JP2005507088A - 平版印刷版前駆体を処理する方法 - Google Patents
平版印刷版前駆体を処理する方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005507088A JP2005507088A JP2003504167A JP2003504167A JP2005507088A JP 2005507088 A JP2005507088 A JP 2005507088A JP 2003504167 A JP2003504167 A JP 2003504167A JP 2003504167 A JP2003504167 A JP 2003504167A JP 2005507088 A JP2005507088 A JP 2005507088A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gum solution
- hydrogen
- imageable layer
- imageable
- aqueous alkaline
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 48
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims abstract description 35
- 238000007639 printing Methods 0.000 title abstract description 54
- 239000002243 precursor Substances 0.000 title abstract description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 52
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 36
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 35
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 19
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 18
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 claims abstract description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 83
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 25
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 18
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 16
- -1 alkyl radical Chemical class 0.000 claims description 15
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims description 14
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 13
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 11
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 claims description 11
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 claims description 10
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 9
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 9
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 claims description 7
- CDAISMWEOUEBRE-UHFFFAOYSA-N inositol Chemical compound OC1C(O)C(O)C(O)C(O)C1O CDAISMWEOUEBRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- HEBKCHPVOIAQTA-UHFFFAOYSA-N meso ribitol Natural products OCC(O)C(O)C(O)CO HEBKCHPVOIAQTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 5
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 claims description 5
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 claims description 4
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 claims description 4
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 claims description 4
- MBBZMMPHUWSWHV-BDVNFPICSA-N N-methylglucamine Chemical compound CNC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO MBBZMMPHUWSWHV-BDVNFPICSA-N 0.000 claims description 3
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 claims description 2
- FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N D-Mannitol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N 0.000 claims description 2
- HEBKCHPVOIAQTA-QWWZWVQMSA-N D-arabinitol Chemical compound OC[C@@H](O)C(O)[C@H](O)CO HEBKCHPVOIAQTA-QWWZWVQMSA-N 0.000 claims description 2
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 claims description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-MBMOQRBOSA-N D-mannonic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-MBMOQRBOSA-N 0.000 claims description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-QTBDOELSSA-N L-gulonic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-QTBDOELSSA-N 0.000 claims description 2
- 229930195725 Mannitol Natural products 0.000 claims description 2
- JVWLUVNSQYXYBE-UHFFFAOYSA-N Ribitol Natural products OCC(C)C(O)C(O)CO JVWLUVNSQYXYBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- TVXBFESIOXBWNM-UHFFFAOYSA-N Xylitol Natural products OCCC(O)C(O)C(O)CCO TVXBFESIOXBWNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000594 mannitol Substances 0.000 claims description 2
- 235000010355 mannitol Nutrition 0.000 claims description 2
- 125000000250 methylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- HEBKCHPVOIAQTA-ZXFHETKHSA-N ribitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO HEBKCHPVOIAQTA-ZXFHETKHSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 claims description 2
- 235000010356 sorbitol Nutrition 0.000 claims description 2
- 239000000811 xylitol Substances 0.000 claims description 2
- 235000010447 xylitol Nutrition 0.000 claims description 2
- HEBKCHPVOIAQTA-SCDXWVJYSA-N xylitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO HEBKCHPVOIAQTA-SCDXWVJYSA-N 0.000 claims description 2
- 229960002675 xylitol Drugs 0.000 claims description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 abstract description 9
- 238000010129 solution processing Methods 0.000 abstract description 9
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 28
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 24
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 21
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 17
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 17
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 16
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 11
- PLXMOAALOJOTIY-FPTXNFDTSA-N Aesculin Natural products OC[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H]1Oc2cc3C=CC(=O)Oc3cc2O PLXMOAALOJOTIY-FPTXNFDTSA-N 0.000 description 9
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 8
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 241000393496 Electra Species 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- CBOIHMRHGLHBPB-UHFFFAOYSA-N hydroxymethyl Chemical compound O[CH2] CBOIHMRHGLHBPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- UWQPDVZUOZVCBH-UHFFFAOYSA-N 2-diazonio-4-oxo-3h-naphthalen-1-olate Chemical group C1=CC=C2C(=O)C(=[N+]=[N-])CC(=O)C2=C1 UWQPDVZUOZVCBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- 238000001212 derivatisation Methods 0.000 description 4
- 125000004005 formimidoyl group Chemical group [H]\N=C(/[H])* 0.000 description 4
- 229950006191 gluconic acid Drugs 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 4
- 229920001983 poloxamer Polymers 0.000 description 4
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 4
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- NQRAOOGLFRBSHM-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(4-sulfamoylphenyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 NQRAOOGLFRBSHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Chemical group OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002596 lactones Chemical group 0.000 description 3
- JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N mono-hydroxyphenyl-ethylene Natural products OC1=CC=CC=C1C=C JESXATFQYMPTNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 229920003987 resole Polymers 0.000 description 3
- 150000005846 sugar alcohols Chemical class 0.000 description 3
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 4-toluenesulfonyl chloride Chemical compound CC1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical group [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241001481710 Cerambycidae Species 0.000 description 2
- 241001301450 Crocidium multicaule Species 0.000 description 2
- WQZGKKKJIJFFOK-QTVWNMPRSA-N D-mannopyranose Chemical compound OC[C@H]1OC(O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-QTVWNMPRSA-N 0.000 description 2
- SRBFZHDQGSBBOR-IOVATXLUSA-N D-xylopyranose Chemical compound O[C@@H]1COC(O)[C@H](O)[C@H]1O SRBFZHDQGSBBOR-IOVATXLUSA-N 0.000 description 2
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 2
- PYMYPHUHKUWMLA-UHFFFAOYSA-N arabinose Natural products OCC(O)C(O)C(O)C=O PYMYPHUHKUWMLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 2
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M benzenesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- SRBFZHDQGSBBOR-UHFFFAOYSA-N beta-D-Pyranose-Lyxose Natural products OC1COC(O)C(O)C1O SRBFZHDQGSBBOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 239000000994 contrast dye Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000008103 glucose Substances 0.000 description 2
- 239000008233 hard water Substances 0.000 description 2
- 150000002402 hexoses Chemical class 0.000 description 2
- 239000002198 insoluble material Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 2
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 235000000346 sugar Nutrition 0.000 description 2
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 2
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 2
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical group ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentafluorophenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F LWNGJAHMBMVCJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXZYCXMUPBBULW-ZRMNMSDTSA-N (3s,4r)-5-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]-3,4-dihydroxyoxolan-2-one Chemical compound OC[C@@H](O)C1OC(=O)[C@@H](O)[C@H]1O SXZYCXMUPBBULW-ZRMNMSDTSA-N 0.000 description 1
- VYUKAAZJZMQJGE-UHFFFAOYSA-N (4-methylphenyl)methanesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(CS(O)(=O)=O)C=C1 VYUKAAZJZMQJGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GKNWQHIXXANPTN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,2-pentafluoroethanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)F GKNWQHIXXANPTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYETUPHNMRUUQV-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,2-pentafluoroethyl acetate Chemical compound CC(=O)OC(F)(F)C(F)(F)F KYETUPHNMRUUQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical class C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXZYCXMUPBBULW-UHFFFAOYSA-N 1,4-gluconolactone Natural products OCC(O)C1OC(=O)C(O)C1O SXZYCXMUPBBULW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXTHAGCVCGSZLO-UHFFFAOYSA-N 2-diazoniophenolate Chemical compound [O-]C1=CC=CC=C1[N+]#N RXTHAGCVCGSZLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRTHUCIMRFDENH-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylphenol;2-phenylethenol Chemical compound OC=CC1=CC=CC=C1.OC1=CC=CC=C1C=C WRTHUCIMRFDENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRUFZDJLXROPIW-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(3-sulfamoylphenyl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=CC(S(N)(=O)=O)=C1 DRUFZDJLXROPIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSNKQSPJFRQSEI-UHFFFAOYSA-M 3,3,3-trifluoropropanoate Chemical compound [O-]C(=O)CC(F)(F)F KSNKQSPJFRQSEI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZRYCRPNCXLQHPN-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2-methylbenzaldehyde Chemical compound CC1=C(O)C=CC=C1C=O ZRYCRPNCXLQHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYKBEIDPRRYKKQ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(diethylamino)-2-methylphenyl]imino-1-oxo-n-phenylnaphthalene-2-carboxamide Chemical compound CC1=CC(N(CC)CC)=CC=C1N=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C(C(=O)NC=2C=CC=CC=2)=C1 ZYKBEIDPRRYKKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWYHLYHCONETMH-UHFFFAOYSA-N 4-bromobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C(Br)C=C1.OS(=O)(=O)C1=CC=C(Br)C=C1 NWYHLYHCONETMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDOYVMSNJBLIM-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylphenol;formaldehyde Chemical compound O=C.CC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 LZDOYVMSNJBLIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000215068 Acacia senegal Species 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229930091051 Arenine Natural products 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000689227 Cora <basidiomycete fungus> Species 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-IVMDWMLBSA-N D-allopyranose Chemical compound OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-IVMDWMLBSA-N 0.000 description 1
- HMFHBZSHGGEWLO-SOOFDHNKSA-N D-ribofuranose Chemical compound OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H]1O HMFHBZSHGGEWLO-SOOFDHNKSA-N 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010073306 Exposure to radiation Diseases 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-M Methanesulfonate Chemical compound CS([O-])(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical class C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical class N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYMYPHUHKUWMLA-LMVFSUKVSA-N Ribose Natural products OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)C=O PYMYPHUHKUWMLA-LMVFSUKVSA-N 0.000 description 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000008042 Zea mays Species 0.000 description 1
- 235000005824 Zea mays ssp. parviglumis Nutrition 0.000 description 1
- 235000002017 Zea mays subsp mays Nutrition 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVGSDOIXRPZFH-UHFFFAOYSA-N [(1-diazonioimino-3,4-dioxonaphthalen-2-ylidene)hydrazinylidene]azanide Chemical compound C1=CC=C2C(=N[N+]#N)C(=NN=[N-])C(=O)C(=O)C2=C1 ALVGSDOIXRPZFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- HMFHBZSHGGEWLO-UHFFFAOYSA-N alpha-D-Furanose-Ribose Natural products OCC1OC(O)C(O)C1O HMFHBZSHGGEWLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-PHYPRBDBSA-N alpha-D-galactose Chemical compound OC[C@H]1O[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-PHYPRBDBSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003429 antifungal agent Substances 0.000 description 1
- 229940121375 antifungal agent Drugs 0.000 description 1
- PYMYPHUHKUWMLA-WDCZJNDASA-N arabinose Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)C=O PYMYPHUHKUWMLA-WDCZJNDASA-N 0.000 description 1
- VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N arsonium Chemical compound [AsH4+] VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-triol;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.OC1=CC=CC(O)=C1O HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical group OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical class C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N beta-D-glucose Chemical compound OC[C@H]1O[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N 0.000 description 1
- 239000003139 biocide Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 239000006172 buffering agent Substances 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical group 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 235000005822 corn Nutrition 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- URQUNWYOBNUYJQ-UHFFFAOYSA-N diazonaphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=[N]=[N])C=CC2=C1 URQUNWYOBNUYJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O diazynium Chemical compound [NH+]#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M ethanesulfonate Chemical compound CCS([O-])(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L fluoridophosphate Chemical compound [O-]P([O-])(F)=O DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000013505 freshwater Substances 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-GUCUJZIJSA-N galactitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-GUCUJZIJSA-N 0.000 description 1
- 229930182830 galactose Natural products 0.000 description 1
- 125000000457 gamma-lactone group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003906 humectant Substances 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 1
- 150000004693 imidazolium salts Chemical class 0.000 description 1
- HOBCFUWDNJPFHB-UHFFFAOYSA-N indolizine Chemical compound C1=CC=CN2C=CC=C21 HOBCFUWDNJPFHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003331 infrared imaging Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N iodonium Chemical compound [IH2+] MGFYSGNNHQQTJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000000813 microbial effect Effects 0.000 description 1
- YTCQFLFGFXZUSN-BAQGIRSFSA-N microline Chemical compound OC12OC3(C)COC2(O)C(C(/Cl)=C/C)=CC(=O)C21C3C2 YTCQFLFGFXZUSN-BAQGIRSFSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 150000002972 pentoses Chemical class 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 229920001748 polybutylene Polymers 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 150000004033 porphyrin derivatives Chemical class 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SPVXKVOXSXTJOY-UHFFFAOYSA-O selenonium Chemical compound [SeH3+] SPVXKVOXSXTJOY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 150000008163 sugars Chemical class 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000005537 sulfoxonium group Chemical group 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001931 thermography Methods 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 125000002088 tosyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1C([H])([H])[H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 239000001003 triarylmethane dye Substances 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
- B41N3/08—Damping; Neutralising or similar differentiation treatments for lithographic printing formes; Gumming or finishing solutions, fountain solutions, correction or deletion fluids, or on-press development
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
R1(CHOH)nR2
[上式で、nは4〜7であり、(i)R1は水素、アリール基、またはCH2OHであり、R2は水素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル基、CH2OR3(式中、R3は水素、もしくは1〜4個の炭素原子を有するアルキル基)、CH2N(R4R5)(式中、R4およびR5はそれぞれ独立に水素、もしくは1〜4個の炭素原子を有するアルキル基)、またはCO2Hであり、あるいは(ii)R1およびR2が一緒になって炭素-炭素単結合を形成する]
を含む水性アルカリ現像-ガム溶液を用いて、画像化されたエレメントの現像とガム液処理を同時に行うことを含む。
Description
【0001】
本発明は、平版印刷に関する。特に本発明は、アルカリ現像可能な平版印刷版として有用な、画像様露光された画像化可能エレメントを、水性アルカリ現像-ガム(gumming)溶液を用いて処理する方法に関する。
【背景技術】
【0002】
平版印刷では、親水性表面上に、画像領域として知られるインク受容領域が生成される。この表面を水で湿らせてインクを施すと、親水性領域は水を保持してインクをはじき、インク受容領域はインクを受容して水をはじく。インクは画像がその上に再現される材料の表面に転写される。一般に、インクはまず、中間ブランケットに転写され、次に画像がその上に再現される材料の表面にインクを転写する。
【0003】
印刷版前駆体または印刷フォームと呼ばれることもある、平版印刷版として有用な画像化可能エレメントは、一般に親水性基板の表面上に適用された画像化可能層を有する。この画像化可能層は、適切なバインダ中に分散させることができる1種または複数の放射感応性成分を含む。あるいは、放射感応性成分をバインダ材料とすることもできる。
【0004】
印刷可能領域が画像に応じて分布した印刷版を得るためには、画像化された画像化可能エレメントの各領域を除去する必要がある。不要の領域を除去するための最も一般的な方法は、画像化されたエレメントを現像液と接触させることである。放射光への露光後に、画像化可能層の露光領域を現像液によって除去して、下にある基板の親水性表面を露出させる場合、エレメントはポジ型印刷エレメントである。逆に、非露光領域を除去する場合、エレメントはネガ型エレメントである。いずれの場合も、現像後に残る画像化可能層(すなわち画像領域)はインク受容性であり、現像処理によって露出された親水性表面の領域は水および水溶液、一般には湿し水を受容し、インクをはじく。
【0005】
一般に現像後に、画像化されたエレメントを特別に配合されたガム溶液または仕上げ剤溶液で処理し、非画像領域を不感脂化して印刷時にインクを受容しないようにする。画像化可能層に金属支持体を用いた場合、仕上げ剤は、保存中または印刷機取り付けのための待機中にエレメントの非画像領域が酸化するのも防止する。
【0006】
アルカリ現像可能なポジ型画像化可能エレメントの多くは、親水性基板、一般には特別に処理されたアルミニウム・シート上に、ノボラック樹脂などのフェノール樹脂を含む感光性層を有する。例えばあるタイプのエレメントでは、感光性層はノボラック樹脂、およびノボラック樹脂のナフトキノンジアジドスルホン酸エステルなど、放射感応性のo-ジアゾキノンまたはジアゾナフトキノン化合物を含む。露光されると、放射感応性のジアゾナフトキノンが、対応するカルボン酸に変換される。現像液は、相補的な非露光領域に実質的な影響を及ぼすことなく、画像化可能層の露光領域または画像領域に浸透し、それを除去して、下にある基板の親水性表面を露出させる。
【0007】
平版印刷版として有用な画像化可能エレメントを処理するための通常の方法は、画像様の露光、現像、すすぎ、ガム液処理、および乾燥の各ステップを含む。通常のネガ型版の場合、例えばDhillonの米国特許第4873174号に記載された「2 in 1処理」を用いることもできる。この方法は、露光、現像/ガム液処理、乾燥の各ステップからなり、現像/ガム液処理は1種類の溶液を用いて処理装置の1つの区画で行われる。しかしこの方法は、ノボラック樹脂または同様の樹脂を含むポジ型版に用いることはできない。水溶液中でこうした樹脂を溶解させるのに、現像液の高いアルカリ度が必要とされるからである。画像領域および非画像領域の両方に残存するアルカリ成分の残渣により、版の印刷および/または保存中に問題が生じることになる。一般的な現像液と仕上げ剤組成物を混合するだけで、ポジ型版の現像とガム液処理を同時に行う単一の溶液を調製する試みがなされてきた。しかし、こうした試みには、主に成分の不適合性のためにいくつかの欠点がある。したがって、ポジ型版の場合、依然として通常の処理が必要である。
【特許文献1】
米国特許第4873174号
【特許文献2】
米国特許第6143479号
【非特許文献1】
「Photoreactive Polymers: the Science and Technology of Resists」、A.Reiser、Wiley、New York、1989年、178〜225頁
【特許文献3】
米国特許第5141838号(欧州特許公開第330239号)
【特許文献4】
米国特許第5705308号
【特許文献5】
米国特許第5705322号
【特許文献6】
国際特許公開WO97/39894号
【特許文献7】
欧州特許公開第0823327号
【特許文献8】
欧州特許公開第0909627号
【特許文献9】
国際特許公開WO98/42507号
【特許文献10】
国際特許公開WO99/11458号
【特許文献11】
欧州特許第0908397号
【特許文献12】
米国特許第4973572号
【特許文献13】
米国特許第5244771号
【特許文献14】
米国特許第5401618号
【特許文献15】
米国特許第5372907号
【特許文献16】
米国特許第5466557号
【特許文献17】
米国特許第5919601号
【特許文献18】
米国特許第3779778号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
したがって、個別のすすぎステップおよびガム液処理ステップを必要としない、平版印刷版として有用な画像化可能エレメント、特にノボラック樹脂または同様の樹脂を含むポジ型エレメントを処理するための方法が求められている。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明は、画像形成方法である。この方法は、
(a)親水性支持体上に画像化可能層を有する画像化可能エレメントを画像化し、画像化可能層内に露光領域および非露光領域を含む画像化されたエレメントを形成するステップと、
(b)画像化されたエレメントを水性アルカリ現像-ガム溶液と接触させ、画像化可能層の露光領域と非露光領域の一方を除去することにより、画像化されたエレメントの現像とガム液処理を同時に行うステップとを含み、
水性アルカリ現像-ガム溶液が、以下の構造:
R1(CHOH)nR2
[式中、nは4〜7であり、
(i)R1は水素、アリール基、またはCH2OHであり、かつR2は水素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル基、CH2OR3(式中、R3は水素、もしくは1〜4個の炭素原子を有するアルキル基である)、CH2N(R4R5)(式中、R4およびR5はそれぞれ独立に水素、もしくは1〜4個の炭素原子を有するアルキル基である)、またはCO2Hであるか、あるいは
(ii)R1およびR2が一緒になって炭素-炭素単結合を形成する]
を有する1種または複数の水溶性ポリヒドロキシ化合物を含み、
水性アルカリ現像-ガム溶液が約10.0〜約14のpHを有し、
1種または複数のポリヒドロキシ化合物が水性アルカリ現像-ガム溶液の約10重量%〜約30重量%を構成する
方法である。
【0010】
この方法は、ステップ(b)の後にすすぎステップおよび別のガム液処理ステップのいずれも含まないことが好ましい。好ましくは、画像化可能層は(i)少なくとも1種類のフェノール樹脂、またはペンダント型スルホンアミド基を有する少なくとも1種類の高分子化合物を含み、(ii)親水性支持体がアルミニウムまたはアルミニウム合金を含む。
【0011】
他の態様では、本発明は、本発明の方法によって形成される平版印刷版として有用な画像化されたエレメントである。
【発明を実施するための最良の形態】
【0012】
水性アルカリ現像-ガム溶液は、以下の構造を有する1種または複数の水溶性のポリヒドロキシ化合物:
R1(CHOH)nR2
[式中、nは4〜7であり、
(i)R1は水素、アリール基、またはCH2OHであり、かつR2は水素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル基、CH2OR3(式中、R3は水素、もしくは1〜4個の炭素原子を有するアルキル基である)、CH2N(R4R5)(式中、R4およびR5はそれぞれ独立に水素、もしくは1〜4個の炭素原子を有するアルキル基である)、またはCO2Hであるか、あるいは
(ii)R1およびR2が一緒になって炭素-炭素単結合を形成する]
を含む。
【0013】
ポリヒドロキシ化合物のある群では、R1は水素またはCH2OHであり、R2は水素である。これらのポリヒドロキシ化合物の好ましい群では、nは5または6である。この群には、遊離アルデヒド基またはケトン基を持たず、また還元特性を示さない構造H(CHOH)nHを有する化合物である糖アルコールが含まれる。糖アルコールは自然源から得ることも、還元糖の水素化によって調製することもできる。好ましい糖アルコールには、マンニトール、ソルビトール、キシリトール、リビトール、およびアラビトールが含まれる。他の糖アルコールには、例えばタリトール、ズルシトール、およびアロズルシトールが含まれる。
【0014】
ポリヒドロキシ化合物の他の群では、R1およびR2が一緒になって炭素-炭素単結合を形成する。構造(CHOH)n(式中、nは4〜7である)を有する炭素環式化合物が含まれる。これらのポリヒドロキシ化合物の好ましい群では、nは5または6、より好ましくは6である。1,2,3,4,5,6-ヘキサヒドロキシシクロヘキサンには9種類の可能な立体異性体があり、そのうちのいくつかは天然に存在している。好ましいポリヒドロキシ化合物は、メソイノシット(cis-1,2,3,5-trans-4,6-ヘキサヒドロキシシクロヘキサン)である。メソイノシットは、コーンスティープリカーから単離することができる。
【0015】
ポリヒドロキシ化合物の他の群では、R1は水素、アリール基、またはCH2OHであり、R2は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基、CH2OR3(式中、R3は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基である)、CH2N(R4R5)(式中、R4およびR5はそれぞれ独立に水素、もしくは1〜4個の炭素原子を有するアルキル基である)、またはCO2Hである。
【0016】
ポリヒドロキシ化合物のある好ましい群では、R1は水素またはCH2OHであり、R2はCO2Hである。より好ましくは、R1は水素であり、nは4または5である。この群には、構造H(CHOH)nCO2H(式中、nは4または5である)を有するポリヒドロキシ化合物が含まれる。概念的には、これらのポリヒドロキシ化合物は、対応する六炭糖または五炭糖の酸化、すなわちグルコース、ガラクトース、アロース、マンノースなど六炭糖のアルデヒド基の酸化、またはアラビノース、リボース、キシロースなど五炭糖のアルデヒド基の酸化によって生成することができる。例えば、グルコン酸[H(CHOH)5CO2H]は、例えば微生物的酸化によるグルコースの酸化によって調製することができる。好ましいポリヒドロキシ化合物には、リボン酸、グルコン酸(デキストロン酸)、マンノン酸、およびグロン酸が含まれる。
【0017】
当業者には周知であるように、これらのポリヒドロキシ化合物は、環が閉じたラクトン形で存在することができる。リボン酸は、リボン酸γ-ラクトンとして存在することができる。グルコン酸は、グルコン酸γ-ラクトンとして存在することができる。マンノン酸は、マンノン酸γ-ラクトンとして存在することができる。グロン酸は、グロン酸γ-ラクトンとして存在することができる。これらのポリヒドロキシ化合物のラクトン形は、先に示した定義に含まれる。
【0018】
また、当業者には明らかなように、アルカリ溶液中ではカルボキシル基(CO2H)がイオン化してカルボン酸アニオン(COO−)になるため、ポリヒドロキシ化合物は、アニオン[H(CHOH)nCO2 −]として存在することができる。ラクトンは、アルカリ溶液中で対応する環が開いた酸の塩に変わる。あるいは、化合物を塩、特にナトリウム塩[H(CHOH)nCO2 −Na+]、またはカリウム塩[H(CHOH)nCO2 −K+]などのアルカリ金属塩として供給することもできる。これらのポリヒドロキシ化合物のアニオンおよび塩は、先に示した定義に含まれる。
【0019】
ポリヒドロキシ化合物の他の群では、R1は水素であり、R2はCH2N(R4R5)(式中、R4およびR5はそれぞれ独立に水素、もしくは1〜4個の炭素原子を有するアルキル基である)。nは4または5であることが好ましく、R4およびR5はそれぞれ独立に水素、もしくは1〜2個の炭素原子を有するアルキル基であることが好ましい。この群の好ましいポリヒドロキシ化合物には、グルカミン、N-メチルグルカミン、および1-デソキシ-1-(メチルアミノ)-ガラクチットが含まれる。より好ましいポリヒドロキシ化合物は、N-メチルグルカミンである。
【0020】
水性アルカリ現像-ガム溶液は、約10〜約14.0、一般に少なくとも約11、好ましくは少なくとも約12、および好ましくは13.5未満のpHを有する。現像液のアルカリ度は、任意の通常のアルカリ系、例えばアルカリ金属水酸化物、ケイ酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩、アミンなどによって得ることができる。アルカリ金属水酸化物が好ましい。露光され現像された画像の上にケイ酸塩の堆積物が形成されるため、ケイ酸塩は好ましくない。したがって、現像-ガム溶液は、ケイ酸塩を含まないことが好ましい。
【0021】
水性アルカリ現像-ガム溶液中に存在するポリヒドロキシ化合物の総量は、水性アルカリ現像-ガム溶液の総重量に対して一般に約10重量%〜約30重量%、より好ましくは約12重量%〜約20重量%である。すなわち、1種類のポリヒドロキシ化合物のみが存在している場合、それは、水性アルカリ現像-ガム溶液の総重量に対して一般に約10重量%〜約30重量%、より好ましくは約12重量%〜約20重量%である。2種類以上のポリヒドロキシ化合物が存在する場合、ポリヒドロキシ化合物の総量は、水性アルカリ現像-ガム溶液の総重量に対して一般に約10重量%〜約30重量%、より好ましくは約12重量%〜約20重量%である。
【0022】
現像-ガム溶液はさらに、界面活性剤(潤湿剤)、殺生物剤(抗菌剤および/または抗真菌剤)、ある種のシリコーンなどの消泡剤、緩衝剤、キレート(錯化)剤など現像液の通常の成分を適量(例えば、組成物の総重量に対して5重量%まで)含むことができる。現像-ガム溶液を硬水と組み合わせて、かつ/または硬水で希釈して用いる場合、キレート剤が存在することが好ましい。例えば、エチレンジアミン四酢酸の塩を、緩衝剤としてもキレート剤としても用いることができる。
【0023】
現像-ガム溶液は、完全な水溶液、すなわち有機溶媒を含まない溶液でもよく、あるいはFiebagの米国特許第6143479号に記載されたような1種または複数の有機溶媒を少量含んでいてもよい。下式の構造を有するポリグリコール誘導体:
R6O-(CH2CHR7O)y-R8
[式中、R6は水素またはC1〜C8アルキルであり、R7は水素、メチルまたはエチルであり、R8は水素またはCH2COOHであり、yは10〜20の整数である]を含めることも可能である。C2〜C4アルキレンオキシドのエチレンジアミンとの重縮合生成物を含めることもできる。ポリグリコール誘導体の混合物を用いることもできる。好ましいポリグリコール誘導体は、ポリプロピレングリコールエーテル、ポリエチレングリコールエーテル、ポリブチレングリコールエーテル、これらの誘導体、およびこれらの混合物である。
【0024】
存在する場合には、ポリグリコール誘導体の総量は一般に、現像-ガム溶液の総重量に対して溶液の約0.0005重量%〜約3重量%である。
【0025】
好都合には、現像-ガム溶液は、各成分を水に溶かすことによって調製することができる。それは、すぐに使用できる形で提供することもできるし、あるいは使用者が使用前に水で希釈する濃縮物の形で提供することもできる。
【0026】
現像-ガム溶液をそれ自体の補充液として用いることもできるが、特別に配合された補充液を用いることが好ましい。現像-ガム液処理で消費された塩基を補うため、補充液中の塩基の濃度は現像-ガム溶液中の塩基の濃度より高くする。そうすると、現像-ガム溶液の消費と補充液の送り込みの間で平衡に達する。現像-ガム溶液槽全体の電気伝導率の値とアルカリ度の間には相関関係がある。
【0027】
補充液は現像-ガム溶液と同じ成分を含む。唯一の違いは、補充液の電気伝導率が対応する現像-ガム溶液の電気伝導率より高くなければならないことである(すなわち、現像-ガム溶液の電導率は対応する補充液の電導率より低い)。これは、例えば補充液中のアルカリ金属水酸化物の濃度を高めることによって得ることができる。補充液は、一般に約11.0〜約14のpHを有する。
【0028】
現像-ガム溶液槽中の電気伝導率の低下により、現像-ガム溶液の効率低下が検出されるとすぐに、現像-ガム溶液の電気伝導率がその元の値に達するまで、現像-ガム溶液に補充液が加えられる。現像-ガム溶液は、20℃で約40〜約80mS/cmの電導率を有することが好ましい。補充液の電導率は現像液の電導率より高く、一般に20℃で約60〜約120mS/cmである。
【0029】
画像化可能エレメントは、親水性基板上に画像化可能層を有する。
【0030】
親水性基板、すなわち少なくとも1つの親水性表面を有する基板は支持体を有しており、この支持体は、平版印刷版として有用な画像化可能エレメントを作成するために通常用いられるどんな材料でもよい。支持体は、強く安定で可撓性があることが好ましい。フルカラー画像中で各色のレコードの見当が合うように、使用条件下での寸法変化を抑えるべきである。一般に支持体は、例えばポリエチレンテレフタレート膜などのポリマー膜、セラミックス、金属、または硬質紙、あるいはこれらの材料のいずれかの積層を含めて、任意の自己支持型の材料とすることができる。金属支持体には、アルミニウム、亜鉛、チタン、およびこれらの合金が含まれる。
【0031】
現像-ガム溶液は、当分野では周知の任意のタイプの基板を含む画像化可能エレメントと共に用いることができるが、アルミニウムまたはアルミニウム合金の支持体を含むものと共に用いるのに特に適している。アルミニウム支持体の表面は、物理的砂目立て、電気化学的砂目立て、化学的砂目立て、および陽極酸化処理を含めて、当分野で周知の技術を用いて処理することができる。基板は印刷からの磨耗に耐えるのに十分な厚さのものであり、かつ印刷版の周りを包むのに十分な薄さのものであるべきであり、一般に約100〜約600μmである。
【0032】
一般に基板は、アルミニウム支持体と画像化可能層の間に中間層を有する。この中間層は、例えばケイ酸塩、デキストリン、ヘキサフルオロケイ酸、リン酸塩/フッ化物、ポリビニルホスホン酸(PVPA)、またはポリビニルホスホン酸コポリマーで支持体を処理することによって形成することができる。
【0033】
画像化可能層は、画像化可能組成物を含む。この組成物は、紫外線および/または可視光線に感応性がある(すなわち光画像化可能な)ものでもよく、かつ/または熱によって画像化可能なものでもよい。
【0034】
ポジ型の光画像化可能組成物はよく知られている。これらは、例えば「Photoreactive Polymers: the Science and Technology of Resists」、A.Reiser、Wiley、New York、1989年、178〜225頁の第5章で論じられている。これらの組成物は、水に不溶でアルカリに可溶なバインダおよび感光性部分を有する材料を含む。感光性部分はバインダと結合していてもよく、かつ/または別の化合物中に存在していてもよい。
【0035】
バインダは、ノボラック樹脂などのフェノール樹脂を含むことができる。ノボラック樹脂は市販されており、よく知られている。これらは一般に、酸触媒の存在下で、フェノール、m-クレゾール、o-クレゾール、p-クレゾールなどのフェノールを、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒドなどのアルデヒド、またはアセトンなどのケトンと縮合反応させることによって調製される。重量平均分子量は、一般に約1,000〜15,000である。一般的なノボラック樹脂には、例えば、フェノール-ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール-ホルムアルデヒド樹脂、フェノール-クレゾール-ホルムアルデヒド樹脂、p-t-ブチルフェノール-ホルムアルデヒド樹脂、およびピロガロール-アセトン樹脂が含まれる。特に有用なノボラック樹脂は、m-クレゾール、m-クレゾールとp-クレゾールの混合物、またはフェノールを、通常の条件を用いてホルムアルデヒドと反応させることによって調製される。
【0036】
他のフェノール樹脂には、フェノール性水酸基を有するポリビニル化合物が含まれる。こうした化合物には、例えばレゾール樹脂、ポリ(p-ヒドロキシスチレン)などのヒドロキシスチレン(ビニルフェノール)のポリマー、ヒドロキシスチレンの繰り返し単位を含むコポリマー、ならびにヒドロキシスチレンのアクリレートおよびメタクリレートコポリマーなど、置換されたヒドロキシスチレンの繰り返し単位を含むポリマーおよびコポリマーが含まれる。
【0037】
バインダは、Aoshimaの米国特許第5141838号(欧州特許公開第330239号)に記載されたような、ペンダント型スルホンアミド基を有する、水に不溶で塩基に可溶な高分子化合物とすることができる。特に有用な高分子材料は、(1)スルホンアミドのモノマー単位、特にN-(p-アミノスルホニルフェニル)-メタクリルアミド、N-(m-アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N-(o-アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、および/または対応するアクリルアミド、とりわけN-(p-アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、(2)アクリロニトリル、および/またはメタクリロニトリル、ならびに(3)メチルメタクリレートおよび/またはメチルアクリレートを含む。
【0038】
感光性部分は、一般にo-ジアゾナフトキノン部分である。o-ジアゾナフトキノン部分を含む化合物(すなわちキノンジアジド類)、好ましくは少なくとも1500であるが5000未満の分子量を有するバラスト部分(ballasting moiety)に結合したo-ジアゾナフトキノン部分を含む化合物が好ましい。一般にこれらの化合物は、4位または5位にハロゲンスルホニル基、一般にはスルホニルクロリド基を有する1,2-ナフトキノンジアジドを、モノ-またはポリ-ヒドロキシベンゾフェノンなどモノ-またはポリ-ヒドロキシフェニル化合物と反応させることによって調製される。
【0039】
フェノール樹脂は、o-ジアゾナフトキノン部分を用いて誘導体化することができる。高分子のジアゾナフトキノン化合物には、ジアゾナフトキノン部分を含む反応性誘導体と、水酸基やアミノ基など適切な反応基を含む高分子材料との反応によって形成された誘導体化された樹脂が含まれる。これらの誘導体化された樹脂を形成するのに適した高分子材料には、ノボラック樹脂、レゾール樹脂、ポリビニルフェノール、ヒドロキシスチレンなど水酸基含有モノマーのアクリレートおよびメタクリレートコポリマーが含まれる。代表的な反応性誘導体には、スルホン酸およびカルボン酸、エステル、またはジアゾナフトキノン部分のアミド誘導体が含まれる。ジアゾナフトキノン部分を含む化合物を用いたフェノール樹脂の誘導体化は当分野ではよく知られており、例えばWestの米国特許第5705308号、および第5705322号に記載されている。
【0040】
1種または複数のフェノール樹脂、および/またはペンダント型スルホンアミド基を有する1種または複数の高分子化合物を含む混合物を、ポジ型感光性組成物中のバインダとして用いることもできる。
【0041】
ポジ型の熱画像化可能層は、バインダ、溶解抑制剤、および任意選択で光熱変換材料を含む。こうした系は、例えばParsonsの国際特許公開WO97/39894号、Nagasakaの欧州特許公開第0823327号、Miyakeの欧州特許公開第0909627号、Westの国際特許公開WO98/42507号、Nguyenの国際特許公開WO99/11458号に記載されている。上述のようにバインダは、一般にノボラック樹脂などのフェノール樹脂である。溶解抑制剤は、熱画像化可能エレメントを画像化するのに一般に用いられる放射光である約600nm〜約800nmの放射光、および約800nm〜約1200nmの放射光に対して感応性がない、すなわち光反応性ではないと考えられている。
【0042】
溶解抑制剤は、先に論じたようなo-ジアゾナフトキノン部分を含む化合物であってもよい。o-ジアゾナフトキノン部を含む誘導体化された樹脂は、バインダとしても溶解抑制剤としても働くことができる。これらは単独で用いてもよいし、また他のバインダおよび/または溶解抑制剤と組み合わせてもよい。溶解抑制剤として有用な他の化合物には、正に帯電した(すなわち四級化された)窒素原子を含む化合物、例えば、テトラアルキルアンモニウム化合物、キノリニウム化合物、ベンゾチアゾリウム化合物、ピリジニウム化合物、およびイミダゾリウム化合物が含まれる。溶解抑制剤の好ましい群には染料でもあるもの、特にエチルバイオレットやクリスタルバイオレットなどのトリアリールメタン染料が含まれる。これらの化合物は、現像された画像化可能エレメント中の画像領域を非画像領域と区別する、コントラスト染料(contrast dye)や着色染料として働くこともできる。
【0043】
あるいは、またはさらに、バインダ自体が、高分子材料中に存在する水酸基との水素結合のための受容部位として働き、したがって溶解抑制剤として働く極性基を含んでいてもよい。周知の方法を用いて、バインダの一部の水酸基を誘導体化して極性基、例えば安息香酸エステルなどのカルボン酸エステル、リン酸エステル、フェニルエーテルなどのエーテル、メチルスルホネート、フェニルスルホネート、p-トルエンスルホネート(トシレート)、p-ブロモフェニルスルホネート(ブロシレート)などのスルホン酸エステルを導入することができる。
【0044】
バインダの水酸基を誘導体化すると、その分子量が増加し水酸基の数が減少して、一般に現像液中でのその溶解度および溶解速度が低下する。誘導体化のレベルは、バインダが溶解抑制剤としても働くのに十分なほど高いことが重要であるが、熱画像化の後にバインダが現像液に溶けないほど高いレベルであってはならない。必要とされる誘導体化の程度は、バインダの性質およびバインダに導入された極性基を含む部分の性質に依存するが、一般に約0.5モル%〜約5モル%、好ましくは約1モル%〜約3モル%の水酸基が誘導体化される。これらの誘導体化されたバインダは、単独でも、他の高分子材料および/または溶解抑制剤と組み合わせても用いることができる。
【0045】
極性基を含み溶解抑制剤として作用するバインダの好ましい一群は、フェノールの水酸基の一部がスルホン酸エステル、好ましくはフェニルスルホネートまたはp-トルエンスルホネートに変換された、誘導体化されたフェノールの高分子材料である。高分子材料を第三級アミンなど塩基の存在下で、例えばp-トルエンスルホニルクロリドなどのスルホニルクロリドと反応させることによって誘導体化を行うことができる。好ましい誘導体化されたバインダは、約1モル%〜3モル%、好ましくは約1.5モル%〜約2.5モル%の水酸基がフェニルスルホネート基またはp-トルエンスルホネート(トシル)基に変換された、誘導化されたノボラック樹脂である。
【0046】
光熱変換材料が存在する場合、それはフェノール材料に結合した赤外線吸収剤または染料(すなわち、赤外線吸収剤または赤外線吸収染料を用いて誘導体化されたフェノール材料)を含むことができる。適切な赤外線吸収剤または染料が選択された場合、誘導体化された高分子材料はバインダ、溶解抑制剤、および/または光熱変換材料として働くことができる。
【0047】
画像化可能層は、画像化された、かつ/または処理されたエレメントの目視検査の一助として染料を含むこともできる。処理前および処理中に露光領域を非露光領域と区別するために、プリントアウト染料(printout dye)が加えられる。処理されたエレメント中の非画像領域を画像領域と区別するために、コントラスト染料または着色染料が加えられる。
【0048】
画像化可能エレメントを赤外線または近赤外線を用いて画像化する場合、画像化可能層は画像化する放射光、好ましくは約800nm〜約1200nmの範囲の放射光を吸収し、通常、この放射光が熱画像化可能エレメントを画像化するのに用いられる。放射光を吸収してそれを熱に変換する光熱変換材料と呼ばれる吸収剤は、一般に画像化可能層中に存在する。光熱変換材料は、紫外線、可視光線、および/または赤外線を吸収し、それを熱に変換することができる。バインダはそれ自体が吸収部分を含んでいてもよい、すなわち光熱変換材料であってもよいが、一般に光熱変換材料は別の化合物である。
【0049】
光熱変換材料は、スクアリリウム、シアニン、メロシアニン、インドリジン、ピリリウム、または金属ジオチオレン類の染料または顔料など、染料または顔料のどちらでもよい。吸収顔料の例には、Projet900、Projet860、およびProjet830(すべてZeneca Corp.より入手可能)がある。カーボンブラック顔料を用いることもできる。これらは吸収帯が広いため、カーボンブラックベースの版を、広範囲のピーク放射波長を有する複数の赤外画像化装置と共に用いることができる。
【0050】
染料、特に水性アルカリ現像液に可溶な染料は、不溶性材料による現像液のスラッジ発生を防止するのに好ましい。染料は、例えばインドアニリン染料、オキソノール染料、ポルフィリン誘導体、アントラキノン染料、メロスチリル染料、ピリリウム化合物、またはスクアリリウム誘導体とすることができる。吸収染料は、例えばNagasakaの欧州特許第0823327号、Van Dammeの欧州特許公開第0908397号、DeBoerの米国特許第4973572号、Jandrueの米国特許第5244771号、Chapmanの米国特許第5401618号など、当分野では多数の発表および特許出願で開示されている。
【0051】
画像化可能層中の光熱変換材料の量は一般に、画像化する波長において少なくとも0.05の光学濃度、好ましくは約0.5〜約2の光学濃度を提供するのに十分なものである。
【0052】
本発明の他の実施形態では、ネガ型のアルカリ現像可能な印刷版、一般にノボラック樹脂および/または他のフェノール樹脂を含む印刷版を、適切な光源を用いて画像様に露光し、露光された領域を加熱して硬化させる。これらの材料は、例えばHaleyの米国特許第5372907号、Haleyの米国特許第5466557号、Nguyenの米国特許第5919601号に記載されている。
【0053】
Haleyの米国特許第5372907号は、紫外線にも赤外線にも感応性がある放射感応性組成物を開示している。この組成物は、(1)レゾール樹脂、(2)ノボラック樹脂、(3)潜在的なブレンステッド酸、および(4)赤外線吸収剤を含む。画像化する放射光および熱に対して画像様に露光するステップにより、アルカリ現像液中での組成物の溶解度は、露光領域で減少し、非露光領域で増加する。
【0054】
Nguyenは、赤外線および紫外線/可視光線によって画像化可能な放射感応性組成物を開示している。これらの組成物は、熱活性化される酸発生剤;架橋樹脂;水酸基、カルボン酸、スルホンアミド、およびアルコキシメチルアミドから選択された反応性のペンダント基を有するポリマーを含むバインダ樹脂;赤外線吸収剤;ならびに任意選択で紫外線/可視光線増感用の紫外線/可視光線で活性化される酸発生剤を含む。熱活性化される酸発生剤は、一般に潜在的なブレンステッド酸である。
【0055】
両発明に記載された潜在的なブレンステッド酸は、熱的または光化学的に引き起こされた分解によってブレンステッド酸を形成する前駆体である。潜在的なブレンステッド酸には、例えば、オニウムカチオンがヨードニウム、スルホニウム、ジアゾニウム、ホスホニウム、オキシスルホキソニウム、オキシスルホニウム、スルホキソニウム、セレノニウム、アルソニウム、またはアンモニウムであり、アニオンがテトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモネート、トリフレート、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、ペンタフルオロエチルスルホネート、p-メチル-ベンジルスルホネート、エチルスルホネート、トリフルオロメチルアセテート、およびペンタフルオロエチルアセテートから選択された非求核性アニオンであるオニウム塩が含まれる。非イオン性の潜在的なブレンステッド酸には、例えばSmithの米国特許第3779778号に記載された、ハロアルキルで置換されたs-トリアジンが含まれる。
【0056】
画像化は周知の方法で行うことができる。エレメントが「ポジ型」の場合、露光領域が除去されて、下にある基板の親水性表面が露出する。エレメントが「ネガ型」の場合、非露光領域が除去されて、下にある基板の親水性表面が露出する。
【0057】
エレメントが光画像化可能エレメントである場合、光画像化可能組成物中に存在する光反応性成分によって吸収される放射光源からの化学線放射に露光させることができる。通常の露光源には、例えばカーボンアークランプ、水銀ランプ、キセノンランプ、タングステンランプ、メタルハライドランプ、および適切な波長で放射するレーザーが含まれる。5位で置換されたジアゾナフトキノン化合物は、一般に345nmおよび400nmで吸収する。4位で置換されたジアゾナフトキノン化合物は、一般に310nmおよび380nmで吸収する。画像様の露光は、一般にフォトマスクを通して行われるが、適切な波長で放射するレーザーを用いた直接的なデジタル露光も可能である。
【0058】
エレメントが熱画像化可能エレメントである場合、エレメントによって吸収される波長領域内で変調された近赤外線または赤外線を放射するレーザー、または一連のレーザーを用いて、エレメントを画像化、あるいは露光することができる。熱画像化可能エレメントを画像化するには、赤外線、特に約800nm〜約1200nmの範囲の赤外線が一般に用いられる。画像化は、約830nmまたは約1056nmで放射するレーザーを用いて行うと好都合である。適切な市販の画像化装置には、Creo Trendsetter(CREO、ブリティッシュコロンビア、カナダ)、およびGerber Crescent 42T(Gerber)などのイメージセッターが含まれる。
【0059】
あるいは、熱画像化可能エレメントを、サーマル印刷ヘッドを有する通常の装置を用いて画像化、または露光することもできる。画像化可能エレメントと共に用いるのに適した画像化装置は、少なくとも1つのサーマルヘッドを含むが、通常、感熱ファックス機および高級プリンタに用いられるTDK Molde No.LV5416などのサーマルヘッドの配列を含んでいる。サーマルヘッドを用いて露光または画像化を行う場合には、エレメントが赤外線を吸収する必要はない。しかし、赤外線を吸収するエレメントは、サーマルヘッドを用いて露光することができる。
【0060】
画像化により、画像化可能層内に露光(画像化)領域と非露光(非画像化)領域の潜像を含む画像化されたエレメントが作製される。画像化されたエレメントを現像して現像済みのエレメントが形成されると、露光領域または非露光領域のどちらかを除去して、下にある基板の親水性表面を露出させることにより、潜像が画像に変換される。
【0061】
通常は、現像済みのエレメントをすすぎ、乾燥して、次いでアラビアゴムなどのゴムで処理する。本発明は、画像化されたエレメントの現像とガム液処理を同時に行うための方法を提供する。画像化されたエレメントを、水性アルカリ現像-ガム溶液に接触させる。画像化可能層の露光領域または非露光領域のどちらかを除去する現像-ガム溶液にエレメントを接触させた後、エレメントのみを乾燥させなければならない。すすぎは不要である。好都合には、赤外放射によって乾燥させることができる。別のガム液処理ステップは不要である。
【0062】
一般には、水性アルカリ現像-ガム溶液を含むアプリケータで画像化可能層を擦る、または拭くことにより、画像化されたエレメントをこの溶液に接触させる。あるいは、画像化されたエレメントに水性アルカリ現像-ガム溶液をブラシで塗ってもよく、あるいは非画像領域を除去するのに十分な力で画像化可能層にスプレーすることにより、溶液をエレメントに塗布してもよい。いずれの場合にも、現像されガム液処理されたエレメントが作成される。好ましくは、この処理は、1つだけの現像-ガム溶液槽、および乾燥区画を有するTDP60(Kodak Polychrome Graphics)など市販の処理装置内で行うことができる。さらに、処理装置内に電導率測定装置を組み込むこともできる。
【0063】
液浸タイプの現像槽、水ですすぐための区画、ガム液処理区画、および乾燥区画を備えた通常の処理装置を用いることができるが、本発明の現像-ガム溶液を用いると、すすぎステップおよびガム液処理ステップが不要になる。さらに、処理装置内に電導率測定装置を組み込むこともできる。
【0064】
画像化されたエレメントの処理は、一般に約18℃〜約28℃の温度で、約5秒〜約60秒間行われる。
【0065】
ある数の画像化されたエレメントを処理した後、電導率の値が所定のレベルより低くなる。その場合、現像-ガム液処理区画に補充液を追加する。通常、現像-ガム溶液の体積とその電導率の値の両方を一定に保つには、処理済みの画像化されたエレメント1m2につき約30mL〜約100mL、一般に約50〜80mLの補充液が必要である。処理済みのエレメント、一般に平版印刷部材または印刷版は、画像化可能層が除去されて下にある親水性基板の表面が露出した領域、および画像化可能層が除去されていない相補的な領域を含む。画像化可能層が除去されていない領域は、インク受容性がある。一般的な室温および室湿、すなわち一般的な周囲条件で数日間保存された処理済みの版の画像領域でも非画像領域でも、印刷についての問題は認められていない。処理済みのエレメント(すなわち印刷版)からゴムを迅速に除去して、印刷開始時に、または印刷中断後の再開のために製造の遅れを引き起こさないようにする。
【0066】
現像-ガム液処理ステップ後にすすぎおよび別のガム液処理のいずれも行うことなく、非画像領域が良好に親水化され、かつ画像領域が良好に親油化された平版印刷版を作成するために、本発明の方法を用いることができる。これは、版を処理するために必要な水の量、ならびに現像処理で発生する廃水の量を大幅に削減する。さらに、版を処理するのに必要な印刷空間用化学物質は1種類だけである。さらに、処理装置はすすぎ区画およびガム液処理区画を必要としないため、かなり小型化された処理装置を用いることができる。
【0067】
本発明の有利な特性は、以下の例を参照することによって理解することができる。これらの例は、本発明を例示するものであるが、限定するものではない。本明細書、実施例、および特許請求の範囲では、百分率はすべて、別段の指示がない限り現像液の重量に対する重量による割合である。
【実施例】
【0068】
用語集
【0069】
現像液および補充液の調製
以下の現像液および補充液を、各成分を一緒に撹拌することによって調製した。
現像-ガム溶液1:水 71.3kg、Sorbidex 240 20.0kg、REWORYL(登録商標)NXS 40 2.30kg、水酸化カリウム(45重量%水溶液) 6.50kg、およびSYNPERONIC(登録商標)304 T 0.17kg。
現像-ガム溶液2:水 84.6kg、メソイノシット 14.0kg、水酸化ナトリウム 2.1kg、およびSYNPERONIC(登録商標)304 T 0.24kg。
補充液1:水 67.6kg、Sorbidex 240 20.0kg、REWORYL(登録商標) NXS 40 2.30kg、水酸化カリウム(45重量%水溶液) 9.90kg、およびSYNPERONIC(登録商標)304 T 0.17kg。
補充液2:水 83.3kg、メソイノシット 14.0kg、水酸化ナトリウム 3.4kg、およびSYNPERONIC(登録商標)304 T 0.24kg。
【0070】
ポジ型感熱版の処理
Electra Excel(商標)ポジ型印刷版(Kodak Polychrome Graphics LLC)を515×790mmの大きさに切断し、Trendsetter 3244(Creo製)赤外露光装置中で、10Wのエネルギーおよび180rpmのドラム回転速度を用いて露光した。評価には、コピーの品質を評価するための様々なエレメントを含むKodak Professional COLORFLOW(登録商標)Strip(Eastman Kodak)を用いた。
【0071】
1つだけの液浸タイプの槽、および乾燥区画を備えたTDP 60(Kodak Polychrome Graphics LLC)処理装置を用いて、露光済みの版を現像した。処理装置を6Lの現像-ガム溶液1で満たした。補充液1用の容器を別に取り付け、その容器からポンプで、露光済みの版1平方メートルについて所定量の補充液を現像-ガム液処理槽に加えた。1日あたり15の版を8日間(加えて週末の中断1回)にわたって処理した。試験の終わりには、処理装置中の現像-ガム溶液は、Electra Excel(商標)版からのコーティング成分を約3重量%含むようになる。
【0072】
以下の処理装置の他のパラメータは、全ての試験で一定に保った:現像-ガム液処理槽の温度:(23±1)℃、および現像液中での滞留時間:45秒。現像-ガム溶液の活性はその電導率によって測定し、別に取り付けたSipan 3(Siemens)電導率測定装置によってモニターした。
【0073】
露光され処理された版を、室温および室湿で4日間保存し、枚葉給紙式のオフセット印刷機Roland Favorit(MAN)内に取り付け、校正刷りを行った。Offset S8900 Cora黒インク(Sun Chemical/Hartmann)、ならびに86体積%の淡水、4体積%のCombifix(Hostmann/Steinberg)、および10体積%のイソプロピルアルコールを含む湿し水を用いて印刷を行った(湿し水のpHは5.3であった)。2000回コピーした後に印刷を中断して、30分後に再開した(再開試験)。さらに1000回コピーした後、湿し水なしで版にたっぷりとインクをつけた。次いで通常の印刷条件を組み込み、汚れのないコピーに必要なコピー数を数えた(ロールアップ試験)。作成されたコピーを評価するために、以下の基準について検討した:1および2ピクセルエレメントの再現性、固体領域の光学密度(固体OD)、95%および50%チェッカーボードのドット(Gretag/Macbeth製の装置D19C/D196を用いて測定、ユールニールセン係数1.15)、および印刷校正刷りの間または印刷再開中の挙動(画像領域および非画像領域のインク受容性の問題)。印刷性能を評価するために、以下の基準を採用した:画像領域のインク受容性、非画像領域のインク忌避性(調色試験)、汚れのない印刷に必要なコピー数、再開後の非画像領域のインク忌避性、運転時間、ロールアップ試験のコピー数。
【0074】
コピーの結果および現像-ガム溶液の安定性を表1に示す。試験期間中、電導率のデータは、版1m2につき45mLの補充液1を加えることにより、現像-ガム溶液の活性を一定に保つことができることを示している。週末の中断(5〜8日目)後、適正な電導率の値にするために400mLの補充液1を加えた。固体領域の光学密度が変わらないことから分かるように、画像領域は侵されていない。1および2ピクセルエレメント、95%および50%チェッカーボードはすべて、試験の最後でも適切に再現された。試験期間中、現像-ガム液処理は、泡の形成、または処理装置の底部への不溶性材料の沈殿の影響を受けなかった。また、版に好ましくない再堆積物も認められなかった。
【0075】
1、5、8、10および12日目に処理された版は、印刷試験時にむらを示さなかった。インク受容性の問題も調色の問題も生じなかった。すべての場合、ロールアップ済みの版は、印刷開始後5〜9回のコピーの間に汚れがなくなる。再開試験では、非画像領域での調色は認められなかった。2ピクセルエレメント、50%および95%チェッカーボード、ならびに1%〜93%の間のラスタ点は、印刷された紙の上に適切に再現された。全ての表面およびラスタ点での磨耗のはっきりとした徴候は、80,000回のコピー後に初めて認められた。ロールアップ試験では、汚れがなくなるまでに46回のコピーが必要であることが分かった。
【0076】
【表1】
【0077】
無負荷(unloaded)の現像-ガム溶液2を用いてElectra Excel(商標)版を処理により、以下の結果が得られた。
(1)1および2ピクセルエレメントは適切に再現される。
(2)50%での光学密度はOD=51、95%ではOD=96であることが測定された。
【0078】
印刷試験中にインク受理性または調色の問題は見られなかった。印刷開始時には、版のロールは6回のコピー後に汚れがなくなる。
【0079】
ポジ型印刷版の処理
Capricorn Gold(商標)ポジ型印刷版(Kodak Polychrome Graphics LLC)を610×850mmに切断して、ポジ型コピーの際に、0.15〜1.95間隔の密度範囲を有するハロゲン化銀フィルムのハーフステップウェッジ(half-step wedge)(Fogra)の下で、MH-Burnerメタルハライドランプ(Sack)からの530mJ/cm2の放射光を用いて露光した。液浸タイプの現像-ガム液処理槽を1つだけ備えたAnitec D26処理装置(Kodak Polychrome Graphics LLC)を用いて、露光済みの版を処理した。処理装置を10Lの適切な現像-ガム溶液で満たした。対応する補充溶液用の容器を別に取り付け、その容器からポンプで、露光済みの版1平方メートルにつき30mLの補充液を現像-ガム液処理槽に加えた。以下の他の処理パラメータを用いた:処理槽の温度(23±1)℃、処理槽での滞留時間25秒。
【0080】
処理後に得られたコピーを評価するために、以下の基準について検討した:全くカバーされないグレーウェッジのステップ(以下ではGWと称する)、まだ侵されていないマイクロライン(以下ではMLと称する)、(上述の)印刷試験中の挙動。
【0081】
現像-ガム溶液1および2、ならびに対応する補充溶液を用いた試験は、以下の結果を示した。
(1)GWの数は両現像液ともGW=3である。
(2)MLの数は、現像液/仕上げ剤1ではML=12、仕上げ剤2では12/15である。
(3)汚れをなくすために印刷開始時に必要なコピーは7回である。
(4)印刷開始時または再開時に調色はない。
(5)ロールアップ試験で得られたコピー数は48回であった。
【0082】
比較実施例1
ポリヒドロキシ化合物を含まない市販の現像液Goldstar Plus(商標)(Kodak Polychrome Graphics LLC)を用いたことを除き、Electra Excel(商標)ポジ型感熱版の処理を上述の通りに繰り返した。印刷試験の結果は以下の通りである。
(1)重大な調色の問題が見られた。汚れのないコピーを得ることはできなかった。
(2)約800回刷った後、全ての領域と細かいラスタエレメントの両方に激しい磨耗が認められた。
【0083】
ポジ型感熱版の本発明の処理の印刷結果と比べると、印刷性能が明らかに改善されているのが分かる。
【0084】
比較実施例2
ポリヒドロキシ化合物を含まない市販の現像液4005(Kodak Polychrome Graphics LLC)を用いたことを除き、Capricorn Gold(商標)ポジ型版の処理を上述の通りに繰り返した。印刷試験の結果は以下の通りである。
(1)重大な調色の問題が見られた。汚れのないコピーを得ることはできなかった。
(2)約1100回刷った後、全ての領域と細かいラスタエレメントの両方に激しい磨耗が認められた。
ポジ型感熱版の本発明の処理の印刷結果と比べると、印刷性能が明らかに改善されているのが分かる。
【0085】
比較実施例3
Electra Excel(商標)版を上述のように露光した。液浸タイプの現像槽、水ですすぐための区画、ならびにガム液処理および乾燥区画を備えたMercury 850処理装置(Kodak Polychrome Graphics LLC)を用いて、画像様に露光された版を処理した。処理装置を20LのGoldstar Plus(商標)現像液で満たし、ガム液処理区画をゴム850S(Kodak Polychrome Graphics LLC)で満たした。以下の処理装置のパラメータを用いた:現像槽の温度:23℃、および現像液での滞留時間:45秒。
【0086】
未処理の版の領域と比べて固体領域の光学密度が変わらないことに示されるように、処理済みの版の画像領域は侵されなかった。1および2ピクセルエレメント、95%および50%チェッカーボードはすべて適切に再現された。
【0087】
印刷試験の間、インク受容性の問題も調色の問題も生じなかった。ロールアップ済みの版は、印刷開始後8回のコピーで汚れがなくなった。再開試験では、非画像領域の調色は認められなかった。2ピクセルエレメント、50%および95%チェッカーボード、ならびに1%〜93%の間のラスタ点は、印刷された紙の上に適切に再現された。全ての表面およびラスタ点での磨耗のはっきりとした徴候は、75,000回のコピー後に初めて認められた。ロールアップ試験では、汚れがなくなるまでに44回のコピーが必要であることが分かった。
【0088】
全ての結果は、本発明で処理された版で得られた結果に相当するものである。しかし、この処理はさらに多くの処理ステップを必要とし、もう1つの印刷空間用化学物質(press room chemical)とすすぎ水の両方が必要である。
【0089】
本発明について説明してきたが、特許請求の範囲に示すもの、およびそれらと同等のものについて請求する。
Claims (22)
- 画像形成方法であって、
(a)親水性支持体上に画像化可能層を有する画像化可能エレメントを画像化し、画像化可能層内に露光領域および非露光領域を含む画像化されたエレメントを形成するステップと、
(b)画像化されたエレメントを水性アルカリ現像-ガム溶液と接触させ、画像化可能層の露光領域および非露光領域の一方を除去することにより、画像化されたエレメントの現像とガム液処理を同時に行うステップとを含み、
水性アルカリ現像-ガム溶液が、以下の構造:
R1(CHOH)nR2
[式中、nは4〜7であり、
(i)R1は水素、アリール基、またはCH2OHであり、かつR2は水素、1〜4個の炭素原子を有するアルキル基、CH2OR3(式中、R3は水素、もしくは1〜4個の炭素原子を有するアルキル基である)、CH2N(R4R5)(式中、R4およびR5はそれぞれ独立に水素、もしくは1〜4個の炭素原子を有するアルキル基である)、またはCO2Hであるか、あるいは
(ii)R1およびR2が一緒になって炭素-炭素単結合を形成する]
を有する1種または複数の水溶性ポリヒドロキシ化合物を含み、
水性アルカリ現像-ガム溶液が約10.0〜約14のpHを有し、
1種または複数のポリヒドロキシ化合物が水性アルカリ現像-ガム溶液の約10重量%〜約30重量%を構成する
方法。 - 画像化可能層の露光領域が除去される、請求項1に記載の方法。
- 画像化可能層の非露光領域が除去される、請求項1に記載の方法。
- (i)画像化可能層が少なくとも1種類のフェノール樹脂、ペンダント型スルホンアミド基を有する少なくとも1種類の高分子化合物、またはそれらの混合物を含み、かつ(ii)親水性支持体がアルミニウムまたはアルミニウム合金を含む、請求項1に記載の方法。
- 画像化可能層がノボラック樹脂を含む、請求項1に記載の方法。
- (i)画像化可能層がノボラック樹脂およびo-ジアゾナフトキノン部分を有する化合物を含み、(ii)基板がアルミニウムまたはアルミニウム合金を含み、(iii)エレメントが紫外線または可視光線を用いて画像化され、(iv)水性アルカリ溶液のpHが約12〜約13.5であり、(v)露光領域が除去され、かつ(vi)ステップ(b)の後にすすぎステップおよび別のガム液処理ステップのいずれも含まない、請求項1に記載の方法。
- (i)画像化可能層がノボラック樹脂および溶解抑制剤を含み、(ii)基板がアルミニウムまたはアルミニウム合金を含み、(iii)エレメントが熱によって画像化され、(iv)水性アルカリ溶液のpHが約12〜約13.5であり、(v)露光領域が除去され、かつ(vi)ステップ(b)の後にすすぎステップおよび別のガム液処理ステップのいずれも含まない、請求項1に記載の方法。
- 画像化可能層がさらに光熱変換材料を含み、エレメントが赤外線または近赤外線を用いて画像化される、請求項7に記載の方法。
- (i)画像化可能層が潜在的なブレンステッド酸を含み、(ii)ステップ(a)の後、ステップ(b)の前にエレメントを加熱し、(iii)水性アルカリ溶液のpHが約12〜約13.5であり、かつ(iv)非露光領域が除去される、請求項1に記載の方法。
- 水性アルカリ現像-ガム溶液がケイ酸塩を含まない、請求項1から9のいずれか一項に記載の方法。
- R1が水素またはCH2OHであり、R2が水素である、請求項1から10のいずれか一項に記載の方法。
- nが5または6である、請求項11に記載の方法。
- 水溶性ポリヒドロキシ化合物が、マンニトール、ソルビトール、キシリトール、リビトール、およびアラビトールからなる群から選択される、請求項1から12のいずれか一項に記載の方法。
- R1およびR2が一緒になって炭素-炭素単結合を形成し、nが4〜7である、請求項1から9のいずれか一項に記載の方法。
- 水溶性ポリヒドロキシ化合物がメソイノシットである、請求項1から9、および14のいずれか一項に記載の方法。
- R1が水素またはCH2OHであり、R2がCO2Hであり、nが5または6である、請求項1から9のいずれか一項に記載の方法。
- 水溶性ポリヒドロキシ化合物が、リボン酸、グルコン酸、マンノン酸、およびグロン酸からなる群から選択される、請求項1から9、および16のいずれか一項に記載の方法。
- R1が水素であり、R2がCH2N(R4R5)(式中、R4およびR5はそれぞれ独立に水素、または1〜4個の炭素原子を有するアルキル基である)である、請求項1から9のいずれか一項に記載の方法。
- R4およびR5がそれぞれ独立に、水素、または1〜2個の炭素原子を有するアルキル基であり、nが4または5である、請求項18に記載の方法。
- ポリヒドロキシ化合物が、グルカミン、N-メチルグルカミン、および1-デソキシ-1-(メチルアミノ)-ガラクチットからなる群から選択される、請求項1から9、18、および19のいずれか一項に記載の方法。
- ステップ(b)の後にすすぎステップおよび別のガム液処理ステップのいずれも含まない、請求項1から20のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項1から21のいずれか一項に記載の方法によって作製されたエレメントである、画像化された画像化可能エレメント。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/878,457 US6649319B2 (en) | 2001-06-11 | 2001-06-11 | Method of processing lithographic printing plate precursors |
PCT/US2002/018421 WO2002101469A1 (en) | 2001-06-11 | 2002-06-11 | Method of processing lithographic printing plate precursors |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005507088A true JP2005507088A (ja) | 2005-03-10 |
JP2005507088A5 JP2005507088A5 (ja) | 2005-09-29 |
JP4243535B2 JP4243535B2 (ja) | 2009-03-25 |
Family
ID=25372069
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003504167A Expired - Fee Related JP4243535B2 (ja) | 2001-06-11 | 2002-06-11 | 平版印刷版前駆体を処理する方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6649319B2 (ja) |
EP (1) | EP1399783B1 (ja) |
JP (1) | JP4243535B2 (ja) |
WO (1) | WO2002101469A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011510355A (ja) * | 2008-01-22 | 2011-03-31 | イーストマン コダック カンパニー | 平版印刷版の形成方法 |
Families Citing this family (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7316891B2 (en) | 2002-03-06 | 2008-01-08 | Agfa Graphics Nv | Method of developing a heat-sensitive lithographic printing plate precursor with a gum solution |
JP2004333875A (ja) * | 2003-05-08 | 2004-11-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版の画像評価方法及び品質管理方法 |
CN100573342C (zh) | 2004-05-19 | 2009-12-23 | 爱克发印艺公司 | 制造光聚合物印版的方法 |
PL1788450T3 (pl) | 2005-11-18 | 2009-07-31 | Agfa Nv | Sposób wytwarzania kliszy do druku litograficznego |
DE602005013398D1 (de) | 2005-11-18 | 2009-04-30 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
ES2358120T3 (es) * | 2005-11-18 | 2011-05-05 | Agfa Graphics N.V. | Método de elaboración de una plancha de impresión litográfica. |
DE602005013399D1 (de) | 2005-11-18 | 2009-04-30 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte |
WO2007057347A1 (en) * | 2005-11-18 | 2007-05-24 | Agfa Graphics Nv | Method of making a lithographic printing plate |
ES2320561T3 (es) * | 2005-11-18 | 2009-05-25 | Agfa Graphics N.V. | Metodo para fabricar una plancha de impresion litografica. |
DE602005022203D1 (de) * | 2005-11-18 | 2010-08-19 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
EP1788442B1 (en) * | 2005-11-18 | 2010-07-28 | Agfa Graphics N.V. | Method of making a lithographic printing plate |
ATE426836T1 (de) * | 2005-11-18 | 2009-04-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur herstellung einer lithografiedruckform |
EP2772805A1 (en) * | 2005-11-18 | 2014-09-03 | Agfa Graphics Nv | Method of making a lithographic printing plate |
EP1952201B1 (en) * | 2005-11-18 | 2011-01-12 | Agfa Graphics N.V. | Method of making a photopolymer printing plate |
WO2007057346A2 (en) * | 2005-11-18 | 2007-05-24 | Agfa Graphics Nv | Method of making a lithographic printing plate |
US8088561B2 (en) | 2005-11-24 | 2012-01-03 | Agfa Graphics Nv | Method of making a lithographic printing plate |
CN101341026B (zh) * | 2005-11-24 | 2010-05-19 | 爱克发印艺公司 | 制造平版印版的方法 |
EP1868036B1 (en) * | 2006-06-14 | 2010-09-22 | Eastman Kodak Company | Method for processing of photopolymer printing plates with overcoat |
DE602006009936D1 (de) * | 2006-09-20 | 2009-12-03 | Eastman Kodak Co | Verfahren zur Entwicklung und Abdichtung von Lithografiedruckformen |
US20080113298A1 (en) * | 2006-11-15 | 2008-05-15 | Harald Baumann | Method of preparing lithographic printing plates |
US20100129756A1 (en) * | 2007-05-15 | 2010-05-27 | Willi-Kurt Gries | Gum solution for developing and gumming a photopolymer printing plate |
ES2339394T3 (es) * | 2007-08-23 | 2010-05-19 | Eastman Kodak Company | Tratamiento de planchas de impresion litografica con una disolucion de revelador que contiene un polimero hidrofilo. |
ATE529782T1 (de) * | 2007-08-27 | 2011-11-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur entwicklung einer wärmeempfindlichen lithographiedruckplatte mit einer wässrigen alkalischen entwicklerlösung |
US7763413B2 (en) * | 2007-10-16 | 2010-07-27 | Eastman Kodak Company | Methods for imaging and processing negative-working imageable elements |
US8415087B2 (en) | 2007-11-16 | 2013-04-09 | Agfa Graphics Nv | Method of making a lithographic printing plate |
US20090142702A1 (en) * | 2007-12-04 | 2009-06-04 | Ray Kevin B | Methods of using violet-sensitive imageable elements |
US20090197206A1 (en) * | 2008-01-25 | 2009-08-06 | Ray Kevin B | Method of making images using fresh processing solution |
US20090246698A1 (en) * | 2008-03-28 | 2009-10-01 | Ray Kevin B | Methods for imaging and processing negative-working imageable elements |
US20090263746A1 (en) * | 2008-04-17 | 2009-10-22 | Ray Kevin B | Method of making lithographic printing plates with simple processing |
US8124328B2 (en) * | 2008-05-20 | 2012-02-28 | Eastman Kodak Company | Methods for imaging and processing positive-working imageable elements |
US8084189B2 (en) | 2008-05-22 | 2011-12-27 | Eastman Kodak Company | Method of imaging and developing positive-working imageable elements |
US8137896B2 (en) * | 2008-07-29 | 2012-03-20 | Eastman Kodak Company | Method of preparing lithographic printing plates |
ATE555903T1 (de) | 2008-10-23 | 2012-05-15 | Agfa Graphics Nv | Lithographiedruckplatte |
EP2293144B1 (en) | 2009-09-04 | 2012-11-07 | Eastman Kodak Company | Method of drying lithographic printing plates after single-step-processing |
EP2329951B1 (en) | 2009-12-04 | 2012-06-20 | AGFA Graphics NV | A lithographic printing plate precursor |
US20190079406A1 (en) * | 2016-03-16 | 2019-03-14 | Agfa Nv | Method for processing a lithographic printing plate |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4873174A (en) | 1988-02-03 | 1989-10-10 | Hoechst Celanese Corporation | Method of using developer-finisher compositions for lithographic plates |
US4912021A (en) | 1988-02-03 | 1990-03-27 | Hoechst Celanese Corporation | Developer-finisher compositions for lithographic plates |
JP3127933B2 (ja) | 1991-10-02 | 2001-01-29 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポジ型フォトレジスト現像液 |
JP3086354B2 (ja) | 1993-03-30 | 2000-09-11 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版用の現像液および現像補充液 |
EP0716347B1 (en) | 1994-12-06 | 2002-07-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Developer for photosensitive lithographic printing plate |
US5691288A (en) | 1996-03-29 | 1997-11-25 | Bayer Corporation | Finisher-preserver-cleaner composition for lithographic printing plates |
EP0843218B1 (en) | 1996-11-14 | 2008-01-16 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive composition |
DE69819584T2 (de) | 1997-04-08 | 2004-09-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara | Positiv arbeitende lithographische Druckplatte |
JP3791735B2 (ja) | 1998-12-22 | 2006-06-28 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷用版材の現像方法 |
US6143479A (en) | 1999-08-31 | 2000-11-07 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Developing system for alkaline-developable lithographic printing plates |
-
2001
- 2001-06-11 US US09/878,457 patent/US6649319B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-06-11 WO PCT/US2002/018421 patent/WO2002101469A1/en active Application Filing
- 2002-06-11 JP JP2003504167A patent/JP4243535B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-06-11 EP EP02741969A patent/EP1399783B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011510355A (ja) * | 2008-01-22 | 2011-03-31 | イーストマン コダック カンパニー | 平版印刷版の形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4243535B2 (ja) | 2009-03-25 |
US6649319B2 (en) | 2003-11-18 |
EP1399783B1 (en) | 2013-01-09 |
US20030031948A1 (en) | 2003-02-13 |
EP1399783A1 (en) | 2004-03-24 |
WO2002101469A1 (en) | 2002-12-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4243535B2 (ja) | 平版印刷版前駆体を処理する方法 | |
US6902865B2 (en) | Non-alkaline aqueous development of thermosensitive lithographic printing plates | |
JP3461377B2 (ja) | 画像記録材料 | |
US20100159393A1 (en) | Method of developing lithographic printing plate precursors | |
JP2011521298A (ja) | ポジ型画像形成性要素の製造および現像方法 | |
JP2003156850A (ja) | 熱的に画像形成可能な部材におけるアブレーションの最小化 | |
JP2005221730A (ja) | 感光性平版印刷版用現像液及び平版印刷版の製版方法 | |
JP2012509504A (ja) | ポジ型画像形成性要素およびその使用方法 | |
US6541188B2 (en) | Developer for alkaline-developable lithographic printing plates | |
EP2893397B1 (en) | Positive-working lithographic printing plate precursors and use | |
US6800426B2 (en) | Process for making a two layer thermal negative plate | |
EP2284005B1 (en) | Lithographic printing plate precursors with beta-hydroxy alkylamide crosslinkers | |
JP2001056563A (ja) | 画像形成材料 | |
JP2005509902A (ja) | 既使用の現像剤の再生方法 | |
JP2005091472A (ja) | 感光性平版印刷版用現像液及び平版印刷版の製版方法 | |
JPH11216962A (ja) | 平版印刷版の製版方法 | |
EP2552694B1 (en) | Methods for making lithographic printing plates | |
JP2001066776A (ja) | 画像形成材料 | |
JP2003098684A (ja) | 画像評価方法及び平版印刷版の品質管理方法 | |
JP2002244308A (ja) | 現像液組成物及び平版印刷版の製版方法 | |
EP2168011A2 (en) | Method using highly alkaline developer regenerator composition | |
EP2636525A2 (en) | Lithographic imaging and printing with positive-working photoresponsive printing members. | |
JPH11258818A (ja) | 感光性平版印刷版の処理方法 | |
JP2004109795A (ja) | 平版印刷版の製版方法 | |
JP2003255520A (ja) | 平版印刷版用原版 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050301 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20051012 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20051118 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080610 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080905 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081202 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090105 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120109 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130109 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |