JP2005325973A - 処理チャンバ装置のシール構造 - Google Patents
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Abstract
【課題】チャンバとステージの突き合せ面間を効果的にシールすることができ、またチャンバ内を陽圧とするような利用形態にも対応でき、利用範囲の広い処理チャンバ装置を提供するのに好適な処理チャンバ装置のシール構造を提供する。
【解決手段】 ステージ2上の被処理基板Wにカバー3を被せ、このカバー3とステージ2とにより形成されるカバー3内側のチャンバ1−1内でステージ2上の被処理基板Wをプロセス処理する処理チャンバ装置1のシール構造として、ステージ2上の被処理基板Wにカバー3を被せたときの該カバー3とステージ2との突き合せ面間に、2本以上のシール部材(リングシール6−1、6−2)と、これらのシール部材間に位置する減圧溝8とが設けられるものとし、そして、減圧溝8内が減圧されると、カバー3とステージ2の突き合せ面間に減圧によるバキューム力が生じ、このバキューム力により上記シール部材を介するカバー3とステージ2の密着性が向上するものとする。
【選択図】図1
【解決手段】 ステージ2上の被処理基板Wにカバー3を被せ、このカバー3とステージ2とにより形成されるカバー3内側のチャンバ1−1内でステージ2上の被処理基板Wをプロセス処理する処理チャンバ装置1のシール構造として、ステージ2上の被処理基板Wにカバー3を被せたときの該カバー3とステージ2との突き合せ面間に、2本以上のシール部材(リングシール6−1、6−2)と、これらのシール部材間に位置する減圧溝8とが設けられるものとし、そして、減圧溝8内が減圧されると、カバー3とステージ2の突き合せ面間に減圧によるバキューム力が生じ、このバキューム力により上記シール部材を介するカバー3とステージ2の密着性が向上するものとする。
【選択図】図1
Description
本発明は、半導体ウエハ表面のVPD処理などのプロセス処理を行なう際に使用される処理チャンバ装置のシール構造に関するものである。
従来、この種の処理チャンバ装置としては、例えば、特許文献1に開示されたのものがある。同文献1の処理チャンバ装置1は、図4に示したように、ウエハステージ50とこれを底部として蓋となるウエハステージカバー51とを有している。そして、そのウエハステージ50上に半導体ウエハW1が載置され、このウエハステージ50上の半導体ウエハW1にウエハステージカバー51が被せられる。このとき、ウエハステージカバー51とウエハステージ50の突き合せ面間は1つのOリング52によりシールされる構造となっている。
しかし、上記従来の処理チャンバ装置1のシール構造によると、前述の通り、ウエハステージカバー51とウエハステージ50の突き合せ面間のシールが1つのOリング52によるものであるため、十分なシール効果は期待できない。Oリング52が破損した場合には、ウエアステージカバー51内側のチャンバ(気密室)1−1の気密性を保つことができず、チャンバ1−1内のガスがOリング50の破損部から外部へリークする可能性もある。
また、上記従来のシール構造によると、チャンバ1−1を真空とすることにより、ウエハステージカバー51とウエハステージ50の突き合せ面間がOリング52でシールされる構造である。このため、チャンバ1−1内が真空でないとOリング52によるシール効果が有効に発揮されない。従って、チャンバ1−1内を陽圧とする場合、すなわち外界と較べてチャンバ1−1内の方を高圧とするような処理チャンバ装置1の利用形態には対応することができず、この種の処理チャンバ装置1の利用範囲を狭めるといった問題点もある。
本発明は上記問題点を解決するためになされたもので、その目的とするところは、チャンバとステージの突き合せ面間を効果的にシールすることができ、また、チャンバ内を陽圧とするような利用形態にも対応でき、利用範囲の広い処理チャンバ装置を提供するのに好適な、処理チャンバ装置のシール構造を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明は、ステージ上の被処理基板にカバーを被せ、このカバーと上記ステージとにより形成されるカバー内側のチャンバ内で上記ステージ上の被処理基板をプロセス処理する処理チャンバ装置のシール構造において、上記ステージ上の被処理基板にカバーを被せたときの該カバーと上記ステージとの突き合せ面間に、2本以上のシール部材と、これらのシール部材間に位置する減圧溝とが設けられる構造と、上記減圧溝に一端を開口した減圧孔と、上記減圧孔を介して上記減圧溝内を減圧する減圧手段とからなることを特徴とする。
本発明では、ステージ上の被処理基板にカバーを被せたときに、そのカバーとステージの突き合せ面間が2本以上のシール部材で多重にシールされる。
更に、本発明では、上記の如くステージ上の被処理基板にカバーを被せた状態で、減圧溝内が減圧される。そうすると、カバーとステージの突き合せ面間に減圧によるバキューム力が生じ、このバキューム力によりカバーとステージが互いに引き寄せられ、シール部材を介するカバーとステージの密着性が向上する。
本発明にあっては、以下の作用効果を奏する。
(1)チャンバ内が陽圧となる場合でも、カバーとステージの突き合せ面間をシールすることができ、利用範囲の広い処理チャンバ装置を提供しうる。これは、本発明では、減圧溝内の減圧によるバキューム力によりシール部材を介してカバーとステージが密着するためである。
(2)シール部材自身のメカニカルシール性能が元々低い場合でも、カバーとステージとの突き合せ面間を効果的にシールすることができる。これは、本発明では、上記のような突き合せ面間が2本以上のシール部材で多重にシールされることと、これらのシール部材間に減圧され低圧となる減圧溝があり、この低圧化した減圧溝内にリークガスが吸い込まれることによるものである。
(3)2以上のシール部材のいずれかがシール不完全の状態となってもチャンバ内のガスが外部に漏れることはない。これは、本発明では、減圧溝の減圧によりシール部材間が減圧されるためである。
(1)チャンバ内が陽圧となる場合でも、カバーとステージの突き合せ面間をシールすることができ、利用範囲の広い処理チャンバ装置を提供しうる。これは、本発明では、減圧溝内の減圧によるバキューム力によりシール部材を介してカバーとステージが密着するためである。
(2)シール部材自身のメカニカルシール性能が元々低い場合でも、カバーとステージとの突き合せ面間を効果的にシールすることができる。これは、本発明では、上記のような突き合せ面間が2本以上のシール部材で多重にシールされることと、これらのシール部材間に減圧され低圧となる減圧溝があり、この低圧化した減圧溝内にリークガスが吸い込まれることによるものである。
(3)2以上のシール部材のいずれかがシール不完全の状態となってもチャンバ内のガスが外部に漏れることはない。これは、本発明では、減圧溝の減圧によりシール部材間が減圧されるためである。
以下、本発明を実施するための最良の形態について、添付した図面を参照しながら詳細に説明する。
図1は本発明の一実施形態であるシール構造を適用した処理チャンバ装置の断面図、図2は図1の処理チャンバ装置におけるリングシールの形状、およびリングシールと減圧溝との位置関係の説明図である。
図1の処理チャンバ装置1は、被処理基板Wが載置されるステージ2と、このステージ2上の被処理基板Wに被せられるカバー3を有している。
カバー3は天板部4とスカート部5から構成されている。天板部4は、円板状に形成され、スカート部5は、天板部4の外周縁から下向きに垂れ下がるように形成されるとともに、天板部4の外周縁に沿って筒状に形成されている。そして、カバー3はステージ2上の被処理基板Wに被せられるが、このとき、当該カバー3はそのスカート部5の下端面5aがステージ2の表面2aと突き合わされる。このようなカバー3の突き合わせセット状態を示したものが図1である。
図1のようにカバー3をステージ2上にセットすると、そのカバー3とステージ2により、スカート部5の長さ相当の高さを有するチャンバ1−1が形成される。このカバー3内側のチャンバ1−1は、有毒な液体あるいはガスを用いて処理が行なわれるため外界と遮断する必要のある処理、例えばフッ酸を用いた半導体ウエハ表面のVPD処理などのプロセス処理を行なう空間として利用される。尚、このチャンバ1−1内で使用されるプロセスガスは、カバー3の導入口3−1からチャンバ1−1内に導入される。また、チャンバ1−1内に導入されたガスは、ステージ2の排気口2−1を介してチャンバ1−1外へ排気される。
上記チャンバ1−1の利用形態との関係より、この図1の処理チャンバ装置1では、ステージ2上の被処理基板Wにカバー3を被せたときの該カバー3とステージ2の突き合せ面間、すなわちカバー3のスカート部下端面5aとこれに対向するステージ表面2aとの間に、2つのシール部材6が設けられる構造を採っている。
2つのシール部材6は、図2のように径の異なる内外2重のリングシール6−1、6−2(例えばOリング)から構成されている。この2つのリングシール6−1は、いずれもスカート部2の筒周方向に沿ってリング状に形成されている。
図1のようにカバー3をステージ2上の被処理基板に被せたとき、上記内外2重のリングシール6−1、6−2は、カバー3とステージ2の突き合せ面間、すなわちカバー3のスカート部下端面5aとこれに対向するステージ表面2aとの間に介在する。
尚、上記内外2重のリングシールのうち、内側リングシール6−1の径は、スカート部2の内径より少し大きく設けられ、外側のリングシール6−2は、スカート部2の外径より少し小さく設けられている。
また、上記2つのリングシール6−1、6−2は、それぞれの図示しないリングシール装着溝に嵌め込み装着されている。尚、本実施形態では、このリングシール装着溝は、それぞれのリングシール6−1、6−2のリング形状に合わせて、カバー3のスカート部下端面5aに穿設されている。
さらに、本実施形態では、カバー3とステージ2の突き合せ面間に、減圧溝8が設けられる構造を採っている。この減圧溝8は、図2のように上記内外2重のリングシール6−1、6−2間に位置し、かつ、ステージ表面2a側に環状に形成されている。そして、図1のようにカバー3をステージ2上の被処理基板Wに被せたとき、この減圧溝8は、その溝上面8a側がスカート部5の下端面5aで完全に覆われる構造となっている。
更に、ステージ2には減圧孔9が形成されている。この減圧孔9の一端側は、上記減圧溝8底面から減圧溝8内部に開口し、同減圧孔9の他端側は、真空ポンプ10の吸入口側に接続されている。この真空ポンプ10は、減圧溝8内の圧力を減圧するための公知の減圧手段であり、真空ポンプ10が作動すると、その排気動作により、減圧溝8内の気体(空気)が減圧孔9を介して真空ポンプ10内に吸い込まれ、これにより、減圧溝8内が減圧される。尚、真空ポンプ10内に吸い込まれた気体は、同真空ポンプ10の排気口から酸排気ダクト11を介して図示しない酸処理装置側へ送られる。
次に、上記の如く構成された本実施形態の処理チャンバ装置1の使用方法と動作について図1と図3を基に説明する。
本実施形態の処理チャンバ装置1を使用する際は、まず図1に示すステージ2上のカバー3を取り外す(図3のステップ100)。このとき、減圧溝8内は減圧されない。
次に、図1のようにステージ2上の所定の位置に被処理基板Wをセットする(図3のステップ200)。例えば、チャンバ1−1内で半導体ウエハ表面のフッ酸によるVPD処理を行なう場合は、半導体ウエハが被処理基板Wとしてステージ2上の所定の位置にセットされる。
そして、ステージ2上への被処理基板Wのセットが完了すると、前記ステップ1で取り外したカバー3を図1のようにステージ2上の被処理基板Wに被せる(図3のステップ300)。
このとき、カバー3のスカート部下端面5aは2つのリングシール6−1、6−2上に配置される。そして、両リングシール6−1、6−2はカバー3の自重により押圧されて多少弾性変形し、この状態で両リングシール6−1、6−2がカバー3のスカート部下面5aに密着し、カバー3とステージ2の突き合せ面間が2つのリングシール6−1、6−2で多重にシールされる。
次に、減圧溝8内の減圧が行なわれる(図3のステップ400)。この減圧作業は真空ポンプ10を作動させればよい。真空ポンプ10が作動すると、減圧孔9を介して減圧溝10内の気体が真空ポンプ10側に吸入され、これにより減圧溝8内が減圧される。
減圧溝8内が減圧されると、カバー3とステージ2の突き合せ面間、具体的にはカバー3のスカート部下面5a側に、減圧によるバキューム力が生じ、このバキューム力によりカバー3とステージ2が互いに引き寄せられ、リングシール6−1、6−2を介するカバー3とステージ2の密着性が高まる。
上記のような減圧が完了すると、チャンバ1−1内が気密に保たれ、チャンバ1−1内で所定の処理を開始することが可能となる(図3のステップ500)。
ところで、本実施形態の処理チャンバ装置1によると、突き合せ面間が内外2重のリングシール6−1、6−2で多重にシールされることと、これらのリングシール6−1、6−2間に減圧され低圧となる減圧溝8があり、この低圧化した減圧溝8内にリークガスが吸い込まれるから、例えば、リングシール6−1、6−2自身のメカニカルシール性能が元々低い場合でも、カバー3とステージ2との突き合せ面間を効果的にシールすることができる。尚、この減圧溝8への吸い込み効果は特にチャンバ1−1内と減圧溝8内の圧力差が大きい場合に有効である。
また、本実施形態の処理チャンバ装置1によると、減圧溝8の減圧によりリングシール6−1、6−2間が減圧されるため、いずれか一方のリングシールがシール不完全の状態となってもチャンバ1−1内のガスが外部に漏れることはない。
さらに、本実施形態の処理チャンバ装置1によると、減圧溝8内の減圧によるバキューム力によりリングシール6−1、6−2を介してカバー3とステージ2が密着する構造を採っているため、チャンバ1−1内が陽圧となる場合でも、カバー3とステージ2の突き合せ面間をシールすることができる。
上記実施形態においては、2本のシール部材6の一例として、径の異なる2つのリングシール6−1、6−2を内外2重に配置した例について説明したが、このようなシール部材6は必要に応じて2本以上設けることもできる。
カバー3については、図1に示した形状のものに限定されることはなく、例えば半球体のドーム形状のように、カバーを構成する天板部とこの天板部の外周縁に沿って形成された筒状のスカート部とが滑らかな曲線で連続的に形成されるものでもよい。
上記実施形態では、リングシール6−1、6−2をカバー3側に設けたが、これに代えて、そのリングシール6−1、6−2をステージ2側に設けてもよい。また、上記実施形態では、減圧溝8や減圧孔9をステージ2側に設けたが、これに代えて、その減圧溝8や減圧孔9をカバー3側に設けてもよい。
1 処理チャンバ装置
1−1 チャンバ
2 ステージ
2a ステージの表面
2−1 排気口
3 カバー
3−1 導入口
4 天板部
5 スカート部
5a スカート部の下端面
6 シール部材
6−1 内側リングシール
6−2 外側リングシール
8 減圧溝
9 減圧孔
10 真空ポンプ(減圧手段)
11 酸排気ダクト
1−1 チャンバ
2 ステージ
2a ステージの表面
2−1 排気口
3 カバー
3−1 導入口
4 天板部
5 スカート部
5a スカート部の下端面
6 シール部材
6−1 内側リングシール
6−2 外側リングシール
8 減圧溝
9 減圧孔
10 真空ポンプ(減圧手段)
11 酸排気ダクト
Claims (1)
- ステージ上の被処理基板にカバーを被せ、このカバーと上記ステージとにより形成されるカバー内側のチャンバ内で上記ステージ上の被処理基板をプロセス処理する処理チャンバ装置のシール構造において、
上記ステージ上の被処理基板にカバーを被せたときの該カバーと上記ステージとの突き合せ面間に、2本以上のシール部材と、これらのシール部材間に位置する減圧溝とが設けられる構造と、
上記減圧溝に一端を開口した減圧孔と、
上記減圧孔を介して上記減圧溝内を減圧する減圧手段とからなること
を特徴とする処理チャンバ装置のシール構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004146534A JP2005325973A (ja) | 2004-05-17 | 2004-05-17 | 処理チャンバ装置のシール構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004146534A JP2005325973A (ja) | 2004-05-17 | 2004-05-17 | 処理チャンバ装置のシール構造 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Country Status (1)
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-
2004
- 2004-05-17 JP JP2004146534A patent/JP2005325973A/ja active Pending
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