JP2005320386A - ポリイミドフィルム積層体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ポリイミドフィルムとして、特定構造のトリシクロ環構造を有する脂環式テトラカルボン酸二無水物系化合物を含むテトラカルボン酸二無水物とジアミンとから得られるポリアミック酸を脱水イミド閉環して得られるポリイミドからなるポリイミドフィルムを使用する。
【選択図】 なし
Description
新しいポリイミドの開発と高機能付与技術(p11−26,技術情報協会発行、2003年10月30日発刊)
を特徴とするポリイミドフィルム積層体に関するものである。
(2)脂環式テトラカルボン酸二無水物の構造が非対称であり、さらに、芳香族環またはシクロへキサン環を側鎖として含むため、ポリイミド分子に柔軟性が生じているため金属箔との接着性に優れる。
(3)脂環式テトラカルボン酸二無水物が非対称構造であり、さらに、芳香族環またはシクロへキサン環を側鎖として含むため、有機溶剤、接着剤に対する溶解性に優れるため、接着層との接着性に優れる。
(5)脂環式テトラカルボン酸二無水物系化合物のトリシクロ環構造部(ナフテン構造)がコロナ放電処理、プラズマ処理、紫外線照射処理等による物理的、化学的処理を受けやすく処理後の金属箔との接着性に優れる。
(6)脂環式テトラカルボン酸二無水物の構造が非対称であり、メッキ処理前のアルカリ処理効果を受けやすく処理後の金属箔との接着性に優れる。
(7)脂環式テトラカルボン酸二無水物が温和で副反応の無い経路で生成されるためポリイミド分子の不純物濃度が低い。
本発明のポリアミック酸およびポリイミドは、一般式(1)、(2)、(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物の少なくとも一つと一般式(4)で表されるジアミンから得られる。一般式(1)、(2)、(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物は、下記一般式(5)で表される化合物1モルと下記一般式(6)で表される化合物2モルとを反応させて得られる一般式(1)で表されるテトラカルボン酸二無水物((W.N.Emmerling et al 、European Polymer Journal, Vol.13, p179を参照。)を水素添加することによって得られる。
一般式(5)と一般式(6)の化合物とは、炭素・炭素二重結合の電子密度差を誘因として電荷移動錯体を形成する。
したがって、一般式(5)および一般式(6)それぞれの化合物に存在する置換基が、両者の炭素・炭素二重結合の電子密度差を減少させないようにすることが好ましい。すなわち、一般式(5)の化合物の芳香族環以外の炭素に電子吸引性の強い置換基を存在させすることは好ましくなく、一般式(6)の化合物の炭素に電子供与性の強い置換基を存在させることは好ましくない。さらに、立体障害効果を有する置換基の存在も好ましくない。
また、一般式(5)の化合物については、m+n≦4とすることが好ましく、特に、m+n≦2が好ましい。
さらに詳しく述べれば、一般式(2)で表されるテトラカルボン酸二無水物を高い収率で得る場合は、パラジウム系触媒存在下で水素圧を1MPa〜5MPaの範囲とし、温度を室温〜50℃の範囲で5〜20時間接触還元を行うとよく、一般式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物を高い収率で得る場合は、パラジウム系触媒存在下で水素圧を5MPa〜8MPaの範囲とし、温度を50〜100℃の範囲で5〜20時間接触還元を行うとよい。
好ましい例を挙げれば、p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、1,5−ジアミノナフタレン、2,7−ジアミノフルオレン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−(p−フェニレンイソプロピリデン)ビスアニリン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2’−ビス[4−(4−アミノ−2−トリフルオロメチルフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル、4,4’−ビス[(4−アミノ−2−トリフルオロメチル)フェノキシ]−オクタフルオロビフェニルなどがあり、特に好ましくは、p−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタンおよび4,4’−ジアミノジフェニルエーテルが挙げられる。
上記手法により、対数粘度が0.05〜10の範囲にあるポリアミック酸を得ることができる。なお、対数粘度の値は、N−メチル−2−ピロリドンを溶媒として用い、濃度が0.5g/100ミリリットルである溶液について30℃で、対数粘度=[ln(溶液粘度/溶媒粘度)]/[溶液濃度]によって求める。
なお、貧溶媒を例示すれば、水、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、シクロヘキサノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、ジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル等のエーテル類が挙げられる。
ものではない。
容量20mlのナス型フラスコに1,1−ジフェニルエチレン5.10gと無水マレイ
ン酸2.78g(モル比1:1)を入れ、10分間溶存酸素を脱気した後、油浴を140
℃に保ち5時間加熱攪拌した。反応系の温度は106℃であった。反応終了後、トルエン
をフラスコに加えて析出する沈殿物を濾過して集めた。濾過物の重量は3.65gであっ
た。
本合成例おいては、1,1−ジフェニルエチレンは反応原料として仕込まれたと同時に、過剰分は溶剤として機能している。本合成例の収率は、1,1−ジフェニルエチレン2.55gと無水マレイン酸2.78g(モル比1:2)を基準として、68%である。
(DSC分析による融点測定)
酢酸エチルから再結晶した当該化合物は、20℃/minでの昇温条件で290℃ に明
確な吸熱ピークを示した。
(マススペクトル)
マススペクトルの結果、生成物の分子量は376であった。
(IRスペクトル測定)
700cm−1〜740cm−1:1置換芳香族帰属ピーク
760cm−1〜860cm−1:炭素・炭素二重結合帰属ピーク
1780cm−1〜1880cm−1 カルボン酸無水物帰属ピーク
(1HNMRスペクトル測定)
1H NMRスペクトル(DMSO−d6)
2.55(m、2H)、2.75(m、2H):カルボニル基隣接炭素上の水素
3.50〜3.60(m、2H)
3.70(t、1H):シクロへキセン環とシクロヘキサジエン環結合部炭素上の水素
3.80(m、2H):シクロヘキセン中のメチン水素
6.00(t、1H)、6.25(t、1H):炭素・炭素二重結合部の水素
7.20(d、2H)、7.35(t、1H)、7.45(t、2H):
一置換ベンゼン部の水素
以上の分析結果から、生成物の化学構造は一般式(1)の構造を満足するテトラカルボン酸二無水物のうち、下記の化学式(71)(3−フェニルトリシクロ[6,2,2,02,7]ドデカ−2,11−エン−5,6,9,10−テトラカルボン酸二無水物)で表されるテトラカルボン酸二無水物であることを確認した。なお、当該化合物の構造に関しては、(W.N.Emmerling et al 、European Polymer Journal, Vol.13, p179)も参照した。
当該結晶の1HNMRスペクトル測定を上記と同様に行ったところ、δ=6.00〜6.25の領域に現れる炭素・炭素二重結合部分の2個の水素原子に帰属されるピーク面積が消滅し、11位の二重結合が水素化還元されたことを示した。一方、δ=1.00〜2.00にはシクロアルカン系メチン水素は新たに出現せず芳香族環の核水添が生じていないことを示した。なお、これ以外に大きな変化は見られなかった。また、IRスペクトル解析から無水カルボニル基が残存していることを確認し、また、マススペクトルの結果から分子量が化学式(1)の化合物より2多い378になっていることを確認した。
この結果から、当該水素化生成物が、一般式(2)の構造を満足する下記化学式(2)で表されるテトラカルボン酸二無水物であることが確認された。
当該結晶の1HNMRスペクトル測定を上記と同様に行ったところ、δ=6.00〜6.25の領域に現れる炭素・炭素二重結合部分の2個の水素原子に帰属されるピーク面積とδ=7.20〜7.45の領域に現れる一置換ベンゼン環部分の5個の水素原子に帰属されるピーク面積との比が、還元処理前の2:5から、1.2:5に変化し、δ=6.00近傍にメチン系水素のピークが新たに出現し、化学式(1)中の11位の炭素・炭素二重結合(2置換オレフィン)一部が水素化還元されたことを示した。
一方、δ=1.00〜2.00にはシクロアルカン系メチン水素は新たに出現せず芳香族環族の核水添が生じていないことを示した。なお、これ以外に大きな変化は見られなかった。また、IRスペクトル解析から無水カルボニル基が残存していることを確認した。
この結果から、当該還元処理化合物が、一般式(1)の構造を満足する化学式(1)で表されるテトラカルボン酸二無水物約60モル%と一般式(2)の構造を満足する化学式(2)で表されるテトラカルボン酸二無水物約40モル%とから構成されることが確認された。
以下、当該方法で得られた混合物を「水添テトラカルボン酸二無水物混合物A」という。
当該結晶の1HNMRスペクトル測定を上記と同様に行ったところ、δ=6.00〜6.25の領域に現れる炭素・炭素二重結合部分の2個の水素原子に帰属されるピーク、および、δ=7.20〜7.00の領域に現れる芳香族環の水素原子に帰属されるピークが消滅し、化学式(1)中の11位の炭素・炭素二重結合(2置換オレフィン)が水素化還元されたことを示した。および芳香族環が水素化還元(核水添)されたことを示した。一方、δ=1.00〜2.00にはシクロアルカン系メチン水素が出現した。また、IRスペクトル解析から無水カルボニル基が残存していることを確認し、また、マススペクトルの結果から分子量が化学式(1)の化合物より8多い386になっていることを確認した。
この結果から、当該還元処理化合物が、一般式(3)の構造を満足する下記化学式(93)で表されるテトラカルボン酸二無水物であることが確認された。
これらの脂環式テトラカルボン酸二無水物系化合物の合成経路を図2に示した。
当該結晶の1HNMRスペクトル測定を上記と同様に行ったところ、δ=6.00〜6.25の領域に現れる炭素・炭素二重結合の2個の水素原子に帰属するピークが消滅し、化学式(1)中の11位の炭素・炭素二重結合(2置換オレフィン)が水素化還元されたことを示した。δ=7.20〜7.45の領域に現れる一置換ベンゼン環部分の5個の水素原子に帰属されるピーク面積とδ=1.00〜2.00にはシクロアルカン系メチン水素は新たに出現した。なお、これ以外に大きな変化は見られなかった。また、IRスペクトル解析から無水カルボニル基が残存していることを確認した。
それぞれのピーク面積の比から、当該還元処理化合物が、一般式(2)の構造を満足する化学式(8)で表されるテトラカルボン酸二無水物約50モル%と一般式(2)の構造を満足する化学式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物約50モル%とから構成されることが確認された。
以下、当該方法で得られた混合物を「水添テトラカルボン酸二無水物混合物B」という。
(製造例1)
24時間、50℃で真空乾燥処理した化学式(1)で表されるテトラカルボン酸二無水物752mg(2mmol)、4,4´-ジアミノジフェニルエーテル400mg(2mmol)、溶媒としてのN,N−ジメチルアセトアミド1.5mlを30mlのナスフラスコに入れ室温で1昼夜攪拌反応させた。反応溶液は粘稠となった。得られたポリアミック酸の対数粘度は2.9であった。
つづいて、上記反応溶液を減圧下、脱泡を行った後、その一部をポリエステルフィルム上にあけて、スピンコーターを用いて均一な膜として、100℃で30分加熱して自己保持性のフィルム(ポリアミック酸フィルム)とした後、さらに、200℃で2時間加熱して厚さ約50μmのフィルム(ポリイミドフィルム)を得た。
(IRスペクトル測定)
1540cm−1、1680cm−1 アミド結合帰属ピーク
1780cm−1、1860cm−1 カルボン酸無水物帰属ピークの消失
以上の分析結果から、製造例1によるポリアミック酸フィルムは下記化学式(4)の繰り返し単位構造を有するものであることが確認された。(以下、「ポリアミック酸フィルム1」という。)
(IRスペクトル測定)
1540cm−1、1680cm−1 アミド結合帰属ピークの消失
1710cm−1、1780cm−1 イミド結合帰属ピーク
1780cm−1、1860cm−1 カルボン酸無水物帰属ピークの消失
以上の分析結果から、製造例1によるポリイミドフィルムは下記化学式(5)の繰り返し単位構造を有するものであることが確認された。以下、「ポリイミドフィルム1」という。
製造例1における化学式(1)で表されるテトラカルボン酸二無水物2mmolに代えて、24時間、50℃で真空乾燥処理した化学式(2)で表されるテトラカルボン酸二無水物(以下、「製造例2」という。)、24時間、50℃で真空乾燥処理した化学式(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物(以下、「製造例3」という。)、24時間、50℃で真空乾燥処理した水添テトラカルボン酸二無水物混合物A(以下、「製造例4」という。)、24時間、50℃で真空乾燥処理した水添テトラカルボン酸二無水物混合物B(以下、「製造例5」という。)をそれぞれ約2mmolとした他は、製造例1に示した手法と同様にして、約50μm厚みのポリアミック酸フィルム、および、ポリイミドフィルムを製造し、IRスペクトルで構造決定を行った。各合成反応における収率はほぼ同一であり、IRスペクトルの帰属もほぼ同一であった。
接着層の作成:
下記組成物を20質量%含むモノクロルベンゼン/ベンジルアルコール/イソプロピルアルコール混合溶液を、PETフィルム(保護フィルム1)上に乾燥膜厚が12μmとなるように塗布し、エアーオーブンを使用し120℃で1分、170℃で2分乾燥した後、ポリプロピレンフィルム(保護フィルム2)を張り合わせ、接着剤フィルムを作成した。
ポリアミド樹脂(ユニケマ社製、「PRIADIT2053」) 50重量部
エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ(株)製、「エピコート828」) 30重量部
フェノール樹脂(群栄化学(株)製、「PS2780」) 20重量部。
ポリイミドフィルム1から切り出した厚さ50μm×幅70mmのポリイミドフィルムに、上記接着剤フィルムから保護フィルム2を剥離し剥き出しになった接着剤面上に張り合わせた。その後、保護フィルム1を剥離し接着剤面上に電解銅箔(三井金属鉱業(株)製「FQ−VLP箔」(厚さ18μm))をロールラミネータで140℃で加熱圧着して張り合わせた。さらには得られた積層体を150℃オーブン中で15分間加熱処理を行い、フィルム積層体を作成した。
実施例1のポリイミドフィルム1をポリイミドフィルム2(実施例2)、ポリイミドフィルム3(実施例3)、ポリイミドフィルム4(実施例4)、ポリイミドフィルム5(実施例5)に代えて、同様にして、フィルム積層体を製造した。また、実施例1のポリイミドフィルムを、全芳香族系ポリイミドフィルム(比較例1):宇部興産(株)製「ユーピレックスS」(厚さ50μm)に代えて、同様にして、フィルム積層体を製造した。
(ポリイミドフィルム/金属箔における接着性評価)
ポリアミック酸フィルム1から切り出した厚さ60μm×幅70mmのポリアミック酸フィルムに、上記接着剤フィルムから保護フィルム2を剥離し剥き出しになった接着剤面上に張り合わせた。その後、保護フィルム1を剥離し接着剤面上に電解銅箔(三井金属鉱業(株)製「FQ−VLP箔」(厚さ18μm))をロールラミネータで140℃で加熱圧着して張り合わせた。さらには得られた積層体をオーブン中で150℃×5分間、150℃×5分間、200℃×5分間、250℃×5分間加熱イミド化処理を行い、ポリイミドフィルム積層体を作成した。
実施例6のポリアミック酸フィルム1をポリアミック酸フィルム2(実施例7)、ポリアミック酸フィルム3(実施例8)、ポリアミック酸フィルム4(実施例9)、ポリアミック酸フィルム5(実施例10)に代えて、同様にして、ポリイミドフィルム積層体を製造した。また、ポリアミック酸フィルム1の製造において、化学式(7)に代えてピロメリット酸二無水物を使用して製造したポリアミック酸無水物を使用して製造したポリアミック酸フィルム(比較例2)を得て、同様にして、ポリイミドフィルム積層体を製造した。
ポリイミドフィルム1の一面上に酸素のグロー放電を施した後、チタンをターゲットとしてアルゴンガスによるDCマグネトロンスパッタリング法により厚さ15nmのチタン薄膜層を形成させた。その後、直ちに銅をターゲットとして、アルゴンガスによるDCマグネトロンスパッタリング法により厚さ250nmの銅薄膜層を形成させ、ポリイミドフィルム積層体を製造した。次に、当該銅薄膜の上に銅の電解メッキを施すことにより回路用の銅膜の厚みを20μmとした。当該ポリイミドフィルム積層体を150℃のオーブンで10日間保持した後、直径10mmのステンレス製の丸棒に裏表5回ずつ計10回巻き付け、目視および光学顕微鏡による観察を行ったが、膨れ、剥離等の異状は観察されなかった。
ポリイミドフィルム1をポリイミドフィルム2(実施例12)、ポリイミドフィルム3(実施例13)、ポリイミドフィルム4(実施例14)、ポリイミドフィルム5(実施例15)に代えて、同様にして、ポリイミドフィルム積層体を製造した。これら積層体においても、150℃のオーブンで10日間保持した後、直径10mmのステンレス製の丸棒に裏表5回ずつ計10回巻き付け、目視および光学顕微鏡による観察を行ったが、膨れ、剥離等の異状は観察されなかった。
Claims (3)
- ポリイミドフィルムと金属層とを含むポリイミドフィルム積層体において、
ポリイミドフィルムが下記一般式(1)、(2)、(3)で表されるテトラカルボン酸二無水物の少なくとも一つと下記一般式(4)で表されるジアミンとを反応させて得られるポリアミック酸を脱水閉環して得られるポリイミドからなること、
を特徴とするポリイミドフィルム積層体。
- ポリイミドフィルムと金属層が接着剤を介して接着されていることを特徴とする請求項1に記載のポリイミドフィルム積層体。
- ポリイミドフィルム上に金属層が直接形成されていることを特徴とする請求項1に記載のポリイミドフィルム積層体。
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- 2005-05-02 WO PCT/JP2005/008650 patent/WO2005108467A1/ja active Application Filing
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