JP4443176B2 - 接着補助剤組成物 - Google Patents
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Description
(1)フェノール性水酸基含有ポリアミドと溶媒を含有する接着補助剤組成物
(2)フェノール性水酸基含有ポリアミドが下記式(3)
(3)ポリイミドフィルム用に調製された上記(1)または(2)記載の接着補助剤組成物
(4)ポリイミド前駆体の表面に上記(1)または(2)記載の接着補助剤組成物をコーティングし、加熱して得られるフィルム
(5)上記(4)記載のフィルムを有する片面銅張積層板
(6)上記(4)記載のフィルムを有する両面銅張積層板
(7)上記(4)記載のフィルムを有するフレキシブル印刷配線用基板
(8)上記(4)記載のフィルムを有する多層印刷配線用基板
に関する。
本発明の接着補助剤組成物のフェノール性水酸基含有ポリアミドは、通常フェノール性水酸基含有ジカルボン酸とジアミン、場合により他のジカルボン酸との縮合反応によって得られ、前記好ましい全芳香族ポリアミドは、フェノール性水酸基含有ジカルボン酸と芳香族ジアミン、場合により他の芳香族ジカルボン酸を用いて得られる。
(引張弾性率の測定)
フィルムをテンシロン試験機(東洋ボールドウィン製)を用いて、ASTM D882に準拠して測定した。
(線膨張係数の測定)
フィルムをTMA−8140(理学電気製)を用いて、引張法(荷重1.0〜5.0g)にて、昇温速度5℃/分で室温〜500℃を窒素気流下で測定し、室温〜200℃での平均線膨張係数を求めた。
(両面銅張積層板の剥離強度の測定)
両面銅張積層板をテンシロン試験機(東洋ボールドウィン製)を用いて、JIS C6481に準拠して測定した。
温度計、環流冷却器、滴下ロート、窒素導入装置、攪拌装置のついた500mlの反応器に、5−ヒドロキシイソフタル酸30.59g(0.168モル)、4,4'−メチレンビス(2,6−ジエチルアニリン)53.20g(0.171モル)と、塩化リチウム7.35gを仕込み、乾燥窒素を流しながら、N−メチル−2−ピロリドン283.5gと、ピリジン39.20gを加え、撹拌しながら反応器内が95℃になるまで徐々に加熱し、固形分を溶解させた。その後、反応器内を撹拌し95℃に保ち、亜リン酸トリフェニル85.40gを2時間で滴下し、滴下後反応器内が120℃になるまで加熱し、さらに2時間反応させ、フェノール性水酸基含有ポリアミドを合成した。
温度計、環流冷却器、滴下ロート、窒素導入装置、攪拌装置のついた500mlの反応器に、5−ヒドロキシイソフタル酸15.30g(0.084モル)、イソフタル酸13.95g(0.084モル)、3,4'−ジアミノジフェニルエーテル34.24g(0.171モル)と、塩化リチウム5.57gを仕込み、乾燥窒素を流しながら、N−メチル−2−ピロリドン214.8gと、ピリジン39.20gを加え、撹拌しながら反応器内が95℃になるまで徐々に加熱し、固形分を溶解させた。その後、反応器内を撹拌し95℃に保ち、亜リン酸トリフェニル85.40gを2時間で滴下し、滴下後反応器内を95℃に保ち、さらに2時間反応させ、フェノール性水酸基含有ポリアミドを合成した。
温度計、環流冷却器、粉体導入口、窒素導入装置、攪拌装置のついた500mlの反応器に、p−フェニレンジアミン13.04g(0.121モル)と4,4'−ジアミノジフェニルエーテル4.320g(0.022モル)を仕込み、乾燥窒素を流しながら、N−メチル−2−ピロリドン420.0gを加え、室温で撹拌しながら固形分を溶解させた。その後、反応器内を撹拌し45℃以下に保ち、3,3',4,4'−ビフェニルテトラカルボン酸42.72g(0.145モル)を粉体導入口より約2時間で添加し、添加後反応器内を35℃以下に保ち、さらに16時間反応させた。反応終了後、孔径3μmのテフロン(登録商標)フィルターを用い加圧濾過し、下記式(6)
合成例1で得られた式(4)で表されるフェノール性水酸基含有ポリアミド40gをN−メチル−2−ピロリドン160gに溶解させ、本発明の接着補助剤組成物を得た。
合成例2で得られた式(5)で表されるフェノール性水酸基含有ポリアミド40gをN−メチル−2−ピロリドン160gに溶解させ、本発明の接着補助剤組成物を得た。
合成例3で得られた式(6)で表されるポリイミド前駆体溶液を、オートマチックアプリケーター(安田精機製作所製)を用い18μm厚の電解銅箔(株式会社ジャパンエナジー製)上に150μm厚で塗布した後、130℃×10分乾燥した。そのポリイミド前駆体上に、実施例1で得られた接着補助剤組成物を30μm厚で塗布した後、130℃×10分乾燥した。その後、窒素気流下、130℃から350℃まで2時間かけて昇温し、更に350℃×2時間の加熱処理でイミド化し、本発明の表面接着性片面銅張積層板を得た。銅箔をエッチングしたフィルムは21μm厚、引張弾性率5.3GPa、線膨張係数23であった。
合成例3で得られた式(6)で表されるポリイミド前駆体溶液を、オートマチックアプリケーター(安田精機製作所製)を用い18μm厚の電解銅箔(株式会社ジャパンエナジー製)上に150μm厚で塗布した後、130℃×10分乾燥した。そのポリイミド前駆体上に、実施例2で得られた接着補助剤組成物を30μm厚で塗布した後、130℃×10分乾燥した。その後、窒素気流下、130℃から350℃まで2時間かけて昇温し、更に350℃×2時間の加熱処理でイミド化し、本発明の表面接着性片面銅張積層板を得た。銅箔をエッチングしたフィルムは22μm厚、引張弾性率5.1GPa、線膨張係数25であった。
実施例3で得られた片面銅張積層板の樹脂面どうしを、EPPN−501H(トリフェニルメタン骨格含有ノボラック型エポキシ樹脂、日本化薬株式会社製、エポキシ当量167g/eq)50重量部、RE−310S(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、日本化薬株式会社製、エポキシ当量182g/eq)50重量部、カヤハードTPM(トリフェニルメタン骨格を有するノボラック樹脂、日本化薬株式会社製、水酸基当量97g/eq)54.5重量部、カヤフレックス(フェノール性水酸基含有芳香族ポリアミド−ポリ(ブタジエン−アクリロニトリル)ブロック共重合体、日本化薬株式会社製)70重量部、DHT−4A(協和化学工業株式会社製、ハイドロタルサイト系イオン捕捉剤、Mg4.3Al2(OH)12.6CO3・3.5H2O)5重量部、IXE−100(東亞合成株式会社製、リン酸ジルコニウム系イオン捕捉剤)2重量部と、CS−3N−A(宇部マテリアルズ株式会社製、高純度炭酸カルシウム、純度99.9%以上)50重量部とからなるエポキシ系接着剤で張り合わせた後、170℃、5MPaで60分間加熱圧着し、本発明の両面銅張積層板を得た。
実施例4で得られた片面銅張積層板の樹脂面どうしを、NC−3000(ビフェニル骨格含有エポキシ樹脂、日本化薬株式会社製、エポキシ当量275g/eq)100重量部、カヤハードTPM(トリフェニルメタン骨格を有するノボラック樹脂、日本化薬株式会社製、水酸基当量97g/eq)35.3重量部、カヤフレックス(フェノール性水酸基含有芳香族ポリアミド−ポリ(ブタジエン−アクリロニトリル)ブロック共重合体、日本化薬株式会社製)70重量部、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン(TPP)2重量部とからなるエポキシ系接着剤で張り合わせた後、170℃、5MPaで60分間加熱圧着し、本発明の両面銅張積層板を得た。
ポリイミド前駆体上に、本発明の接着補助剤組成物を塗布しない以外は実施例2と同様にして片面銅張積層板(フィルム厚18μm、引張弾性率5.7GPa、線膨張係数21)を得、実施例3と同様にしてエポキシ系接着剤により両面銅張積層板を得た。
実施例5 実施例6 比較例1
剥離強度 9.5N/cm 10.8N/cm 6.3N/cm
剥離界面 銅箔/フィルム 銅箔/フィルム エポキシ系接着層/フィルム
Claims (7)
- ポリイミド前駆体溶液を基板に塗布し、乾燥してポリイミド前駆体フィルムを作成し、その上にフェノール性水酸基含有ポリアミドと溶媒を含有する接着補助剤組成物を塗布し、乾燥した後、200〜500℃で加熱してポリイミド前駆体をイミド化することを特徴とする表面接着性のフィルムの製造方法。
- ポリイミド前駆体溶液を基板に塗布し、50〜150℃で5〜180分間乾燥してポリイミド前駆体フィルムを作製し、その上にフェノール性水酸基含有ポリアミドと溶媒を含有する接着補助剤組成物を塗布し、50〜150℃で5〜180分間乾燥した後、窒素気流下200〜500℃で20〜300分間加熱してポリイミド前駆体をイミド化する請求項1または2記載の表面接着性のフィルムの製造方法。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法により得られるフィルムを有する片面同張積層版であって、該フィルムと銅箔との剥離強度が9.5N/cm以上である片面同張積層版。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法により得られるフィルムを有する両面同張積層版であって、該フィルムと銅箔との剥離強度が9.5N/cm以上である両面同張積層版。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法により得られるフィルムを有するフレキシブル印刷配線用基板であって、該フィルムと銅箔との剥離強度が9.5N/cm以上であるフレキシブル印刷配線用基板。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造方法により得られるフィルムを有する多層印刷配線用基板であって、該フィルムと銅箔との剥離強度が9.5N/cm以上である多層印刷配線用基板。
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