JP2005327832A - 搬送装置 - Google Patents

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辰雄 片岡
Takashi Ishigami
敬志 石神
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Abstract

【課題】高価な特殊ベアリングを用いたり、シャフトを太くしたりすることを避けながら、被搬送物を正確に搬送することができる搬送装置を提供する。
【解決手段】固定系の支持部材14−1,14−2と、上記支持部材14−1,14−2に両端を支持され互いの軸線方向が平行して位置するように所定の間隔を開けて配設された複数のシャフト16と、上記シャフト16に同軸状に所定の間隔を開けて配設された複数のローラ18と、上記シャフト16の下方側に配設され内部に液体300を貯留した槽22−1,22−2と、上記槽22−1,22−2に貯留された上記液体300の比重より小さい比重を有し、上記シャフト16の略中央部位に配設されて上記槽22−1、22−2に貯留された上記液体300に浸漬された補助部材20とを有する。
【選択図】図3

Description

本発明は、搬送装置に関し、さらに詳細には、半導体基板、液晶素子用ガラス基板、カラーフィルタ基板、特に、液晶ディスプレイ(LCD:Liquid Crystal Display)、プラズマディスプレイ(PDP:Plasma Display Panel)ならびに低温ポリシリコンTFT(LTPS−TFT:Low Temperature Poly−silicon Thin Film Transistor)を含むFlat Panel Display(FPD)用のガラス基板などの各種被搬送物を搬送する際に用いて好適な搬送装置に関する。
従来より、FPD用のガラス基板などの各種の基板(以下、単に「基板」と称する。)を洗浄する洗浄装置には、洗浄に際して基板を1枚ずつ枚葉式で搬送する搬送装置が配設されている(図1(a)参照)。
この図1(a)に示す従来の搬送装置100は、複数のローラ104を同軸状に配設した複数のシャフト102がそれぞれ、その両端部分をシャフト支持部材106によって支持され軸線方向が互いに平行して位置するようにして配設されている。そして、図示しない駆動装置の駆動力によってシャフト102が軸線回りに回転するのに伴って回転するローラー104により、ローラー104上に載置された被搬送物たる基板200が所定の搬送方向に1枚ずつ搬送されるものである。
近年、上記したような従来の搬送装置100においては、被搬送物である基板の大型化に伴い、シャフト102の軸線方向に沿った全長が以前よりも長くなってきている。つまり、図1(a)に示す搬送装置100のシャフト102の全長Laより、図1(b)に示す搬送装置100’のシャフト102’の全長Lbは長くなっており、大型の基板200の広い幅に対応させている。
しかしながら、こうして長いシャフト102’が配設された従来の搬送装置100’(図1(b)参照)においては、シャフト102’の全長が長いためにシャフト102’がたわんでしまい、ローラ104上に載置された被搬送物を水平に維持することができず、被搬送物たる基板200を正確に搬送することができない恐れがあるという問題点があった。
こうした従来の搬送装置100’が有する問題点を解決するために、例えば、図2(a)に示すように、長いシャフト102’の中央部位を支持する中間支持部材108を配設することが提案されている。
ところが、基板200を搬送するために回転するシャフト102’を支持する中間支持部材108としては、基板200の洗浄に影響を及ぼすベアリングからの発塵を防止するために、高価な特殊ベアリングを使用しなければならないとともに、その組み付けなどの作業が繁雑化するという新たな問題点が招来されるものであった。
また、従来の搬送装置100’における長いシャフト102’のたわみ量を少なくするために、例えば、図2(b)に示すように、シャフト102’に比べて太いシャフト110を配設することも提案されている。
ところが、このようにシャフトを太くしてしまうとシャフト110の自重が重くなるので、当該シャフト110を支持するシャフト支持部材106’の強度を増す必要があり、搬送装置100’の固定系であるシャフト支持部材の構造が複雑になってしまうという新たな問題点が招来されるものであった。
本発明は、上記したような従来の技術の有する種々の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、高価な特殊ベアリングを用いたり、シャフトを太くしたりすることを避けながら、被搬送物を正確に搬送することができる搬送装置を提供しようとするものである。
上記目的を達成するために、本発明は、被搬送物を搬送する搬送手段のたわみを浮力によって防止するようにしたものである。
即ち、本発明のうち請求項1に記載の発明は、所定の方向に延長されて配設され、軸線回りに回転することにより載置した被搬送物を所定の搬送方向に搬送する搬送手段と、上記搬送手段を浮かべる流体を溜めた貯留手段とを有するようにしたものである。
従って、本発明のうち請求項1に記載の発明によれば、貯留手段に溜められた流体に浮かんでいる搬送手段には浮力が働き、この浮力によって所定の方向に延長されて配設された搬送手段のたわみを防止することができ、高価な特殊ベアリングを用いたり、シャフトを太くしたりすることなしに、被搬送物を正確に搬送することができるようになる。
また、本発明のうち請求項2に記載の発明は、固定系の支持部材と、上記支持部材に両端を支持され互いの軸線方向が平行して位置するように所定の間隔を開けて配設された複数のシャフトと、上記シャフトに同軸状に所定の間隔を開けて配設された複数のローラと、上記シャフトの下方側に配設され内部に液体を貯留した槽と、上記槽に貯留された上記液体の比重より小さい比重を有し、上記シャフトの略中央部位に配設されて上記槽に貯留された上記液体に浸漬された補助部材とを有するようにしたものである。
また、本発明のうち請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の発明において、上記補助部材は、上記ローラに載置されて搬送される被搬送物を洗浄するブラシであるようにしたものである。
また、本発明のうち請求項4に記載の発明は、内部に液体を貯留した貯留槽と、上記貯留槽に貯留された液体のない位置において両端を支持され互いの軸線方向が平行して位置するように所定の間隔を開けて配設された複数のシャフトと、上記貯留槽に貯留された上記液体の比重より小さい比重を有し、上記シャフトに配設されて上記貯留槽に貯留された上記液体に浸漬された略円筒状体のローラとを有するようにしたものである。
また、本発明のうち請求項5に記載の発明は、内部に液体を貯留した内槽と、上記内槽の外周側に配設された外槽と、上記外槽の槽壁に両端を支持され互いの軸線方向が平行して位置するように所定の間隔を開けて配設された複数のシャフトと、上記内槽に貯留された上記液体の比重より小さい比重を有し、上記シャフトに配設されて上記内槽に貯留された上記液体に浸漬された略円筒状体のローラとを有するようにしたものである。
また、本発明のうち請求項6に記載の発明は、請求項4または請求項5のいずれか1項に記載の発明において、上記ローラは、ポリビニルアルコールにより形成されており、多くの気泡孔を有する多孔質のスポンジ状の形状を有するようにしたものである。
また、本発明のうち請求項7に記載の発明は、請求項4、請求項5または請求項6のいずれか1項に記載の発明において、上記ローラは1本の上記シャフトに複数配設されており、当該複数のローラのうち少なくとも1以上のローラが、上記液体の比重より小さい比重を有し上記液体に浸漬されるものであるようにしたものである。
また、本発明のうち請求項8に記載の発明は、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6または請求項7のいずれか1項に記載の発明において、上記シャフトまたは上記ローラの少なくともいずれか一方は、中空構造を有するようにしたものである。
また、本発明のうち請求項9に記載の発明は、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6、請求項7または請求項8のいずれか1項に記載の発明において、上記液体は、上記ローラに載置されて搬送される被搬送物を洗浄可能な洗浄液であるようにしたものである。
また、本発明のうち請求項10に記載の発明は、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6、請求項7または請求項8のいずれか1項に記載の発明において、上記液体は、上記シャフトまたは上記ローラを洗浄可能な洗浄液であるようにしたものである。
また、本発明のうち請求項11に記載の発明は、請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6、請求項7、請求項8、請求項9または請求項10のいずれか1項に記載の発明において、さらに、上記液体をフィルタを介して循環する機構を有するようにしたものである。
本発明による搬送装置は、被搬送物を正確に搬送することができるようになるという優れた効果を奏する。
以下、添付の図面に基づいて、本発明による搬送装置の実施の形態の一例を詳細に説明するものとする。
はじめに、図3乃至図5を参照しながら、本発明の第1の実施の形態による搬送装置について説明する。
図3には、本発明による搬送装置の第1の実施の形態を示す概略構成説明図が示されており、図4には、図3のA−A線断面図が示されている。
この搬送装置10は、固定系のベース部材12と、ベース部材12から立設されるとともに基板の搬送方向(図3に示す矢印参照)に沿って延長されて互いに対向して配置されたシャフト支持部材14−1,14−2と、シャフト支持部材14−1,14−2に両端を回動自在に支持されるとともに互いの軸線方向が平行して位置するように所定の間隔を開けて並列状に配設された複数のシャフト16と、複数のシャフト16のそれぞれに同軸状に所定の間隔を開けて配設された複数のローラ18と、複数のシャフト16のそれぞれの略中央部位に配設された補助部材20と、シャフト16の下方側に配設され内部に液体300が貯留された槽22−1,22−2とを有して構成されている。
なお、この実施の形態においては、搬送装置10によって、図3に示す基板の搬送方向に直交する方向における長さL1(幅)がおよそ1100mmで、図3に示す基板の搬送方向における長さL2(長さ)がおよそ1250mmのサイズを有する基板200を搬送するものとする。
ここで、シャフト16は、例えば、ステンレス鋼(SUS)により形成されており、図4に示すように内部は中実である。このシャフト16の軸線方向に沿った長さは、基板200の幅(即ち、図3に示す長さL1)より長くなるようにして寸法設定されており、例えば、およそ2000mm以上である。そして、複数のシャフト16は、軸線方向が基板の搬送方向と直交する方向に一致するようにそれぞれ配置されるとともに、軸線回りに回転自在な状態でシャフト支持部材14−1,14−2に支持されている。
なお、符号24は、シャフト支持部材14−2に支持されたシャフト16の一方の端部に配設された搬送用ギアであり、図示しない駆動装置の駆動力が当該搬送用ギア24を介してシャフト16に伝達されるようになされている。この搬送用ギア24を介して駆動装置の駆動力がシャフト16に伝達されると、複数のシャフト16はそれぞれ軸線回りに同一方向で回転するものである。
一方、ローラ18は、例えば、樹脂により形成されており、図4に示すように内部は中実である。なお、この実施の形態においては、1本のシャフト16には4つのローラ18が固定されている。従って、シャフト16が軸線回りに回転するのに伴って、シャフト16に配設された複数のローラ18も同一方向でそれぞれ回転する。
さらに、シャフト16には補助部材20が固定されている。この補助部材20は、後述する液体300の比重より小さい比重を有する物体であり、全体は略円筒状体であって、シャフト16の略中央部位に外挿されている。
図5(a)(b)(c)を参照しながら、補助部材20をより詳細に説明すると、補助部材20は、略円筒状体を中心軸に沿って半分に分割した形状をそれぞれ備えた第1部材20aと第2部材20bとにより構成されている(図5(b)参照)。これら第1部材20aと第2部材20bとはそれぞれ、ステンレス鋼(SUS)により形成されており、図5(c)に示すように内部は中空であって密閉構造を有している。そして、第1部材20aと第2部材20bとによってシャフト16を挟み込むようにして、連結具26により第1部材20aと第2部材20bとを連結してシャフト16に固定する(図5(a)参照)。
なお、こうしてシャフト16に外装された略円筒状体の補助部材20の直径R1(図5(c)参照)は、シャフト16に配設されたローラ18の直径R2(図4参照)より小さくなるようにして寸法設定されている(図3参照)。
そして、複数のシャフト16にそれぞれ配設された補助部材20の下方側には、槽22−1,22−2が配設されている。これら槽22−1と槽22−2とは同一の構成を備えており、内部に液体300が貯留されている。この液体300は純水であり、補助部材20が浸漬可能な水面の高さを維持するように所定量が貯留されている。なお、槽22−1,22−2の全体の大きさは、補助部材20が液体300に浸浸可能な範囲で寸法設定されている。
以上の構成において、本発明による搬送装置10を用いて基板200を搬送するには、まず、駆動装置の駆動力を搬送用ギア24を介してシャフト16に伝達する。すると、シャフト16がそれぞれ軸線回りに同一方向で回転するのに伴って、シャフト16に配設されたローラ18が軸線回りに同一方向で回転する。これにより、ローラ18上に載置された基板200が、基板の搬送方向(図1参照)に1枚ずつ枚葉式で搬送される。
ここで、シャフト16の軸線方向に沿った長さは、基板200の幅より長くなるようにして寸法設定されており、シャフト16は、大型の基板の広い幅に対応しておよそ2000mm以上の長さを有する長いシャフトである。
この搬送装置10においては、こうした長いシャフト16を用いているが、シャフト16の略中央部位に配設された比重の小さい補助部材20が槽22−1,22−2に貯留された液体300に浸漬しているので、シャフト16の略中央部位において浮力が働くことになる。
この浮力によってシャフト16のたわみを防止することができ、その結果、ローラ18上に載置された基板200を水平に維持することが可能となり、被搬送物たる基板200を正確に搬送することができるようになるので、基板搬送性能を向上することができる。
また、浮力を利用してシャフト16のたわみ防止を実現する本発明の搬送装置10においては、上記「背景技術」の項において記載した従来の搬送装置100’(図2(a)参照)のように、長いシャフト102’の中央部位を支持する中間支持部材108を配設する必要がない。
このため、本発明によれば、従来に比べて部品点数を削減することができるとともに、特殊ベアリングを用いる必要がないので、コストを低減することもできる。
また、本発明による搬送装置10においては、浮力を利用してシャフト16のたわみ防止を実現できるとともに、シャフト16を支持する部分であるシャフト支持部材14−1,14−2への荷重を小さくすることができるため、シャフト支持部材14−1,14−2の軸受部分の磨耗を防止することができる。
また、本発明によれば、上記「背景技術」の項において記載した従来の搬送装置100’(図2(b)参照)のように、たわみ量を少なくするためにシャフトを太くしてシャフト支持部材106’を補強する必要もない。つまり、本発明は、簡単な構成により、長いシャフトのたわみを防止するとともに、当該シャフトを支持する部分への荷重を小さくしているので、正確に被搬送物を搬送することが可能になるとともに、長いシャフトの高速回転にも対応可能なものである。
次に、図6乃至図7を参照しながら、本発明の第2の実施の形態による搬送装置について説明する。
図6には、本発明による搬送装置の第2の実施の形態を示す概略構成説明図が示されており、図7には、図6のC−C線断面図が示されている。
この搬送装置30は、固定系の略板状体のベース部材32と、ベース部材32から立設されてベース部材32とともに外槽36を形成する外槽壁34と、外槽壁34の内周側においてベース部材32から立設されてベース部材32とともに内槽40を形成する内槽壁38と、外槽壁34の基板の搬送方向(図6に示す矢印参照)に沿って互いに対向して延長された部分たるシャフト支持部42−1,42−2と、シャフト支持部42−1,42−2に両端を支持され互いの軸線方向が平行して位置するように所定の間隔を開けて配設された複数のシャフト44と、複数のシャフト44のそれぞれに外挿されて固定された略円筒状体のローラ46とを有して構成されている。
なお、この第2の実施の形態においても上記した第1の実施の形態と同様に、搬送装置30によって、図6に示す基板の搬送方向に直交する方向における長さL3(幅)がおよそ1100mmで、図6に示す基板の搬送方向における長さL4(長さ)がおよそ1250mmのサイズを有する基板200を搬送するものとする。
ここで、搬送装置30においては、複数のシャフト44の下方側において、外槽36と当該外槽36の内周側に位置する内槽40とが配設されている。
外槽36は、上記したようにベース部材32と外槽壁34とによって形成されており、外槽壁34近傍のベース部材32には排液口32aが穿設されている。この排液口32aには、排液管50(図7参照)が接続されている。
一方、内槽40は、上記したようにベース部材32と内槽壁38とによって形成されており、内槽壁38には、シャフト支持部42−1,42−2によって支持されるシャフト44が位置する部分が切り欠かれて凹部38aが形成されている。また、内槽壁38近傍のベース部材32には液体供給口32bが穿設されており、当該液体供給口32bには、供給管52(図7参照)が接続されている。液体300がこの供給管52を介して、内槽40内に供給されるようになされている。なお、この実施の形態においては、液体300として純水を用いる。
また、液体供給口32bから内槽40内に供給される液体300は、内槽40の内槽壁38の凹部38a側から溢れ出すように流量などが調整されている。こうして内槽40からオーバーフローした液体300は、内槽40の外周側に位置する外槽36内に流入し、外槽36の排液口32aから排液管50を経て排液されるようになされている。
なお、外槽36ならびに内槽40の全体の大きさは、シャフト44の長さやその数などに応じて寸法設定されており、特に、内槽40はローラ46が液体300に浸浸可能な範囲で寸法設定されている。
ここで、シャフト44は、例えば、ステンレス鋼(SUS)により形成されており、図7に示すように内部は中空である。このシャフト44の軸線方向に沿った長さは、基板200の幅(即ち、図6に示す長さL3)より長くなるようにして寸法設定されており、例えば、およそ2000mm以上である。そして、複数のシャフト44は、軸線方向が基板の搬送方向と直交する方向に一致するようにそれぞれ配置されるとともに、軸線回りに回転自在な状態でシャフト支持部42−1,42−2に支持されている。
なお、符号48は、シャフト支持部42−2に支持されたシャフト44の一方の端部に配設された搬送用ギアであり、図示しない駆動装置の駆動力が当該搬送用ギア48を介してシャフト44に伝達されるようになされている。この搬送用ギア48を介して駆動装置の駆動力がシャフト44に伝達されると、複数のシャフト44はそれぞれ軸線回りに同一方向で回転するものである。
一方、ローラ46は、例えば、ポリビニルアルコール(PVA)により形成されており、多くの気泡孔を有する多孔質のスポンジ状の形状を備えている。このようにローラ46はスポンジ状に形成されているが、その気泡孔の量や材質などを適宜選択することにより、ローラ46全体としては液体300の比重より小さい比重を有するものとして構成する。
ローラ46の全体は略円筒状体であって、内径側の直径はシャフト44の外径と略同一となるように寸法設定されている。また、ローラ46の軸線方向に沿った全長は、シャフト44の両端部近傍を除くほぼ全長にわたるように寸法設定されている。シャフト44が軸線回りに回転するのに伴って、シャフト44に外周側に固定されたローラ46も同一方向で回転する。
以上の構成において、本発明による搬送装置30を用いて基板200を搬送するには、まず、駆動装置の駆動力を搬送用ギア48を介してシャフト44に伝達する。すると、シャフト44がそれぞれ軸線回りに同一方向で回転するのに伴って、シャフト44に配設されたローラ46が軸線回りに同一方向で回転する。これにより、ローラ46上に載置された基板200が基板の搬送方向(図6参照)に1枚ずつ枚葉式で搬送される。
ここで、シャフト44の軸線方向に沿った長さは、基板200の幅より長くなるようにして寸法設定されており、シャフト44は、大型の基板の広い幅に対応しておよそ2000mm以上の長さを有する長いシャフトである。
この搬送装置30においては、こうした長いシャフト44を用いているが、シャフト44のほぼ全長にわたって配設された比重の小さいスポンジ状のローラ46が内槽40に貯留された液体300に浸漬しているので、シャフト44の全長にわたって浮力が働くことになる。
この浮力によってシャフト44のたわみを防止することができ、その結果、ローラ46上に載置された基板200を水平に維持することが可能となり、被搬送物たる基板200を正確に搬送することができるようになるので、基板搬送性能を向上することができる。
また、本発明による搬送装置30においては、図7に示されているようにシャフト44の内部が中空の略円柱状体に形成されているので軽量であり、自重たわみが少ないものである。即ち、中空構造のシャフト44を用いることにより浮力を増大することができ、シャフト44のたわみを一層確実に浮力によって防止することができる。
また、本発明による搬送装置30においては、シャフト44を支持するシャフト支持部42−1,42−2は、外槽36の外槽壁34の一部として構成されている。つまり、内部に液体300が貯留される内槽40の外部であって、液体300のない箇所でシャフト44を支持する構造となっている。このため、本発明によれば、シャフト支持部42−1,42−2からの発塵によって異物が液体300中に混入することを回避することができ、被搬送物である基板200の破損や汚染を防止することができる。
さらに、本発明による第2の実施の形態の搬送装置30は、上記した第1の実施の形態の搬送装置10と同様に、従来に比べて部品点数を削減することができるとともに、高価な特殊ベアリングを用いる必要がないため、コストを低減することもできる。また、簡単な構成で長いシャフトを支持する部分への荷重を小さくすることができるので、シャフト支持部42−1,42−2の軸受部分の磨耗を防止でき、長いシャフトの高速回転にも対応可能なものである。
ここで、本発明による第1の実施の形態の搬送装置10と第2の実施の形態の搬送装置30とはいずれも、例えば、基板の洗浄装置に配設することができる。
図8には、本発明による第1の実施の形態の搬送装置10を配設した洗浄装置の一例を示す概略構成説明図が示されている。この図8に示す洗浄装置60は、本発明による搬送装置10を収容する処理室62を備え、当該処理室62内にはガス噴射孔64からオゾンガスなどの処理ガスが噴射されるようになされている。
洗浄装置60における被洗浄物であって、搬送装置10によって搬送される被搬送物である基板200は、処理室62内において搬送装置10によって正確に搬送されるので、処理ガスによる基板200の表面の清浄化が均一に行われて良好な洗浄結果を得ることができ、高精度で高速の洗浄を実現することができる。
また、図9には、本発明による第2の実施の形態の搬送装置30を配設した洗浄装置の一例を示す概略構成説明図が示されている。この図9に示す洗浄装置70は、本発明による搬送装置30のローラ46の上方側に、アルカリ洗浄剤などの洗浄用溶液を噴射するシャワーパイプ72を備えている。
洗浄装置70における被洗浄物であり被搬送物である基板200は、搬送装置30によって正確に搬送されるので、シャワーパイプ72から噴射された洗浄用溶液によって基板200の表面は均一に洗浄されて良好な洗浄結果を得ることができる。この際、本発明による搬送装置30を用いているのでシャフト44のたわみが防止されており、シャフトの中央部位などがたわんで、載置されている基板200の中央部位に洗浄用溶液が溜まってさらにシャフトのたわみ量が増加するようなことがない。その結果、高精度で高速の洗浄を実現することができる。
このように本発明による搬送装置10,30は、ドライ洗浄を行う洗浄装置やウェット洗浄を行う洗浄装置に用いて好適なものである。なお、上記した洗浄装置に限られるものではないことは勿論であり、被搬送物を乾燥するためのエアーナイフや排気ダクトなど、洗浄装置に必要な各種構成を付加してもよい。
なお、上記した実施の形態は、以下の(1)乃至(10)に説明するように適宜に変形してもよい。
(1)上記した実施の形態の搬送装置10,30においては、シャフト16,44はステンレス鋼(SUS)により形成されるようにしたが、これに限られるものではないことは勿論であり、例えば、カーボンやアルミなどの各種材料により形成するようにしてもよい。
また、シャフトの形状も、中空あるいは中実の任意の形状を選択可能なものである。つまり、搬送装置10のシャフト16を中空に構成し、搬送装置30のシャフト44を中実に構成するようにしてもよい。
また、SUSのシャフトにPFAコートを施したり、カーボンのシャフトにPVCコートを施したりしてもよく、搬送装置が使用される装置や被搬送物の種類などに応じて適宜変更可能なものである。
(2)上記した実施の形態の搬送装置10においては、ローラ18は樹脂により形成されるようにしたが、具体的には、PVC、PTFE、UPE(UHMW−PE)、PPSならびにPEEK(登録商標)などの各種樹脂を使用することができる。
また、搬送装置30においては、ローラ46はポリビニルアルコール(PVA)により形成されるようにしたが、例えばPFAなど、各種の多孔質材料やあるいは多孔質材料とは異なる弾性材料などによりスポンジ様に形成してもよい。要はローラ46全体として液体300の比重より小さい比重を有する物体となるように、気泡孔の量や表面のコーティングなどを適宜変更するとよい。
なお、搬送装置30においては、1本のシャフト44に単一のローラ46が配設されるようにしたが、1本のシャフト44に複数のローラが配設されるようにしてもよく、当該複数のローラがシャフト44に配設される位置や取り付け構造なども適宜変更可能なものである。こうして複数のローラが1本のシャフト44に配設される場合には、複数のローラのうち少なくとも1以上のローラが、液体300の比重より小さい比重を有して液体300に浸漬されるようにすればよい。
そして、ローラ18,46は中実に構成されるのに限られるものではなく、中空に構成されるようにしてもよい。
(3)上記した実施の形態の搬送装置10においてはシャフト16にローラ18が配設され、搬送装置30においてはシャフト44にローラ46が配設されるようにしたが、これに限られるものではないことは勿論であり、基板200などの被搬送物が載置されるローラと当該ローラを支持し回転するシャフトとを一体的に成型し、中実または中空に構成するようにしてもよい。
(4)上記した実施の形態の搬送装置10においては、図5(a)(b)(c)に示すような補助部材20をシャフト16に配設するようにしたが、これに限られるものではないことは勿論であり、水に比べて比重の小さい樹脂(例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、UPE)など各種材料によって、中空または中実の構造で、液体300の比重より小さい比重を有する物体となるように構成すればよい。また、補助部材の全体の大きさや、補助部材がシャフトに配設される位置や数量、そして取り付け構造なども適宜変更可能なものである。
例えば、補助部材をローラに載置されて搬送される基板200などの被搬送物を洗浄するブラシとして構成すれば、当該ブラシたる補助部材が当接する被搬送物を洗浄することが可能になる。
(5)上記した実施の形態の搬送装置10,30においては、搬送用ギア24,48を介して駆動装置の駆動力がシャフト16,44に伝達されてシャフト16,44が軸線回りに回転するようにしたが、これに限られるものではないことは勿論であり、被搬送物を搬送するためにシャフト16,44を軸線回りに回転する機構は、搬送装置が使用される装置や被搬送物の種類などに応じて適宜変更可能なものである。
(6)上記した実施の形態の搬送装置10,30においては、被搬送物として略矩形形状の板状体の基板200が搬送されるようにしたが、これに限られるものではないことは勿論であり、本発明による搬送装置は、各種形状・用途の基板や精密部品などの種々の被搬送物の搬送に用いて好適なものであり、被搬送物の種類や大きさなどに応じて寸法設定や材料などを変更するとよい。
(7)上記した実施の形態の搬送装置30においては、シャフト44の下方側に外槽36と内槽40とが配設されるようにしたが、これに限られるものではないことは勿論であり、外槽36を配設せずに内槽40のみが配設されるようにしてもよい。その際、液体300をオーバーフローさせずに、また、シャフト44が内槽40の内槽壁38によって回転自在に支持されるようにしてもよい。
要は、液体300のない位置においてシャフトの両端を支持する構造とすることで、シャフトを支持する部位からの発塵によって異物が液体300中に混入することを回避することができ、被搬送物の破損や汚染を防止することができる。
(8)上記した実施の形態の搬送装置30において、さらに、排液管50と供給管52とを連結する配管を配設し、当該配管にフィルタや循環ポンプなどを配設して、液体300をフィルタを介して循環する機構を有するようにしてもよい。このようにすると、シャフト44の下方側に溜めた液体300をフィルタを介して循環できるので、異物の巻き上がりによる基板200への付着を防止することができる。
なお、こうした液体300をフィルタを介して循環する機構は、搬送装置10においても配設可能なものである。
(9)上記した実施の形態の搬送装置10,30においては、液体300は純水であるようにしたが、これに限られるものではないことは勿論であり、液体300としては、例えば、水道水、界面活性剤や有機溶剤を含んだ水などを使用することができる。そして、使用する液体の種類によって、当該液体が貯留される槽の材質や構造を適宜変更すればよい。
また、浮力を得るための液体300に代えて、本発明による搬送装置が使用される装置や被搬送物の種類などに応じては、ガスなどの気体を使用することもでき、流体によって浮力が得られるようにすればよい。
そして、液体300として洗浄液を用いた場合には、液体300によって浮力が得られるとともに、搬送装置30においてはスポンジ状のローラ46が当接する基板200の面を洗浄することができるようになる。さらに、搬送装置30においては、内槽40からオーバーフローする液体300に基板200が水没するような構成とすれば、液体300たる洗浄液によって基板の両面を洗浄することができる。
さらに、液体300として洗浄液を使用する場合に、液体300を攪拌する手段や2流体シャワーなどを付加することにより、搬送装置30を洗浄装置として用いることができる。
そして、液体300たる洗浄液の種類を適宜選択することにより、搬送装置10,30のシャフト16,44やローラ18,46を洗浄することも可能であり、装置全体を清潔に保つことができる。
(10)上記した実施の形態ならびに上記(1)乃至(9)に示す変形例は、適宜に組み合わせるようにしてもよい。
本発明は、FPDの製造工程やプリント基板の製造工程において利用することができる。
(a)(b)は、従来の搬送装置の一例を示す概略構成説明図である。 (a)(b)は、従来の搬送装置の他の例を示す概略構成説明図である。 本発明による搬送装置の第1の実施の形態を示す概略構成説明図である。 図3のA−A線断面図である。 図3に示す搬送装置の補助部材を中心に示す説明図であり、(a)はシャフトに固定されている補助部材を示す概略構成斜視説明図であり、(b)は(a)に示す補助部材の概略構成分解斜視説明図であり、(c)は(a)のB−B線端面図である。 本発明による搬送装置の第2の実施の形態を示す概略構成説明図である。 図6のC−C線断面図である。 本発明による第1の実施の形態の搬送装置を配設した洗浄装置の一例を示す概略構成説明図である。 本発明による第2の実施の形態の搬送装置を配設した洗浄装置の一例を示す概略構成説明図である。
符号の説明
10,30 搬送装置
12,32 ベース部材
14−1,14−2 シャフト支持部材
16,44 シャフト
18,46 ローラ
20 補助部材
22−1,22−2 槽
36 外槽
40 内槽
42−1,42−2 シャフト支持部
100,100’ 搬送装置
200 基板
300 液体

Claims (11)

  1. 所定の方向に延長されて配設され、軸線回りに回転することにより載置した被搬送物を所定の搬送方向に搬送する搬送手段と、
    前記搬送手段を浮かべる流体を溜めた貯留手段と
    を有することを特徴とする搬送装置。
  2. 固定系の支持部材と、
    前記支持部材に両端を支持され互いの軸線方向が平行して位置するように所定の間隔を開けて配設された複数のシャフトと、
    前記シャフトに同軸状に所定の間隔を開けて配設された複数のローラと、
    前記シャフトの下方側に配設され内部に液体を貯留した槽と、
    前記槽に貯留された前記液体の比重より小さい比重を有し、前記シャフトの略中央部位に配設されて前記槽に貯留された前記液体に浸漬された補助部材と
    を有することを特徴とする搬送装置。
  3. 請求項2に記載の搬送装置において、
    前記補助部材は、前記ローラに載置されて搬送される被搬送物を洗浄するブラシである
    ことを特徴とする搬送装置。
  4. 内部に液体を貯留した貯留槽と、
    前記貯留槽に貯留された液体のない位置において両端を支持され互いの軸線方向が平行して位置するように所定の間隔を開けて配設された複数のシャフトと、
    前記貯留槽に貯留された前記液体の比重より小さい比重を有し、前記シャフトに配設されて前記貯留槽に貯留された前記液体に浸漬された略円筒状体のローラと
    を有することを特徴とする搬送装置。
  5. 内部に液体を貯留した内槽と、
    前記内槽の外周側に配設された外槽と、
    前記外槽の槽壁に両端を支持され互いの軸線方向が平行して位置するように所定の間隔を開けて配設された複数のシャフトと、
    前記内槽に貯留された前記液体の比重より小さい比重を有し、前記シャフトに配設されて前記内槽に貯留された前記液体に浸漬された略円筒状体のローラと
    を有することを特徴とする搬送装置。
  6. 請求項4または請求項5のいずれか1項に記載の搬送装置において、
    前記ローラは、ポリビニルアルコールにより形成されており、多くの気泡孔を有する多孔質のスポンジ状の形状を有する
    ことを特徴とする搬送装置。
  7. 請求項4、請求項5または請求項6のいずれか1項に記載の搬送装置において、
    前記ローラは1本の前記シャフトに複数配設されており、該複数のローラのうち少なくとも1以上のローラが、前記液体の比重より小さい比重を有し前記液体に浸漬されるものである
    ことを特徴とする搬送装置。
  8. 請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6または請求項7のいずれか1項に記載の搬送装置において、
    前記シャフトまたは前記ローラの少なくともいずれか一方は、中空構造を有する
    ことを特徴とする搬送装置。
  9. 請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6、請求項7または請求項8のいずれか1項に記載の搬送装置において、
    前記液体は、前記ローラに載置されて搬送される被搬送物を洗浄可能な洗浄液である ことを特徴とする搬送装置。
  10. 請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6、請求項7または請求項8のいずれか1項に記載の搬送装置において、
    前記液体は、前記シャフトまたは前記ローラを洗浄可能な洗浄液である
    ことを特徴とする搬送装置。
  11. 請求項2、請求項3、請求項4、請求項5、請求項6、請求項7、請求項8、請求項9または請求項10のいずれか1項に記載の搬送装置において、さらに、
    前記液体をフィルタを介して循環する機構を有する
    ことを特徴とする搬送装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008135467A (ja) * 2006-11-27 2008-06-12 Towa Corp 電子部品の製造装置及び製造方法
WO2014057736A1 (ja) * 2012-10-12 2014-04-17 旭硝子株式会社 ガラス板搬送装置及びガラス板搬送方法
CN107282483A (zh) * 2017-06-20 2017-10-24 沈阳中色碳素设备研发有限公司 一种自重清理阳极炭块表面生产线及其自重清理方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003306223A (ja) * 2002-04-12 2003-10-28 Shibaura Mechatronics Corp 搬送装置、被取付け体の取付け構造

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003306223A (ja) * 2002-04-12 2003-10-28 Shibaura Mechatronics Corp 搬送装置、被取付け体の取付け構造

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008135467A (ja) * 2006-11-27 2008-06-12 Towa Corp 電子部品の製造装置及び製造方法
WO2014057736A1 (ja) * 2012-10-12 2014-04-17 旭硝子株式会社 ガラス板搬送装置及びガラス板搬送方法
JPWO2014057736A1 (ja) * 2012-10-12 2016-09-05 旭硝子株式会社 ガラス板搬送装置及びガラス板搬送方法
CN107282483A (zh) * 2017-06-20 2017-10-24 沈阳中色碳素设备研发有限公司 一种自重清理阳极炭块表面生产线及其自重清理方法

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