JP2015230064A5 - - Google Patents
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Description
本発明は、半導体処理装置や液晶処理装置などの処理装置におけるプロセスチャンバとトランスファチャンバの間に設けられ、該プロセスチャンバとトランスファチャンバとを結ぶゲート開口部を開閉するためのゲートバルブに関するものである。
ゲートバルブとは、例えば、真空引きされてプロセスガスが導入されたプロセスチャンバ内において、半導体ウエハや液晶基板等の被処理物に対しフッ素(F)や酸素(O)等のラジカルによりエッチング等の処理を行う処理装置に用いられるもので、前記チャンバ内に被処理物を搬入出する際に前記ゲート開口部を開き、前記チャンバ内でのプロセス処理時に該ゲート開口部を気密に閉塞する役割を有している。そして、この種のゲートバルブは、弁板に形成された環状のアリ溝内にOリング等のシール部材を装着し、該シール部材を前記ゲート開口部の周囲に設けられた弁座に対し接離させることにより、該ゲート開口部を開閉するように構成されているのが一般的である。
ところで、このような構成を備えたゲートバルブにおいては、プロセス処理時に密閉されたチャンバ内で発生したラジカルが、前記弁板と前記ゲート開口部が開設された側壁との間隙を通じて前記シール部材に作用すると、該シール部材の劣化が早まったりパーティクルが発生したりすることが知られている。そして、このラジカルによるシール部材の劣化等を抑制しようとするものとしては、例えば、特許文献1及び特許文献2が挙げられる。
また、その一方で、ゲート開口部のより確実なシールを実現するためには、前記シール部材がアリ溝から脱落するのをより確実に防止するための対策も望まれる。
また、その一方で、ゲート開口部のより確実なシールを実現するためには、前記シール部材がアリ溝から脱落するのをより確実に防止するための対策も望まれる。
本発明の技術的課題は、ラジカルによるシール部材の劣化を抑制することができると同時に、アリ溝からのシール部材の脱落をも防止することが可能なゲートバルブを提供することにある
前記技術的課題を解決するため、本発明に係るゲートバルブは、プロセスチャンバに接続するために隔壁に開設されたゲート開口部と、該ゲート開口部に接離して該ゲート開口部を開閉するための弁プレートとを有していて、前記隔壁における前記ゲート開口部の周囲には弁座が形成され、前記弁プレートが、該弁座に対応する位置にシール溝を備えて成る弁プレート本体と、該シール溝内に装着されたシール部材とを有しているゲートバルブであって、前記シール溝内に前記シール部材の全体が収容されており、前記弁座は、前記隔壁の内面から弁プレート方向に突設されていて、その先端に前記シール部材を接離させる弁座面を有すると共に、該シール溝の開口幅よりも小さい幅を有しており、前記弁プレートが前記ゲート開口部の密閉位置に在る時に、前記弁座の先端部分が前記シール溝内に挿入されて、該シール溝内で前記弁座面が前記シール部材に対し気密に当接するように構成されている。
本発明に係るゲートバルブの第1の実施形態では、前記シール溝は、前記弁プレート本体における前記ゲート開口部に対向するシール面に開口して深さ方向に均一な溝幅を有する第1溝部と、該第1溝部の底壁の略中央に開口して該第1溝部の溝幅よりも小さい開口幅を有するアリ溝状の第2溝部とから形成されており、前記シール部材が、前記第2溝部の開口幅よりも大きい幅と、該第2溝部の深さよりも大きい厚さとを有していて、その一部を前記第1溝部に突出させた状態で該第2溝部に装着されている。
なお、このとき、好ましくは、前記シール部材における第1溝部に突出させた部分の表面が凸曲面に形成されており、前記弁座面が平坦面に形成されている。
また、好ましくは、前記第1溝部の溝幅は、前記第2溝部の開口幅の2倍以下である。
なお、このとき、好ましくは、前記シール部材における第1溝部に突出させた部分の表面が凸曲面に形成されており、前記弁座面が平坦面に形成されている。
また、好ましくは、前記第1溝部の溝幅は、前記第2溝部の開口幅の2倍以下である。
そして、本発明に係るゲートバルブの第2の実施形態では、前記シール溝は、前記弁プレート本体における前記ゲート開口部に対向するシール面に開口して深さ方向に均一な溝幅を有する単一の凹溝から形成され、前記シール部材が、該凹溝内に装着されている。
なお、このとき、好ましくは、前記シール部材における前記弁座面と対向する表面が平坦面に形成され、前記弁座面が凸曲面に形成されている。
なお、このとき、好ましくは、前記シール部材における前記弁座面と対向する表面が平坦面に形成され、前記弁座面が凸曲面に形成されている。
さらに、本発明に係るゲートバルブでは、前記弁プレートが前記ゲート開口部の密閉位置に在る時に、前記ゲート開口部における隔壁の内面側の開口縁と前記弁座の表面との両方に接する直線が、これら接点の間で前記弁プレート本体に接するか又はそれを横切っていることが望ましい。
このように、本発明に係るゲートバルブによれば、シール部材全体がシール溝内に常時収容されており、しかも、ゲート開口部の密閉時に、隔壁の内面から突設された弁座が前記シール溝内に挿入されて、前記シール溝内でシール部材に対し気密に当接した状態となるように構成されている。そのため、ゲート開口部の密閉時に、シール溝と弁座とによってシール部材が囲まれた状態となり、ゲート開口部側から弁プレートと隔壁との間隙に進入したラジカルの大部分が、該弁プレート、隔壁又は弁座への衝突を繰返してシール部材への到達を阻止され、その結果、ラジカルによる該シール部材の劣化を抑制することができる。しかも、該シール部材がシール溝から脱落するのも同時に防止することが可能となる。
特に、請求項6に係るゲートバルブによれば、ラジカルがゲート開口部から直接シール部材に到達するのを抑制することができるため、ラジカルによるシール部材の劣化をより確実に防止することが可能となる。
特に、請求項6に係るゲートバルブによれば、ラジカルがゲート開口部から直接シール部材に到達するのを抑制することができるため、ラジカルによるシール部材の劣化をより確実に防止することが可能となる。
図1、図2及び図3に基づいて、本発明に係るゲートバルブの第1実施形態について説明する。このゲートバルブ1は、図示しないプロセスチャンバに接続するためのゲート開口部2が開設された略直方体で中空の弁箱3と、該弁箱3内に配された弁プレート4と、該弁プレート4が先端部に固定され、前記弁箱3を貫通して基端部が該弁箱3外へと延出された弁シャフト5と、前記弁プレートを移動させて前記ゲート開口部2を開閉するために、該弁シャフト5の基端部に連結された弁移動機構60とを有している。そして、図示しないエアシリンダ等の駆動部で前記弁移動機構60を駆動させることにより、前記弁プレート4を、ゲート開口部2を全開にする図1の破線で示した全開位置と、該ゲート開口部2を気密に閉塞する図2に示した密閉位置との間で、前記ゲート開口部2と離間して対向する図1の実線で示した中間位置を通じて、往復移動させることができるようになっている。
前記弁箱3は、相対する前後の第1及び第2の隔壁3a,3bを有しており、それら隔壁のうちの第1隔壁3aには前記ゲート開口部2が横に長い略矩形に開設され、第2隔壁3bにおける前記ゲート開口部2と対向する位置には背面開口部6が同じく略矩形に開設されている。そして、前記第1隔壁3aの内面3cには、環状の弁座7が前記ゲート開口部2の周囲を取り囲むように形成されている。
その一方で、前記弁プレート4は、前記ゲート開口部2よりも縦横の寸法が大きな略矩形の板状に形成されて、該ゲート開口部2と対向する表面側に略平坦なシール面8aを備えた弁プレート本体8と、該弁プレート本体8のシール面8aに装着されて、該弁プレート4の移動に伴い前記弁座7の弁座面7aに対し接離することにより、前記ゲート開口部2を開閉する環状のシール部材9とを有している。
このとき、上記弁プレート本体8は、その前記シール面8aにおける前記弁座7に対応する位置に、前記シール部材9を嵌合して装着するための環状のシール溝10を備えており、前記シール面8aとは逆側の背面側において、適宜の固定具(図示略)により前記弁シャフト5に対し固定されている。
また、前記シール部材9は、ゴム等の弾性材(エラストマー)により一体に形成され、全周にわたって均一な断面を有している。同様に、該シール部材9を嵌合して装着するための前記シール溝10も、全周にわたって均一な断面を有している。
また、前記シール部材9は、ゴム等の弾性材(エラストマー)により一体に形成され、全周にわたって均一な断面を有している。同様に、該シール部材9を嵌合して装着するための前記シール溝10も、全周にわたって均一な断面を有している。
上記弁移動機構60は、前記弁箱3外において弁シャフト5の基端部側に固定されたブロック状のレバー部材61と、該レバー部材61の左右両側面に、前記弁シャフト5の軸に沿って固定された左右一対の第1及び第2のカムローラ62a,62bと、前記弁シャフト5の軸に沿って前記弁箱3に対し固定的に配置された左右一対の第1及び第2のガイドローラ63a,63bと、前記レバー部材の左右側面にそれぞれ対向する左右一対のカムプレート64の端部同士を結合プレート65で結合することにより形成されたカムフレーム66とを有している。
前記カムプレート64には、前記第1及び第2のカムローラ62a,62bをそれぞれ摺動自在に嵌合させるための第1及び第2のカム溝67a,67bと、前記第1及び第2のガイドローラ63a,63bを摺動自在に嵌合させるための1本のガイド溝68が開設されている。
このとき、前記第1及び第2のカム溝67a,67bは、前記弁シャフト5の先端側から基端側に向かうにしたがって、前記ゲート開口部2側に向かって傾斜している。一方、前記ガイド溝68は、前記弁シャフト5の軸に沿って直線状を成しており、その先端側に配された幅広の第1ガイド溝部68aと、その基端側に連続して配された幅狭の第2ガイド溝部68bとにより形成されている。そして、前記第1ガイドローラ63aが前記第1ガイド溝部68aに摺動自在に嵌合され、前記第2ガイドローラ63bが前記第2ガイド溝部68bに摺動自在に嵌合されるようになっている。そのため、前記第1ガイドローラ63aは第2ガイドローラ63bよりも大径に形成されている。
このとき、前記第1及び第2のカム溝67a,67bは、前記弁シャフト5の先端側から基端側に向かうにしたがって、前記ゲート開口部2側に向かって傾斜している。一方、前記ガイド溝68は、前記弁シャフト5の軸に沿って直線状を成しており、その先端側に配された幅広の第1ガイド溝部68aと、その基端側に連続して配された幅狭の第2ガイド溝部68bとにより形成されている。そして、前記第1ガイドローラ63aが前記第1ガイド溝部68aに摺動自在に嵌合され、前記第2ガイドローラ63bが前記第2ガイド溝部68bに摺動自在に嵌合されるようになっている。そのため、前記第1ガイドローラ63aは第2ガイドローラ63bよりも大径に形成されている。
さらに、前記カムフレーム66の連結プレート65とレバー部材61とは、コイルバネ等の弾性連結部材69により弁シャフト5の軸方向(図中上下方向)及びそれと直交する方向(図中左右方向)に相対移動可能に連結されている。そして、前記カムフレーム66の結合プレート65が図示しない前記駆動部に連結され、該カムフレーム66を前記弁シャフト5の軸方向に沿って往復動させることができるようになっている。
そこで、前記ゲートバルブの動作について図1及び図2に基づいて説明する。
まず、前記弁プレート4が図1の実線で示す中間位置に在る状態から、前記カムフレーム66を前記弁シャフト5の基端方向(図中下方)に移動させると、該カムフレーム66も前記ガイドローラ63a,63b及びガイド溝68によりガイドされて同方向に移動する。そのとき、該カムフレーム66に連結されると共に前記弁シャフト5に固定されたレバー部材61も、前記カムフレーム66と一体となって同方向に移動する。そのため、前記各カムローラ62a,62bの各カム溝67a,67b内における位置は変化しない。その結果、前記弁プレート4は、前記中間位置から弁シャフト5の軸に沿って前記レバー部材61と同方向に変位し、図1の破線で示す全開位置へと移動する。
まず、前記弁プレート4が図1の実線で示す中間位置に在る状態から、前記カムフレーム66を前記弁シャフト5の基端方向(図中下方)に移動させると、該カムフレーム66も前記ガイドローラ63a,63b及びガイド溝68によりガイドされて同方向に移動する。そのとき、該カムフレーム66に連結されると共に前記弁シャフト5に固定されたレバー部材61も、前記カムフレーム66と一体となって同方向に移動する。そのため、前記各カムローラ62a,62bの各カム溝67a,67b内における位置は変化しない。その結果、前記弁プレート4は、前記中間位置から弁シャフト5の軸に沿って前記レバー部材61と同方向に変位し、図1の破線で示す全開位置へと移動する。
一方、前記弁プレート4が図1の実線で示す中間位置に在る状態から、前記カムフレームを前記弁シャフト5の先端方向(図中上方)に移動させると、この中間位置において前記レバー部材61は図示しないストッパ機構により弁シャフト5の先端方向への移動を阻止された状態にあるため、図2に示すように、前記カムフレーム66のみが、前記レバー部材61との間に配された前記弾性連結部材69を圧縮しながら、前記弁シャフト5の先端方向へと移動する。その際、前記各カムローラ62a,62bと共に前記レバー部材61が、前記各カム溝67a,67bにガイドされ前記弾性連結部材69を傾倒させながら、前記ゲート開口部2側へと変位していく。その結果、前記弁プレート4が前記弁シャフト5の軸と垂直を成して前記ゲート開口部2側へと変位し、前記シール部材9が前記弁座7に押し当てられることにより、前記ゲート開口部2が気密に閉塞される。
ところで、図3に示すように、この第1実施形態に係るゲートバルブ1において、前記弁プレート本体8に形成されたシール溝10は、該弁プレート本体8の前記シール面8aに開口する第1溝部11と、該第1溝部11の底壁11aに開口する第2溝部12とにより形成されている。
前記第1溝部11は、その横断面形状が矩形を成していて、その開口から底壁11aまでH1の深さを有し、その深さ方向全体にわたって均一な溝幅W1を有している。
ただし、本願において「矩形」とは、設計上又は製造上における技術常識の範囲で角部に曲面やテーパ面が形成されたもの等も含まれるものとし、よって、前記溝幅W1も、特に前記シール面8a及び底壁11aとの境界部分においては、厳密な均一性を要求されるものではない。
前記第1溝部11は、その横断面形状が矩形を成していて、その開口から底壁11aまでH1の深さを有し、その深さ方向全体にわたって均一な溝幅W1を有している。
ただし、本願において「矩形」とは、設計上又は製造上における技術常識の範囲で角部に曲面やテーパ面が形成されたもの等も含まれるものとし、よって、前記溝幅W1も、特に前記シール面8a及び底壁11aとの境界部分においては、厳密な均一性を要求されるものではない。
その一方で、前記第2溝部12は、前記第1溝部11の底壁11aにおける幅方向の略中央に開設されていて、前記溝幅W1よりも小さい開口幅W21を有しており、幅方向に対称を成したアリ溝状に形成されている。すなわち、該第2溝部12は、前記深さ方向に向かって溝幅が拡大し、その深さ方向の略中央において最大幅W22となるように形成されている。ここで、該第2溝部12の深さH2は、前記第1溝部11の深さH1よりも大きくなっており、該第2溝部12の最大幅W22は、前記第1溝部11の溝幅W1よりも小さくなっている。ただし、第1溝部11の溝幅W1は第2溝部12の開口幅W21の2倍よりも小さいことが望ましい。
前記シール部材9は、その横断面形状が円形を成すOリングであって、その全体が前記シール溝内に収容された状態で装着されている。具体的には、該シール部材9は、その外周面を前記第2溝部12の底壁12bに当接させると共に、該第2溝部12の互いに対抗する開口縁12aに係合させ、その一部を前記第1溝部11内に突出させた状態で該第2溝部12に装着されている。すなわち、このような装着状態において、該シール部材9における第1溝部11に突出した部分の表面は凸曲面に形成されており、該シール部材9の厚さH3は、図3に示すように前記第1及び第2溝部11,12の深さH1,H2の和(シール溝の深さ)と等しいか、または、その和よりも小さく第2溝部12の深さH2よりも大きくなっている。また、該シール部材の幅W3は、前記第2溝部12の最大幅W22よりも小さく、その開口幅W21よりも大きくなっている。
前記弁座7は、前記第1隔壁3aの内面3c側における前記ゲート開口部2の開口縁2aから距離Cの位置において、弁プレート4方向に向けて垂直に突設され、その横断面が幅W4で高さH4の矩形に形成されている。すなわち、該弁座7は、高さ方向に均一な幅W4と、幅方向に均一な高さH4を有しており、シール部材9が接離する前記弁座面7aが、前記シール面8aと平行を成す平坦面に形成されている。
このとき、該弁座7の中心は前記シール溝10の中心と一致しており、該弁座7の幅W4は、前記シール溝10の第1溝部の幅W1よりも小さく形成されている。
このとき、該弁座7の中心は前記シール溝10の中心と一致しており、該弁座7の幅W4は、前記シール溝10の第1溝部の幅W1よりも小さく形成されている。
そこで、前記弁移動機構を60を駆動させて、前記弁プレート4を図3(a)に示す前記中間位置から図3(b)に示す密閉位置へと変位させると、前記弁座7が、その弁座面7aをシール部材9に密接させて、該シール部材9を前記第2溝部12内へと押圧し弾性変形させながら、前記シール溝10の第1溝部11へと挿入されていく。そして、この密閉状態においては、前記弁プレート本体8のシール面8aと前記第1隔壁3aの内面3cとの間に間隙Dが形成されており、前記弁座7の先端部分が第1溝部11内に挿入されていて、該第1溝部11内で前記弁座面7aが前記シール部材9に対し気密に当接されている。
また、このとき、前記ゲート開口部2の開口縁2aと前記弁座7の表面との双方に接する直線L1が、図3(b)の二点鎖線で示すように、これら接点2a,7bの間において前記弁プレート本体8を横切るか、又は該弁プレート本体8の表面に接するように構成されていると、前記ゲート開口部2を通じて、前記弁プレート本体8のシール面8aと前記第1隔壁3aの内面3cとの間に進入したラジカルRが、直接的にシール部材9に到達するのを抑制することが可能となる。
なお、本実施形態における前記弁座7の高さH4は、前記間隙Dに前記シール溝10の深さH1+H2とシール部材の高さH3との差を加えたもの、すなわちD+{(H1+H2)−H3}よりも大きく形成されていれば良い。また、前記シール溝10の開口幅W1は、前記弁座7の幅W4の2倍以下であることが望ましい。
なお、本実施形態における前記弁座7の高さH4は、前記間隙Dに前記シール溝10の深さH1+H2とシール部材の高さH3との差を加えたもの、すなわちD+{(H1+H2)−H3}よりも大きく形成されていれば良い。また、前記シール溝10の開口幅W1は、前記弁座7の幅W4の2倍以下であることが望ましい。
そして、このようなゲート開口部2の密閉状態においては、シール溝10と弁座7とによってシール部材9が囲まれているため、ラジカルRが、前記ゲート開口部2を通じて、前記シール面8aと前記第1隔壁3aの内面3cとの間に進入したとしても、図3(b)の破線で示すように、そのラジカルRの大部分が、前記弁プレート本体8のシール面8a、前記隔壁3aの内面3c又は弁座7の側面との衝突を繰返してシール部材9への到達を阻止され、その結果、ラジカルRによる該シール部材9の劣化を抑制することができる。
また同時に、シール部材9全体がシール溝10内に常時収容されており、しかも、ゲート開口2を密閉する際に、前記弁座7が、その弁座面7aをシール部材9に密接させて、該シール部材9を前記第2溝部12内へと押圧しながら、前記シール溝10の第1溝部11へと挿入されていくように構成されているため、シール部材9がシール溝10から脱落するのを防止することもできる。
また同時に、シール部材9全体がシール溝10内に常時収容されており、しかも、ゲート開口2を密閉する際に、前記弁座7が、その弁座面7aをシール部材9に密接させて、該シール部材9を前記第2溝部12内へと押圧しながら、前記シール溝10の第1溝部11へと挿入されていくように構成されているため、シール部材9がシール溝10から脱落するのを防止することもできる。
次に、図4に基づいて、本発明に係るゲートバルブの第2実施形態について説明する。
前記第1実施形態に係るゲートバルブと、この第2実施形態に係るゲートバルブとの相違点は、図3及び図4に示すシール部分のみであり、第2実施形態の基本的な構成や動作は、図1及び図2に示す第1実施形態と同様であるから、ここでは説明は省略するものとする。また、図3に示した第1実施形態のシール部分と同じ構成部分についても、重複を避けるため、ここでは同じ符号を付して具体的な説明は省略するものとする。
前記第1実施形態に係るゲートバルブと、この第2実施形態に係るゲートバルブとの相違点は、図3及び図4に示すシール部分のみであり、第2実施形態の基本的な構成や動作は、図1及び図2に示す第1実施形態と同様であるから、ここでは説明は省略するものとする。また、図3に示した第1実施形態のシール部分と同じ構成部分についても、重複を避けるため、ここでは同じ符号を付して具体的な説明は省略するものとする。
この第2実施形態に係るゲートバルブにおいては、シール溝20が、弁プレート本体8におけるゲート開口部2に対向するシール面8aに開口する単一の凹溝から形成されている。そして、該シール溝20は、その横断面形状が矩形をなしていて、その開口から底壁20aまでH5の深さを有し、その深さ方向全体にわたって均一な溝幅W5を有している。
該シール溝20内には、同じく横断面形状が矩形を成すシール部材29が、その側面及び底面の全体をシール溝20の内壁に密着させて装着されており、その表面は、前記シール面8aと平行を成す平坦面に形成され、該シール溝20内に配されている。すなわち、該シール部材29は、その装着状態において、前記シール溝の溝幅W5と同幅となっている。このとき、該シール部材29の表面から底面までの厚さH6は、前記シール溝20の深さH5よりも小さくなっており、よって、該シール部材29の全体が、該シール溝20内に収容された状態となっている。なお、該シール部材29は、前記シール溝20の内面との密着性を高めるために、該シール溝20の幅よりも僅かに幅広に形成されていることが望ましい。
その一方で、弁座27は、前記第1実施形態と同様の位置から弁プレート4方向に向けて垂直に突設され、その横断面が幅W7で高さH7に形成されており、その先端部分に在って前記シール部材29の表面と対向する弁座面27aが、凸曲面に形成されている。具体的には、該弁座27は、高さ方向において均一な幅W7を有する横断面が矩形の基部27bと、幅方向の中央で高さが最大となる凸曲面に形成された先端部27cとにより形成されている。
このとき、該弁座27の中心は前記シール溝20の中心と一致しており、該弁座27の幅W7は、前記シール溝20の幅W5よりも小さく形成されている。また、上記弁座27の基部27bの高さH7aは、後に詳述する密閉時における間隙Dよりも大きく形成されていることが望ましい。
このとき、該弁座27の中心は前記シール溝20の中心と一致しており、該弁座27の幅W7は、前記シール溝20の幅W5よりも小さく形成されている。また、上記弁座27の基部27bの高さH7aは、後に詳述する密閉時における間隙Dよりも大きく形成されていることが望ましい。
そこで、前記弁移動機構60を駆動させて、前記弁プレート4を図4(a)に示す前記中間位置から図4(b)に示す密閉位置へと変位させると、前記弁座27が、前記シール溝20へと挿入され、その弁座面27aをシール部材29の表面に密接させて、該シール部材29をシール溝20の底壁20aに向かって押圧し弾性変形させる。そして、この密閉状態においては、前記第1実施形態と同様に、弁プレート本体8のシール面8aと第1隔壁3aの内面3cとの間に間隙Dが形成されており、前記弁座7の少なくとも先端部27cがシール溝20内に挿入されていて、該シール溝20内で前記弁座面27aが前記シール部材29に対し気密に当接されている。
また、このとき、前記第1実施形態と同様に、前記ゲート開口部2の開口縁2aと前記弁座27の表面との双方に接する直線L2が、図4(b)の二点鎖線で示すように、これら接点2a,27bの間において前記弁プレート本体8を横切るか、又は該弁プレート本体8の表面に接するように構成されていると、前記ゲート開口部2を通じて、前記弁プレート本体8のシール面8aと前記第1隔壁3aの内面3cとの間に進入したラジカルRが、直接的にシール部材9に到達するの抑制することができる。さらに、この直線L2が、前記弁座27との接点27bに替えて、該弁座27における前記基部27bと先端部27cとの境界を通っていると、より好ましい。
なお、本実施形態における前記弁座27の高さH7は、前記間隙Dに前記シール溝20の深さH5とシール部材の高さH6との差を加えたもの、すなわちD+(H5−H6)よりも大きく形成されていれば良い。また、前記シール溝20の開口幅W5は、前記弁座27の幅W7の2倍以下であることが望ましい。
なお、本実施形態における前記弁座27の高さH7は、前記間隙Dに前記シール溝20の深さH5とシール部材の高さH6との差を加えたもの、すなわちD+(H5−H6)よりも大きく形成されていれば良い。また、前記シール溝20の開口幅W5は、前記弁座27の幅W7の2倍以下であることが望ましい。
そして、このようなゲート開口部2の密閉状態においても、前記第1実施形態と同様に、ラジカルRが、前記ゲート開口部2を通じて、前記シール面8aと前記第1隔壁3aの内面3cとの間に進入したとしても、図4(b)の破線で示すように、そのラジカルRの大部分が、前記弁プレート本体8のシール面8a、前記隔壁3aの内面3c又は弁座27の側面との衝突を繰返してシール部材29への到達を阻止され、その結果、ラジカルRによる該シール部材29の劣化を抑制することができる。
また同時に、シール部材29全体がシール溝20内に常時収容されており、しかも、ゲート開口2を密閉する際に、前記弁座27が、その先端から前記シール溝20に挿入されて、その弁座面27aをシール部材29に密接させると共に、該シール部材29を前記シール溝20の底壁20aに向けて押圧するように構成されているため、シール部材29がシール溝20から脱落するのを防止することもできる。
また同時に、シール部材29全体がシール溝20内に常時収容されており、しかも、ゲート開口2を密閉する際に、前記弁座27が、その先端から前記シール溝20に挿入されて、その弁座面27aをシール部材29に密接させると共に、該シール部材29を前記シール溝20の底壁20aに向けて押圧するように構成されているため、シール部材29がシール溝20から脱落するのを防止することもできる。
以上、本発明に係るゲートバルブ1の各実施形態について詳細に説明してきたが、本発明は上記各実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、様々な設計変更が可能である。
1 ゲートバルブ
2 ゲート開口部
2a 開口縁(接点)
3 弁箱
3a 第1隔壁
3b 第2隔壁
3c 内面
4 弁プレート
5 弁シャフト
7,27 弁座
7a,27a 弁座面
7b,27b 接点
8 弁プレート本体
8a シール面
9,29 シール部材
10,20 シール溝
20a 底壁
11 第1溝部
11a 底壁
12 第2溝部
2 ゲート開口部
2a 開口縁(接点)
3 弁箱
3a 第1隔壁
3b 第2隔壁
3c 内面
4 弁プレート
5 弁シャフト
7,27 弁座
7a,27a 弁座面
7b,27b 接点
8 弁プレート本体
8a シール面
9,29 シール部材
10,20 シール溝
20a 底壁
11 第1溝部
11a 底壁
12 第2溝部
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