基である。ただし、Ｒ6のうち少なくとも１個、好ましくは１～１０個は水素原子である。
Ｒ6の炭素数１～５の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数６～１０のアリール基、および炭素数７～１０のアラルキル基の具体例としては、上記Ｒ2で挙げた基と同様のものが挙げられるが、好ましくは炭素数１～３のアルキル基であり、より好ましくはメチル基である。ただし、Ｒ6のうち少なくとも１個、好ましくは１～１０個は水素原子である。
上記ｎは、０～７の整数であり、好ましくは０～３の整数であり、さらに好ましくは０である。
上記ｍは、０～８の整数であり、好ましくは０～３の整数であり、さらに好ましくは０または１である。
また、ｎ＋ｍは、０～８の整数であり、好ましくは０～３の整数であり、さらに好ましくは０または１である。
上記ｍは、０～８の整数であり、好ましくは０～３の整数であり、さらに好ましくは０または１である。
また、ｎ＋ｍは、０～８の整数であり、好ましくは０～３の整数であり、さらに好ましくは０または１である。
本発明で用いられる（Ａ）オルガノハイドロジェンシロキサン化合物の例としては、具体的に以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
これらは１種単独で使用しても２種以上を併用してもよい。
［（Ｂ）アルケニル基含有化合物］
本発明で用いられるアルケニル基含有化合物は、下記式（４）で表される。
本発明で用いられるアルケニル基含有化合物は、下記式（４）で表される。
上記式（４）において、Ｒ3は、それぞれ独立に、炭素数１～５の直鎖または分岐鎖のアルキル基を表し、その具体例としては、Ｒ2で例示したものが挙げられるが、好ましくは炭素数１～３のアルキル基であり、より好ましくはメチル基である。
上記Ｒ4およびＲ5は、水素原子、または炭素数１～５の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基を表し、炭素数１～５の直鎖または分岐鎖のアルキル基の具体例としては、Ｒ2で例示した基と同様のものが挙げられるが、好ましくは、Ｒ4は、水素原子であり、好ましくは、Ｒ5は、炭素数１～３のアルキル基であり、より好ましくはメチル基である。
上記Ｒ4およびＲ5は、水素原子、または炭素数１～５の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基を表し、炭素数１～５の直鎖または分岐鎖のアルキル基の具体例としては、Ｒ2で例示した基と同様のものが挙げられるが、好ましくは、Ｒ4は、水素原子であり、好ましくは、Ｒ5は、炭素数１～３のアルキル基であり、より好ましくはメチル基である。
なお、（Ｂ）成分は、上記式（４）で表される化合物以外にこの化合物の構造異性体などの有機化合物を含んでいてもよい。
上記構造異性体としては、上記式（４）で表されるアルケニル基含有化合物の製造時に生ずる副生成物が挙げられ、例えば、下記式（４’）で表されるような構造異性体が挙げられる。
上記構造異性体としては、上記式（４）で表されるアルケニル基含有化合物の製造時に生ずる副生成物が挙げられ、例えば、下記式（４’）で表されるような構造異性体が挙げられる。
上記式中、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5はそれぞれ上記と同じである。
上記有機化合物の含有量は、上記式（４）のアルケニル化合物１モルに対して、上記有機化合物が１モル未満が好ましく、０．５モル未満がより好ましい。
上記有機化合物の含有量は、上記式（４）のアルケニル化合物１モルに対して、上記有機化合物が１モル未満が好ましく、０．５モル未満がより好ましい。
式（４）で表されるアルケニル基含有化合物の具体例としては、２，４，４－トリメチル－１－ペンテン等が挙げられるが、これに限定されるものではない。また、式（４’）で表される化合物としては、２，４，４－トリメチル－２－ペンテン等が挙げられる。２，４，４－トリメチル－１－ペンテンと、２，４，４－トリメチル－２－ペンテンの混合物（以下、ジイソブチレンという。）を主成分として含む混合物は、各種石油化学メーカーより入手が可能である。例えば、２，４，４－トリメチル－１－ペンテンを７４ｍｏｌ％、２，４，４－トリメチル－２－ペンテンを２２ｍｏｌ％の割合で含む混合物（出光興産（株）製）等が挙げられる。
なお、本発明において、上記式（４）の末端オレフィン化合物と上記式（４’）の内部オレフィン異性体成分との混合物における混合比は、後述するガスクロマトグラフィー（ＧＣ）測定によって求められるピーク面積比から求めたモル比を指すものとする。
なお、本発明において、上記式（４）の末端オレフィン化合物と上記式（４’）の内部オレフィン異性体成分との混合物における混合比は、後述するガスクロマトグラフィー（ＧＣ）測定によって求められるピーク面積比から求めたモル比を指すものとする。
本発明の製造方法における、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の使用比率は、特に限定されるものではないが、（Ｂ）成分中のＣ＝Ｃ結合／（Ａ）成分中のＳｉ－Ｈ結合のモル比が、好ましくは１／１０～１０／１、より好ましくは１／５～５／１、より一層好ましくは１／３～３／１となるような割合である。
［（Ｃ）ロジウム系触媒］
本発明で用いられるロジウム系触媒としては、トリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロリド（（ＰＰｈ3）3ＲｈＣｌ）、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）ダイマー（［（ＣＯＤ）ＲｈＣｌ］2）、塩化ロジウム（ＩＩＩ）等のハロゲン化ロジウム、ロジウム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート、酢酸ロジウム（ロジウム（ＩＩ）アセタート）、２－エチルヘキサン酸ロジウム（ロジウム（ＩＩ）２－エチルヘキサノアート）、オクタン酸ロジウム（ロジウム（ＩＩ）オクタノアート）等のカルボン酸ロジウム、これらのダイマー等のロジウム系触媒や、ロジウム系触媒を担持させた固体触媒などが挙げられる。これらは１種単独で使用しても２種以上を併用してもよい。これらのうち、価格と触媒活性の点で、好ましくは酢酸ロジウム、２－エチルヘキサン酸ロジウム、オクタン酸ロジウム等のカルボン酸ロジウムおよびこれらのダイマー、トリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロリド、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）ダイマーが好ましい。
本発明で用いられるロジウム系触媒としては、トリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロリド（（ＰＰｈ3）3ＲｈＣｌ）、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）ダイマー（［（ＣＯＤ）ＲｈＣｌ］2）、塩化ロジウム（ＩＩＩ）等のハロゲン化ロジウム、ロジウム（ＩＩＩ）アセチルアセトナート、酢酸ロジウム（ロジウム（ＩＩ）アセタート）、２－エチルヘキサン酸ロジウム（ロジウム（ＩＩ）２－エチルヘキサノアート）、オクタン酸ロジウム（ロジウム（ＩＩ）オクタノアート）等のカルボン酸ロジウム、これらのダイマー等のロジウム系触媒や、ロジウム系触媒を担持させた固体触媒などが挙げられる。これらは１種単独で使用しても２種以上を併用してもよい。これらのうち、価格と触媒活性の点で、好ましくは酢酸ロジウム、２－エチルヘキサン酸ロジウム、オクタン酸ロジウム等のカルボン酸ロジウムおよびこれらのダイマー、トリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）クロリド、クロロ（１，５－シクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）ダイマーが好ましい。
触媒の使用量としては、特に制限されるわけではないが、経済性と反応性の観点から、（Ａ）成分のケイ素－水素結合を有するシロキサン化合物の合計１００質量部に対して、触媒中の金属量として０．１～１００，０００ｐｐｍが好ましく、１～１００ｐｐｍがより好ましい。
上記の反応は、有機溶媒の非存在下で行うこともできるが、必要に応じて有機溶媒を使用してもよい。有機溶媒としては、反応を阻害しないものであれば任意であり、例えば、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素化合物；トルエン、キシレン等の芳香族化合物；エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル化合物などが挙げられる。
有機溶媒を用いる場合、上記（Ａ）オルガノハイドロジェンシロキサン化合物１００質量部に対して、２００質量部以下が好ましく、１００質量部以下がより好ましい。この範囲内であれば、触媒活性が著しく低下することもなく、経済的にも影響が少ないため好ましい。
また、上記の反応において、反応を阻害しない範囲で、配位子を添加してもよい。配位子を添加する場合、例えば、ノルボルネン、ノルボルナジエン、１，５－シクロオクタジエン等の環状オレフィン類；トリフェニルホスフィン等のホスフィン類；トリエチルアミン等のアミン類などが挙げられるが、臭気の発生や触媒の反応性の低下、配位子の除去が必要となる点から、添加せずに反応させることが好ましい。
本発明の上記製造方法における（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分および必要により用いられるその他の成分は、全ての成分を一括して添加しても、いくつかの成分に分けて添加してもよい。
上記の反応における反応条件は、特に限定されるものではないが、通常、反応温度は、室温（２０±５℃）～２００℃、より好ましくは５０～１５０℃であり、反応時間は０．５～４８時間である。
反応後、得られた反応物をそのまま使用してもよいが、減圧ストリッピングによる有機溶媒、揮発分の除去を行ってもよく、蒸留可能であれば蒸留精製を行ってもよい。また、活性炭などにより残存触媒を吸着させて、ろ過により精製してもよい。
上記アルケニル基含有化合物は、白金触媒を用いた場合には、その立体的な嵩高さと場合により上記構造異性体が存在するために反応性が低いが、ロジウム触媒を用いた場合には、十分な反応性を有する。これは反応機構の違いが起因すると考えられる。
また、式（４’）で表される構造異性体は、ロジウム触媒を用いると、式（４）で表される化合物から得られる生成物と同様の生成物が得られる。これは、触媒反応中に上記構造異性体が再度異性化し、反応しているためである。
これにより本発明の製造方法によって効率的に目的物が得られる。
また、式（４’）で表される構造異性体は、ロジウム触媒を用いると、式（４）で表される化合物から得られる生成物と同様の生成物が得られる。これは、触媒反応中に上記構造異性体が再度異性化し、反応しているためである。
これにより本発明の製造方法によって効率的に目的物が得られる。
本発明の製造方法によって得られるオルガノシロキサン化合物は、下記式（１）で表される。
上記式（１）において、Ｒ1は、それぞれ独立に、炭素数１～５の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、炭素数６～１０のアリール基、炭素数７～１０のアラルキル基、または下記式（２）で示される基を表す。
Ｒ1の炭素数１～５の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数６～１０のアリール基、および炭素数７～１０のアラルキル基の具体例としては、Ｒ2で挙げた基と同様のものが挙げられるが、好ましくは炭素数１～３のアルキル基であり、より好ましくはメチル基または下記式（２）で示される基であり、ただし、式（１）中のＲ1のうち１個以上、好ましくは１～１０個は式（２）で表される基である。
Ｒ1の炭素数１～５の直鎖または分岐鎖のアルキル基、炭素数６～１０のアリール基、および炭素数７～１０のアラルキル基の具体例としては、Ｒ2で挙げた基と同様のものが挙げられるが、好ましくは炭素数１～３のアルキル基であり、より好ましくはメチル基または下記式（２）で示される基であり、ただし、式（１）中のＲ1のうち１個以上、好ましくは１～１０個は式（２）で表される基である。
なお、上記式（１）のＲ1において、式（２）で表される基である部分は、式（３）におけるＲ6に対応する部分であり、そのＲ6は水素原子である。
式（１）で表されるオルガノシロキサン化合物の具体例としては、以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
以下、実施例および比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明は、下記の実施例に制限されるものではない。
また、実施例および比較例において、特に記載のない限り、反応および生成物の保管は窒素雰囲気下にて行った。
生成物のＮＭＲ測定は、ＡｖａｎｃｅＩＩＩ４００（Ｂｒｕｋｅｒ社製）を用いて行った。
生成物のＧＣ収率（生成物モル量/Ｓｉ－Ｈ化合物モル量）、内部異性体反応率（反応後残存内部異性体モル量/反応前内部異性体モル量）は、テトラデカンを内部標準として下記条件でのＧＣ測定によるピーク面積比から検量線を作成し、算出した。
＜ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）測定条件＞
ガスクロマトグラフ：装置名：７８９０Ｂ、Ａｇｉｌｅｎｔ社製
検出器：ＦＩＤ（Ｆｌａｍｅ Ｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ Ｄｅｔｅｃｔｏｒ）、温度３００℃
キャピラリーカラム：Ａｇｉｌｅｎｔ Ｊ＆Ｗ ＧＣ カラム ＨＰ－５（０．２５ｍｍ×３０ｍ×０．２５μｍ）、Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製
昇温プログラム：８０℃→１０℃／分→２５０℃（保持）
注入口温度：２５０℃
キャリアガス：ヘリウム（１．５ｍｌ／分）
スプリット比：５０：１
注入量：１μＬ
Ｓｉ－Ｈ反応率は、サンプルを採取してアルコールで希釈し、水酸化ナトリウム水溶液を加えて水素ガスを発生させてガスビュレットにより水素ガス発生量を定量し、反応前後の水素ガス発生量比からＳｉ－Ｈ反応率を求めた。
また、実施例および比較例において、特に記載のない限り、反応および生成物の保管は窒素雰囲気下にて行った。
生成物のＮＭＲ測定は、ＡｖａｎｃｅＩＩＩ４００（Ｂｒｕｋｅｒ社製）を用いて行った。
生成物のＧＣ収率（生成物モル量/Ｓｉ－Ｈ化合物モル量）、内部異性体反応率（反応後残存内部異性体モル量/反応前内部異性体モル量）は、テトラデカンを内部標準として下記条件でのＧＣ測定によるピーク面積比から検量線を作成し、算出した。
＜ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）測定条件＞
ガスクロマトグラフ：装置名：７８９０Ｂ、Ａｇｉｌｅｎｔ社製
検出器：ＦＩＤ（Ｆｌａｍｅ Ｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ Ｄｅｔｅｃｔｏｒ）、温度３００℃
キャピラリーカラム：Ａｇｉｌｅｎｔ Ｊ＆Ｗ ＧＣ カラム ＨＰ－５（０．２５ｍｍ×３０ｍ×０．２５μｍ）、Ａｇｉｌｅｎｔ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製
昇温プログラム：８０℃→１０℃／分→２５０℃（保持）
注入口温度：２５０℃
キャリアガス：ヘリウム（１．５ｍｌ／分）
スプリット比：５０：１
注入量：１μＬ
Ｓｉ－Ｈ反応率は、サンプルを採取してアルコールで希釈し、水酸化ナトリウム水溶液を加えて水素ガスを発生させてガスビュレットにより水素ガス発生量を定量し、反応前後の水素ガス発生量比からＳｉ－Ｈ反応率を求めた。
［実施例１］ ロジウム系触媒による１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンとジイソブチレンとの反応
マグネティックスターラーチップを入れた１００ｍＬセパラブルフラスコに、酢酸ロジウム（ＩＩ）ダイマー（Ａｌｄｒｉｃｈ社製、以下同じ。）０．７ｍｇ（シロキサン量に対してＲｈ換算で１０ｐｐｍ）を加えて、窒素置換した後に、１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン３３．２８ｇ（２４７．７３ｍｍｏｌ）、ジイソブチレン（純度：末端オレフィン成分７４ｍｏｌ％、内部オレフィン異性体成分２２ｍｏｌ％、末端オレフィン成分：内部オレフィン異性体成分＝７４：２２（モル比）、出光興産（株）製、以下同じ。）６６．７２ｇ（５９４．５６ｍｍｏｌ、Ｃ＝Ｃ結合／Ｓｉ－Ｈモル比１．２）を加えた。その後、１００℃で６時間熟成させた。溶液の色は、淡黄色へと変化した。
マグネティックスターラーチップを入れた１００ｍＬセパラブルフラスコに、酢酸ロジウム（ＩＩ）ダイマー（Ａｌｄｒｉｃｈ社製、以下同じ。）０．７ｍｇ（シロキサン量に対してＲｈ換算で１０ｐｐｍ）を加えて、窒素置換した後に、１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン３３．２８ｇ（２４７．７３ｍｍｏｌ）、ジイソブチレン（純度：末端オレフィン成分７４ｍｏｌ％、内部オレフィン異性体成分２２ｍｏｌ％、末端オレフィン成分：内部オレフィン異性体成分＝７４：２２（モル比）、出光興産（株）製、以下同じ。）６６．７２ｇ（５９４．５６ｍｍｏｌ、Ｃ＝Ｃ結合／Ｓｉ－Ｈモル比１．２）を加えた。その後、１００℃で６時間熟成させた。溶液の色は、淡黄色へと変化した。
反応後、サンプルを採取し、内部標準を添加したアセトンに溶解させてＧＣ測定を行い、ＧＣ反応率、ＧＣ収率および内部異性体反応率を求めた。また、サンプルを採取して水素ガス発生量の測定を行い、Ｓｉ－Ｈ反応率を求めた。結果を表１に示す。
また、蒸留精製（１３１℃、０．２７ｋＰａ）を行い、無色透明液体３７．５０ｇを得た（収率４２％、ＧＣピーク面積比によるＧＣ純度９１％）。次いで、得られた生成物のＮＭＲ測定を行った。1Ｈ－ＮＭＲスペクトルの測定結果を図１に示す。
ジイソブチレンの２重結合の1Ｈに由来するシグナルが末端オレフィン成分および内部オレフィン異性体成分ともに減少し、新たに０．６７ｐｐｍおよび０．４９ｐｐｍにおいて、特徴的なＡＢパターンのシグナルが確認された。
1Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，４００ＭＨｚ）δ：１．８０－１．７０（ｍ，２Ｈ），１．２６（ｄｄ，Ｊ＝１３．９Ｈｚ，４．３Ｈｚ，２Ｈ），１．１３（ｄｄ，Ｊ＝１３．９Ｈｚ，６．４Ｈｚ，２Ｈ），０．９６（ｄ，Ｊ＝６．４，６Ｈ），０．９０（ｓ，１８Ｈ），０．６７（ｄｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ，４．６Ｈｚ，２Ｈ），０．４９（ｄｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ，８．９Ｈｚ，２Ｈ），０．０７（ｓ，１２Ｈ）．
13Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，１００ＭＨｚ）δ：５５．０，３１．２，３０．２，２５．６，１．７．
ジイソブチレンの２重結合の1Ｈに由来するシグナルが末端オレフィン成分および内部オレフィン異性体成分ともに減少し、新たに０．６７ｐｐｍおよび０．４９ｐｐｍにおいて、特徴的なＡＢパターンのシグナルが確認された。
1Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，４００ＭＨｚ）δ：１．８０－１．７０（ｍ，２Ｈ），１．２６（ｄｄ，Ｊ＝１３．９Ｈｚ，４．３Ｈｚ，２Ｈ），１．１３（ｄｄ，Ｊ＝１３．９Ｈｚ，６．４Ｈｚ，２Ｈ），０．９６（ｄ，Ｊ＝６．４，６Ｈ），０．９０（ｓ，１８Ｈ），０．６７（ｄｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ，４．６Ｈｚ，２Ｈ），０．４９（ｄｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ，８．９Ｈｚ，２Ｈ），０．０７（ｓ，１２Ｈ）．
13Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，１００ＭＨｚ）δ：５５．０，３１．２，３０．２，２５．６，１．７．
［比較例１］ Ｋａｒｓｔｅｄｔ触媒による１，１，３，３－テトラメチルジシロキサンとジイソブチレンとの反応
マグネティックスターラーチップを入れた１００ｍＬセパラブルフラスコに、白金（０）－１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体溶液（Ｐｔ：０．５質量％トルエン溶液）６６．６ｍｇ（シロキサン量に対してＰｔ換算で１０ｐｐｍ）を加えて、窒素置換した後に、１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン３３．２８ｇ（２４７．７３ｍｍｏｌ）、ジイソブチレン６６．７２ｇ（５９４．５６ｍｍｏｌ、Ｃ＝Ｃ結合／Ｓｉ－Ｈモル比１．２）を加えた。その後、１００℃で６時間熟成させた。溶液の色は、淡黄色へと変化した。
反応後、サンプルを採取し、内部標準を添加したアセトンに溶解させてＧＣ測定を行い、ＧＣ収率および内部異性体反応率を求めた。また、サンプルを採取して水素ガス発生量の測定を行い、Ｓｉ－Ｈ反応率を求めた。結果を表１に示す。
マグネティックスターラーチップを入れた１００ｍＬセパラブルフラスコに、白金（０）－１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体溶液（Ｐｔ：０．５質量％トルエン溶液）６６．６ｍｇ（シロキサン量に対してＰｔ換算で１０ｐｐｍ）を加えて、窒素置換した後に、１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン３３．２８ｇ（２４７．７３ｍｍｏｌ）、ジイソブチレン６６．７２ｇ（５９４．５６ｍｍｏｌ、Ｃ＝Ｃ結合／Ｓｉ－Ｈモル比１．２）を加えた。その後、１００℃で６時間熟成させた。溶液の色は、淡黄色へと変化した。
反応後、サンプルを採取し、内部標準を添加したアセトンに溶解させてＧＣ測定を行い、ＧＣ収率および内部異性体反応率を求めた。また、サンプルを採取して水素ガス発生量の測定を行い、Ｓｉ－Ｈ反応率を求めた。結果を表１に示す。
［実施例２］ 酢酸ロジウムによる１，１，１，３，５，５，５－ヘプタメチルトリシロキサンとジイソブチレンとの反応
マグネティックスターラーチップを入れ、冷却器を取り付けた１００ｍＬセパラブルフラスコに、酢酸ロジウム（ＩＩ）ダイマー１．３ｍｇ（シロキサン量に対してＲｈ換算で１０ｐｐｍ）を加え、事前に調製した１，１，１，３，５，５，５－ヘプタメチルトリシロキサン（３１１．４８ｇ、１．４０ｍｍｏｌ）とジイソブチレン１８８．５２ｇ（１．６８ｍｍｏｌ、Ｃ＝Ｃ結合／Ｓｉ－Ｈモル比＝１．２）の混合溶液を１００．００ｇ加えた。窒素通気後、窒素雰囲気下で１００℃まで昇温し、６時間熟成させた。溶液の色は淡黄色へと変化した。
熟成後、サンプルを採取し、内部標準を添加したアセトンに溶解させてＧＣ測定を行い、ＧＣ収率および内部異性体反応率を求めた。また、サンプルを採取して水素ガス発生量の測定を行い、Ｓｉ－Ｈ反応率を求めた。結果を表２に示す。
マグネティックスターラーチップを入れ、冷却器を取り付けた１００ｍＬセパラブルフラスコに、酢酸ロジウム（ＩＩ）ダイマー１．３ｍｇ（シロキサン量に対してＲｈ換算で１０ｐｐｍ）を加え、事前に調製した１，１，１，３，５，５，５－ヘプタメチルトリシロキサン（３１１．４８ｇ、１．４０ｍｍｏｌ）とジイソブチレン１８８．５２ｇ（１．６８ｍｍｏｌ、Ｃ＝Ｃ結合／Ｓｉ－Ｈモル比＝１．２）の混合溶液を１００．００ｇ加えた。窒素通気後、窒素雰囲気下で１００℃まで昇温し、６時間熟成させた。溶液の色は淡黄色へと変化した。
熟成後、サンプルを採取し、内部標準を添加したアセトンに溶解させてＧＣ測定を行い、ＧＣ収率および内部異性体反応率を求めた。また、サンプルを採取して水素ガス発生量の測定を行い、Ｓｉ－Ｈ反応率を求めた。結果を表２に示す。
［比較例２］ Ｋａｒｓｔｅｄｔ触媒による１，１，１，３，５，５，５－ヘプタメチルトリシロキサンとジイソブチレンとの反応
マグネティックスターラーチップを入れ、冷却器を取り付けた１００ｍＬセパラブルフラスコに、白金（０）－１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体溶液（Ｐｔ：０．５質量％トルエン溶液）１２４．６ｍｇ（シロキサン量に対してＰｔ換算で１０ｐｐｍ）を加え、事前に調製した１，１，１，３，５，５，５－ヘプタメチルトリシロキサン（３１１．４８ｇ、１．４０ｍｍｏｌ）とジイソブチレン（１８８．５２ｇ、１．６８ｍｍｏｌ、Ｃ＝Ｃ結合／Ｓｉ－Ｈモル比＝１．２）の混合溶液を１００．００ｇ加えた。窒素通気後、窒素雰囲気下で１００℃まで昇温し、６時間熟成させた。溶液の色は淡黄色へと変化した。
熟成後、サンプルを採取し、内部標準を添加したアセトンに溶解させてＧＣ測定を行い、ＧＣ収率および内部異性体反応率を求めた。また、サンプルを採取して水素ガス発生量の測定を行い、Ｓｉ－Ｈ反応率を求めた。結果を表２に示す。
マグネティックスターラーチップを入れ、冷却器を取り付けた１００ｍＬセパラブルフラスコに、白金（０）－１，３－ジビニル－１，１，３，３－テトラメチルジシロキサン錯体溶液（Ｐｔ：０．５質量％トルエン溶液）１２４．６ｍｇ（シロキサン量に対してＰｔ換算で１０ｐｐｍ）を加え、事前に調製した１，１，１，３，５，５，５－ヘプタメチルトリシロキサン（３１１．４８ｇ、１．４０ｍｍｏｌ）とジイソブチレン（１８８．５２ｇ、１．６８ｍｍｏｌ、Ｃ＝Ｃ結合／Ｓｉ－Ｈモル比＝１．２）の混合溶液を１００．００ｇ加えた。窒素通気後、窒素雰囲気下で１００℃まで昇温し、６時間熟成させた。溶液の色は淡黄色へと変化した。
熟成後、サンプルを採取し、内部標準を添加したアセトンに溶解させてＧＣ測定を行い、ＧＣ収率および内部異性体反応率を求めた。また、サンプルを採取して水素ガス発生量の測定を行い、Ｓｉ－Ｈ反応率を求めた。結果を表２に示す。
［実施例３］酢酸ロジウムによる１，１，１，３，５，５，５－ヘプタメチルトリシロキサンとジイソブチレンとの反応
ジムロート冷却管を取り付けた１Ｌセパラブルフラスコに、酢酸ロジウム（ＩＩ）ダイマー８．０ｍｇ（０．０４ｍｍｏｌ、Ｒｈ換算で１１ｐｐｍ）、１，１，１，３，５，５，５－ヘプタメチルトリシロキサン３５０．０ｇ（１．５７ｍｏｌ）、ジイソブチレン１７６．８ｇ（１．５７ｍｏｌ、Ｃ＝Ｃ結合／Ｓｉ－Ｈモル比１．０）を加え、窒素を通気して窒素雰囲気下にした後に、１２０℃まで昇温し、６時間熟成した。
これを４回繰り返し、得られた生成物１５７６ｇを蒸留精製（１００℃、０．８ｋＰａ）することで、無色透明液体１２２６ｇを得た（収率５８％、ＧＣピーク面積比によるＧＣ純度９６．２％）。次いで、得られた生成物のＮＭＲ測定を行った。1Ｈ－ＮＭＲスペクトルの測定結果を図２に示す。解析の結果、下記化合物であることが示唆された。
ジムロート冷却管を取り付けた１Ｌセパラブルフラスコに、酢酸ロジウム（ＩＩ）ダイマー８．０ｍｇ（０．０４ｍｍｏｌ、Ｒｈ換算で１１ｐｐｍ）、１，１，１，３，５，５，５－ヘプタメチルトリシロキサン３５０．０ｇ（１．５７ｍｏｌ）、ジイソブチレン１７６．８ｇ（１．５７ｍｏｌ、Ｃ＝Ｃ結合／Ｓｉ－Ｈモル比１．０）を加え、窒素を通気して窒素雰囲気下にした後に、１２０℃まで昇温し、６時間熟成した。
これを４回繰り返し、得られた生成物１５７６ｇを蒸留精製（１００℃、０．８ｋＰａ）することで、無色透明液体１２２６ｇを得た（収率５８％、ＧＣピーク面積比によるＧＣ純度９６．２％）。次いで、得られた生成物のＮＭＲ測定を行った。1Ｈ－ＮＭＲスペクトルの測定結果を図２に示す。解析の結果、下記化合物であることが示唆された。
1Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，４００ＭＨｚ）δ：１．８１－１．６９（ｍ，１Ｈ），１．２７（ｄｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，４．８Ｈｚ，１Ｈ），１．１１（ｄｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，６．４Ｈｚ，１Ｈ），０．９６（ｄ，Ｊ＝６．６，３Ｈ），０．８９（ｓ，９Ｈ），０．６０（ｄｄ，Ｊ＝１４．９Ｈｚ，４．８Ｈｚ，１Ｈ），０．４２（ｄｄ，Ｊ＝１４．８Ｈｚ，８．８Ｈｚ，１Ｈ），０．０９（ｓ，１８Ｈ），０．０２（ｓ，３Ｈ）．
13Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，１００ＭＨｚ）δ：５４．７，３１．２，３０．２，２９．３，２５．５，２５．３，１．９，１．１．
13Ｃ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，１００ＭＨｚ）δ：５４．７，３１．２，３０．２，２９．３，２５．５，２５．３，１．９，１．１．
［実施例４～６］各種ロジウム系触媒を用いた１，１，１，３，５，５，５－ヘプタメチルトリシロキサンとジイソブチレンとの反応
マグネティックスターラーチップを入れ、冷却器を取り付けた１００ｍＬセパラブルフラスコに、表３に記載の各種ロジウム系触媒（Ｒｈ換算で１０ｐｐｍ）を加え、事前に調製した１，１，１，３，５，５，５－ヘプタメチルトリシロキサン（３１１．４８ｇ、１．４０ｍｍｏｌ）とジイソブチレン（１８８．５２ｇ、１．６８ｍｍｏｌ、Ｃ＝Ｃ結合／Ｓｉ－Ｈモル比＝１．２）の混合溶液を１００．００ｇずつ加えた。窒素通気後、窒素雰囲気下で１２０℃まで昇温し、６時間熟成させた。溶液の色はすべて淡黄色へと変化した。
熟成後、サンプルを採取し、内部標準を添加したアセトンに溶解させてＧＣ測定を行い、ＧＣ収率および内部異性体反応率を求めた。また、サンプルを採取して水素ガス発生量の測定を行い、Ｓｉ－Ｈ反応率を求めた。結果を表３に示す。
マグネティックスターラーチップを入れ、冷却器を取り付けた１００ｍＬセパラブルフラスコに、表３に記載の各種ロジウム系触媒（Ｒｈ換算で１０ｐｐｍ）を加え、事前に調製した１，１，１，３，５，５，５－ヘプタメチルトリシロキサン（３１１．４８ｇ、１．４０ｍｍｏｌ）とジイソブチレン（１８８．５２ｇ、１．６８ｍｍｏｌ、Ｃ＝Ｃ結合／Ｓｉ－Ｈモル比＝１．２）の混合溶液を１００．００ｇずつ加えた。窒素通気後、窒素雰囲気下で１２０℃まで昇温し、６時間熟成させた。溶液の色はすべて淡黄色へと変化した。
熟成後、サンプルを採取し、内部標準を添加したアセトンに溶解させてＧＣ測定を行い、ＧＣ収率および内部異性体反応率を求めた。また、サンプルを採取して水素ガス発生量の測定を行い、Ｓｉ－Ｈ反応率を求めた。結果を表３に示す。
上記実施例および比較例では、反応基質としてジイソブチレン（末端オレフィン成分７４ｍｏｌ％、内部オレフィン異性体成分２２ｍｏｌ％）を用いているが、ロジウム系触媒と比較して白金系触媒では、十分な反応性を示していない。また、白金系触媒では、内部オレフィン異性体成分はほとんど反応が進んでいないことがわかる。このことから、白金系触媒では、反応性が十分ではないうえ、上記ジイソブチレンを用いる場合、大過剰量用いる必要があり、製造効率はよいとはいえない。
一方で、ロジウム系触媒を用いた場合、実施例１，２，４～６に示すようなＣ＝Ｃ結合／Ｓｉ－Ｈ比が１．２の条件では、末端オレフィン成分７４ｍｏｌ％であることをふまえると、末端Ｃ＝Ｃ結合／Ｓｉ－Ｈ比は０．８９であるが、十分な反応性と収率で目的物が得られていることがわかる。このことから、本発明の有用性が示された。
一方で、ロジウム系触媒を用いた場合、実施例１，２，４～６に示すようなＣ＝Ｃ結合／Ｓｉ－Ｈ比が１．２の条件では、末端オレフィン成分７４ｍｏｌ％であることをふまえると、末端Ｃ＝Ｃ結合／Ｓｉ－Ｈ比は０．８９であるが、十分な反応性と収率で目的物が得られていることがわかる。このことから、本発明の有用性が示された。
Claims (6)
- （Ａ）下記式（３）
で表されるオルガノハイドロジェンシロキサン化合物と、
（Ｂ）下記式（４）
で表されるアルケニル基含有化合物とを、
（Ｃ）ロジウム系触媒の存在下でヒドロシリル化反応させる、下記式（１）
で示される基を表し、Ｒ1のうち少なくとも１個は、上記式（２）で表される基である。Ｒ2、ｎ、ｍ、およびｎ＋ｍは、上記式（３）と同じ意味を表す。］
で表されるオルガノシロキサン化合物の製造方法。 - 上記式（２）において、Ｒ4が、水素原子であり、Ｒ5が、メチル基である請求項１記載のオルガノシロキサン化合物の製造方法。
- 上記式（１）において、Ｒ1が、メチル基または上記式（２）で表される基であり、Ｒ2が、メチル基である請求項１または２記載のオルガノシロキサン化合物の製造方法。
- 上記式（１）において、ｎおよびｍが、それぞれ０～３の整数であり、ｎ＋ｍが、０～３の整数である請求項１～３のいずれか１項記載のオルガノシロキサン化合物の製造方法。
- 上記式（１）において、ｎが、０であり、ｍが、０または１であり、かつｎ＋ｍが、０または１である請求項１～４のいずれか１項記載のオルガノシロキサン化合物の製造方法。
- 上記（Ｃ）成分が、酢酸ロジウムおよびそのダイマー、オクタン酸ロジウムおよびそのダイマー、［（シクロオクタジエニル）ロジウムクロリド］ダイマー、ならびにトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウムクロリドからなる群より選ばれる１種以上である請求項１～５のいずれか１項記載のオルガノシロキサン化合物の製造方法。
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2020
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