JP2005339852A - 光源装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 上記課題は、高圧放電ランプと、凹面反射鏡とを備えてなる光源装置において、凹面反射鏡の基体を金属により構成し、この基体の内表面上に、ニッケル層、ニッケル酸化物層、および、誘電体多層膜よりなる可視光線反射層をこの順で積層して形成することにより、解決される。
【選択図】 図2
Description
このような光源装置においては、例えば、水銀や金属ハロゲン化物が放電空間を形成するバルブ内に封入されてなるメタルハライドランプが光源ランプとして使用されており、光源ランプから放射される光を凹面反射鏡により反射させて平行光に変換し、凹面反射鏡の光軸方向に照射する構成とされている。
そして、光源ランプを構成するメタルハライドランプにおいては、より一層の小型化、点光源化を図ることにより一層高い光出力を得るために、発光管内において互いに対向配置される一対の電極の電極間距離が極めて小さく設定された構成のものが実用化されてきている。
また、光源ランプはランプ点灯時における内部圧力が極めて高い状態となるものであるので、光源ランプが破損してしまった場合には、当該光源ランプを囲むよう配置された凹面反射鏡も破損するおそれがある。
このような問題に対して、例えば特許文献4には、金属よりなる基体の内表面に、陽極酸化の空孔を利用した熱線吸収層を形成し、これにより、凹面反射鏡による熱線の反射を軽減する技術が提案されている。
しかしながら、特許文献4に開示されている熱線吸収層は、熱的に弱く、熱による層の構造変化が大きいものであるため、上記のような超高圧水銀ランプなどが用いられる場合には、例えば約200時間程度で、熱線吸収層としては機能しなくなり、結局、上記問題を生ずるようになる。
凹面反射鏡は、金属よりなる基体を備え、この基体の内表面上に、ニッケル層、ニッケル酸化物層、および、誘電体多層膜よりなる可視光線反射層がこの順で積層されて形成されてなるものであることを特徴とする。
さらに、本発明の光源装置においては、ニッケル層の厚みが1〜20μmであることが好ましい。
また、凹面反射鏡の基体それ自体の放熱性により、光源ランプおよび凹面反射鏡が極めて高温となることが防止されるので、別個に冷却手段を設ける必要がなく、また、光源装置全体を小型のものとして構成することが容易となる。
図1は、本発明の光源装置の一例における構成の概略を示す説明用断面図であり、図2は、図1に示す光源装置における凹面反射鏡の断面を示す拡大断面図である。
この光源装置10は、前方に光照射口24を有する凹面反射鏡20と、例えば超高圧水銀ランプよりなる光源ランプ40とを備えてなる。
そして、集光部分22の背面には、例えば、各々凹面反射鏡20の光軸と平行に後方に伸びる複数の板状の放熱用フィン25が、互いに基体21の周面に沿って前後方向に離間した状態で、並んで形成されている。
陰極44および陽極45の電極間距離dは、例えば1〜1.5mmである。
水銀の封入量は、例えば0.15mg/mm2 以上であり、この水銀封入量は、ランプ安定点灯時における水銀蒸気圧が150気圧以上となるものである。
機能膜30は、図2に示されているように、凹面反射鏡20の基体21の表面に形成されたニッケル層31と、このニッケル層31の表面に形成されたニッケル酸化物層32と、このニッケル酸化物層32の表面に形成された、誘電体多層膜よりなる可視光線反射層33とにより構成されている。
無電解メッキを行うに際しての処理条件は、例えばメッキ液がニッケル−リン合金(10%wtのリンを含む)を主体としたものであり、処理温度が80〜100℃である。
ニッケル層31の厚みは、例えば1〜20μmであることが好ましく、より好ましくは5〜20μmである。
ニッケル層31が無電解メッキにより形成されてなるものであることにより、例えば基体21がアルミニウムまたはアルミニウムを主体とした合金よりなる場合に、通常のメッキであれば基体21とニッケル層31との間にアルマイトが形成されてしまうなどの基体21の表面を変質させることがなく、ニッケル層31を均一な厚みで確実に形成することができ、これにより、得られる機能膜30を確実に所期の特性を有するものとすることができ、また、基体21に対して十分に高い密着性が得られる。
ニッケル酸化物層32の厚みは、例えば0.1〜2μmであることが好ましい。
可視光線反射層33の全厚は、例えば0.5〜2μmであることが好ましい。TiO2 層およびSiO2 層は、例えば蒸着法により形成することができる。
可視光線反射層33の一例を示すと、TiO2 層およびSiO2 層の各層の厚みは、それぞれ、例えば150nmとされ、積層数は例えば30層とされる。これにより、可視光線反射層33を確実に所期の特性を有するものとして構成することができる。
この凹面反射鏡前駆体は、基体として、ダイカスト用アルミニウム合金(ADC12)よりなり、集光部分の肉厚が2mmのものを用い、集光部分の内表面に、ニッケル層を10μmの厚みで形成し、ニッケル層の表層部分を酸化処理することによりニッケル酸化物層を1μmの厚みで形成したものである。
図3(イ)に示されているように、金属製基体それ自体の反射率は、光源ランプから放射されるすべての波長域の光線に対して比較的高い状態、具体的には30%以上であるが、図3(ロ)に示されるように、ニッケル層およびニッケル酸化物層を特定の厚みで形成することにより、すべての波長域の光線に対して極めて低い反射率例えば10%以下に抑えること、すなわち、すべての光線について十分な吸収特性を示すことが確認された。従って、ニッケル酸化物層の表面に、可視光線反射層である誘電体多層膜を形成することによって、光源ランプから放射される可視光線は誘電体多層の作用により反射されて高い光の利用率で照射されることとなるが、紫外線および赤外線(熱線)は誘電体多層膜を透過し、ニッケル酸化物層により吸収されるので、赤外線および紫外線の照射量を小さく抑制することができる。
従って、光源ランプ40から放射される赤外線(熱線)等によって液晶表示用デバイス等の被光照射物に対して悪影響を与えることを確実に防止することができると共に、十分な強度の可視光線を照射することができる。
また、凹面反射鏡20の基体21それ自体の放熱性により、光源ランプ40および凹面反射鏡20が極めて高温となることが防止されるので、別個に冷却手段を設ける必要がなく、また、光源装置10全体を小型のものとして構成することが容易となる。
例えば、機能膜を構成するニッケル酸化物層の形成方法は、ニッケル層を酸化処理する方法に限定されるものではなく、例えば真空蒸着による成膜方法等を利用することができる。
また、誘電体多層反射膜の、各構成層の厚み、積層数およびその他の構成は目的に応じて適宜に設定することができ、また、例えばTiO2 層およびSiO2 層などの各構成層の形成方法は、蒸着法に限定されるものではない。
さらに、凹面反射鏡の基体における放熱用フィンの形態および数は、外部空気との間で十分な熱伝達が行われるものであれば、特に制限されるものではない。
また、光源ランプおよび凹面反射鏡の具体的な構成は、適宜に変更することが可能である。
20 凹面反射鏡
21 基体
22 集光部分
23 筒状頸部分
24 光照射口
25 放熱用フィン
28 充填剤
30 機能膜
31 ニッケル層
32 ニッケル酸化物層
33 可視光線反射層
40 光源ランプ
41 放電容器
42 発光管部
43 封止部
44 陰極
45 陽極
50 光透過性ガラス
Claims (4)
- 高圧放電ランプと、この高圧放電ランプを取り囲むよう配置された凹面反射鏡とを備えてなる光源装置において、
凹面反射鏡は、金属よりなる基体を備え、この基体の内表面上に、ニッケル層、ニッケル酸化物層、および、誘電体多層膜よりなる可視光線反射層がこの順で積層されて形成されてなるものであることを特徴とする光源装置。 - 凹面反射鏡を構成する基体が、アルミニウムまたはアルミニウムを主体とした合金よりなり、ニッケル層が、無電解メッキにより形成されてなるものであることを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
- ニッケル酸化物層の厚みが0.1〜2.0μmであることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光源装置。
- ニッケル層の厚みが1〜20μmであることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一に記載の光源装置。
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