JP2005332996A - 半導体装置、及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 支持基板1と支持基板1上に第1絶縁膜2を介して形成された半導体層3からなるSOI基板と、半導体層3上を第2絶縁膜4で覆うステップと、第2絶縁膜4上を第3絶縁膜5で覆うステップと、第3絶縁膜5、第2絶縁膜4及び半導体層3に開口部9を形成して第1絶縁膜2を露出するステップと、開口部9において第1絶縁膜2を介して支持基板1を熱酸化してフィールド酸化膜6を形成するステップと、第3絶縁膜5及び第2絶縁膜4を除去するステップと、を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【選択図】 図1
Description
LOCOS法を基本とする素子分離手法を用いて製造された半導体装置が、例えば、特許文献1、2及び3に記載されている。
特許文献2に記載の半導体装置は、SOI基板において、SOI層の熱酸化による酸化膜とCVD法による堆積酸化膜との二重構造により素子分離領域を形成している。この二重構造を形成する際には、まず素子分離領域におけるSOI層を絶縁膜との界面付近の部分を残して除去し、その界面付近に残存したSOI層を熱酸化処理する。この残存したSOI層による熱酸化膜のみでは十分な膜厚が得られないため、それをCVD(Chemical Vapor Deposition)法による堆積酸化膜で補っている。SOI層を部分除去するのは熱酸化処理に要する時間を短時間に抑えるためである。
バーズビークは、SOI層の熱酸化処理時に酸化マスク層であるシリコン窒化膜の側壁が酸化雰囲気中に晒されていることで起こる。この半導体装置では、酸化マスク層であるシリコン窒化膜側壁をさらに別のシリコン窒化膜で覆い、熱酸化処理時の素子領域への酸素の侵入を防いでいる。シリコン窒化膜を二重に形成することになるため、パッド酸化膜とパッドポリシリコン層で基板への応力を緩和している。
また、別の発明によれば、開口部の内壁をSOI基板の絶縁層(第1絶縁膜)と同じ熱膨張係数を有する絶縁膜(第4絶縁膜)で保護する、すなわち開口部内に半導体層の側壁が露出しないようにすることにより、素子領域端部へのバーズビークの広がりを抑制することができるとともに、半導体層3への応力も緩和することができる。
第1実施形態では、SOI基板の支持基板を熱酸化処理してフィールド酸化膜を形成する。
図1(a)乃至(d)は、本発明の第1実施形態に係るSOI半導体装置の製造方法を説明するための断面図である。このSOI半導体装置は、完全空乏(Fully-Depleted, FD)で動作するSOI半導体装置である。また、SOI半導体装置は、部分空乏(Partially-Depleted, PD)のSOI半導体装置であってもよい。本発明は、SOI層が例えば50nm以下のように薄く形成されるSOI半導体装置に特に有効であるが、SOI層の膜厚に依存するものではなく、SOI基板を用いる半導体装置全般に適用可能である。
次に、半導体層3上に熱酸化法によりシリコン酸化膜4を形成し、CVD法によりシリコン窒化膜(Si3N4)5を堆積する。このシリコン窒化膜5は、後述するフィールド酸化膜形成時の酸化抑制マスクとして機能する。
〔作用効果〕
第1実施形態に係るSOI半導体装置の製造方法によれば、フィールド酸化膜6を形成する際、十分な膜厚を有するシリコンの支持基板1を熱酸化することで、膜厚の薄い半導体層3を熱酸化する場合に比して、十分な膜厚を有するフィールド酸化膜を制御性良く均一に形成することができる。
第2実施形態では、支持基板1の熱酸化に先立って、開口部9も内壁に絶縁膜7(図2参照)を形成する。
図2(a)乃至(e)は、本発明の第2実施形態に係るSOI半導体装置の製造方法を説明するための断面図である。
次に、図2(b)に示すように、第1実施形態と同様に素子分離領域において半導体層3を完全に除去して開口部9を形成し、開口部9内に埋め込み酸化膜2を露出させる。
次に、CVD法によってシリコン窒化膜5上及び開口部9内にシリコン酸化膜を堆積する。このシリコン酸化膜は、埋め込み酸化膜2と同じ熱膨張係数を有するものを選択する。シリコン酸化膜はSOG(Spin on Glass)法のような塗布により形成されるものでも良い。シリコン酸化膜を異方性エッチング、例えば反応性イオンエッチングなどでエッチバックし、図2(c)に示すように、開口部9の内壁のみに保護膜としてのシリコン酸化膜7を形成する。このシリコン酸化膜7は、後の熱酸化処理の際に開口部9内に半導体層3の側壁が露出しないようにするために形成する。
その後、シリコン窒化膜5を除去するとともに、シリコン酸化膜4及び埋め込み酸化膜2を半導体層3が露出するまで除去する。この際、シリコン絶縁膜7の一部もエッチングされることになる。以上の工程を経て、図2(e)に示すように、埋め込み酸化膜2とシリコン酸化膜7とで構成されるフィールド酸化膜8が形成される。
第2実施形態に係るSOI半導体装置の製造方法によれば、支持基板1を熱酸化する際、半導体層3の側壁がシリコン酸化膜7で保護されているため、半導体層3内部へバーズビークが広がることを抑制できる。
さらに、シリコン酸化膜7と埋め込み酸化膜2の熱膨張係数は同じであるため、半導体層3への応力も緩和できる。
Claims (15)
- 支持基板と前記支持基板上に第1絶縁膜を介して形成された半導体層からなるSOI基板を用いて、半導体装置を製造する方法であって、
前記半導体層上を第2絶縁膜で覆うステップと、
前記第2絶縁膜上を第3絶縁膜で覆うステップと、
前記第3絶縁膜、前記第2絶縁膜及び前記半導体層に開口部を形成して前記第1絶縁膜を露出するステップと、
前記開口部において前記第1絶縁膜を介して前記支持基板を熱酸化してフィールド酸化膜を形成するステップと、
前記第3絶縁膜及び前記第2絶縁膜を除去するステップと、
を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記開口部において、前記半導体層を完全に除去することを特徴とする、請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記開口部を形成するステップの後において、前記開口部の内壁に第4絶縁膜を形成するステップを、さらに含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第4絶縁膜は、CVD法、もしくはSOG法により形成されるシリコン酸化膜であることを特徴とする、請求項3に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第1及び前記第2絶縁膜はシリコン酸化膜であり、前記第3絶縁膜はシリコン窒化膜であることを特徴とする、請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 突起部及び平坦部を有する支持基板と、
前記平坦部上に形成された第1絶縁膜と、
前記突起部上に形成され、前記第1絶縁膜と一体に形成された第2絶縁膜と、
前記第1絶縁膜上において前記第2絶縁膜と隣接して形成された半導体層と、
を備えることを特徴とする半導体装置。 - 前記突起部は熱酸化膜であることを特徴とする、請求項6に記載の半導体装置。
- 前記第2絶縁膜と前記半導体層の間に第3絶縁膜をさらに備えることを特徴とする請求項6に記載の半導体装置。
- 前記第3絶縁膜は、CVD法、もしくはSOG法により形成されるシリコン酸化膜であることを特徴とする、請求項8に記載の半導体装置。
- 前記第1及び第2絶縁膜はシリコン酸化膜であることを特徴とする、請求項6に記載の半導体装置。
- 第1支持基板と、前記第1支持基板上に形成された第1絶縁膜と、前記第1絶縁膜上に形成された半導体層とを有する素子形成部分と、
前記第1支持基板に隣接して一体に形成され、かつ前記第1絶縁膜側において前記第1支持基板よりも厚く形成された第2支持基板と、前記第2支持基板上において前記第1絶縁膜と一体に形成され、かつ前記半導体層と隣接する第2絶縁膜とを有する素子分離部分と、
を備えることを特徴とする半導体装置。 - 前記第2支持基板は前記第2絶縁膜側において熱酸化膜を有することを特徴とする、請求項11に記載の半導体装置。
- 前記半導体層と前記第2絶縁膜との間に第3絶縁膜をさらに備えることを特徴とする請求項11に記載の半導体装置。
- 前記第3絶縁膜は、CVD法、もしくはSOG法により形成されるシリコン酸化膜であることを特徴とする、請求項13に記載の半導体装置。
- 前記第1及び第2絶縁膜はシリコン酸化膜であることを特徴とする、請求項11に記載の半導体装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004150283A JP2005332996A (ja) | 2004-05-20 | 2004-05-20 | 半導体装置、及びその製造方法 |
US10/980,239 US20050260799A1 (en) | 2004-05-20 | 2004-11-04 | Semiconductor device and method for producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004150283A JP2005332996A (ja) | 2004-05-20 | 2004-05-20 | 半導体装置、及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005332996A true JP2005332996A (ja) | 2005-12-02 |
Family
ID=35375713
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004150283A Pending JP2005332996A (ja) | 2004-05-20 | 2004-05-20 | 半導体装置、及びその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20050260799A1 (ja) |
JP (1) | JP2005332996A (ja) |
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US20050260799A1 (en) | 2005-11-24 |
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