JP6198305B2 - 荷電粒子線装置 - Google Patents

荷電粒子線装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6198305B2
JP6198305B2 JP2013154097A JP2013154097A JP6198305B2 JP 6198305 B2 JP6198305 B2 JP 6198305B2 JP 2013154097 A JP2013154097 A JP 2013154097A JP 2013154097 A JP2013154097 A JP 2013154097A JP 6198305 B2 JP6198305 B2 JP 6198305B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample chamber
chamber
charged particle
particle beam
sample
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013154097A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2015026462A (ja
Inventor
智隆 柴崎
智隆 柴崎
中川 周一
周一 中川
英輔 上出
英輔 上出
泰 海老塚
泰 海老塚
高橋 正和
正和 高橋
真志 藤田
真志 藤田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi High Technologies Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi High Technologies Corp filed Critical Hitachi High Technologies Corp
Priority to JP2013154097A priority Critical patent/JP6198305B2/ja
Publication of JP2015026462A publication Critical patent/JP2015026462A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6198305B2 publication Critical patent/JP6198305B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明は、荷電粒子線装置に係り、特に真空試料室に試料を導入する前に試料が存在する雰囲気を真空排気する予備排気室を備えた荷電粒子線装置に関する。
半導体検査・計測に用いられる走査電子顕微鏡に代表される荷電粒子線装置には高分解能が求められるため、高真空中での荷電粒子線照射が必要となる。これらの荷電粒子線装置には、予備排気室が設けられており、真空試料室の高真空状態を維持した状態において、予備排気室と真空試料室との間の試料交換を可能としている。予備排気室を設けることによって、真空試料室の真空を破ることなく、試料交換が可能となるため、装置の高スループット化を実現することが可能となる。
なお、予備排気室(ロードロックチャンバ)は、試料交換の都度、真空排気と大気導入を繰り返し、この際、外部との気圧差が変化することになるため、予備排気室の上面、下面、或いは側面が変形する。特許文献1には、予備排気室の上蓋および下蓋と、側壁との間にスペーサを挿入することによって、予備排気室の封止部分からのリークや、バルブドアと予備排気室間の摩擦によって生ずる粒子の発生の抑制を実現するロードロックチャンバが開示されている。
特開2007−266576号公報(対応米国特許USP7,845,891)
走査電子顕微鏡等の荷電粒子線装置の主要構成部材は、予備排気室、試料室および電子光学系を備えた鏡筒である。予備排気室および試料室は、試料搬送用の開口部を備えており、開口部を有する側面同士が接続されている。大気中の試料を搬入する際は、一旦、予備排気室を大気状態にするため、試料室との圧力差により、予備排気室と試料室との接続面が、試料室に向かって変形する。これによって生じる接続面(側壁)の変形は、試料室の上面、底面を変形させ、鏡筒の位置を変化させてしまう可能性がある。この変形等が観察中に生じると、荷電粒子線の照射位置が変化するため、観察画像がシフトする。画像のシフトが生じている間は、高精度な観察が困難となる。真空排気や大気導入を行っている間は、荷電粒子ビームの照射に基づく測定や検査等を行わないようにすることも考えられるが、待ち時間の増加によって装置のスループットが低下する。
特許文献1は、予備排気室の側壁および接続面の変形を志向しておらず、画像のシフトを低減する効果は期待できない。
以下に、予備排気室の圧力変化に伴う接続面の変形を抑制し、荷電粒子ビームのシフトを低減することを目的とする荷電粒子線装置について説明する。
上記目的を達成するための一態様として以下に、荷電粒子ビームが照射される試料をとりまく空間を真空状態に維持する試料室と、当該試料室に導入する試料をとりまく空間を真空排気する予備排気室を備えた荷電粒子線装置であって、前記試料室側の前記予備排気室の壁である前記第1の試料室側側壁が、当該試料室と離間するように形成され、当該第1の試料室側側壁と前記試料室との間に位置すると共に、当該第1の試料室側側壁に対して離間して形成される第2の試料室側壁と、前記試料室との間を封止する真空封止材を備えた荷電粒子線装置を提案する。
また、上記目的を達成するための他の態様として以下に、荷電粒子ビームが照射される試料をとりまく空間を真空状態に維持する試料室と、当該試料室に導入する試料をとりまく空間を真空排気する予備排気室を備えた荷電粒子線装置であって、前記試料室側の前記予備排気室の壁である試料室側側壁が、当該試料室と離間するように形成され、前記試料室側側壁と前記試料室との間に、当該試料室側側壁に対し間隙を設けつつ配置される連結部材と、当該連結部材と前記予備排気室との間であって、前記間隙が設けられた部位とは異なる位置に、前記連結部材と前記予備排気室との間を封止する真空封止材を備えた荷電粒子線装置を提案する。
上記構成によれば、第1の試料室側側壁と第2の試料室側側壁の間の間隙、或いは連結部材と予備排気室との間の間隙が、予備排気室の変形を吸収するため、試料室の変形を抑制でき、荷電粒子ビームのシフトを抑制することが可能となる。また、予備排気室と試料室との間に間隙を設けつつも、予備排気時の予備排気室内の真空状態を維持することが可能となる。
荷電粒子線装置の一例を示す図。 試料室に予備排気室を組み付けした例を示す図。 予備排気室の真空排気によって、予備排気室と試料室が変形する例を示す図。 予備排気室を大気状態としたときの予備排気室と試料室の変形例を示す図。 予備排気室の変形を吸収する隙間を設けた荷電粒子線装置の一例を示す図。 予備排気室の変形を吸収する間隙を形成するためのスリット部材(連結部材)を予備排気室と試料室との間に設けた荷電粒子線装置の一例を示す図。 予備排気室の変形を許容する間隙を形成するためのスリット部材の詳細説明図。 予備排気室、試料室、及びスリット部材の組み付け法を示す図。 筒状連結部材を予備排気室と試料室との間に配置した荷電粒子線装置の一例を示す図。 筒状連結部材を設置するための空間を、予備排気室と試料室に設けた例を示す図。 筒状連結部材の詳細を説明する図。 筒状連結部材の組み付け法を説明する図。 筒状連結部材と試料室を一体成型した荷電粒子線装置の一例を示す図。 2つの連結部材を設けた荷電粒子線装置の一例を示す図。
以下に説明する実施例は、予備排気室を備えた荷電粒子線装置に係り、予備排気室の変形によらず、正確な位置にビーム照射を行う荷電粒子線装置に関するものである。その一例として、常時真空状態の試料室と、真空状態と大気状態に切り換えることが可能な予備排気室と、光学系を有する鏡筒とを備え、前記予備排気室および試料室の接続面に形成された隙間により、ネジ締結部周辺以外では金属同士の接触がなく、さらに前記予備排気室の接続面と予備排気室内の内壁面の間にスリットを形成することで、予備排気室の圧力変化に伴う接続面の変形を抑制し、画像のシフトを低減することを特徴とする荷電粒子線装置について説明する。
上述のような構成によれば、予備排気室の圧力変化に伴う接続面の変形を抑制する。これにより画像のシフトを低減し、待ち時間を短縮することで、装置のスループット向上の実現が可能となる。以下、他の実施例も含め、図面を用いて予備排気室を備えた荷電粒子線装置を詳細に説明する。
図1は荷電粒子線装置の概要を示す図である。本装置は、予備排気室100、試料室200および鏡筒300で構成されている。試料室200は、荷電粒子ビームが照射される試料をとりまく空間を真空状態に維持するためのものであり、予備排気室100は、試料室200に導入する試料をとりまく空間を真空排気するためのものである。
以下、予備排気室100と試料室200の具体的な構成を説明する。上記予備排気室100および試料室200は、図2に示すように互いの試料搬送口101、201を対向させて、ネジ108により固定される。
接続面102、202の間にはOリング103が取り付けられている。予備排気室100には、バルブ104、105が設けられている。バルブ104は、予備排気室100を大気状態にしても、試料室200の真空を維持する。バルブ105は、予備排気室100への試料204の搬入・搬出を可能とする。予備排気室100は、真空ポンプ106により真空排気され、リークバルブ107により大気解放される。試料室200は、真空ポンプ205により常時真空排気される。上記構成により、試料室200での観察と、予備排気室100での試料204の搬入・搬出を同時に行うことが可能となる。
しかし、観察中に予備排気室100内の圧力が変化すると、図3〜4に示すように接続面102、202が変形する。特に接続面202の変形は、試料室200の上面、ステージ203、鏡筒300を変形させる。この変形が観察中に生じることで、荷電粒子線302の照射位置が変動し、画像がシフトする。
以下、ビームシフトを抑制し得る荷電粒子線装置の具体例を説明する。
図5は、予備排気室100の変形を吸収するための間隙を設けるために、予備排気室100の試料室200側の側壁を離間した2つの壁とした例を示す図である。本例では、接続面102と接続面202の接触面積を低減するための隙間110が形成されている。これにより、予備排気室100と試料室200の間で、ネジ締結部周辺とOリング103以外の接触はない。また、接続面102と内壁面109の間に、スリット111が形成されている。その他の構成は、図1、2で説明した装置構成と同じである。
隙間110の作用は、予備排気室100のスリット外壁112が変形しても、接続面202の変形を抑制することが可能である。スリット内壁113は圧力差により試料室200へ向かって変形するが、スリット外壁112は、スリット111が常時真空状態であるので、予備排気室100の圧力状態にかかわらず変形を生じにくい。これにより、圧力変化に伴うOリング103の変形を抑制することができ、接続面202に伝わる力を低減することが可能となる。言わば、スリット内壁113(第1の試料室側側壁)と、スリット外壁112(第2の試料室側側壁)が一部の接続部以外、離間して形成されているため、その間の間隙(スリット111)がスリット内壁113の変形を吸収し、スリット内壁113の変形を試料室200に及ぼさないという効果が期待できる。また、側壁を2層構造とし、一方を、変形を吸収する間隙を形成するための壁、他方を試料室との間でシール材を設けるための壁とすることによって、間隙を設けつつも試料室内の高真空を維持するためのシール材の設置を可能とした。上記構造は、接続面202の変形を抑制し、画像シフトの低減を可能とする。
なお、予備排気室100の試料室側側壁を2層構造にする代わりに、別のスリット部材400を組付けることで、スリット111に相当する空間を作製することが可能である。図6にその一例を示す。図5の例と異なり、予備排気室100の試料室側側壁は1層構造であるが、スリット材400を第2の試料室側側壁とすることによって、図5に示す例と同等の効果を実現している。なお、スリット材400は予備排気室100と試料室200との間で、その間に配置された部材間を連結するように配置されているため、以下、連結部材と称することもある。図7にスリット部材400の詳細を示す。スリット部材400は、隅部に通し穴401が設けられており、ネジ108により予備排気室100および試料室200の間に固定が可能である。また、予備排気室100および試料室200間での試料交換のため、試料搬送口402が形成されている。シール面405、406には、Oリング407、408がそれぞれ取り付けられている。隙間404は、試料室200とスリット部材400を接続した際に、図5の隙間110に相当する空間を形成する。ザグリ403は、図5のスリット111に相当する空間を形成するために、スリット部材400の予備排気室側に設けられる。この時、ザグリ403の寸法Ds1をOリング408の寸法Do1より大きくし、ザグリ403の寸法Ds2をOリング408の寸法Do2よりも大きくする。これにより、スリット部材400が形成する側壁409は、圧力差による変形が少なくなる。
図8は、予備排気室100、試料室200およびスリット部材400の組付けを示した(a)側面図および(b)平面図を示す。
スリット部材400の予備排気室100側の面には、予備排気室内壁の変形を許容するザグリ403と、シール材としてのOリングが設けられている。このように変形が大きい側壁中心にザグリを設け、それとは異なる側壁縁部側にOリングを設置することで、高真空維持とビームシフト抑制の両立が可能となる。また、スリット部材400と試料室200との間には間隙が設けられ、その間隙にはOリングが配置される。
図9は、上記連結部材の他の構成例を示す図である。図9の荷電粒子線装置は、予備排気室100、試料室200およびこれらの間に配置される筒状体500で構成される。この筒状の連結部材である筒状体500は、予備排気室内空間と試料室内空間を連結するものであって、試料室側にフランジを有し、フランジ部と試料室内壁との間、及び筒状体500外周部と予備排気室100の試料通過開口内周部との間には、それぞれOリングによる真空封止処理が施されている。また、筒状体500の予備排気室100側端部と、予備排気室100の筒状体500側面との間に間隙が設けられるように、筒状体500のフランジ面から筒状体500の予備排気室100側端部までの寸法は、試料室200内壁と、予備排気室100の試料室側外壁の筒状体500に対向する面との間の寸法より短くなるように構成されている。本例では、Oリングは間隙とは異なる位置である筒状体500の外周部に設けられている。
図10は、筒状体500が挿入される予備排気室100のザグリ114周囲の詳細を示す図である。本例でも隙間110を設けることで、接続面202の変形を抑制する。試料搬送口101には、筒状体500を挿入するためのザグリ114が形成されている。試料室200の内壁には、筒状体500を固定するためのネジ孔209が設けられている。
図11に筒状体500の詳細を示す。筒状体500には、フランジが設けられ、試料搬送を行うための試料搬送口501が形成されている。接続面502には、通し穴503が設けられており、試料室200内壁への固定が可能となっている。接続面502と外周面504には、Oリング116とOリング117がそれぞれ取り付けられている。Oリング117は、ザグリ114の内周面115と筒状体500の外周面504の間に挟み込まれる。これにより、予備排気室100が大気状態へ変化した場合、予備排気室100側壁が試料室200に向かって変形しても、Oリング117が試料室200方向へ及ぼす力は小さくなる。
図12は、予備排気室100、試料室200および筒状体500の組付けを示した(a)側面図および(b)平面図である。筒状体500は、予備排気室100へ取り付けるような構造としても良い。その際の効果は上記したものと同等である。
また、筒状体を図13に例示するように、試料室と一体成型することもできる。本構造は、試料搬送口201に筒状部207が形成されており、これにより筒状体500と同等の効果が期待できる。このような筒状部を予備排気室100側に設けても良い。
また、図14に示すように、図6と図9に例示した構造を組み合わせることによって、接続面の変形を更に抑制することが可能となる。
100 予備排気室、101 試料搬送口、102 接続面、103 Oリング、104 バルブ、105 バルブ、106 真空ポンプ、107 リークバルブ、108 ネジ、109 内壁面、110 隙間、111 スリット、112 スリット外壁、113 スリット内壁、114 ザグリ、115 ザグリ内周面、116 Oリング、117 Oリング、200 試料室、201 試料搬送口、202 接続面、203 ステージ、204 試料、205 真空ポンプ、206 接続面、207、筒状部、208 外周面、209 ネジ孔、300 鏡筒、302 フィラメント、303 荷電粒子線、400 スリット部材、401 通し穴、402 試料搬送口、403 ザグリ、404 隙間、405 シール面、406 シール面、407 Oリング、408 Oリング、409 側壁、500 筒状体、501 試料搬送口、502 接続面、503 通し穴、504 外周面、505 ネジ

Claims (13)

  1. 荷電粒子ビームが照射される試料をとりまく空間を真空状態に維持する試料室と、当該試料室に導入する試料をとりまく空間を真空排気する予備排気室を備えた荷電粒子線装置において、
    前記試料室側の前記予備排気室の壁である第1の試料室側側壁が、当該試料室と離間するように形成され、当該第1の試料室側側壁と前記試料室との間に位置すると共に、当該第1の試料室側側壁に対して離間し、且つ間隙を設けつつ形成される第2の試料室側壁と、前記試料室との間を封止する真空封止材を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
  2. 請求項1において、
    前記第2の試料室側側壁は、前記試料室の側壁に対して離間して配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。
  3. 請求項1において、
    前記真空封止材は、Oリングであることを特徴とする荷電粒子線装置。
  4. 荷電粒子ビームが照射される試料をとりまく空間を真空状態に維持する試料室と、当該試料室に導入する試料をとりまく空間を真空排気する予備排気室を備えた荷電粒子線装置において、
    前記試料室側の前記予備排気室の壁である試料室側側壁が、当該試料室と離間するように形成され、前記試料室側側壁と前記試料室との間に、前記試料室側側壁に対し間隙を設けつつ配置される第1の連結部材と、当該連結部材と前記予備排気室との間であって、前記間隙が設けられた部位とは異なる位置に、前記連結部材と前記予備排気室との間を封止する第1の真空封止材を備えたことを特徴とする荷電粒子線装置。
  5. 請求項4において、
    前記第1の連結部材の前記予備排気室側には、前記間隙を形成するザグリが設けられ、前記第1の連結部材の予備排気室側面であって、前記ザグリが形成された個所以外の位置と前記予備排気室との間に前記第1の真空封止材が配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。
  6. 請求項5において、
    前記第1の連結部材は、前記試料室に対し、離間して配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。
  7. 請求項6において、
    前記第1の連結部材の試料室側面と前記試料室との間に、第2の真空封止材が配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。
  8. 請求項4において、
    前記第1の連結部材の開口内に、当該開口と前記試料室を連結する第2の連結部材を備え、当該第2の連結部材と前記第1の連結部材の間、及び前記第2の連結部材と前記試料室との間に真空封止材が配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。
  9. 請求項4において、
    前記第1の連結部材は、前記予備排気室内空間と、前記試料室内空間を連結する筒状体であることを特徴とする荷電粒子線装置。
  10. 請求項9において、
    前記予備排気室の試料室側側壁には、前記第1の連結部材が挿入されるザグリが設けられ、当該ザグリ内壁と前記第1の連結部材との間に、当該第1の連結部材を包囲するように、前記第1の真空封止材が配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。
  11. 請求項10において、
    前記第1の連結部材の試料室側端部にはフランジが設けられ、当該フランジと前記試料室の予備排気室側側壁の内壁との間に第2の真空封止材が配置されることを特徴とする荷電粒子線装置。
  12. 請求項10において、
    前記第1の連結部材は、前記試料室と一体成型されていることを特徴とする荷電粒子線装置。
  13. 請求項4において、
    前記第1の真空封止材は、Oリングであることを特徴とする荷電粒子線装置。
JP2013154097A 2013-07-25 2013-07-25 荷電粒子線装置 Active JP6198305B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013154097A JP6198305B2 (ja) 2013-07-25 2013-07-25 荷電粒子線装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013154097A JP6198305B2 (ja) 2013-07-25 2013-07-25 荷電粒子線装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015026462A JP2015026462A (ja) 2015-02-05
JP6198305B2 true JP6198305B2 (ja) 2017-09-20

Family

ID=52490983

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013154097A Active JP6198305B2 (ja) 2013-07-25 2013-07-25 荷電粒子線装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6198305B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210028079A (ko) 2019-09-03 2021-03-11 주식회사 히타치하이테크 하전 입자선 장치

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017520015A (ja) * 2014-05-07 2017-07-20 マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. ターゲット処理マシン用囲い

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3455072B2 (ja) * 1997-07-31 2003-10-06 株式会社東芝 荷電ビーム描画装置及び方法
JP2007294850A (ja) * 2006-03-30 2007-11-08 Tokyo Electron Ltd 静電偏向器及び電子線照射装置及び基板処理装置及び基板処理方法及び基板の製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210028079A (ko) 2019-09-03 2021-03-11 주식회사 히타치하이테크 하전 입자선 장치
US11380515B2 (en) 2019-09-03 2022-07-05 Hitachi High-Tech Corporation Charged particle beam device
TWI772836B (zh) * 2019-09-03 2022-08-01 日商日立全球先端科技股份有限公司 帶電粒子線裝置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015026462A (ja) 2015-02-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR200491849Y1 (ko) 슬릿 밸브 도어들을 구비한 로드 락 챔버
US6764265B2 (en) Erosion resistant slit valve
KR101867125B1 (ko) 게이트 밸브 및 기판 처리 장치
KR101204160B1 (ko) 진공 처리 장치
JP6198305B2 (ja) 荷電粒子線装置
CN107611054B (zh) 反应腔室
JP5190387B2 (ja) 真空装置及び基板処理装置
JPWO2009107495A1 (ja) シール材およびシール材が装着されたゲートバルブ
CN111048434B (zh) 用于调节面板变形的调节机构、和电子束检测设备
JP2015230064A (ja) ゲートバルブ
KR101643627B1 (ko) 반도체 제조용 격리 밸브의 리크 프루프 디바이스
JP2011153846A (ja) X線検出装置
CN106716099A (zh) 具有限位结构的薄膜腔
KR20080047815A (ko) 상부 및 하부 챔버를 구비하는 기판 처리 장치
US20120145724A1 (en) Vacuum container
JP2008082391A (ja) 真空チャンバ
JP5514893B2 (ja) ゲートバルブのシール構造
JP2015073066A (ja) ロードロック装置
JP5353555B2 (ja) 電子線装置
KR101168910B1 (ko) 갈림방지구조를 갖는 챔버
JP2005325973A (ja) 処理チャンバ装置のシール構造
KR100926114B1 (ko) 열 진공 챔버 장치
KR20230145085A (ko) 이중 진공 밀봉
TW202111755A (zh) 帶電粒子線裝置
JP2002368057A (ja) 真空処理装置用ロードロック室

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160606

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160606

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20170116

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20170123

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170228

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170421

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170725

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170821

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6198305

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350