JP2015230064A - ゲートバルブ - Google Patents

Abstract

【課題】ラジカルによるシール部材の劣化を抑制することができると同時に、アリ溝からのシール部材の脱落をも防止することが可能なゲートバルブを提供する。【解決手段】シール部材９を装着するためのシール溝１０を、横断面が矩形の第１溝部１１と、該第１溝部１１の底壁１１ａに開設された横断面がアリ溝状の第２溝部１２とにより形成し、前記シール部材を、その一部を前記第１溝部に突出させた状態で前記第２溝部に保持させると共に、その全体を前記シール溝内に収容し、該シール溝に対し挿抜してシール部材に接離させる弁座７を、ゲート開口部２が開設された隔壁の内面３ｃに凸設した。【選択図】図３

Description

本発明は、半導体処理装置や液晶処理装置などの処理装置におけるプロセスチャンバとトランスファチャンバの間に設けられ、該プロセスチャンバとトランスファチャンバとを結ぶゲート開口部を開閉するためのゲートバルブに関するものである。

ゲートバルブとは、例えば、真空引きされてプロセスガスが導入されたプロセスチャンバ内において、半導体ウエハや液晶基板等の被処理物をに対しフッ素（Ｆ）や酸素（Ｏ）等のラジカルによりエッチング等の処理を行う処理装置に用いられるもので、前記チャンバ内に被処理物を搬入出する際に前記ゲート開口部を開き、前記チャンバ内でのプロセス処理時に該ゲート開口部を気密に閉塞する役割を有している。そして、この種のゲートバルブは、弁板に形成された環状のアリ溝内にＯリング等のシール部材を装着し、該シール部材を前記ゲート開口部の周囲に設けられた弁座に対し接離させることにより、該ゲート開口部を開閉するように構成されているのが一般的である。

ところで、このような構成を備えたゲートバルブにおいては、プロセス処理時に密閉されたチャンバ内で発生したラジカルが、前記弁板と前記ゲート開口部が開設された側壁との間隙を通じて前記シール部材に作用すると、該シール部材の劣化が早まったりパーティクルが発生したりすることが知られている。そして、このラジカルによるシール部材の劣化等を抑制しようとするものとしては、例えば、特許文献１及び特許文献２が挙げられる。
また、その一方で、ゲート開口部のより確実なシールを実現するためには、前記シール部材がアリ溝から脱落するのをより確実に防止するための対策も望まれる。

特開２００２−２１７１３７号公報 特開２００６−５００８号公報

本発明の技術的課題は、ラジカルによるシール部材の劣化を抑制することができると同時に、アリ溝からのシール部材の脱落をも防止することが可能なゲートバルブを提供することにある

前記技術的課題を解決するため、本発明に係るゲートバルブは、プロセスチャンバに接続するために隔壁に開設されたゲート開口部と、該ゲート開口部に接離して該ゲート開口部を開閉するための弁プレートとを有していて、前記隔壁における前記ゲート開口部の周囲には弁座が形成され、前記弁プレートが、該弁座に対応する位置にシール溝を備えて成る弁プレート本体と、該シール溝内に装着されたシール部材とを有しているゲートバルブであって、前記シール溝内に前記シール部材の全体が収容されており、前記弁座は、前記隔壁の内面から弁プレート方向に突設されていて、その先端に前記シール部材を接離させる弁座面を有すると共に、該シール溝の開口幅よりも小さい幅を有しており、前記弁プレートが前記ゲート開口部の密閉位置に在る時に、前記弁座の先端部分が前記シール溝内に挿入されて、該シール溝内で前記弁座面が前記シール部材に対し気密に当接するように構成されている。

本発明に係るゲートバルブの第１の実施形態では、前記シール溝は、前記弁プレート本体における前記ゲート開口部に対向するシール面に開口して深さ方向に均一な溝幅を有する第１溝部と、該第１溝部の底壁の略中央に開口して該第１溝部の溝幅よりも小さい開口幅を有するアリ溝状の第２溝部とから形成されており、前記シール部材が、前記第２溝部の開口幅よりも大きい幅と、該第２溝部の深さよりも大きい厚さとを有していて、その一部を前記第１溝部に突出させた状態で該第２溝部に装着されている。
なお、このとき、好ましくは、前記シール部材における第１溝部に突出させた部分の表面が凸曲面に形成されており、前記弁座面が平坦面に形成されている。
また、好ましくは、前記第１溝部の溝幅は、前記第２溝部の開口幅の２倍以下である。

そして、本発明に係るゲートバルブの第２の実施形態では、前記シール溝は、前記弁プレート本体における前記ゲート開口部に対向するシール面に開口して深さ方向に均一な溝幅を有する単一の凹溝から形成され、前記シール部材が、該凹溝内に装着されている。
なお、このとき、好ましくは、前記シール部材における前記弁座面と対向する表面が平坦面に形成され、前記弁座面が凸曲面に形成されている。

さらに、本発明に係るゲートバルブでは、前記弁プレートが前記ゲート開口部の密閉位置に在る時に、前記ゲート開口部における隔壁の内面側の開口縁と前記弁座の表面との両方に接する直線が、これら接点の間で前記弁プレート本体に接するか又はそれを横切っていることが望ましい。

このように、本発明に係るゲートバルブによれば、シール部材全体がシール溝内に常時収容されており、しかも、ゲート開口部の密閉時に、隔壁の内面から突設された弁座が前記シール溝内に挿入されて、前記シール溝内でシール部材に対し気密に当接した状態となるように構成されている。そのため、ゲート開口部の密閉時に、シール溝と弁座とによってシール部材が囲まれた状態となり、ゲート開口部側から弁プレートと隔壁との間隙に進入したラジカルの大部分が、該弁プレート、隔壁又は弁座への衝突を繰返してシール部材への到達を阻止され、その結果、ラジカルによる該シール部材の劣化を抑制することができる。しかも、該シール部材がシール溝から脱落するのも同時に防止することが可能となる。
特に、請求項６に係るゲートバルブによれば、ラジカルがゲート開口部から直接シール部材に到達するのを抑制することができるため、ラジカルによるシール部材の劣化をより確実に防止することが可能となる。

本発明の第１実施形態に係るゲートバルブにおいて、弁プレートがゲート開口部から垂直方向に離間した中間位置に在る状態を示す概略的な断面図である。 本発明の第１実施形態に係るゲートバルブにおいて、弁プレートがゲート開口を気密に閉塞した密閉位置にある状態を示す概略的な断面図である。 （ａ）は、図１におけるＡ部分の拡大図であり、（ｂ）は、図２におけるＢ部分の拡大図である。 本発明の第２実施形態に係るゲートバルブの要部拡大断面図であって、（ａ）は、弁プレートがゲート開口部から垂直方向に離れた中間位置に在る状態を示しており、（ｂ）は、弁プレートがゲート開口を気密に閉塞した密閉位置にある状態を示している。

図１、図２及び図３に基づいて、本発明に係るゲートバルブの第１実施形態について説明する。このゲートバルブ１は、図示しないプロセスチャンバに接続するためのゲート開口部２が開設された略直方体で中空の弁箱３と、該弁箱３内に配された弁プレート４と、該弁プレート４が先端部に固定され、前記弁箱３を貫通して基端部が該弁箱３外へと延出された弁シャフト５と、前記弁プレートを移動させて前記ゲート開口部２を開閉するために、該弁シャフト５の基端部に連結された弁移動機構６０とを有している。そして、図示しないエアシリンダ等の駆動部で前記弁移動機構６０を駆動させることにより、前記弁プレート４を、ゲート開口部２を全開にする図１の破線で示した全開位置と、該ゲート開口部２を気密に閉塞する図２に示した密閉位置との間で、前記ゲート開口部２と離間して対向する図１の実線で示した中間位置を通じて、往復移動させることができるようになっている。

前記弁箱３は、相対する前後の第１及び第２の隔壁３ａ，３ｂを有しており、それら隔壁のうちの第１隔壁３ａには前記ゲート開口部２が横に長い略矩形に開設され、第２隔壁３ｂにおける前記ゲート開口部２と対向する位置には背面開口部６が同じく略矩形に開設されている。そして、前記第１隔壁３ａの内面３ｃには、環状の弁座７が前記ゲート開口部２の周囲を取り囲むように形成されている。

その一方で、前記弁プレート４は、前記ゲート開口部２よりも縦横の寸法が大きな略矩形の板状に形成されて、該ゲート開口部２と対向する表面側に略平坦なシール面８ａを備えた弁プレート本体８と、該弁プレート本体８のシール面８ａに装着されて、該弁プレート４の移動に伴い前記弁座７の弁座面７ａに対し接離することにより、前記ゲート開口部２を開閉する環状のシール部材９とを有している。

このとき、上記弁プレート本体８は、その前記シール面８ａにおける前記弁座７に対応する位置に、前記シール部材９を嵌合して装着するための環状のシール溝１０を備えており、前記シール面８ａとは逆側の背面側において、適宜の固定具（図示略）により前記弁シャフト５に対し固定されている。
また、前記シール部材９は、ゴム等の弾性材（エラストマー）により一体に形成され、全周にわたって均一な断面を有している。同様に、該シール部材９を嵌合して装着するための前記シール溝１０も、全周にわたって均一な断面を有している。

上記弁移動機構６０は、前記弁箱３外において弁シャフト５の基端部側に固定されたブロック状のレバー部材６１と、該レバー部材６１の左右両側面に、前記弁シャフト５の軸に沿って固定された左右一対の第１及び第２のカムローラ６２ａ，６２ｂと、前記弁シャフト５の軸に沿って前記弁箱３に対し固定的に配置された左右一対の第１及び第２のガイドローラ６３ａ，６３ｂと、前記レバー部材の左右側面にそれぞれ対向する左右一対のカムプレート６４の端部同士を結合プレート６５で結合することにより形成されたカムフレーム６６とを有している。

前記カムプレート６４には、前記第１及び第２のカムローラ６２ａ，６２ｂをそれぞれ摺動自在に嵌合させるための第１及び第２のカム溝６７ａ，６７ｂと、前記第１及び第２のガイドローラ６３ａ，６３ｂを摺動自在に嵌合させるための１本のガイド溝６８が開設されている。
このとき、前記第１及び第２のカム溝６７ａ，６７ｂは、前記弁シャフト５の先端側から基端側に向かうにしたがって、前記ゲート開口部２側に向かって傾斜している。一方、前記ガイド溝６８は、前記弁シャフト５の軸に沿って直線状を成しており、その先端側に配された幅広の第１ガイド溝部６８ａと、その基端側に連続して配された幅狭の第２ガイド溝部６８ｂとにより形成されている。そして、前記第１ガイドローラ６３ａが前記第１ガイド溝部６８ａに摺動自在に嵌合され、前記第２ガイドローラ６３ｂが前記第２ガイド溝部６８ｂに摺動自在に嵌合されるようになっている。そのため、前記第１ガイドローラ６３ａは第２ガイドローラ６３ｂよりも大径に形成されている。

さらに、前記カムフレーム６６の連結プレート６５とレバー部材６１とは、コイルバネ等の弾性連結部材６９により弁シャフト５の軸方向（図中上下方向）及びそれと直交する方向（図中左右方向）に相対移動可能に連結されている。そして、前記カムフレーム６６の結合プレート６５が図示しない前記駆動部に連結され、該カムフレーム６６を前記弁シャフト５の軸方向に沿って往復動させることができるようになっている。

そこで、前記ゲートバルブの動作について図１及び図２に基づいて説明する。
まず、前記弁プレート４が図１の実線で示す中間位置に在る状態から、前記カムフレーム６６を前記弁シャフト５の基端方向（図中下方）に移動させると、該カムフレーム６６も前記ガイドローラ６３ａ，６３ｂ及びガイド溝６８によりガイドされて同方向に移動する。そのとき、該カムフレーム６６に連結されると共に前記弁シャフト５に固定されたレバー部材６１も、前記カムフレーム６６と一体となって同方向に移動する。そのため、前記各カムローラ６２ａ，６２ｂの各カム溝６７ａ，６７ｂ内における位置は変化しない。その結果、前記弁プレート４は、前記中間位置から弁シャフト５の軸に沿って前記レバー部材６１と同方向に変位し、図１の破線で示す全開位置へと移動する。

一方、前記弁プレート４が図１の実線で示す中間位置に在る状態から、前記カムフレームを前記弁シャフト５の先端方向（図中上方）に移動させると、この中間位置において前記レバー部材６１は図示しないストッパ機構により弁シャフト５の先端方向への移動を阻止された状態にあるため、図２に示すように、前記カムフレーム６６のみが、前記レバー部材６１との間に配された前記弾性連結部材６９を圧縮しながら、前記弁シャフト５の先端方向へと移動する。その際、前記各カムローラ６２ａ，６２ｂと共に前記レバー部材６１が、前記各カム溝６７ａ，６７ｂにガイドされ前記弾性連結部材６９を傾倒させながら、前記ゲート開口部２側へと変位していく。その結果、前記弁プレート４が前記弁シャフト５の軸と垂直を成して前記ゲート開口部２側へと変位し、前記シール部材９が前記弁座７に押し当てられることにより、前記ゲート開口部２が気密に閉塞される。

ところで、図３に示すように、この第１実施形態に係るゲートバルブ１において、前記弁プレート本体８に形成されたシール溝１０は、該弁プレート本体８の前記シール面８ａに開口する第１溝部１１と、該第１溝部１１の底壁１１ａに開口する第２溝部１２とにより形成されている。
前記第１溝部１１は、その横断面形状が矩形を成していて、その開口から底壁１１ａまでＨ１の深さを有し、その深さ方向全体にわたって均一な溝幅Ｗ１を有している。
ただし、本願において「矩形」とは、設計上又は製造上における技術常識の範囲で角部に曲面やテーパ面が形成されたもの等も含まれるものとし、よって、前記溝幅Ｗ１も、特に前記シール面８ａ及び底壁１１ａとの境界部分においては、厳密な均一性を要求されるものではない。

その一方で、前記第２溝部１２は、前記第１溝部１２の底部１２ａにおける幅方向の略中央に開設されていて、前記溝幅Ｗ１よりも小さい開口幅Ｗ２１を有しており、幅方向に対称を成したアリ溝状に形成されている。すなわち、該第２溝部１２は、前記深さ方向に向かって溝幅が拡大し、その深さ方向の略中央において最大幅Ｗ２２となるように形成されている。ここで、該第２溝部１２の深さＨ２は、前記第１溝部１１の深さＨ１よりも大きくなっており、該第２溝部１２の最大幅Ｗ２２は、前記第１溝部１１の溝幅Ｗ１よりも小さくなっている。ただし、第１溝部１１の溝幅Ｗ１は第２溝部１２の開口幅Ｗ２１の２倍よりも小さいことが望ましい。

前記シール部材９は、その横断面形状が円形を成すＯリングであって、その全体が前記シール溝内に収容された状態で装着されている。具体的には、該シール部材９は、その外周面を前記第２溝部１２の底壁１２ｂに当接させると共に、該第２溝部１２の互いに対抗する開口縁１２ａに係合させ、その一部を前記第１溝部１１内に突出させた状態で該第２溝部１２に装着されている。すなわち、このような装着状態において、該シール部材９における第１溝部１１に突出した部分の表面は凸曲面に形成されており、該シール部材９の厚さＨ３は、図２に示すように前記第１及び第２溝部１１，１２の深さＨ１，Ｈ２の和（シール溝の深さ）と等しいか、または、その和よりも小さく第２溝部１２の深さＨ２よりも大きくなっている。また、該シール部材の幅Ｗ３は、前記第２溝部１２の最大幅Ｗ２２よりも小さく、その開口幅Ｗ２１よりも大きくなっている。

前記弁座７は、前記第１隔壁３ａの内面３ｃ側における前記ゲート開口部２の開口縁２ａから距離Ｃの位置において、弁プレート４方向に向けて垂直に突設され、その横断面が幅Ｗ４で高さＨ４の矩形に形成されている。すなわち、該弁座７は、高さ方向に均一な幅Ｗ４と、幅方向に均一な高さＨ４を有しており、シール部材９が接離する前記弁座面７ａが、前記シール面８ａと平行を成す平坦面に形成されている。
このとき、該弁座７の中心は前記シール溝１０の中心と一致しており、該弁座７の幅Ｗ４は、前記シール溝１０の第１溝部の幅Ｗ１よりも小さく形成されている。

そこで、前記弁移動機構を６０を駆動させて、前記弁プレート４を図３（ａ）に示す前記中間位置から図３（ｂ）に示す密閉位置へと変位させると、前記弁座７が、その弁座面７ａをシール部材９に密接させて、該シール部材９を前記第２溝部１２内へと押圧し弾性変形させながら、前記シール溝１０の第１溝部１１へと挿入されていく。そして、この密閉状態においては、前記弁プレート本体８のシール面８ａと前記第１隔壁３ａの内面３ｃとの間に間隙Ｄが形成されており、前記弁座７の先端部分が第１溝部１１内に挿入されていて、該第１溝部１１内で前記弁座面７ａが前記シール部材９に対し気密に当接されている。

また、このとき、前記ゲート開口部２の開口縁２ａと前記弁座７の表面との双方に接する直線Ｌ１が、図３（ｂ）の二点鎖線でに示すように、これら接点２ａ，７ｂの間において前記弁プレート本体８を横切るか、又は該弁プレート本体８の表面に接するように構成されていると、前記ゲート開口部２を通じて、前記弁プレート本体８のシール面８ａと前記第１隔壁３ａの内面３ｃとの間に進入したラジカルＲが、直接的にシール部材９に到達するのを抑制することが可能となる。
なお、本実施形態における前記弁座７の高さＨ４は、前記間隙Ｄに前記シール溝１０の深さＨ１＋Ｈ２とシール部材の高さＨ３との差を加えたもの、すなわちＤ＋｛（Ｈ１＋Ｈ２）−Ｈ３｝よりも大きく形成されていれば良い。また、前記シール溝１０の開口幅Ｗ５Ｗ１は、前記弁座７の幅Ｗ４の２倍以下であることが望ましい。

そして、このようなゲート開口部２の密閉状態においては、シール溝１０と弁座７とによってシール部材９が囲まれているため、ラジカルＲが、前記ゲート開口部２を通じて、前記シール面８ａと前記第１隔壁３ａの内面３ｃとの間にに進入したとしても、図３（ｂ）の破線で示すように、そのラジカルＲの大部分が、前記弁プレート本体８のシール面８ａ、前記隔壁３ａの内面３ｃ又は弁座７の側面との衝突を繰返してシール部材９への到達を阻止され、その結果、ラジカルＲによる該シール部材９の劣化を抑制することができる。
また同時に、シール部材９全体がシール溝１０内に常時収容されており、しかも、ゲート開口２を密閉する際に、前記弁座７が、その弁座面７ａをシール部材９に密接させて、該シール部材９を前記第２溝部１２内へと押圧しながら、前記シール溝１０の第１溝部１１へと挿入されていくように構成されているため、シール部材９がシール溝１０から脱落するのを防止することもできる。

次に、図４に基づいて、本発明に係るゲートバルブの第２実施形態について説明する。
前記第１実施形態に係るゲートバルブと、この第２実施形態に係るゲートバルブとの相違点は、図３及び図４に示すシール部分のみであり、両実施形態の基本的な構成や動作は、図１及び図２に示す第１実施形態と同様であるから、ここでは説明は省略するものとする。また、図３に示した第１実施形態のシール部分と同じ構成部分についても、重複を避けるため、ここでは同じ符号を付して具体的な説明は省略するものとする。

この第２実施形態に係るゲートバルブにおいては、シール溝２０が、弁プレート本体８におけるゲート開口部２に対向するシール面８ａに開口する単一の凹溝から形成されている。そして、該シール溝２０は、その横断面形状が矩形をなしていて、その開口から底壁２０ａまでＨ５の深さを有し、その深さ方向全体にわたって均一な溝幅Ｗ５を有している。

該シール溝２０内には、同じく横断面形状が矩形を成すシール部材２９が、その側面及び底面の全体をシール溝２０の内壁に密着させて装着されており、その表面は、前記シール面８ａと平行を成す平坦面に形成され、該シール溝２０内に配されている。すなわち、該シール部材２０は、その装着状態において、前記シール溝の溝幅Ｗ５と同幅となっている。このとき、該シール部材２９の表面から底面までの厚さＨ６は、前記シール溝２０の深さＨ５よりも小さくなっており、よって、該シール部材２９の全体が、該シール溝２０内に収容された状態となっている。なお、該シール部材２９は、前記シール溝２０の内面との密着性を高めるために、該シール溝２０の幅よりも僅かに幅広に形成されていることが望ましい。

その一方で、弁座２７は、前記第１実施形態と同様の位置から弁プレート４方向に向けて垂直に突設され、その横断面が幅Ｗ７で高さＨ７に形成されており、その先端部分に在って前記シール部材２９の表面と対向する弁座面２７ａが、凸曲面に形成されている。具体的には、該弁座２７は、高さ方向において均一な幅Ｗ７を有する横断面が矩形の基部２７ｂと、幅方向の中央で高さが最大となる凸曲面に形成された先端部２７ｃとにより形成されている。
このとき、該弁座２７の中心は前記シール溝２０の中心と一致しており、該弁座２７の幅Ｗ７は、前記シール溝２０の幅Ｗ５よりも小さく形成されている。また、上記弁座２７の基部２７ｂの高さＨ７ａは、後に詳述する密閉時における間隙Ｄよりも大きく形成されていることが望ましい。

そこで、前記弁移動機構を６０を駆動させて、前記弁プレート４を図４（ａ）に示す前記中間位置から図４（ｂ）に示す密閉位置へと変位させると、前記弁座２７が、前記シール溝２０へと挿入され、その弁座面２７ａをシール部材２９の表面に密接させて、該シール部材２９をシール溝２０の底壁２０ａに向かって押圧し弾性変形させる。そして、この密閉状態においては、前記第１実施形態と同様に、弁プレート本体８のシール面８ａと第１隔壁３ａの内面３ｃとの間に間隙Ｄが形成されており、前記弁座７の少なくとも先端部２７ｃがシール溝２０内に挿入されていて、該シール溝２０内で前記弁座面２７ａが前記シール部材２９に対し気密に当接されている。

また、このとき、前記第１実施形態と同様に、前記ゲート開口部２の開口縁２ａと前記弁座２７の表面との双方に接する直線Ｌ２が、図４（ｂ）の二点鎖線で示すように、これら接点２ａ，２７ｂの間において前記弁プレート本体８を横切るか、又は該弁プレート本体８の表面に接するように構成されていると、前記ゲート開口部２を通じて、前記弁プレート本体８のシール面８ａと前記第１隔壁３ａの内面３ｃとの間に進入したラジカルＲが、直接的にシール部材９に到達するの抑制することができる。さらに、この直線Ｌ２が、前記弁座２７との接点２７ｂに替えて、該弁座２７における前記基部２７ｂと先端部２７ｃとの境界を通っていると、より好ましい。
なお、本実施形態における前記弁座２７の高さＨ７は、前記間隙Ｄに前記シール溝１０の深さＨ５とシール部材の高さＨ６との差を加えたもの、すなわちＤ＋（Ｈ５−Ｈ６）よりも大きく形成されていれば良い。また、前記シール溝２０の開口幅Ｗ５は、前記弁座２７の幅Ｗ７の２倍以下であることが望ましい。

そして、このようなゲート開口部２の密閉状態においても、前記第１実施形態と同様に、ラジカルＲが、前記ゲート開口部２を通じて、前記シール面８ａと前記第１隔壁３ａの内面３ｃとの間にに進入したとしても、図４（ｂ）の破線で示すように、そのラジカルＲの大部分が、前記弁プレート本体８のシール面８ａ、前記隔壁３ａの内面３ｃ又は弁座２７の側面との衝突を繰返してシール部材２９への到達を阻止され、その結果、ラジカルＲによる該シール部材２９の劣化を抑制することができる。
また同時に、シール部材２９全体がシール溝２０内に常時収容されており、しかも、ゲート開口２を密閉する際に、前記弁座２７が、その先端から前記シール溝２０に挿入されて、その弁座面２７ａをシール部材２９に密接させると共に、該シール部材２９を前記シール溝２０の底壁２０ａに向けて押圧するように構成されているため、シール部材９がシール溝１０から脱落するのを防止することもできる。

以上、本発明に係るゲートバルブ１の各実施形態について詳細に説明してきたが、本発明は上記各実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、様々な設計変更が可能である。

１ ゲートバルブ
２ ゲート開口部
２ａ 開口縁（接点）
３ 弁箱
３ａ 第１隔壁
３ｂ 第２隔壁
３ｃ 内面
４ 弁プレート
５ 弁シャフト
７，２７ 弁座
７ａ，２７ａ 弁座面
７ｂ，２７ｂ 接点
８ 弁プレート本体
８ａ シール面
９，２９ シール部材
１０，２０ シール溝
２０ａ 底面
１１ 第１溝部
１１ａ 底面
１２ 第２溝部

Claims (6)

1. プロセスチャンバに接続するために隔壁に開設されたゲート開口部と、該ゲート開口部に接離して該ゲート開口部を開閉するための弁プレートとを有していて、前記隔壁における前記ゲート開口部の周囲には弁座が形成され、前記弁プレートが、該弁座に対応する位置にシール溝を備えて成る弁プレート本体と、該シール溝内に装着されたシール部材とを有しているゲートバルブであって、
   前記シール溝内に前記シール部材の全体が収容されており、
   前記弁座は、前記隔壁の内面から弁プレート方向に突設されていて、その先端に前記シール部材を接離させる弁座面を有すると共に、該シール溝の開口幅よりも小さい幅を有しており、
   前記弁プレートが前記ゲート開口部の密閉位置に在る時に、前記弁座の先端部分が前記シール溝内に挿入されて、該シール溝内で前記弁座面が前記シール部材に対し気密に当接するように構成されている、
   ことを特徴とするもの。
2. 請求項１に記載のゲートバルブであって、
   前記シール溝は、前記弁プレート本体における前記ゲート開口部に対向するシール面に開口して深さ方向に均一な溝幅を有する第１溝部と、
   該第１溝部の底壁の略中央に開口して該第１溝部の溝幅よりも小さい開口幅を有するアリ溝状の第２溝部とから形成されており、
   前記シール部材が、前記第２溝部の開口幅よりも大きい幅と、該第２溝部の深さよりも大きい厚さとを有していて、その一部を前記第１溝部に突出させた状態で該第２溝部に装着されている、
   ことを特徴とするもの。
3. 請求項２に記載のゲートバルブであって、
   前記シール部材における第１溝部に突出させた部分の表面が凸曲面に形成されており、前記弁座面が平坦面に形成されている、
   ことを特徴とするもの。
4. 請求項１に記載のゲートバルブであって、
   前記シール溝は、前記弁プレート本体における前記ゲート開口部に対向するシール面に開口して深さ方向に均一な溝幅を有する単一の凹溝から形成され、
   前記シール部材が、該シール溝内に装着されている、
   ことを特徴とするもの。
5. 請求項４に記載のゲートバルブであって、
   前記シール部材における前記弁座面と対向する表面が平坦面に形成され、前記弁座面が凸曲面に形成されている、
   ことを特徴とするもの。
6. 請求項１から５の何れかに記載のゲートバルブであって、
   前記弁プレートが前記ゲート開口部の密閉位置に在る時に、前記ゲート開口部における隔壁の内面側の開口縁と前記弁座の表面との両方に接する直線が、これら接点の間で前記弁プレート本体に接するか又はそれを横切っている、
   ことを特徴とするもの。

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