ATE529782T1 - Verfahren zur entwicklung einer wärmeempfindlichen lithographiedruckplatte mit einer wässrigen alkalischen entwicklerlösung - Google Patents

Verfahren zur entwicklung einer wärmeempfindlichen lithographiedruckplatte mit einer wässrigen alkalischen entwicklerlösung

Info

Publication number
ATE529782T1
ATE529782T1 AT07115039T AT07115039T ATE529782T1 AT E529782 T1 ATE529782 T1 AT E529782T1 AT 07115039 T AT07115039 T AT 07115039T AT 07115039 T AT07115039 T AT 07115039T AT E529782 T1 ATE529782 T1 AT E529782T1
Authority
AT
Austria
Prior art keywords
aqueous alkaline
developing
printing plate
heat sensitive
developer solution
Prior art date
Application number
AT07115039T
Other languages
English (en)
Inventor
Aert Hubertus Van
Pascal Meeus
Stefaan Lingier
Original Assignee
Agfa Graphics Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agfa Graphics Nv filed Critical Agfa Graphics Nv
Application granted granted Critical
Publication of ATE529782T1 publication Critical patent/ATE529782T1/de

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/322Aqueous alkaline compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
AT07115039T 2007-08-27 2007-08-27 Verfahren zur entwicklung einer wärmeempfindlichen lithographiedruckplatte mit einer wässrigen alkalischen entwicklerlösung ATE529782T1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP07115039A EP2031448B1 (de) 2007-08-27 2007-08-27 Verfahren zur Entwicklung einer wärmeempfindlichen Lithographiedruckplatte mit einer wässrigen alkalischen Entwicklerlösung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
ATE529782T1 true ATE529782T1 (de) 2011-11-15

Family

ID=39043183

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
AT07115039T ATE529782T1 (de) 2007-08-27 2007-08-27 Verfahren zur entwicklung einer wärmeempfindlichen lithographiedruckplatte mit einer wässrigen alkalischen entwicklerlösung

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8383321B2 (de)
EP (1) EP2031448B1 (de)
CN (1) CN101784962B (de)
AT (1) ATE529782T1 (de)
WO (1) WO2009027272A1 (de)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101498664B1 (ko) 2010-05-04 2015-03-05 주식회사 엘지화학 네가티브 포토레지스트 조성물 및 소자의 패터닝 방법
BR112015015795A2 (pt) * 2013-01-01 2017-07-11 Agfa Graphics Nv copolímeros de etilenovinil acetal e seu uso em precursores de chapas de impressão litográfica
CN104007618B (zh) * 2014-06-18 2017-09-29 杭州福斯特应用材料股份有限公司 一种pcb用高粘附力感光干膜

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2533793B2 (ja) * 1988-06-17 1996-09-11 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版の製造方法
JP2000031025A (ja) * 1998-07-15 2000-01-28 Mitsubishi Electric Corp レジストパターンの形成方法
US6649319B2 (en) * 2001-06-11 2003-11-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Method of processing lithographic printing plate precursors
US6858359B2 (en) * 2002-10-04 2005-02-22 Kodak Polychrome Graphics, Llp Thermally sensitive, multilayer imageable element
JP2004272152A (ja) * 2003-03-12 2004-09-30 Fuji Photo Film Co Ltd 感熱性平版印刷版用現像液及び平版印刷版の製版方法
DE10337506A1 (de) * 2003-08-14 2005-03-17 Kodak Polychrome Graphics Gmbh Wärmeempfindlicher positiv arbeitender Lithographie-Druckplattenvorläufer
JP4639062B2 (ja) * 2003-11-21 2011-02-23 富士フイルム株式会社 感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
CN100476597C (zh) * 2003-12-30 2009-04-08 东友精密化学株式会社 感放射线性组合物用低泡沫显影液
WO2005066410A1 (ja) * 2004-01-07 2005-07-21 Sekisui Chemical Co., Ltd. アレルゲン抑制剤、並びに、アレルゲン抑制処理繊維及びその製造方法
CN100573342C (zh) * 2004-05-19 2009-12-23 爱克发印艺公司 制造光聚合物印版的方法
EP1614540B1 (de) * 2004-07-08 2008-09-17 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte
US20070292808A1 (en) * 2004-09-01 2007-12-20 Jun Koshiyama Developing Solution Composition for Lithography and Method for Resist Pattern Formation
DE602005023417D1 (de) * 2005-05-10 2010-10-21 Agfa Graphics Nv Alkalischer Entwickler für strahlungsempfindliche Zusammensetzungen

Also Published As

Publication number Publication date
EP2031448A1 (de) 2009-03-04
WO2009027272A1 (en) 2009-03-05
CN101784962A (zh) 2010-07-21
CN101784962B (zh) 2014-08-13
US20100203458A1 (en) 2010-08-12
EP2031448B1 (de) 2011-10-19
US8383321B2 (en) 2013-02-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1975705A3 (de) Positive Resistzusammensetzung und Verfahren zur Strukturformung
ATE555421T1 (de) Lichtempfindliche zusammensetzung und negativ arbeitende flachdruckplatte
EP1980911A3 (de) Strukturformungsverfahren, in dem Strukturformungsverfahren zu verwendende Harzzusammensetzung, in dem Strukturformungsverfahren zu verwendende negative Entwicklungslösung und in dem Strukturformungsverfahren zu verwendende Spüllösung
ATE525435T1 (de) Wässrige dispersion von fluoroharz
DE602005014876D1 (de) Hochmolekulare verbindung, säuregenerator, positivresistzusammensetzungen und verfahren zur herstellung von resiststrukturen
TW200619239A (en) Positive resist composition and method for forming resist pattern
ATE545665T1 (de) Nitrilgruppen enthaltendes polymer und verfahren zu seiner synthetisierung, zusammensetzung mit nitrilgruppen enthaltendem polymer und laminat
DE602008005238D1 (de) Bisphenol Monoester
EA200970172A1 (ru) Пролекарство соединения амида коричной кислоты
WO2008099869A1 (ja) 光酸発生剤用化合物及びそれを用いたレジスト組成物、パターン形成方法
TW200740737A (en) Sulfonium salts
WO2009034998A1 (ja) 窒素含有シリル基を含むポリマーを含有するレジスト下層膜形成組成物
EP1906239A3 (de) Positive Resistzusammensetzung und Verfahren zur Strukturformung damit
EA200802380A1 (ru) Совместные кристаллы пирролидинонов
ATE532834T1 (de) Pigmentdispersion und tintenzusammensetzung, die diese verwendet
DE602008005809D1 (de) Säureverstärker mit Acetalgruppe, Fotolackzusammensetzung damit und Methode zur Erzeugung von Fotolackstrukturen
TW200712777A (en) Positive photosensitive resin composition, uses thereof, and method for forming positive pattern
AR067483A1 (es) Procedimiento, programa y sistema informatico de conciliacion de datos de modelo de reserva de hidrocarburo
ATE496766T1 (de) Härtbare zusammensetzung, tintenzusammensetzung, tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und flachdruckplatte
ATE529782T1 (de) Verfahren zur entwicklung einer wärmeempfindlichen lithographiedruckplatte mit einer wässrigen alkalischen entwicklerlösung
TW200617034A (en) Polymer for resist, method of forming the same, resist composition and method of fabricting substrate formed pattern
UY30186A1 (es) Compuestos de acrilonitrilo y agentes para controlar los organismos perjudiciales
MY168978A (en) Photosensitive resin composition, method for producing patterned cured film, semiconductor element and electronic device
JP2002049156A5 (de)
TW200631960A (en) Organic bismuth compound, preparing method thereof, living radical polymerization initiator, polymer preparation and polymer using the same

Legal Events

Date Code Title Description
RER Ceased as to paragraph 5 lit. 3 law introducing patent treaties