JP2018118920A - 環状アルキル基を有する有機ケイ素化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】有機ケイ素化合物、特に環状アルキル基を有する有機ケイ素化合物を効率よく製造することができる有機ケイ素化合物の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】下記式（Ｉ）で表されるロジウム錯体の存在下、下記式（Ａ）で表されるシクロアルケンと下記式（Ｂ）で表されるヒドロシランを反応させて有機ケイ素化合物を生成する反応工程を含むことにより、環状アルキル基を有する有機ケイ素化合物を効率よく製造することができる。【選択図】なし
Description
本発明は、環状アルキル基を有する有機ケイ素化合物の製造方法に関し、より詳しくはロジウム錯体を触媒として利用した環状アルキル基を有する有機ケイ素化合物の製造方法に関する。
ヒドロシリル化反応は、ケイ素原子上にアルキル基を導入する優れた手法であり、白金触媒をはじめとする様々な触媒が開発されている。環状オレフィンを基質に用いるとケイ素原子上に環状アルキル基を導入することができる。歪みのために反応性が高いノルボルネンや電子求引基と共役したα，β−不飽和カルボニル化合物などの環状基質を用いた例は多いものの、シクロヘキセン等の単純な環状オレフィンを用いた例は比較的少ない。さらに、ケイ素原子上にアルコキシ基を有するヒドロシランを用いた環状オレフィンのヒドロシリル化となると、前例は限られているのが現状である（特許文献１及び非特許文献１参照）。白金触媒を用いる特許文献１では水銀灯照射が必要であり、ロジウム錯体を用いる非特許文献１では、芳香環と共役した環状オレフィンを用いた例は示されているが、非共役環状オレフィンの例は示されていない。
Ｙ．Ｔｓｕｃｈｉｙａ， Ｈ．Ｕｃｈｉｍｕｒａ， Ｋ．Ｋｏｂａｙａｓｈｉ， Ｈ．Ｎｉｓｈｉｙａｍａ， Ｓｙｎｌｅｔｔ ２００４， ２０９９−２１０２．
本発明は、有機ケイ素化合物、特に環状アルキル基を有する有機ケイ素化合物を効率よく製造することができる有機ケイ素化合物の製造方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、フェニル−ビス（オキサゾリン）配位子を有する特定のロジウム錯体の存在下でシクロアルケンのヒドロシリル化反応が効率よく進行し、環状アルキル基を有する有機ケイ素化合物を製造することができることを見出し、本発明を完成させた。
即ち、本発明は以下の通りである。
即ち、本発明は以下の通りである。
＜１＞ 下記式（Ｉ）で表されるロジウム錯体の存在下、下記式（Ａ）で表されるシクロアルケンと下記式（Ｂ）で表されるヒドロシランを反応させて有機ケイ素化合物を生成する反応工程を含むことを特徴とする有機ケイ素化合物の製造方法。
（式（Ｉ）中、Ｒはそれぞれ独立して炭素原子数１〜２０の炭化水素基を、Ｒ’はそれぞれ独立してハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数０〜２０のアミノ基、ニトロ基、又はハロゲン原子を、Ｘはそれぞれ独立してハロゲン原子、又は炭素原子数１〜１０のアシロキシ基を、ｍはそれぞれ独立して０〜４の整数を、ｎは０〜３の整数を表す。）
（式（Ａ）中、Ｒ１は炭素−炭素不飽和結合を含んでいてもよい炭素原子数１〜１０の直鎖状のアルキレン基を、Ｒ２はそれぞれ独立して酸素原子及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又はハロゲン原子を、ｉは０〜（Ｒ１の炭素原子数＋２）の間の整数を表す。）
（式（Ｂ）中、Ｒ３はそれぞれ独立して水素原子、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又は炭素原子数１〜２０のトリアルキルシロキシ基を表す。）
＜２＞ 前記反応工程において、銀塩が添加される、＜１＞に記載の有機ケイ素化合物の製造方法。
（式（Ｉ）中、Ｒはそれぞれ独立して炭素原子数１〜２０の炭化水素基を、Ｒ’はそれぞれ独立してハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数０〜２０のアミノ基、ニトロ基、又はハロゲン原子を、Ｘはそれぞれ独立してハロゲン原子、又は炭素原子数１〜１０のアシロキシ基を、ｍはそれぞれ独立して０〜４の整数を、ｎは０〜３の整数を表す。）
（式（Ａ）中、Ｒ１は炭素−炭素不飽和結合を含んでいてもよい炭素原子数１〜１０の直鎖状のアルキレン基を、Ｒ２はそれぞれ独立して酸素原子及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又はハロゲン原子を、ｉは０〜（Ｒ１の炭素原子数＋２）の間の整数を表す。）
（式（Ｂ）中、Ｒ３はそれぞれ独立して水素原子、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又は炭素原子数１〜２０のトリアルキルシロキシ基を表す。）
＜２＞ 前記反応工程において、銀塩が添加される、＜１＞に記載の有機ケイ素化合物の製造方法。
本発明によれば、環状アルキル基を有する有機ケイ素化合物を効率よく製造することが
できる。
できる。
本発明の詳細を説明するに当たり、具体例を挙げて説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り以下の内容に限定されるものではなく、適宜変更して実施することができる。
＜有機ケイ素化合物の製造方法＞
本発明の一態様である有機ケイ素化合物の製造方法は、下記式（Ｉ）で表されるロジウム錯体の存在下、下記式（Ａ）で表されるシクロアルケンと下記式（Ｂ）で表されるヒドロシランを反応させて有機ケイ素化合物を生成する反応工程（以下、「反応工程」と略す場合がある。）を含むことを特徴とする。
（式（Ｉ）中、Ｒはそれぞれ独立して炭素原子数１〜２０の炭化水素基を、Ｒ’はそれぞれ独立してハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数０〜２０のアミノ基、ニトロ基、又はハロゲン原子を、Ｘはそれぞれ独立してハロゲン原子、又は炭素原子数１〜１０のアシロキシ基を、ｍはそれぞれ独立して０〜４の整数を、ｎは０〜３の整数を表す。）
（式（Ａ）中、Ｒ１は炭素−炭素不飽和結合を含んでいてもよい炭素原子数１〜１０の直鎖状のアルキレン基を、Ｒ２はそれぞれ独立して酸素原子及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又はハロゲン原子を、ｉは０〜（Ｒ１の炭素原子数＋２）の間の整数を表す。）
（式（Ｂ）中、Ｒ３はそれぞれ独立して水素原子、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又は炭素原子数１〜２０のトリアルキルシロキシ基を表す。）
本発明者らは、環状アルキル基を有する有機ケイ素化合物の製造方法を求め鋭意検討を重ねた結果、フェニル−ビス（オキサゾリン）配位子を有するロジウム錯体、即ち式（Ｉ）で表されるロジウム錯体の存在下で、式（Ａ）で表されるシクロアルケンのヒドロシリル化反応が効率よく進行し、環状アルキル基を有する有機ケイ素化合物が製造できることを見出した。
なお、「有機ケイ素化合物」とは、炭素−ケイ素結合（Ｃ−Ｓｉ）を少なくとも１つ有する有機化合物を意味するものとし、「式（Ａ）で表されるシクロアルケン」と「式（Ｂ）で表されるヒドロシラン」の反応によって生成し得る化合物を意味する。
以下、「反応工程」等について詳細に説明する。
本発明の一態様である有機ケイ素化合物の製造方法は、下記式（Ｉ）で表されるロジウム錯体の存在下、下記式（Ａ）で表されるシクロアルケンと下記式（Ｂ）で表されるヒドロシランを反応させて有機ケイ素化合物を生成する反応工程（以下、「反応工程」と略す場合がある。）を含むことを特徴とする。
（式（Ｉ）中、Ｒはそれぞれ独立して炭素原子数１〜２０の炭化水素基を、Ｒ’はそれぞれ独立してハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数０〜２０のアミノ基、ニトロ基、又はハロゲン原子を、Ｘはそれぞれ独立してハロゲン原子、又は炭素原子数１〜１０のアシロキシ基を、ｍはそれぞれ独立して０〜４の整数を、ｎは０〜３の整数を表す。）
（式（Ａ）中、Ｒ１は炭素−炭素不飽和結合を含んでいてもよい炭素原子数１〜１０の直鎖状のアルキレン基を、Ｒ２はそれぞれ独立して酸素原子及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又はハロゲン原子を、ｉは０〜（Ｒ１の炭素原子数＋２）の間の整数を表す。）
（式（Ｂ）中、Ｒ３はそれぞれ独立して水素原子、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又は炭素原子数１〜２０のトリアルキルシロキシ基を表す。）
本発明者らは、環状アルキル基を有する有機ケイ素化合物の製造方法を求め鋭意検討を重ねた結果、フェニル−ビス（オキサゾリン）配位子を有するロジウム錯体、即ち式（Ｉ）で表されるロジウム錯体の存在下で、式（Ａ）で表されるシクロアルケンのヒドロシリル化反応が効率よく進行し、環状アルキル基を有する有機ケイ素化合物が製造できることを見出した。
なお、「有機ケイ素化合物」とは、炭素−ケイ素結合（Ｃ−Ｓｉ）を少なくとも１つ有する有機化合物を意味するものとし、「式（Ａ）で表されるシクロアルケン」と「式（Ｂ）で表されるヒドロシラン」の反応によって生成し得る化合物を意味する。
以下、「反応工程」等について詳細に説明する。
反応工程は、「式（Ｉ）で表されるロジウム錯体」の存在下、「式（Ａ）で表されるシクロアルケン」と「式（Ｂ）で表されるヒドロシラン」を反応させて有機ケイ素化合物を生成する工程であるが、「式（Ｉ）で表されるロジウム錯体」、「式（Ａ）で表されるシクロアルケン」、及び「式（Ｂ）で表されるヒドロシラン」の具体的種類は、製造目的である有機ケイ素化合物に応じて適宜選択されるべきである。以下、「式（Ｉ）で表されるロジウム錯体」、「式（Ａ）で表されるシクロアルケン」、及び「式（Ｂ）で表されるヒドロシラン」について具体例を挙げて説明する。
式（Ｉ）中のＲは、それぞれ独立して「炭素原子数１〜２０の炭化水素基」を表しているが、「炭化水素基」は、分岐構造、環状構造のそれぞれを有していてもよく、飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基等の何れであってもよいものとする。
Ｒが炭化水素基である場合の炭素原子数は、好ましくは１２以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８以下であり、Ｒが芳香族炭化水素基である場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒとしては、メチル基（−ＣＨ３，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＣ３Ｈ７，−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＣ３Ｈ７，−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＣ４Ｈ９，−ｎＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＣ６Ｈ１３，−ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−ｃＣ６Ｈ１１，−Ｃｙ）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５，−Ｐｈ）等が挙げられる。この中でも、ｉ−プロピル基、フェニル基が特に好ましい。
式（Ｉ）中のＲ’は、それぞれ独立して「ハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基」、「炭素原子数１〜２０のアルコキシ基」、「炭素原子数０〜２０のアミノ基」、「ニトロ基」、又は「ハロゲン原子」を表しているが、「炭化水素基」は、Ｒの場合と同義である。また、「ハロゲン原子を含んでいてもよい」とは、炭化水素基の水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよいことを意味する。さらに、「炭素原
子数０」のアミノ基とは、第１級アミノ基（−ＮＨ２）を意味する。
Ｒ’に含まれる官能基としては、フルオロ基（−Ｆ）、クロロ基（−Ｃｌ）、ブロモ基（−Ｂｒ）、ヨード基（−Ｉ）等が挙げられる。
Ｒ’が炭化水素基である場合の炭素原子数は、好ましくは１２以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８以下であり、Ｒ’が芳香族炭化水素基である場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ’としては、メチル基（−ＣＨ３，−Ｍｅ）、トリフルオロメチル基（−ＣＦ３）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＣ３Ｈ７，−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＣ３Ｈ７，−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＣ４Ｈ９，−ｎＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＣ６Ｈ１３，−ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−ｃＣ６Ｈ１１，−Ｃｙ）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５，−Ｐｈ）、メトキシ基（−ＯＣＨ３，−ＯＭｅ）、エトキシ基（−ＯＣ２Ｈ５，−ＯＥｔ）、ｎ−プロポキシ基（−ＯｎＣ３Ｈ７，−ＯｎＰｒ）、ｉ−プロポキシ基（−ＯｉＣ３Ｈ７，−ＯｉＰｒ）、ｎ−ブトキシ基（−ＯｎＣ４Ｈ９，−ＯｎＢｕ）、ｔ−ブトキシ基（−ＯｔＣ４Ｈ９，−ＯｔＢｕ）、ｎ−ペントキシ基（−ＯｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキソキシ基（−ＯｎＣ６Ｈ１３，−ＯｎＨｅｘ）、フェノキシ基（−ＯＣ６Ｈ５，−ＯＰｈ）、ジメチルアミノ基（−Ｎ（ＣＨ３）２，−ＮＭｅ２）、ニトロ基（−ＮＯ２）、フッ素原子（フルオロ基，−Ｆ）、塩素原子（クロロ基，−Ｃｌ）、臭素原子（ブロモ基，−Ｂｒ）、ヨウ素原子（ヨード基，−Ｉ）等が挙げられる。この中でも、メチル基、ｔ−ブチル基が特に好ましい。
式（Ｉ）中のＸは、それぞれ独立して「ハロゲン原子」、又は「炭素原子数１〜１０のアシロキシ基」を表しているが、「アシロキシ基」とは、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”で表される構造を意味し、「アシロキシ基」の「炭化水素基（Ｒ”）」もＲの場合と同義である。
Ｘがアシロキシ基である場合のアシロキシ基の炭化水素基の炭素原子数は、好ましくは８以下、より好ましくは６以下、さらに好ましくは４以下であり、アシロキシ基の炭化水素基が芳香族炭化水素基である場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｘとしては、クロロ基（−Ｃｌ）、ブロモ基（−Ｂｒ）、ヨード基（−Ｉ）、アセトキシ基（−ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ３，−ＯＡｃ）等が挙げられる。この中でも、クロロ基、アセトキシ基が特に好ましい。
式（Ｉ）中のｍは、それぞれ独立して０〜４の整数を、ｎは０〜３の整数を表しているが、ｍは１が好ましく、ｎは０又は１が好ましい
式（Ｉ）で表されるロジウム錯体としては、下記式で表される化合物が挙げられる。下記式で表される化合物であると、より効率よくヒドロシリル化反応が進行する。
なお、「式（Ｉ）で表されるロジウム錯体」は、例えばＨ．Ｎｉｓｈｉｙａｍａ ｅｔ
ａｌ．，Ｐｕｒｅ ａｎｄ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ８０，７４３−７４９．等に記載の方法で調製することができる。
式（Ｉ）中のＲは、それぞれ独立して「炭素原子数１〜２０の炭化水素基」を表しているが、「炭化水素基」は、分岐構造、環状構造のそれぞれを有していてもよく、飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基等の何れであってもよいものとする。
Ｒが炭化水素基である場合の炭素原子数は、好ましくは１２以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８以下であり、Ｒが芳香族炭化水素基である場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒとしては、メチル基（−ＣＨ３，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＣ３Ｈ７，−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＣ３Ｈ７，−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＣ４Ｈ９，−ｎＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＣ６Ｈ１３，−ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−ｃＣ６Ｈ１１，−Ｃｙ）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５，−Ｐｈ）等が挙げられる。この中でも、ｉ−プロピル基、フェニル基が特に好ましい。
式（Ｉ）中のＲ’は、それぞれ独立して「ハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基」、「炭素原子数１〜２０のアルコキシ基」、「炭素原子数０〜２０のアミノ基」、「ニトロ基」、又は「ハロゲン原子」を表しているが、「炭化水素基」は、Ｒの場合と同義である。また、「ハロゲン原子を含んでいてもよい」とは、炭化水素基の水素原子がハロゲン原子に置換されていてもよいことを意味する。さらに、「炭素原
子数０」のアミノ基とは、第１級アミノ基（−ＮＨ２）を意味する。
Ｒ’に含まれる官能基としては、フルオロ基（−Ｆ）、クロロ基（−Ｃｌ）、ブロモ基（−Ｂｒ）、ヨード基（−Ｉ）等が挙げられる。
Ｒ’が炭化水素基である場合の炭素原子数は、好ましくは１２以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８以下であり、Ｒ’が芳香族炭化水素基である場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ’としては、メチル基（−ＣＨ３，−Ｍｅ）、トリフルオロメチル基（−ＣＦ３）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＣ３Ｈ７，−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＣ３Ｈ７，−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＣ４Ｈ９，−ｎＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＣ６Ｈ１３，−ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−ｃＣ６Ｈ１１，−Ｃｙ）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５，−Ｐｈ）、メトキシ基（−ＯＣＨ３，−ＯＭｅ）、エトキシ基（−ＯＣ２Ｈ５，−ＯＥｔ）、ｎ−プロポキシ基（−ＯｎＣ３Ｈ７，−ＯｎＰｒ）、ｉ−プロポキシ基（−ＯｉＣ３Ｈ７，−ＯｉＰｒ）、ｎ−ブトキシ基（−ＯｎＣ４Ｈ９，−ＯｎＢｕ）、ｔ−ブトキシ基（−ＯｔＣ４Ｈ９，−ＯｔＢｕ）、ｎ−ペントキシ基（−ＯｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキソキシ基（−ＯｎＣ６Ｈ１３，−ＯｎＨｅｘ）、フェノキシ基（−ＯＣ６Ｈ５，−ＯＰｈ）、ジメチルアミノ基（−Ｎ（ＣＨ３）２，−ＮＭｅ２）、ニトロ基（−ＮＯ２）、フッ素原子（フルオロ基，−Ｆ）、塩素原子（クロロ基，−Ｃｌ）、臭素原子（ブロモ基，−Ｂｒ）、ヨウ素原子（ヨード基，−Ｉ）等が挙げられる。この中でも、メチル基、ｔ−ブチル基が特に好ましい。
式（Ｉ）中のＸは、それぞれ独立して「ハロゲン原子」、又は「炭素原子数１〜１０のアシロキシ基」を表しているが、「アシロキシ基」とは、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”で表される構造を意味し、「アシロキシ基」の「炭化水素基（Ｒ”）」もＲの場合と同義である。
Ｘがアシロキシ基である場合のアシロキシ基の炭化水素基の炭素原子数は、好ましくは８以下、より好ましくは６以下、さらに好ましくは４以下であり、アシロキシ基の炭化水素基が芳香族炭化水素基である場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｘとしては、クロロ基（−Ｃｌ）、ブロモ基（−Ｂｒ）、ヨード基（−Ｉ）、アセトキシ基（−ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ３，−ＯＡｃ）等が挙げられる。この中でも、クロロ基、アセトキシ基が特に好ましい。
式（Ｉ）中のｍは、それぞれ独立して０〜４の整数を、ｎは０〜３の整数を表しているが、ｍは１が好ましく、ｎは０又は１が好ましい
式（Ｉ）で表されるロジウム錯体としては、下記式で表される化合物が挙げられる。下記式で表される化合物であると、より効率よくヒドロシリル化反応が進行する。
なお、「式（Ｉ）で表されるロジウム錯体」は、例えばＨ．Ｎｉｓｈｉｙａｍａ ｅｔ
ａｌ．，Ｐｕｒｅ ａｎｄ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ８０，７４３−７４９．等に記載の方法で調製することができる。
反応工程における「式（Ｉ）で表されるロジウム錯体」の使用量（仕込量）は、後述する「式（Ｂ）で表されるヒドロシラン」に対して物質量換算で、通常０．００１倍以上、
好ましくは０．０１倍以上、より好ましくは０．０４倍以上であり、通常０．２倍以下、好ましくは０．１倍以下、より好ましくは０．０６倍以下である。前記範囲内であると、より効率良くヒドロシリル化が進行する。
好ましくは０．０１倍以上、より好ましくは０．０４倍以上であり、通常０．２倍以下、好ましくは０．１倍以下、より好ましくは０．０６倍以下である。前記範囲内であると、より効率良くヒドロシリル化が進行する。
式（Ａ）中のＲ１は、「炭素−炭素不飽和結合を含んでいてもよい炭素原子数１〜１０の直鎖状のアルキレン基」を表しているが、「炭素−炭素不飽和結合を含んでいてもよい」とは、「アルキレン基」内の炭素−炭素単結合が、炭素−炭素二重結合及び／又は炭素−炭素三重結合に置き換わっていてもよいことを意味する。
Ｒ１の炭素原子数は、好ましくは８以下、より好ましくは７以下、さらに好ましくは６以下である。
Ｒ１としては、メチレン基（−ＣＨ２−）、エチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２−）、ｎ−プロピレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）、ｎ−ブチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）、ブト−２−エン−１，４−ジイル基（−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ２−）、ｎ−ペンチレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）、ペント−２−エン−１，５−ジイル基（−ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−）、ｎ−ヘキシレン基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−）、ヘキサ−３−エン−１，６−ジイル基（−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨＣＨ２ＣＨ２−）等が挙げられる。
式（Ａ）中のＲ２は、それぞれ独立して「酸素原子及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基」、又は「ハロゲン原子」を表しているが、「炭化水素基」は、Ｒの場合と同義である。また、「酸素原子及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい」とは、炭化水素基の水素原子が酸素原子、ハロゲン原子等を含む１価の官能基で置換されていてもよいほか、炭化水素基の炭素骨格内部の炭素原子が酸素原子を含む２価以上の官能基（連結基）で置換されていてもよいことを意味する。
Ｒ２に含まれる官能基としては、エーテル基（オキサ基，−Ｏ−）、フルオロ基（−Ｆ）、クロロ基（−Ｃｌ）、ブロモ基（−Ｂｒ）、ヨード基（−Ｉ）等が挙げられる。
Ｒ２が炭化水素基である場合の炭素原子数は、好ましくは１２以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８以下であり、Ｒ’が芳香族炭化水素基である場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ２としては、メチル基（−ＣＨ３，−Ｍｅ）、フルオロメチル基（−ＣＨ２Ｆ）、トリフルオロメチル基（−ＣＦ３）、メトキシメチル基（−ＣＨ２ＯＣＨ３）エチル基（−Ｃ２Ｈ５，−Ｅｔ）、２−クロロエチル基（−ＣＨ２ＣＨ２Ｃｌ）、ｎ−プロピル基（−ｎＣ３Ｈ７，−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＣ３Ｈ７，−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＣ４Ｈ９，−ｎＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＣ６Ｈ１３，−ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−ｃＣ６Ｈ１１，−Ｃｙ）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５，−Ｐｈ）、フッ素原子（フルオロ基，−Ｆ）、塩素原子（クロロ基，−Ｃｌ）、臭素原子（ブロモ基，−Ｂｒ）、ヨウ素原子（ヨード基，−Ｉ）等が挙げられる。この中でも、メチル基、ｔ−ブチル基が特に好ましい。
式（Ａ）中のｉは、「０〜（Ｒ１の炭素原子数＋２）の間の整数」を表しているが、例
えばＲ１が炭素原子数３のｎ−プロピレン基である場合、式（Ａ）で表されるシクロアルケンの環状構造は五員環のシクロペンテンとなり、ｉは０〜５となる。
式（Ａ）で表されるシクロアルケンとしては、下記式で表される化合物が挙げられる。下記式で表される化合物であると、より効率よくヒドロシリル化反応が進行する。
反応工程における「式（Ａ）で表されるシクロアルケン」の使用量（仕込量）は、後述する「式（Ｂ）で表されるヒドロシラン」に対して物質量換算で、通常１倍以上、好ましくは５倍以上、より好ましくは１０倍以上であり、通常１００倍以下、好ましくは５０倍以下、より好ましくは３０倍以下である。前記範囲内であると、より効率良くヒドロシリル化が進行する。
式（Ｂ）中のＲ３は、それぞれ独立して「水素原子」、「炭素原子数１〜２０のアルコキシ基」、「炭素原子数１〜２０の炭化水素基」、又は「炭素原子数１〜２０のトリアルキルシロキシ基」を表しているが、「炭化水素基」はＲの場合と同義である。「トリアルキルシロキシ基」とは、−ＯＳｉＲ”３で表される構造を意味し、「アルキル基」は「アリール基」を含むものとする。
Ｒ３がアルコキシ基、炭化水素基、又はトリアルキルシロキシ基である場合の炭化水素基の炭素原子数は、好ましくは１２以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは８
以下であり、炭化水素基が芳香族炭化水素基である場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ３としては、水素原子、メトキシ基（−ＯＣＨ３，−ＯＭｅ）、エトキシ基（−ＯＣ２Ｈ５，−ＯＥｔ）、ｎ−プロポキシ基（−ＯｎＣ３Ｈ７，−ＯｎＰｒ）、ｉ−プロポキシ基（−ＯｉＣ３Ｈ７，−ＯｉＰｒ）、ｎ−ブトキシ基（−ＯｎＣ４Ｈ９，−ＯｎＢｕ）、ｔ−ブトキシ基（−ＯｔＣ４Ｈ９，−ＯｔＢｕ）、フェノキシ基（−ＯＣ６Ｈ５，−ＯＰｈ）、メチル基（−ＣＨ３，−Ｍｅ）、エチル基（−Ｃ２Ｈ５，−Ｅｔ）、ｎ−プロピル基（−ｎＣ３Ｈ７，−ｎＰｒ）、ｉ−プロピル基（−ｉＣ３Ｈ７，−ｉＰｒ）、ｎ−ブチル基（−ｎＣ４Ｈ９，−ｎＢｕ）、ｔ−ブチル基（−ｔＣ４Ｈ９，−ｔＢｕ）、ｎ−ペンチル基（−ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ−ヘキシル基（−ｎＣ６Ｈ１３，−ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（−ｃＣ６Ｈ１１，−Ｃｙ）、フェニル基（−Ｃ６Ｈ５，−Ｐｈ）、トリメチルシロキシ基（−ＯＳｉ（ＣＨ３）３，−ＯＳｉＭｅ３）等が挙げられる。この中でも、メトキシ基、メチル基、フェニル基、トリメチルシロキシ基が特に好ましい。
式（Ｂ）で表されるヒドロシランとしては、下記式で表される化合物が挙げられる。下記式で表される化合物であると、より効率よくヒドロシリル化反応が進行する。
反応工程は、その他については特に限定されないが、銀塩が添加されることが好ましい。なお、「銀塩」とは、銀イオン（Ａｇ＋）と陰イオンによって形成される塩を意味する。「銀塩」は、反応工程において「式（Ｉ）で表されるロジウム錯体」の陰イオン交換剤として作用するものと考えられる。
銀塩としては、テトラフルオロホウ酸銀（Ｉ）（ＡｇＢＦ４）、酢酸銀（Ｉ）（ＡｇＯＡｃ）、トリフルオロ酢酸銀（ＡｇＯＣＯＣＦ３）等が挙げられる。
銀塩としては、テトラフルオロホウ酸銀（Ｉ）（ＡｇＢＦ４）、酢酸銀（Ｉ）（ＡｇＯＡｃ）、トリフルオロ酢酸銀（ＡｇＯＣＯＣＦ３）等が挙げられる。
反応工程における「銀塩」の使用量（添加量）は、「式（Ｂ）で表されるヒドロシラン」に対して物質量換算で、通常０．００１倍以上、好ましくは０．０１倍以上、より好ましくは０．０４倍以上であり、通常０．２倍以下、好ましくは０．１倍以下、より好ましくは０．０６倍以下である。前記範囲内であると、より効率良くヒドロシリル化が進行する。
反応工程における「銀塩」の使用量（添加量）は、「式（Ｉ）で表されるロジウム錯体」に対して物質量換算で、通常０．０１倍以上、好ましくは０．１倍以上、より好ましくは０．５倍以上であり、通常１００倍以下、好ましくは１０倍以下、より好ましくは５倍以下である。前記範囲内であると、より効率良くヒドロシリル化が進行する。
反応工程における「銀塩」の使用量（添加量）は、「式（Ｉ）で表されるロジウム錯体」に対して物質量換算で、通常０．０１倍以上、好ましくは０．１倍以上、より好ましくは０．５倍以上であり、通常１００倍以下、好ましくは１０倍以下、より好ましくは５倍以下である。前記範囲内であると、より効率良くヒドロシリル化が進行する。
反応工程は、溶媒を使用しても、無溶媒であってもよい。溶媒の種類は、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができるが、具体的にはヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。
反応工程の反応温度は、通常０℃以上、好ましくは１５℃以上であり、通常１００℃以下、好ましくは６０℃以下である。
反応工程の反応時間は、通常３時間以上、好ましくは１０時間以上であり、通常４８時間以下、好ましくは３６時間以下である。
反応工程は、窒素、アルゴン等の不活性雰囲気下で行うことが好ましい。
前記範囲内であると、より効率良くヒドロシリル化が進行する。
反応工程の反応時間は、通常３時間以上、好ましくは１０時間以上であり、通常４８時間以下、好ましくは３６時間以下である。
反応工程は、窒素、アルゴン等の不活性雰囲気下で行うことが好ましい。
前記範囲内であると、より効率良くヒドロシリル化が進行する。
反応工程によって生成する有機ケイ素化合物の具体的種類は、特に限定されず、製造目的に応じて適宜選択することができるが、下記式（Ｃ−１）又は（Ｃ−２）で表される化合物が挙げられる。
（式（Ｃ−１）及び（Ｃ−２）中、Ｒ１は炭素−炭素不飽和結合を含んでいてもよい炭素原子数１〜１０の直鎖状のアルキレン基を、Ｒ２はそれぞれ独立して酸素原子及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又はハロゲン原子を、ｉは０〜（Ｒ１の炭素原子数＋２）の間の整数を、Ｒ３はそれぞれ独立して水素原子、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又は炭素原子数１〜２０のトリアルキルシロキシ基を表す。）
なお、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、「式（Ａ）で表されるシクロアルケン」及び「式（Ｂ）で表されるヒドロシラン」で挙げたものと同様のものが挙げられる。
また、「式（Ａ）で表されるシクロアルケン」が、２以上の炭素−炭素不飽和結合を有する化合物である場合、有機ケイ素化合物は、少なくとも１つの炭素−炭素不飽和結合がヒドロシリル化されていればよく、例えば「式（Ａ）で表されるシクロアルケン」が、１，５−シクロオクタジエンである場合、有機ケイ素化合物としては下記式で表される化合物が挙げられる。
（式（Ｃ−１）及び（Ｃ−２）中、Ｒ１は炭素−炭素不飽和結合を含んでいてもよい炭素原子数１〜１０の直鎖状のアルキレン基を、Ｒ２はそれぞれ独立して酸素原子及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又はハロゲン原子を、ｉは０〜（Ｒ１の炭素原子数＋２）の間の整数を、Ｒ３はそれぞれ独立して水素原子、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又は炭素原子数１〜２０のトリアルキルシロキシ基を表す。）
なお、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、「式（Ａ）で表されるシクロアルケン」及び「式（Ｂ）で表されるヒドロシラン」で挙げたものと同様のものが挙げられる。
また、「式（Ａ）で表されるシクロアルケン」が、２以上の炭素−炭素不飽和結合を有する化合物である場合、有機ケイ素化合物は、少なくとも１つの炭素−炭素不飽和結合がヒドロシリル化されていればよく、例えば「式（Ａ）で表されるシクロアルケン」が、１，５−シクロオクタジエンである場合、有機ケイ素化合物としては下記式で表される化合物が挙げられる。
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
＜実施例１、２＞
下記式で表されるＲｈ（Ｐｈｅｂｏｘ−ｉＰｒ）Ｃｌ２ＯＨ２（４．９ｍｇ，０．０１０ｍｍｏｌ）（Ｐｈｅｂｏｘ＝２，６−ｂｉｓ（２−ｏｘｙａｚｏｌｙｌｉｎｙｌ）ｐｈｅｎｙｌ）のシクロヘキセン溶液（０．５ｍＬ）に、表１に記載のヒドロシラン（表１に記載の量）を加えた。５０℃で１２時間撹拌した後、ペンタデカン（４２．５ｍｇ，５５．２μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加え、ＧＣ（ガスクロマトグラフィー）を測定することにより各生成物の収率を決定した。結果、実施例１（ｎ＝１）の生成物が収率３５％で、実施例２（ｎ＝０）の生成物が収率２２％で得られた。
下記式で表されるＲｈ（Ｐｈｅｂｏｘ−ｉＰｒ）Ｃｌ２ＯＨ２（４．９ｍｇ，０．０１０ｍｍｏｌ）（Ｐｈｅｂｏｘ＝２，６−ｂｉｓ（２−ｏｘｙａｚｏｌｙｌｉｎｙｌ）ｐｈｅｎｙｌ）のシクロヘキセン溶液（０．５ｍＬ）に、表１に記載のヒドロシラン（表１に記載の量）を加えた。５０℃で１２時間撹拌した後、ペンタデカン（４２．５ｍｇ，５５．２μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加え、ＧＣ（ガスクロマトグラフィー）を測定することにより各生成物の収率を決定した。結果、実施例１（ｎ＝１）の生成物が収率３５％で、実施例２（ｎ＝０）の生成物が収率２２％で得られた。
＜実施例３〜６＞
下記式で表されるＲｈ（Ｐｈｅｂｏｘ−ｉＰｒ）Ｃｌ２ＯＨ２（表２に記載の量）と表２に記載の銀塩（表２に記載の量）のＴＨＦ懸濁液（実施例３：２ｍＬ、実施例４：１．５ｍＬ、実施例５、６：１ｍＬ）を１時間撹拌した。その後、溶媒を減圧留去し、シクロヘキセン（表２に記載の量）、表２に記載のヒドロシラン（表２に記載の量）を加え、５０℃で１２時間撹拌した。この溶液にペンタデカン（実施例３：８５．０ｍｇ，１１０μＬ，０．４０ｍｍｏｌ、実施例４、５、６：４２．５ｍｇ，５５．２μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加え、ＧＣを測定することにより、各生成物の収率を決定した。結果、実施例３（ｎ＝１、Ｘ＝ＢＦ４）の生成物が収率５８％で、実施例４（ｎ＝１、Ｘ＝ＯＡｃ）の生成物が収率５５％で、実施例５（ｎ＝０、Ｘ＝ＢＦ４）の生成物が収率４４％で、実施例
６（ｎ＝０、Ｘ＝ＯＡｃ）の生成物が収率６２％で得られた。
下記式で表されるＲｈ（Ｐｈｅｂｏｘ−ｉＰｒ）Ｃｌ２ＯＨ２（表２に記載の量）と表２に記載の銀塩（表２に記載の量）のＴＨＦ懸濁液（実施例３：２ｍＬ、実施例４：１．５ｍＬ、実施例５、６：１ｍＬ）を１時間撹拌した。その後、溶媒を減圧留去し、シクロヘキセン（表２に記載の量）、表２に記載のヒドロシラン（表２に記載の量）を加え、５０℃で１２時間撹拌した。この溶液にペンタデカン（実施例３：８５．０ｍｇ，１１０μＬ，０．４０ｍｍｏｌ、実施例４、５、６：４２．５ｍｇ，５５．２μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加え、ＧＣを測定することにより、各生成物の収率を決定した。結果、実施例３（ｎ＝１、Ｘ＝ＢＦ４）の生成物が収率５８％で、実施例４（ｎ＝１、Ｘ＝ＯＡｃ）の生成物が収率５５％で、実施例５（ｎ＝０、Ｘ＝ＢＦ４）の生成物が収率４４％で、実施例
６（ｎ＝０、Ｘ＝ＯＡｃ）の生成物が収率６２％で得られた。
＜実施例７、８＞
下記式で表されるＲｈ（Ｐｈｅｂｏｘ−ｉＰｒ）（ＯＡｃ）２ＯＨ２（５．４ｍｇ，０．０１０ｍｍｏｌ）のシクロヘキセン溶液（０．５ｍＬ）に、表３に記載のヒドロシラン（表３に記載の量）を加えた。５０℃で１２時間撹拌した後、ペンタデカン（４２．５ｍｇ，５５．２μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加え、ＧＣを測定することにより各生成物の収率を決定した。結果、実施例７（ｎ＝１）の生成物が収率５９％で、実施例８（ｎ＝０）の生成物が収率７３％で得られた。
下記式で表されるＲｈ（Ｐｈｅｂｏｘ−ｉＰｒ）（ＯＡｃ）２ＯＨ２（５．４ｍｇ，０．０１０ｍｍｏｌ）のシクロヘキセン溶液（０．５ｍＬ）に、表３に記載のヒドロシラン（表３に記載の量）を加えた。５０℃で１２時間撹拌した後、ペンタデカン（４２．５ｍｇ，５５．２μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加え、ＧＣを測定することにより各生成物の収率を決定した。結果、実施例７（ｎ＝１）の生成物が収率５９％で、実施例８（ｎ＝０）の生成物が収率７３％で得られた。
＜実施例９、１０＞
下記式で表されるＲｈ（Ｐｈｅｂｏｘ−Ｐｈ）（ＯＡｃ）２ＯＨ２（６．１ｍｇ，０．０１０ｍｍｏｌ）のシクロヘキセン溶液（０．５ｍＬ）に、表４に記載のヒドロシラン（表４に記載の量）を加えた。５０℃で１２時間撹拌した後、ペンタデカン（４２．５ｍｇ，５５．２μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加え、ＧＣを測定することにより各生成物の収率を決定した。結果、実施例９（ｎ＝１）の生成物が収率５７％で、実施例１０（ｎ＝０）の生成物が収率６７％で得られた。
下記式で表されるＲｈ（Ｐｈｅｂｏｘ−Ｐｈ）（ＯＡｃ）２ＯＨ２（６．１ｍｇ，０．０１０ｍｍｏｌ）のシクロヘキセン溶液（０．５ｍＬ）に、表４に記載のヒドロシラン（表４に記載の量）を加えた。５０℃で１２時間撹拌した後、ペンタデカン（４２．５ｍｇ，５５．２μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加え、ＧＣを測定することにより各生成物の収率を決定した。結果、実施例９（ｎ＝１）の生成物が収率５７％で、実施例１０（ｎ＝０）の生成物が収率６７％で得られた。
＜実施例１１、１２＞
下記式で表されるＲｈ（Ｐｈｅｂｏｘ−ｉＰｒ）（ＯＡｃ）２ＯＨ２（５．４ｍｇ，０．０１０ｍｍｏｌ）のシクロヘキセン溶液（０．５ｍＬ）に、表５に記載のヒドロシラン（表５に記載の量）を加えた。２５℃で１２時間撹拌した後、ペンタデカン（４２．５ｍｇ，５５．２μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加え、ＧＣを測定することにより各生成物の収率を決定した。結果、実施例１１（ｎ＝１）の生成物が収率６５％で、実施例１２（ｎ＝０）の生成物が収率７２％で得られた。
下記式で表されるＲｈ（Ｐｈｅｂｏｘ−ｉＰｒ）（ＯＡｃ）２ＯＨ２（５．４ｍｇ，０．０１０ｍｍｏｌ）のシクロヘキセン溶液（０．５ｍＬ）に、表５に記載のヒドロシラン（表５に記載の量）を加えた。２５℃で１２時間撹拌した後、ペンタデカン（４２．５ｍｇ，５５．２μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加え、ＧＣを測定することにより各生成物の収率を決定した。結果、実施例１１（ｎ＝１）の生成物が収率６５％で、実施例１２（ｎ＝０）の生成物が収率７２％で得られた。
＜実施例１３＞
下記式で表されるＲｈ（Ｐｈｅｂｏｘ−ｉＰｒ）（ＯＡｃ）２ＯＨ２（５．４ｍｇ，０．０１０ｍｍｏｌ）のシクロペンテン溶液（０．５ｍＬ）に、表６に記載のヒドロシラン（表６に記載の量）を加え、２５°Cで１２時間撹拌した。この反応溶液にＰｈＳｉＭｅ３（３０．１ｍｇ，３４．６μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた後、この溶液０．３ｍＬにＣｒ（ａｃａｃ）３（２０ｍｇ）(ａｃａｃ＝アセチルアセトナート)を加え、２９ＳｉＮＭＲを測定することにより生成物の収率を決定した。実施例１３（ｎ＝１）の生成物が収率９１％で得られた。
下記式で表されるＲｈ（Ｐｈｅｂｏｘ−ｉＰｒ）（ＯＡｃ）２ＯＨ２（５．４ｍｇ，０．０１０ｍｍｏｌ）のシクロペンテン溶液（０．５ｍＬ）に、表６に記載のヒドロシラン（表６に記載の量）を加え、２５°Cで１２時間撹拌した。この反応溶液にＰｈＳｉＭｅ３（３０．１ｍｇ，３４．６μＬ，０．２０ｍｍｏｌ）を加えた後、この溶液０．３ｍＬにＣｒ（ａｃａｃ）３（２０ｍｇ）(ａｃａｃ＝アセチルアセトナート)を加え、２９ＳｉＮＭＲを測定することにより生成物の収率を決定した。実施例１３（ｎ＝１）の生成物が収率９１％で得られた。
本発明の製造方法によって提供される有機ケイ素化合物は、シリコーンポリマーや機能性シロキサン化合物等の原料として有用である。
Claims (2)
- 下記式（Ｉ）で表されるロジウム錯体の存在下、下記式（Ａ）で表されるシクロアルケンと下記式（Ｂ）で表されるヒドロシランを反応させて有機ケイ素化合物を生成する反応工程を含むことを特徴とする有機ケイ素化合物の製造方法。
（式（Ｉ）中、Ｒはそれぞれ独立して炭素原子数１〜２０の炭化水素基を、Ｒ’はそれぞれ独立してハロゲン原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数０〜２０のアミノ基、ニトロ基、又はハロゲン原子を、Ｘはそれぞれ独立してハロゲン原子、又は炭素原子数１〜１０のアシロキシ基を、ｍはそれぞれ独立して０〜４の整数を、ｎは０〜３の整数を表す。）
（式（Ａ）中、Ｒ１は炭素−炭素不飽和結合を含んでいてもよい炭素原子数１〜１０の直鎖状のアルキレン基を、Ｒ２はそれぞれ独立して酸素原子及びハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１種の原子を含んでいてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又はハロゲン原子を、ｉは０〜（Ｒ１の炭素原子数＋２）の間の整数を表す。）
（式（Ｂ）中、Ｒ３はそれぞれ独立して水素原子、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、又は炭素原子数１〜２０のトリアルキルシロキシ基を表す。） - 前記反応工程において、銀塩が添加される、請求項１に記載の有機ケイ素化合物の製造方法。
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