JP2005316388A - Radiation sensitive composition for color filter, color filter and color liquid crystal display - Google Patents

Radiation sensitive composition for color filter, color filter and color liquid crystal display Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation sensitive composition for a color filter having adhesion to a substrate and satisfactory developability even under low exposure energy and excellent in surface smoothness of a pattern, storage stability, etc. <P>SOLUTION: The radiation sensitive composition for a color filter comprises (A) a pigment, (B) a dispersant, (C) an alkali-soluble resin comprising a copolymer of (c1) a carboxylic unsaturated monomer including (meth)acrylic acid, (c2) N-substituted maleimide and (c3) at least one selected from the group consisting of styrene, styrenic materials such as α-methylstyrene, acrylate materials such as methyl (meth)acrylate, a polystyrene macromonomer and a polymethyl methacrylate macromonomer, (D) a polyfunctional monomer, (E) a photopolymerization initiator and (F) a solvent, wherein the dispersant (B) comprises an acrylic copolymer obtained through living anionic polymerization and having an amine value (unit; mgKOH/g) and an acid value (unit; mgKOH/g) each greater than 0. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、カラーフィルタ用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示装置に関する。より詳しくは、透過型あるいは反射型のカラー液晶表示装置、カラー撮像管素子等に用いられるカラーフィルタの製造に有用なカラーフィルタ用感放射線性組成物、当該組成物から形成されたカラーフィルタおよび当該カラーフィルタを具備するカラー液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a radiation sensitive composition for a color filter, a color filter, and a color liquid crystal display device. More specifically, a radiation-sensitive composition for a color filter useful for the production of a color filter used for a transmissive or reflective color liquid crystal display device, a color imaging tube element, etc., a color filter formed from the composition, and the The present invention relates to a color liquid crystal display device including a color filter.

着色感放射線性組成物を用いてカラーフィルタを製造するに当たっては、通常、基板上あるいは予め所望パターンの遮光層を形成した基板上に、着色感放射線性組成物の被膜を形成し、所望のパターン形状を有するフォトマスクを介して放射線を照射（以下、「露光」という。）しそして現像して未露光部を溶解除去したのち、クリーンオーブンやホットプレートを用いてポストベークすることにより、各色の画素パターンを形成する方法（特許文献１および特許文献２参照。）が知られている。しかし、この方法では、特に着色感放射線性組成物に含まれる顔料の濃度が高くなると、現像時に未露光部の基板上あるいは遮光層上に残渣や地汚れを生じる場合がある。
このような残渣や地汚れの生成を回避するためには、現像液の吐出圧を上げることが効果的ではあるが、その一方でパターンの欠けや剥がれが発生する弊害が現れるため、基板への密着性に優れ、現像液の吐出圧を上げてもパターンの欠けや剥がれが生じない着色感放射線性組成物が求められるようになってきた。 In producing a color filter using a colored radiation-sensitive composition, a coating of the colored radiation-sensitive composition is usually formed on a substrate or a substrate on which a light-shielding layer having a desired pattern has been formed in advance. Radiation is irradiated through a photomask having a shape (hereinafter referred to as “exposure”), development is performed to dissolve and remove unexposed portions, and then post-baking is performed using a clean oven or a hot plate. A method of forming a pixel pattern (see Patent Document 1 and Patent Document 2) is known. However, in this method, in particular, when the concentration of the pigment contained in the colored radiation-sensitive composition is increased, a residue or background stain may occur on the unexposed portion of the substrate or the light shielding layer during development.
In order to avoid the generation of such residues and background stains, it is effective to increase the discharge pressure of the developing solution, but on the other hand, since the problem of chipping or peeling of the pattern appears, There has been a demand for a colored radiation-sensitive composition that has excellent adhesion and does not cause pattern chipping or peeling even when the discharge pressure of the developer is increased.

また近年、液晶表示装置の大型化が進行しており、カラーフィルタが形成される基板も大きくなってきている。そのため、カラーフィルタを形成する際の露光工程では、数回に分けて露光する「分割露光」と呼ばれる方法が採用されているが、その一方で露光に要する延べ時間が長くなってきている。そこで生産性向上の観点から、より短い露光時間でも画素パターンを形成できる着色感放射線性組成物が求められている。
しかし、従来の着色感放射線性組成物では、短い露光時間、即ち低露光量で画素パターンを形成すると、現像時にパターンの欠けや欠落が生ずる場合があり、必ずしも満足できるとはいえない。また低露光量の場合、着色感放射線性組成物からの被膜の硬化不足により、パターンの表面平滑性が著しく損なわれ、その結果液晶の配向不良などを生じるという問題があった。しかも、従来の着色感放射線性組成物は、一般に経時的に増粘する傾向があり、調製後長期間保管できないという問題があった。
そのため、基板への密着性に優れ、低露光量であっても十分な現像性およびパターンの表面平滑性を有し、しかも保存安定性にも優れたカラーフィルタ用感放射線性組成物の開発が強く求められている。
特開平２−１４４５０２号公報 特開平３−５３２０１号公報 In recent years, the size of liquid crystal display devices has been increasing, and the substrates on which color filters are formed have also become larger. For this reason, in the exposure process when forming the color filter, a method called “divided exposure” in which exposure is performed in several steps is adopted, but on the other hand, the total time required for exposure is getting longer. Therefore, from the viewpoint of improving productivity, a colored radiation-sensitive composition capable of forming a pixel pattern even with a shorter exposure time is required.
However, in the conventional colored radiation-sensitive composition, when a pixel pattern is formed with a short exposure time, that is, with a low exposure amount, the pattern may be missing or missing during development, which is not always satisfactory. In the case of a low exposure amount, there is a problem that the surface smoothness of the pattern is remarkably impaired due to insufficient curing of the coating film from the colored radiation-sensitive composition, resulting in poor alignment of the liquid crystal. Moreover, conventional colored radiation-sensitive compositions generally have a tendency to increase in viscosity over time and have a problem that they cannot be stored for a long time after preparation.
Therefore, the development of a radiation sensitive composition for a color filter having excellent adhesion to a substrate, sufficient developability and surface smoothness of a pattern even with a low exposure amount, and excellent storage stability. There is a strong demand.
JP-A-2-144502 JP-A-3-53201

本発明の課題は、基板への密着性に優れ、低露光量であっても十分な現像性およびパターンの表面平滑性を有ししかも保存安定性等にも優れたカラーフィルタ用感放射線性組成物を提供することにある。
本発明の他の課題は、本発明の上記組成物から形成されるカラーフィルタを提供することにある。
本発明のさらに他の課題は、本発明のカラーフィルタを備えた液晶表示装置を提供することにある。
本発明のさらに他の課題および利点等は以下の説明から明らかになろう。 An object of the present invention is to provide a radiation sensitive composition for a color filter which has excellent adhesion to a substrate, has sufficient developability and surface smoothness of a pattern even at a low exposure, and has excellent storage stability and the like. To provide things.
The other subject of this invention is providing the color filter formed from the said composition of this invention.
Still another object of the present invention is to provide a liquid crystal display device provided with the color filter of the present invention.
Other problems and advantages of the present invention will be apparent from the following description.

本発明によれば、本発明の上記課題は、第一に、
（Ａ）顔料、（Ｂ）分散剤、（Ｃ）（ｃ１）（メタ）アクリル酸を含有するカルボキシル基含有不飽和単量体と、（ｃ２）Ｎ−位置換マレイミドと、（ｃ３）スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、ポリスチレンマクロモノマーおよびポリメチルメタクリレートマクロモノマーの群から選ばれる少なくとも１種との共重合体からなるアルカリ可溶性樹脂、（Ｄ）多官能性単量体、（Ｅ）光重合開始剤および（Ｆ）溶媒を含有しそして上記（Ｂ）分散剤がリビングアニオン重合を経て得られ且つアミン価（単位ｍｇＫＯＨ／ｇ）と酸価（単位ｍｇＫＯＨ／ｇ）とがいずれも０を超えるアクリル系共重合体を含有することを特徴とするカラーフィルタ用感放射線性組成物によって解決される。 According to the present invention, the above-mentioned problems of the present invention are, firstly,
(A) pigment, (B) dispersant, (C) (c1) a carboxyl group-containing unsaturated monomer containing (meth) acrylic acid, (c2) N-substituted maleimide, (c3) styrene, α-methylstyrene, p-hydroxy-α-methylstyrene, methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate An alkali-soluble resin comprising a copolymer with at least one selected from the group consisting of benzyl (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, polystyrene macromonomer and polymethylmethacrylate macromonomer, (D) polyfunctional monomer And (E) a photopolymerization initiator and (F) a solvent, and (B) For color filters, wherein the powder is obtained through living anionic polymerization and contains an acrylic copolymer in which both the amine value (unit mgKOH / g) and the acid value (unit mgKOH / g) exceed 0 Solved by a radiation sensitive composition.

本発明によれば、本発明の上記課題は、第二に、
（Ａ）顔料、（Ｂ）分散剤、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｄ）多官能性単量体、（Ｅ）光重合開始剤および（Ｆ）溶媒を含有しそして上記（Ｂ）分散剤がリビングアニオン重合を経て得られ且つアミン価（単位ｍｇＫＯＨ／ｇ）と酸価（単位ｍｇＫＯＨ／ｇ）がいずれも０を超えるアクリル系共重合体を含有し、そして上記（Ａ）顔料は（Ｂ）分散剤、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂および（Ｆ）溶媒を含む媒体中に予め分散させて調製されたものであることを特徴とするカラーフィルタ用感放射線性組成物によって解決される。 According to the present invention, the above problem of the present invention is secondly,
(A) a pigment, (B) a dispersant, (C) an alkali-soluble resin, (D) a polyfunctional monomer, (E) a photopolymerization initiator and (F) a solvent, and the (B) dispersant Containing an acrylic copolymer obtained through living anionic polymerization and having both an amine value (unit mgKOH / g) and an acid value (unit mgKOH / g) exceeding 0, and the pigment (A) is (B It is solved by a radiation sensitive composition for a color filter, which is prepared by previously dispersing in a medium containing a dispersant, (C) an alkali-soluble resin, and (F) a solvent.

本発明によれば、本発明の上記課題は、第三に、前記各カラーフィルタ用感放射線性組成物から形成されたカラーフィルタによって解決される。   According to this invention, the said subject of this invention is solved by the color filter formed from the said radiation sensitive composition for said each color filter 3rdly.

本発明によれば、本発明の上記課題は、第四に、前記カラーフィルタを具備する液晶表示装置によって解決される。   According to the present invention, fourthly, the above-mentioned problems of the present invention are solved by a liquid crystal display device comprising the color filter.

本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物は、基板への密着性に優れ、低露光量であっても十分な現像性およびパターンの表面平滑性を有し、しかも保存安定性等にも優れている。
したがって、本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物は、電子工業分野におけるカラー液晶表示装置用カラーフィルタを始めとする各種のカラーフィルタの形成に極めて好適に使用することができる。 The radiation sensitive composition for a color filter of the present invention has excellent adhesion to a substrate, has sufficient developability and surface smoothness of a pattern even at a low exposure amount, and is excellent in storage stability and the like. ing.
Therefore, the radiation sensitive composition for color filters of the present invention can be used very suitably for the formation of various color filters including color filters for color liquid crystal display devices in the electronic industry.

以下、本発明について詳細に説明する。
カラーフィルタ用感放射線性組成物
−（Ａ）顔料−
本発明における顔料としては、特に限定されるものではなく、有機顔料、無機顔料のいずれでもよい。このうち、カラーフィルタには高純度で高透過性の発色と耐熱性が求められることから、特に有機顔料が好ましい。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
Radiation sensitive composition for color filter-(A) Pigment-
The pigment in the present invention is not particularly limited, and may be an organic pigment or an inorganic pigment. Of these, organic pigments are particularly preferred because color filters are required to have high-purity and highly transparent color development and heat resistance.

前記有機顔料としては、例えば、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．；Ｔｈｅ Ｓｏｃｉｅｔｙ ｏｆ Ｄｙｅｒｓ ａｎｄ Ｃｏｌｏｕｒｉｓｔｓ 社発行）においてピグメントに分類されている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）番号が付されているものを挙げることができる。
Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー３１、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー５５、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー９３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１１０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５５、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１６６、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２１１；
Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４３、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ５１、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６１、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ７１；
Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２４２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２４３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４；
Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、ピグメントバイオレット２３、ピグメントバイオレット２９；
Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６；
Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン１３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン２１０；
Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２５。
これらの有機顔料は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
本発明において、有機顔料は、再結晶法、再沈殿法、溶剤洗浄法、昇華法、真空加熱法や、これらの組み合わせにより精製して使用することもできる。
また、前記無機顔料としては、例えば、酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、亜鉛華、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら（赤色酸化鉄(III))、カドミウム赤、群青、紺青、酸化クロム緑、コバルト緑、アンバー、チタンブラック、合成鉄黒、カーボンブラック等を挙げることができる。
これらの無機顔料は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
さらに、本発明においては、場合により、前記顔料と共に、染料や天然色素を１種以上併用することもできる。 Examples of the organic pigment include compounds classified as pigments in the Color Index (CI; issued by The Society of Dyers and Colorists), specifically, the following Color Index (C.I. ) Can be listed.
C. I. Pigment yellow 12, C.I. I. Pigment yellow 13, C.I. I. Pigment yellow 14, C.I. I. Pigment yellow 17, C.I. I. Pigment yellow 20, C.I. I. Pigment yellow 24, C.I. I. Pigment yellow 31, C.I. I. Pigment yellow 55, C.I. I. Pigment yellow 83, C.I. I. Pigment yellow 93, C.I. I. Pigment yellow 109, C.I. I. Pigment yellow 110, C.I. I. Pigment yellow 138, C.I. I. Pigment yellow 139, C.I. I. Pigment yellow 150, C.I. I. Pigment yellow 153, C.I. I. Pigment yellow 154, C.I. I. Pigment yellow 155, C.I. I. Pigment yellow 166, C.I. I. Pigment yellow 168, C.I. I. Pigment yellow 211;
C. I. Pigment orange 36, C.I. I. Pigment orange 43, C.I. I. Pigment orange 51, C.I. I. Pigment orange 61, C.I. I. Pigment orange 71;
C. I. Pigment red 9, C.I. I. Pigment red 97, C.I. I. Pigment red 122, C.I. I. Pigment red 123, C.I. I. Pigment red 149, C.I. I. Pigment red 168, C.I. I. Pigment red 176, C.I. I. Pigment red 177, C.I. I. Pigment red 180, C.I. I. Pigment red 185, C.I. I. Pigment red 207, C.I. I. Pigment red 208, C.I. I. Pigment red 209, C.I. I. Pigment red 215, C.I. I. Pigment red 224, C.I. I. Pigment red 242, C.I. I. Pigment red 243, C.I. I. Pigment red 254;
C. I. Pigment violet 19, pigment violet 23, pigment violet 29;
C. I. Pigment blue 15, C.I. I. Pigment blue 60, C.I. I. Pigment blue 15: 3, C.I. I. Pigment blue 15: 4, C.I. I. Pigment blue 15: 6;
C. I. Pigment green 7, C.I. I. Pigment green 36, C.I. I. Pigment green 136, C.I. I. Pigment green 210;
C. I. Pigment brown 23, C.I. I. Pigment Brown 25.
These organic pigments can be used alone or in admixture of two or more.
In the present invention, the organic pigment can be purified and used by a recrystallization method, a reprecipitation method, a solvent washing method, a sublimation method, a vacuum heating method, or a combination thereof.
Examples of the inorganic pigment include titanium oxide, barium sulfate, calcium carbonate, zinc white, lead sulfate, yellow lead, zinc yellow, red bean curd (red iron oxide (III)), cadmium red, ultramarine blue, bitumen, and chromium oxide. Examples include green, cobalt green, amber, titanium black, synthetic iron black, and carbon black.
These inorganic pigments can be used alone or in admixture of two or more.
Furthermore, in the present invention, in some cases, one or more dyes or natural pigments can be used in combination with the pigment.

本発明において、顔料は、所望により、その粒子表面をポリマーで改質して使用することができる。顔料の粒子表面を改質するポリマーとしては、例えば特開平８−２５９８７６号公報に記載されたポリマーや、市販の各種の顔料分散用のポリマーまたはオリゴマー等を挙げることができる。   In the present invention, the pigment can be used by modifying the particle surface with a polymer, if desired. Examples of the polymer that modifies the particle surface of the pigment include polymers described in JP-A-8-259876, various commercially available polymers or oligomers for dispersing pigments, and the like.

−（Ｂ）分散剤−
本発明における分散剤は、リビングアニオン重合を経て得られそしてアミン価（単位ｍｇＫＯＨ／ｇ。以下同様。）と酸価（単位ｍｇＫＯＨ／ｇ。以下同様。）がいずれも０を超えるアクリル系共重合体（以下、「アクリル系分散剤（Ｂ１）」という。）を必須成分とするものである。 -(B) Dispersant-
The dispersant in the present invention is obtained through living anionic polymerization and has an acrylic copolymer having an amine value (unit: mgKOH / g; the same applies hereinafter) and acid value (unit: mgKOH / g; the same applies hereinafter) both exceeding 0. A combination (hereinafter referred to as “acrylic dispersant (B1)”) is an essential component.

アクリル系分散剤（Ｂ１）のアミン価は、好ましくは１０〜１００、さらに好ましくは１５〜５０であり、またアクリル系分散剤（Ｂ１）の酸価は、好ましくは５〜５０、さらに好ましくは１０〜３０である。この場合、アクリル系分散剤（Ｂ１）のアミン価が０（ゼロ）であると、得られる組成物の保存安定性が低下する傾向がある。また、アクリル系分散剤（Ｂ１）の酸価が０（ゼロ）であると、基板への密着性が低下する傾向がある。   The amine value of the acrylic dispersant (B1) is preferably 10 to 100, more preferably 15 to 50, and the acid value of the acrylic dispersant (B1) is preferably 5 to 50, more preferably 10 ~ 30. In this case, when the amine value of the acrylic dispersant (B1) is 0 (zero), the storage stability of the resulting composition tends to decrease. Moreover, there exists a tendency for the adhesiveness to a board | substrate to fall that the acid value of an acrylic type dispersing agent (B1) is 0 (zero).

アクリル系分散剤（Ｂ１）の市販品としては、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−２００１（アミン価＝２９ 、酸価＝１９ 、ビックケミー（ＢＹＫ）社製）等を挙げることができる。
本発明において、アクリル系分散剤（Ｂ１）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。 Examples of commercially available acrylic dispersants (B1) include Disperbyk-2001 (amine value = 29, acid value = 19, manufactured by BYK Chemy (BYK)).
In this invention, an acrylic type dispersing agent (B1) can be used individually or in mixture of 2 or more types.

本発明においては、アクリル系分散剤（Ｂ１）と共に、他の分散剤を併用することができる。
前記他の分散剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルの如きポリオキシエチレンアルキルエーテル；ポリオキシエチレンｎ−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンｎ−ノニルフェニルエーテルの如きポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル；ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレートの如きポリエチレングリコールジエステル；ソルビタン脂肪酸エステル；脂肪酸変性ポリエステル；３級アミン変性ポリウレタン；ポリエチレンイミン類のほか、以下商品名で、ＫＰ（信越化学工業（株）製）、ポリフロー（共栄社化学（株）製）、エフトップ（トーケムプロダクツ社製）、メガファック（大日本インキ化学工業（株）製）、フロラード（住友スリーエム（株）製）、アサヒガード、サーフロン（以上、旭硝子（株）製）や、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０１、同−１０３、同−１０７、同−１１０、同−１１１、同−１１５、同−１３０、同−１６０、同−１６１、同−１６２、同−１６３、同−１６４、同−１６５、同−１６６、同−１７０、同−１８０、同−１８２、同−２０００（以上、ビックケミー・ジャパン（株）製）、ソルスパースＳ５０００、同１２０００、同１３２４０、同１３９４０、同１７０００、同２００００、同２２０００、同２４０００、同２４０００ＧＲ、同２６０００、同２７０００、同２８０００（以上、アビシア（株）製）、ＥＦＫＡ４６、同４７、同４８、同７４５、同４５４０、同４５５０、同６７５０、ＥＦＫＡ ＬＰ４００８、同４００９、同４０１０、同４０１５、同４０５０、同４０５５、同４５６０、同４８００、ＥＦＫＡ Ｐｏｌｙｍｅｒ４００、同４０１、同４０２、同４０３、同４５０、同４５１、同４５３（以上、エフカケミカルズ（株）製）；アジスパ−ＰＢ−８２２（味の素ファインテクノ（株）製）等を挙げることができる。
これらの他の分散剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。 In the present invention, other dispersants can be used in combination with the acrylic dispersant (B1).
Examples of the other dispersants include polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether; polyoxyethylene n-octylphenyl ether, polyoxyethylene n-nonyl. Polyoxyethylene alkyl phenyl ethers such as phenyl ether; polyethylene glycol diesters such as polyethylene glycol dilaurate and polyethylene glycol distearate; sorbitan fatty acid esters; fatty acid-modified polyesters; tertiary amine-modified polyurethanes; polyethyleneimines; , KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Polyflow (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), F-Top (manufactured by Tochem Products), Megapha (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), Florard (Sumitomo 3M Co., Ltd.), Asahi Guard, Surflon (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Disperbyk-101, -103, -107, Same-110, Same-111, Same-115, Same-130, Same-160, Same-161, Same-162, Same-163, Same-164, Same-165, Same-166, Same-170, Same- 180, -182, -2000 (above, manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.), Solsperse S5000, 12000, 13240, 13940, 17000, 20000, 22000, 24000, 24000GR, 26000 27000, 28000 (above, manufactured by Avicia Co., Ltd.), EFKA46, 47, 48, 745, 4540, 4 50, 6750, EFKA LP4008, 4009, 4010, 4015, 4015, 4050, 4055, 4560, 4800, EFKA Polymer400, 401, 402, 403, 450, 451, 453 ( As mentioned above, Fuka Chemicals Co., Ltd.); Ajispa-PB-822 (Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) etc. can be mentioned.
These other dispersants can be used alone or in admixture of two or more.

他の分散剤の使用割合は、アクリル系分散剤（Ｂ１）と他の分散剤との合計量に対して、好ましくは０〜７５重量％、より好ましくは０〜５０重量％である。この場合、他の分散剤の使用割合が７５重量％を超えると、現像性、表面平滑性および保存安定性の良好なバランスを確保できなくなるおそれがある。   The use ratio of the other dispersant is preferably 0 to 75% by weight, more preferably 0 to 50% by weight, based on the total amount of the acrylic dispersant (B1) and the other dispersant. In this case, if the proportion of the other dispersant used exceeds 75% by weight, a good balance of developability, surface smoothness and storage stability may not be ensured.

本発明におけるアクリル系分散剤（Ｂ１）の使用量（固形分換算）は、（Ａ）顔料１００重量部に対して、好ましくは１〜５０重量部、さらに好ましくは３〜３０重量部である。この場合、アクリル系分散剤（Ｂ１）の使用量が１重量部未満では、得られる組成物の保存安定性が低下する傾向があり、一方５０重量部を超えると、基板上に残渣が発生しやすくなる傾向がある。   The amount of the acrylic dispersant (B1) used in the present invention (in terms of solid content) is preferably 1 to 50 parts by weight, more preferably 3 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (A) pigment. In this case, if the amount of the acrylic dispersant (B1) used is less than 1 part by weight, the storage stability of the resulting composition tends to decrease, whereas if it exceeds 50 parts by weight, a residue is generated on the substrate. It tends to be easier.

−（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂−
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂としては、（Ａ）顔料に対してバインダーとして作用し、かつカラーフィルタを製造する際の現像工程で用いられる現像液、特に好ましくはアルカリ現像液に対して可溶性を有するものであれば、特に限定されるものではない。なかでも、カルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく、特に、１個以上のカルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体（以下、「カルボキシル基含有不飽和単量体」という。）と他の共重合可能なエチレン性不飽和単量体（以下、「共重合性不飽和単量体」という。）との共重合体（以下、「カルボキシル基含有共重合体」という。）が好ましい。 -(C) Alkali-soluble resin-
As the alkali-soluble resin in the present invention, (A) a developer that acts as a binder for the pigment and that is used in a developing step when producing a color filter, particularly preferably soluble in an alkali developer. If it is, it will not specifically limit. Among them, an alkali-soluble resin having a carboxyl group is preferable, and in particular, an ethylenically unsaturated monomer having one or more carboxyl groups (hereinafter referred to as “carboxyl group-containing unsaturated monomer”) and other co-polymers. A copolymer (hereinafter referred to as “carboxyl group-containing copolymer”) with a polymerizable ethylenically unsaturated monomer (hereinafter referred to as “copolymerizable unsaturated monomer”) is preferred.

カルボキシル基含有不飽和単量体としては、例えば、
（メタ）アクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、けい皮酸の如き不飽和モノカルボン酸；
マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸の如き不飽和ジカルボン酸またはその無水物；
３価以上の不飽和多価カルボン酸またはその無水物；
こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕、フタル酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕の如き２価以上の多価カルボン酸のモノ〔（メタ）アクリロイロキシアルキル〕エステル；
ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートの如き両末端にカルボキシ基と水酸基とを有するポリマーのモノ（メタ）アクリレート
等を挙げることができる。
これらのカルボキシル基含有不飽和単量体のうち、フタル酸モノ（２−アクリロイロキシエチル）は、Ｍ−５４００（東亞合成（株）製）の商品名で市販されている。
前記カルボキシル基含有不飽和単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。 As the carboxyl group-containing unsaturated monomer, for example,
Unsaturated carboxylic acids such as (meth) acrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid, cinnamic acid;
Unsaturated dicarboxylic acids such as maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, mesaconic acid or anhydrides thereof;
A trivalent or higher unsaturated polycarboxylic acid or anhydride thereof;
Mono [(meth) acryloyloxyalkyl] of polyvalent carboxylic acids such as succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] and phthalic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] ester;
Examples thereof include mono (meth) acrylates of polymers having a carboxy group and a hydroxyl group at both ends, such as ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate.
Among these carboxyl group-containing unsaturated monomers, mono (2-acryloyloxyethyl) phthalate is commercially available under the trade name M-5400 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
The said carboxyl group-containing unsaturated monomer can be used individually or in mixture of 2 or more types.

また、共重合性不飽和単量体としては、例えば、
マレイミド；
Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−ｏ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｍ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ｐ−ヒドロキシフェニルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（アクリジニル）マレイミドの如きＮ−位置換マレイミド；
スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−ビニルトルエン、ｍ−ビニルトルエン、ｐ−ビニルトルエン、ｐ−クロルスチレン、ｏ−メトキシスチレン、ｍ−メトキシスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、ｏ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｍ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｐ−ビニルベンジルメチルエーテル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテルの如き芳香族ビニル化合物；
インデン、１−メチルインデンの如きインデン類； Examples of the copolymerizable unsaturated monomer include:
Maleimide;
N-phenylmaleimide, N-o-hydroxyphenylmaleimide, Nm-hydroxyphenylmaleimide, Np-hydroxyphenylmaleimide, N-benzylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-succinimidyl-3-maleimidobenzoate, N- N-substituted maleimides such as succinimidyl-4-maleimidobutyrate, N-succinimidyl-6-maleimidocaproate, N-succinimidyl-3-maleimidopropionate, N- (acridinyl) maleimide;
Styrene, α-methylstyrene, o-vinyltoluene, m-vinyltoluene, p-vinyltoluene, p-chlorostyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxystyrene, p-hydroxy-α-methylstyrene Aromatic vinyl compounds such as o-vinylbenzyl methyl ether, m-vinylbenzyl methyl ether, p-vinylbenzyl methyl ether, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, p-vinylbenzyl glycidyl ether;
Indenes such as indene and 1-methylindene;

メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｉ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングルコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングルコール（メタ）アクリレート、メトキシプロピレングルコール（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングルコール（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロ[ ５．２．１．０2,6 ] デカン−８−イル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレートの如き不飽和カルボン酸エステル；   Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, i-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) Acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl ( (Meth) acrylate, 3-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxypropylene glycol (meth) acrylate, methoxydi Propylene glycol (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.02,6] decan-8-yl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, glycerol Unsaturated carboxylic esters such as mono (meth) acrylate;

２−アミノエチル（メタ）アクリレート、２−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、２−アミノプロピル（メタ）アクリレート、２−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、３−アミノプロピル（メタ）アクリレート、３−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレートの如き不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル；
グリシジル（メタ）アクリレートの如き不飽和カルボン酸グリシジルエステル；
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニルの如きカルボン酸ビニルエステル；
ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、アリルグリシジルエーテルの如き他の不飽和エーテル；
（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、シアン化ビニリデンの如きシアン化ビニル化合物；
（メタ）アクリルアミド、α−クロロアクリルアミド、Ｎ−２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミドの如き不飽和アミド；
１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロプレンの如き脂肪族共役ジエン；
ポリスチレン、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリ−ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ポリシロキサンの如き重合体分子鎖の末端にモノ（メタ）アクリロイル基を有するマクロモノマー等を挙げることができる。
これらの共重合性不飽和単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。 2-aminoethyl (meth) acrylate, 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-aminopropyl (meth) acrylate, 2-dimethylaminopropyl (meth) acrylate, 3-aminopropyl (meth) acrylate, 3-dimethyl Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl esters such as aminopropyl (meth) acrylate;
Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl (meth) acrylate;
Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl benzoate;
Other unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, allyl glycidyl ether;
Vinyl cyanide compounds such as (meth) acrylonitrile, α-chloroacrylonitrile, vinylidene cyanide;
Unsaturated amides such as (meth) acrylamide, α-chloroacrylamide, N-2-hydroxyethyl (meth) acrylamide;
Aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene, chloroprene;
Examples thereof include a macromonomer having a mono (meth) acryloyl group at the end of a polymer molecular chain such as polystyrene, polymethyl (meth) acrylate, poly-n-butyl (meth) acrylate, and polysiloxane.
These copolymerizable unsaturated monomers can be used alone or in admixture of two or more.

本発明におけるカルボキシル基含有共重合体としては、（ｃ１）（メタ）アクリル酸を必須成分とし、場合によりこはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕および／またはω−カルボキシポリカクロラクトンモノ（メタ）アクリレートを含有するカルボキシル基含有不飽和単量体と、（ｃ２）Ｎ−位置換マレイミドと、（ｃ３）スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、ポリスチレンマクロモノマーおよびポリメチルメタクリレートマクロモノマーの群から選ばれる他の共重合性不飽和単量体の少なくとも１種との共重合体（以下、「カルボキシル基含有共重合体（Ｃ１）」という。）が好ましい。   The carboxyl group-containing copolymer in the present invention includes (c1) (meth) acrylic acid as an essential component, and optionally succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] and / or ω-carboxypolycacrolactone. Carboxyl group-containing unsaturated monomer containing mono (meth) acrylate, (c2) N-substituted maleimide, (c3) styrene, α-methylstyrene, p-hydroxy-α-methylstyrene, methyl (meta ) Acrylate, n-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, polystyrene macromonomer And polymethylmethacrylate monomer Other copolymerizable unsaturated copolymer of at least one monomer selected from the group of Romonoma (hereinafter, referred to as "carboxyl group-containing copolymer (C1)".) Are preferred.

カルボキシル基含有共重合体（Ｃ１）の好ましい具体例としては、
（メタ）アクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／Ｎ−ｍ−ヒドロキシフェニルマレイミド／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／Ｎ−ｐ−ヒドロキシフェニルマレイミド／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／α−メチルスチレン／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／ｎ−ブチル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／ｎ−ブチル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／グリセロールモノ（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／Ｎ−ｐ−ヒドロキシフェニルマレイミド／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／グリセロールモノ（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／フェニル（メタ）アクリレート／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
（メタ）アクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／フェニル（メタ）アクリレート／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／Ｎ−ｐ−ヒドロキシフェニルマレイミド／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／アリル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン／アリル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕／Ｎ−シクロヘキシルマレイミド／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／ω−カルボキシポリカクロラクトンモノ（メタ）アクリレート／Ｎ−ｍ−ヒドロキシフェニルマレイミド／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／ω−カルボキシポリカクロラクトンモノ（メタ）アクリレート／Ｎ−ｐ−ヒドロキシフェニルマレイミド／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／ω−カルボキシポリカクロラクトンモノ（メタ）アクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／グリセロールモノ（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／ω−カルボキシポリカクロラクトンモノ（メタ）アクリレート／Ｎ−ｐ−ヒドロキシフェニルマレイミド／スチレン／ベンジル（メタ）アクリレート／グリセロールモノ（メタ）アクリレート共重合体
等を挙げることができる。 As a preferable specific example of the carboxyl group-containing copolymer (C1),
(Meth) acrylic acid / N-phenylmaleimide / styrene / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / Nm-hydroxyphenylmaleimide / styrene / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / Np-hydroxyphenylmaleimide / styrene / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / N-cyclohexylmaleimide / styrene / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / N-phenylmaleimide / α-methylstyrene / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / N-phenylmaleimide / styrene / n-butyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / N-phenylmaleimide / styrene / 2-ethylhexyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / N-phenylmaleimide / p-hydroxy-α-methylstyrene / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / N-phenylmaleimide / styrene / n-butyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / N-phenylmaleimide / styrene / 2-ethylhexyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / N-phenylmaleimide / styrene / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / N-phenylmaleimide / styrene / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / Np-hydroxyphenylmaleimide / styrene / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / N-phenylmaleimide / styrene / phenyl (meth) acrylate / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,
(Meth) acrylic acid / N-phenylmaleimide / styrene / phenyl (meth) acrylate / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer,
(Meth) acrylic acid / succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / N-phenylmaleimide / styrene / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / Np-hydroxyphenylmaleimide / styrene / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / N-phenylmaleimide / styrene / allyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / N-cyclohexylmaleimide / styrene / allyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / N-cyclohexylmaleimide / styrene / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycacrolactone mono (meth) acrylate / Nm-hydroxyphenylmaleimide / styrene / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycacrolactone mono (meth) acrylate / Np-hydroxyphenylmaleimide / styrene / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycacrolactone mono (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / styrene / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycacrolactone mono (meth) acrylate / Np-hydroxyphenylmaleimide / styrene / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate copolymer and the like.

また、カルボキシル基含有共重合体（Ｃ１）以外のカルボキシル基含有共重合体としては、例えば、
（メタ）アクリル酸／メチル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート共重合体、
（メタ）アクリル酸／メチル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
（メタ）アクリル酸／メチル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
（メタ）アクリル酸／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、
（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー共重合体、
（メタ）アクリル酸／２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート／ベンジル（メタ）アクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体
等を挙げることができる。 Moreover, as a carboxyl group-containing copolymer other than the carboxyl group-containing copolymer (C1), for example,
(Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,
(Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,
(Meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,
(Meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,
(Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,
(Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer and the like.

カルボキシル基含有共重合体において、カルボキシル基含有不飽和単量体の共重合割合は、好ましくは５〜５０重量％、さらに好ましくは１０〜４０重量％である。この場合、該共重合割合が５重量％未満では、得られる感放射線性組成物のアルカリ現像液に対する溶解性が低下する傾向があり、一方５０重量％を超えると、アルカリ現像液に対する溶解性が過大となり、アルカリ現像液により現像する際に、画素の基板からの脱落や画素表面の膜荒れを来たしやすくなる傾向がある。   In the carboxyl group-containing copolymer, the copolymerization ratio of the carboxyl group-containing unsaturated monomer is preferably 5 to 50% by weight, more preferably 10 to 40% by weight. In this case, when the copolymerization ratio is less than 5% by weight, the solubility of the resulting radiation-sensitive composition in an alkali developer tends to be reduced, whereas when it exceeds 50% by weight, the solubility in an alkali developer is low. When the development is performed with an alkaline developer, the pixel tends to drop off from the substrate or the surface of the pixel becomes rough.

アルカリ可溶性樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ、溶出溶媒：テトラヒドロフラン）で測定したＭｗは、好ましくは３，０００〜３００，０００、より好ましくは５，０００〜１００，０００である。
また、アルカリ可溶性樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ、溶出溶媒：テトラヒドロフラン）で測定したＭｎは、好ましくは３，０００〜６０，０００、より好ましくは５，０００〜２５，０００である。
また、アルカリ可溶性樹脂のＭｗとＭｎの比（Ｍｗ／Ｍｎ）は、好ましくは１〜５、より好ましくは１〜４である。
本発明においては、このような特定のＭｗおよびＭｎを有するアルカリ可溶性樹脂を使用することによって、現像性に優れた感放射線性組成物が得られ、それにより、シャープなパターンエッジを有する画素パターンを形成することができるとともに、現像時に未露光部の基板上および遮光層上に残渣、地汚れ、膜残り等が発生し難くなる。 Mw measured by gel permeation chromatography (GPC, elution solvent: tetrahydrofuran) of an alkali-soluble resin is preferably 3,000 to 300,000, more preferably 5,000 to 100,000.
Moreover, Mn measured by the gel permeation chromatography (GPC, elution solvent: tetrahydrofuran) of alkali-soluble resin becomes like this. Preferably it is 3,000-60,000, More preferably, it is 5,000-25,000.
Moreover, the ratio (Mw / Mn) of Mw and Mn of the alkali-soluble resin is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 4.
In the present invention, by using such an alkali-soluble resin having specific Mw and Mn, a radiation-sensitive composition having excellent developability can be obtained, and thereby a pixel pattern having sharp pattern edges can be obtained. In addition to being able to be formed, residues, background stains, film residues and the like are less likely to occur on the unexposed substrate and the light shielding layer during development.

本発明において、アルカリ可溶性樹脂は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂の使用量は、（Ａ）顔料１００重量部に対して、好ましくは１０〜１，０００重量部、より好ましくは２０〜５００重量部である。この場合、アルカリ可溶性樹脂の使用量が１０重量部未満では、例えば、アルカリ現像性が低下したり、未露光部の基板上や遮光層上に地汚れや膜残りが発生するおそれがあり、一方１，０００重量部を超えると、相対的に顔料濃度が低下するため、薄膜として目的とする色濃度を達成することが困難となるおそれがある。 In this invention, alkali-soluble resin can be used individually or in mixture of 2 or more types.
The amount of the alkali-soluble resin used in the present invention is preferably 10 to 1,000 parts by weight, more preferably 20 to 500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (A) pigment. In this case, if the amount of the alkali-soluble resin used is less than 10 parts by weight, for example, the alkali developability may decrease, or background stains or film residues may occur on the substrate or the light shielding layer in the unexposed area. When the amount exceeds 1,000 parts by weight, the pigment concentration is relatively lowered, and it may be difficult to achieve the target color concentration as a thin film.

−（Ｄ）多官能性単量体−
本発明における多官能性単量体は、２個以上の重合性不飽和結合を有する単量体である。
多官能性単量体としては、例えば、
エチレングリコール、プロピレングリコールの如きアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート；
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールの如きポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート；
グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールの如き３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートやそのジカルボン酸変性物；
ポリエステル、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、シリコーン樹脂、スピラン樹脂の如きオリゴ（メタ）アクリレート；
両末端ヒドロキシポリ−１，３−ブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトンの如き両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレートや、
トリス〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕ホスフェート
等を挙げることができる。 -(D) polyfunctional monomer-
The polyfunctional monomer in the present invention is a monomer having two or more polymerizable unsaturated bonds.
As the multifunctional monomer, for example,
Di (meth) acrylates of alkylene glycols such as ethylene glycol and propylene glycol;
Di (meth) acrylates of polyalkylene glycols such as polyethylene glycol and polypropylene glycol;
Poly (meth) acrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols such as glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol and their dicarboxylic acid modified products;
Oligo (meth) acrylates such as polyester, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, silicone resin, spirane resin;
Di (meth) acrylates of hydroxylated polymers at both ends such as both ends hydroxypoly-1,3-butadiene, both ends hydroxypolyisoprene, both ends hydroxypolycaprolactone,
And tris [2- (meth) acryloyloxyethyl] phosphate.

これらの多官能性単量体のうち、３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートやそのジカルボン酸変性物、具体的には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が好ましく、特に、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが、画素の強度および表面平滑性に優れ、かつ未露光部の基板上および遮光層上に地汚れ、膜残り等を発生し難い点で好ましい。
前記多官能性単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。 Among these polyfunctional monomers, poly (meth) acrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols and their dicarboxylic acid modified products, specifically, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meta) ) Acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, etc. are preferred, especially trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate. However, it is preferable in that it is excellent in the strength and surface smoothness of the pixel, and hardly causes scumming or film residue on the unexposed substrate and the light shielding layer.
The said polyfunctional monomer can be used individually or in mixture of 2 or more types.

本発明における多官能性単量体の使用量は、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、好ましくは５〜５００重量部、より好ましくは２０〜３００重量部である。この場合、多官能性単量体の使用量が５重量部未満では、画素の強度や表面平滑性が低下する傾向があり、一方５００重量部を超えると、例えば、アルカリ現像性が低下したり、未露光部の基板上や遮光層上に地汚れ、膜残り等が発生しやすくなる傾向がある。   The usage-amount of the polyfunctional monomer in this invention becomes like this. Preferably it is 5-500 weight part with respect to 100 weight part of (C) alkali-soluble resin, More preferably, it is 20-300 weight part. In this case, when the amount of the polyfunctional monomer used is less than 5 parts by weight, the strength and surface smoothness of the pixel tend to be reduced. On the other hand, when the amount exceeds 500 parts by weight, for example, alkali developability is reduced. In addition, background stains, film residue, and the like tend to occur on the unexposed portion of the substrate and the light shielding layer.

また、本発明においては、多官能性単量体の一部を、重合性不飽和結合を１個有する単官能性単量体に置き換えることもできる。
前記単官能性単量体としては、例えば、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂について例示したカルボキシル基含有不飽和単量体や共重合性不飽和単量体と同様の単量体や、Ｎ−（メタ）アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル−ε−カプロラクタムのほか、商品名で、Ｍ−５６００（東亞合成（株）製）等を挙げることができる。
これらの単官能性単量体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。 In the present invention, a part of the polyfunctional monomer can be replaced with a monofunctional monomer having one polymerizable unsaturated bond.
Examples of the monofunctional monomer include monomers similar to the carboxyl group-containing unsaturated monomer and copolymerizable unsaturated monomer exemplified for (C) the alkali-soluble resin, and N- (meta ) In addition to acryloyl morpholine, N-vinyl pyrrolidone, N-vinyl-ε-caprolactam, trade names include M-5600 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and the like.
These monofunctional monomers can be used alone or in admixture of two or more.

本発明における単官能性単量体の使用割合は、多官能性単量体と単官能性単量体との合計量に対して、好ましくは９０重量％以下、より好ましくは５０重量％以下である。この場合、単官能性単量体の使用割合が９０重量％を超えると、画素の強度や表面平滑性が不十分となるおそれがある。   The proportion of the monofunctional monomer used in the present invention is preferably 90% by weight or less, more preferably 50% by weight or less, based on the total amount of the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer. is there. In this case, if the proportion of the monofunctional monomer used exceeds 90% by weight, the pixel strength and surface smoothness may be insufficient.

本発明における多官能性単量体と単官能性単量体との合計使用量は、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、好ましくは５〜５００重量部、より好ましくは２０〜３００重量部である。この場合、該合計使用量が５重量部未満では、画素の強度や表面平滑性が低下する傾向があり、一方５００重量部を超えると、例えば、アルカリ現像性が低下したり、未露光部の基板上や遮光層上に地汚れ、膜残り等が発生しやすくなる傾向がある。   The total use amount of the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer in the present invention is preferably 5 to 500 parts by weight, more preferably 20 to 300 parts per 100 parts by weight of the (C) alkali-soluble resin. Parts by weight. In this case, if the total amount used is less than 5 parts by weight, the strength and surface smoothness of the pixel tend to be lowered. On the other hand, if it exceeds 500 parts by weight, for example, alkali developability is lowered or There is a tendency that soiling, film residue, and the like are likely to occur on the substrate and the light shielding layer.

−（Ｅ）光重合開始剤−
本発明における光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の放射線の露光により、前記（Ｄ）多官能性単量体および場合により使用される単官能性単量体の重合を開始しうる活性種を発生することができる化合物である。
このような光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物等を挙げることができる。
本発明において、光重合開始剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができるが、本発明における光重合開始剤としては、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物およびトリアジン系化合物の群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。 -(E) Photopolymerization initiator-
The photopolymerization initiator in the present invention is the above-mentioned (D) polyfunctional monomer and a monofunctional monomer used in some cases by exposure to radiation such as visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, and X-ray. It is a compound that can generate active species capable of initiating polymerization of the body.
Examples of such photopolymerization initiators include acetophenone compounds, biimidazole compounds, triazine compounds, benzoin compounds, benzophenone compounds, α-diketone compounds, polynuclear quinone compounds, xanthone compounds, diazo compounds. A compound etc. can be mentioned.
In the present invention, the photopolymerization initiator can be used alone or in admixture of two or more. As the photopolymerization initiator in the present invention, acetophenone compounds, biimidazole compounds and triazine compounds can be used. At least one selected from the group is preferred.

本発明における好ましい光重合開始剤のうち、アセトフェノン系化合物の具体例としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパノン−１、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパノン−１、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１、１−ヒドロキシシクロヘキシル・フェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタノン−１等を挙げることができる。
これらのアセトフェノン系化合物のうち、特に、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパノン−１、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１等が好ましい。
前記アセトフェノン系化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。 Among preferred photopolymerization initiators in the present invention, specific examples of acetophenone compounds include 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropanone-1, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2. -Morpholinopropanone-1,2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1,1-hydroxycyclohexyl phenylketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethanone -1 etc. can be mentioned.
Among these acetophenone compounds, in particular, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropanone-1, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone -1 etc. are preferable.
The acetophenone compounds can be used alone or in admixture of two or more.

本発明において、光重合開始剤としてアセトフェノン系化合物を使用する場合の使用量は、（Ｄ）多官能性単量体と単官能性単量体との合計１００重量部に対して、好ましくは０．０１〜１００重量部、より好ましくは１〜８０重量部、さらに好ましくは５〜６０重量部である。この場合、アセトフェノン系化合物の使用量が０．０１重量部未満では、露光による硬化が不十分となり、画素パターンが所定の配列に従って配置された着色層を得ることが困難となるおそれがあり、一方１００重量部を超えると、形成された画素が現像時に基板から脱落しやすくなる傾向がある。   In the present invention, when the acetophenone compound is used as the photopolymerization initiator, the amount used is preferably 0 with respect to 100 parts by weight of the total of (D) the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer. 0.01 to 100 parts by weight, more preferably 1 to 80 parts by weight, still more preferably 5 to 60 parts by weight. In this case, when the amount of the acetophenone compound used is less than 0.01 parts by weight, curing by exposure may be insufficient, and it may be difficult to obtain a colored layer in which the pixel pattern is arranged according to a predetermined arrangement, If it exceeds 100 parts by weight, the formed pixels tend to fall off the substrate during development.

また、前記ビイミダゾール系化合物の具体例としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラキス（４−エトキシカルボニルフェニル）−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−ブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール等を挙げることができる。   Specific examples of the biimidazole compound include 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2′-bi Imidazole, 2,2′-bis (2-bromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2 -Chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra Phenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2, 2'-bis (2-bromophenyl)- , 4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4-dibromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1, 2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-tribromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole and the like can be mentioned. .

これらのビイミダゾール系化合物のうち、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール等がさらに好ましく、特に２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが好ましい。
前記ビイミダゾール系化合物は、溶剤に対する溶解性に優れ、未溶解物、析出物等の異物を生じることがなく、しかも感度が高く、少ないエネルギー量の露光により硬化反応を十分進行させるとともに、未露光部で硬化反応が生じることがないため、露光後の被膜は、現像液に対して不溶性の硬化部分と、現像液に対して高い溶解性を有する未硬化部分とに明確に区分され、それにより、アンダーカットのない画素パターンが所定の配列に従って配置された高精細な着色層を形成することができる。
前記ビイミダゾール系化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。 Among these biimidazole compounds, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2 , 4-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ′, 5 , 5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole and the like are more preferable, and in particular, 2,2′-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2 '-Biimidazole is preferred.
The biimidazole compound is excellent in solubility in a solvent, does not generate foreign matters such as undissolved matter and precipitates, has high sensitivity, and sufficiently proceeds with a curing reaction by exposure with a small amount of energy, and is not exposed. Therefore, the exposed coating is clearly divided into a hardened portion that is insoluble in the developer and an uncured portion that has a high solubility in the developer. A high-definition colored layer in which pixel patterns without undercuts are arranged according to a predetermined arrangement can be formed.
The biimidazole compounds can be used alone or in admixture of two or more.

本発明において、光重合開始剤としてビイミダゾール系化合物を使用する場合の使用量は、（Ｄ）多官能性単量体と単官能性単量体との合計１００重量部に対して、好ましくは０．０１〜４０重量部、より好ましくは１〜３０重量部、さらに好ましくは１〜２０重量部である。この場合、ビイミダゾール系化合物の使用量が０．０１重量部未満では、露光による硬化が不十分となり、画素パターンが所定の配列に従って配置された着色層を得ることが困難となるおそれがあり、一方４０重量部を超えると、形成された画素が現像時に基板から脱落しやすくなる傾向がある。   In the present invention, the amount used when using a biimidazole compound as a photopolymerization initiator is preferably (D) with respect to a total of 100 parts by weight of the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer. It is 0.01-40 weight part, More preferably, it is 1-30 weight part, More preferably, it is 1-20 weight part. In this case, if the amount of biimidazole compound used is less than 0.01 parts by weight, curing by exposure may be insufficient, and it may be difficult to obtain a colored layer in which a pixel pattern is arranged according to a predetermined arrangement, On the other hand, if it exceeds 40 parts by weight, the formed pixels tend to fall off the substrate during development.

−水素供与体−
本発明においては、光重合開始剤としてビイミダゾール系化合物を用いる場合、下記する水素供与体を併用することは、感度をさらに改良することができるので好ましい。
ここでいう「水素供与体」とは、露光によりビイミダゾール系化合物から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物を意味する。
本発明における水素供与体としては、下記で定義するメルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。
前記メルカプタン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したメルカプト基を１個以上、好ましくは１〜３個、さらに好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「メルカプタン系水素供与体」という。）からなる。
また、前記アミン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したアミノ基を１個以上、好ましくは１〜３個、さらに好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「アミン系水素供与体」という。）からなる。
なお、これらの水素供与体は、メルカプト基とアミノ基とを同時に有することもできる。 -Hydrogen donor-
In the present invention, when a biimidazole compound is used as a photopolymerization initiator, it is preferable to use a hydrogen donor described below in combination because the sensitivity can be further improved.
The “hydrogen donor” as used herein means a compound that can donate a hydrogen atom to a radical generated from a biimidazole compound by exposure.
As the hydrogen donor in the present invention, mercaptan compounds, amine compounds and the like defined below are preferable.
The mercaptan-based compound is a compound having a benzene ring or a heterocyclic ring as a mother nucleus and having one or more, preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2, mercapto groups directly bonded to the mother nucleus (hereinafter referred to as “ Mercaptan-based hydrogen donor ").
The amine compound is a compound having a benzene ring or a heterocyclic ring as a mother nucleus and having 1 or more, preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2 amino groups directly bonded to the mother nucleus (hereinafter referred to as “the amine compound”). , "Amine-based hydrogen donor").
These hydrogen donors can also have a mercapto group and an amino group at the same time.

以下、これらの水素供与体について、より具体的に説明する。
メルカプタン系水素供与体は、ベンゼン環あるいは複素環をそれぞれ１個以上有することができ、またベンゼン環と複素環との両者を有することができ、これらの環を２個以上有する場合、縮合環を形成しても形成しなくてもよい。
また、メルカプタン系水素供与体は、メルカプト基を２個以上有する場合、少なくとも１個の遊離メルカプト基が残存する限りでは、残りのメルカプト基の１個以上がアルキル、アラルキルまたはアリール基で置換されていてもよく、さらには少なくとも１個の遊離メルカプト基が残存する限りでは、２個の硫黄原子がアルキレン基等の２価の有機基を介在して結合した構造単位、あるいは２個の硫黄原子がジスルフィドの形で結合した構造単位を有することができる。
さらに、メルカプタン系水素供与体は、メルカプト基以外の箇所で、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、置換フェノキシカルボニル基、ニトリル基等によって置換されていてもよい。 Hereinafter, these hydrogen donors will be described more specifically.
The mercaptan-based hydrogen donor can have one or more benzene rings or heterocyclic rings, and can have both a benzene ring and a heterocyclic ring. When two or more of these rings are present, It may or may not be formed.
In addition, when the mercaptan hydrogen donor has two or more mercapto groups, at least one of the remaining mercapto groups is substituted with an alkyl, aralkyl or aryl group as long as at least one free mercapto group remains. Furthermore, as long as at least one free mercapto group remains, a structural unit in which two sulfur atoms are bonded via a divalent organic group such as an alkylene group, or two sulfur atoms are It can have structural units linked in the form of disulfides.
Furthermore, the mercaptan-based hydrogen donor may be substituted with a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a substituted alkoxycarbonyl group, a phenoxycarbonyl group, a substituted phenoxycarbonyl group, a nitrile group, or the like at a place other than the mercapto group.

このようなメルカプタン系水素供与体の具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−２，５−ジメチルアミノピリジン等を挙げることができる。
これらのメルカプタン系水素供与体のうち、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール等が好ましく、特に２−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。 Specific examples of such mercaptan hydrogen donors include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoimidazole, 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole, 2-mercapto- 2,5-dimethylaminopyridine and the like can be mentioned.
Of these mercaptan-based hydrogen donors, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole and the like are preferable, and 2-mercaptobenzothiazole is particularly preferable.

次に、アミン系水素供与体は、ベンゼン環あるいは複素環をそれぞれ１個以上有することができ、またベンゼン環と複素環との両者を有することができ、これらの環を２個以上有する場合、縮合環を形成しても形成しなくてもよい。
また、アミン系水素供与体は、アミノ基の１個以上がアルキル基または置換アルキル基で置換されてもよく、またアミノ基以外の箇所で、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、置換フェノキシカルボニル基、ニトリル基等によって置換されていてもよい。
このようなアミン系水素供与体の具体例としては、４、４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４、４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノベンゾニトリル等を挙げることができる。
これらのアミン系水素供与体のうち、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が好ましく、特に４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。
なお、アミン系水素供与体は、ビイミダゾール系化合物以外の光重合開始剤の場合においても、増感剤としての作用を有するものである。 Next, the amine-based hydrogen donor can have one or more benzene rings or heterocyclic rings, and can have both a benzene ring and a heterocyclic ring. When these two or more rings are present, A condensed ring may or may not be formed.
In addition, in the amine-based hydrogen donor, one or more of the amino groups may be substituted with an alkyl group or a substituted alkyl group, and a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a substituted alkoxycarbonyl group, a phenoxy group may be substituted at a position other than the amino group. It may be substituted with a carbonyl group, a substituted phenoxycarbonyl group, a nitrile group or the like.
Specific examples of such amine-based hydrogen donors include 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, Examples thereof include ethyl-4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-dimethylaminobenzonitrile and the like.
Of these amine-based hydrogen donors, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, and the like are preferable, and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone is particularly preferable.
The amine-based hydrogen donor has a function as a sensitizer even in the case of a photopolymerization initiator other than a biimidazole compound.

本発明において、水素供与体は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができるが、１種以上のメルカプタン系水素供与体と１種以上のアミン系水素供与体とを組み合わせて使用することが、形成された画素が現像時に基板から脱落し難く、また画素の強度および感度も高い点で好ましい。
メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との好ましい組み合わせの具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等を挙げることができ、さらに好ましい組み合わせは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等であり、特に好ましい組み合わせは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンである。
メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組み合わせにおけるメルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との重量比は、好ましくは１：１〜１：４、より好ましくは１：１〜１：３である。 In the present invention, the hydrogen donor can be used alone or in admixture of two or more. However, one or more mercaptan hydrogen donors and one or more amine hydrogen donors are used in combination. It is preferable that the formed pixels are difficult to drop off from the substrate during development, and that the pixels have high strength and sensitivity.
Specific examples of a preferred combination of a mercaptan hydrogen donor and an amine hydrogen donor include 2-mercaptobenzothiazole / 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzothiazole / 4,4′-. Bis (diethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzoxazole / 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzoxazole / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, and the like are further preferable combinations. Are 2-mercaptobenzothiazole / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzoxazole / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, and the particularly preferred combination is 2-mercaptobenzothi Is a tetrazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone.
The weight ratio of mercaptan hydrogen donor to amine hydrogen donor in the combination of mercaptan hydrogen donor and amine hydrogen donor is preferably 1: 1 to 1: 4, more preferably 1: 1 to 1. : 3.

本発明において、水素供与体をビイミダゾール系化合物と併用する場合の使用量は、（Ｄ）多官能性単量体と単官能性単量体との合計１００重量部に対して、好ましくは０．０１〜４０重量部、さらに好ましくは１〜３０重量部、特に好ましくは１〜２０重量部である。この場合、水素供与体の使用量が０．０１重量部未満では、感度の改良効果が低下する傾向があり、一方４０重量部を超えると、形成された画素が現像時に基板から脱落しやすくなる傾向がある。   In the present invention, when the hydrogen donor is used in combination with the biimidazole compound, the amount used is preferably 0 with respect to 100 parts by weight of the total of (D) the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer. 0.01 to 40 parts by weight, more preferably 1 to 30 parts by weight, and particularly preferably 1 to 20 parts by weight. In this case, if the amount of the hydrogen donor used is less than 0.01 parts by weight, the effect of improving the sensitivity tends to decrease. On the other hand, if it exceeds 40 parts by weight, the formed pixels are likely to fall off the substrate during development. Tend.

また、前記トリアジン系化合物の具体例としては、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−ｎ−ブトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等のハロメチル基を有するトリアジン系化合物を挙げることができる。
これらのトリアジン系化合物のうち、特に２−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンが好ましい。
前記トリアジン系化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。 Specific examples of the triazine compound include 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2 -(5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloro Methyl) -s-triazine, 2- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (3,4-dimethoxy) Phenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4- Triazine-based compounds having a halomethyl group such as xystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-n-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine Can be mentioned.
Of these triazine compounds, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine is particularly preferable.
The triazine compounds can be used alone or in admixture of two or more.

本発明において、光重合開始剤としてトリアジン系化合物を使用する場合の使用量は、（Ｄ）多官能性単量体と単官能性単量体との合計１００重量部に対して、好ましくは０．０１〜４０重量部、より好ましくは１〜３０重量部、さらに好ましくは１〜２０重量部である。この場合、トリアジン系化合物の使用量が０．０１重量部未満では、露光による硬化が不十分となり、画素パターンが所定の配列に従って配置された着色層を得ることが困難となるおそれがあり、一方４０重量部を超えると、形成された画素が現像時に基板から脱落しやすくなる傾向がある。   In the present invention, when the triazine compound is used as the photopolymerization initiator, the amount used is preferably 0 with respect to 100 parts by weight of the total of the (D) polyfunctional monomer and the monofunctional monomer. 0.01 to 40 parts by weight, more preferably 1 to 30 parts by weight, still more preferably 1 to 20 parts by weight. In this case, if the amount of the triazine compound used is less than 0.01 parts by weight, curing by exposure may be insufficient, and it may be difficult to obtain a colored layer in which a pixel pattern is arranged according to a predetermined arrangement, If it exceeds 40 parts by weight, the formed pixels tend to drop off from the substrate during development.

−添加剤成分−
本発明におけるカラーフィルタ用感放射線性組成物は、必要に応じて種々の添加剤成分を含有することもできる。
前記添加剤成分としては、感放射線性組成物のアルカリ現像液に対する溶解特性をより改善し、かつ現像後の未溶解物の残存をより抑制する作用等を示す、有機酸あるいは有機アミノ化合物（但し、前記水素供与体を除く。）等を挙げることができる。
前記有機酸としては、分子中に１個以上のカルボキシル基を有する、脂肪族カルボン酸あるいはフェニル基含有カルボン酸が好ましい。 -Additive component-
The radiation sensitive composition for a color filter in the present invention may contain various additive components as necessary.
The additive component may be an organic acid or an organic amino compound (provided to improve the solubility of the radiation-sensitive composition in an alkaline developer and to further suppress the remaining undissolved product after development) , Excluding the hydrogen donor).
The organic acid is preferably an aliphatic carboxylic acid or a phenyl group-containing carboxylic acid having one or more carboxyl groups in the molecule.

前記脂肪族カルボン酸としては、例えば、
ぎ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸の如き脂肪族モノカルボン酸；
しゅう酸、マロン酸、こはく酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルこはく酸、テトラメチルこはく酸、シクロヘキサンジカルボン酸、イタコン酸、シトラコン酸、マレイン酸、フマル酸、メサコン酸の如き脂肪族ジカルボン酸；
トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸の如き脂肪族トリカルボン酸
等を挙げることができる。 Examples of the aliphatic carboxylic acid include
Aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, diethylacetic acid, enanthic acid, caprylic acid;
Oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, brassylic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methylsuccinic acid, tetramethylsuccinic acid Aliphatic dicarboxylic acids such as cyclohexanedicarboxylic acid, itaconic acid, citraconic acid, maleic acid, fumaric acid, mesaconic acid;
Examples thereof include aliphatic tricarboxylic acids such as tricarballylic acid, aconitic acid, and camphoric acid.

また、前記フェニル基含有カルボン酸としては、例えば、カルボキシル基が直接フェニル基に結合した化合物や、カルボキシル基が２価の炭素鎖を介してフェニル基に結合した化合物等を挙げることができる。   Examples of the phenyl group-containing carboxylic acid include compounds in which a carboxyl group is directly bonded to a phenyl group, and compounds in which a carboxyl group is bonded to a phenyl group via a divalent carbon chain.

フェニル基含有カルボン酸としては、例えば、
安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸の如き芳香族モノカルボン酸；
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸の如き芳香族ジカルボン酸；
トリメリット酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリット酸の如き３価以上の芳香族ポリカルボン酸や、
フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロけい皮酸、マンデル酸、フェニルこはく酸、アトロパ酸、けい皮酸、シンナミリデン酸、クマル酸、ウンベル酸
等を挙げることができる。 Examples of the phenyl group-containing carboxylic acid include
Aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cumic acid, hemelitic acid, mesitylene acid;
Aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid;
Trivalent or higher aromatic polycarboxylic acids such as trimellitic acid, trimesic acid, merophanic acid, pyromellitic acid,
Examples include phenylacetic acid, hydroatropic acid, hydrocinnamic acid, mandelic acid, phenylsuccinic acid, atropic acid, cinnamic acid, cinnamylidene acid, coumaric acid, and umberic acid.

これらの有機酸のうち、アルカリ溶解性、後述する溶媒に対する溶解性、未露光部の基板上および遮光層上における地汚れや膜残りの防止等の観点から、脂肪族カルボン酸としては、脂肪族ジカルボン酸が好ましく、特に、マロン酸、アジピン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フマル酸、メサコン酸等が好ましく、またフェニル基含有カルボン酸としては、芳香族ジカルボン酸が好ましく、特にフタル酸が好ましい。
前記有機酸は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
有機酸の使用量は、（Ａ）〜（Ｅ）成分および添加剤成分の合計１００重量部に対して、好ましくは１５重量部以下、より好ましくは１０重量部以下である。この場合、有機酸の使用量が１５重量部を超えると、形成された画素の基板への密着性が低下する傾向がある。 Among these organic acids, aliphatic carboxylic acids are aliphatic from the viewpoints of alkali solubility, solubility in a solvent described later, and prevention of soiling and film residue on the substrate and the light shielding layer in the unexposed area. Dicarboxylic acids are preferred. In particular, malonic acid, adipic acid, itaconic acid, citraconic acid, fumaric acid, mesaconic acid and the like are preferred. As the phenyl group-containing carboxylic acid, aromatic dicarboxylic acid is preferred, and phthalic acid is particularly preferred.
The organic acids can be used alone or in admixture of two or more.
The amount of the organic acid used is preferably 15 parts by weight or less, more preferably 10 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the total of the components (A) to (E) and the additive component. In this case, when the amount of the organic acid used exceeds 15 parts by weight, the adhesion of the formed pixel to the substrate tends to be reduced.

また、前記有機アミノ化合物としては、分子中に１個以上のアミノ基を有する、脂肪族アミンあるいはフェニル基含有アミンが好ましい。
前記脂肪族アミンとしては、例えば、
ｎ−プロピルアミン、ｉ−プロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｉ−ブチルアミン、ｓｅｃ−ブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ｎ−ペンチルアミン、ｎ−ヘキシルアミンの如きモノ（シクロ）アルキルアミン；
メチル・エチルアミン、ジエチルアミン、メチル・ｎ−プロピルアミン、エチル・ｎ−プロピルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジ−ｉ−プロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｉ−ブチルアミン、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミン、ジ−ｔ−ブチルアミンの如きジ（シクロ）アルキルアミン；
ジメチル・エチルアミン、メチル・ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジメチル・ｎ−プロピルアミン、ジエチル・ｎ−プロピルアミン、メチル・ジ−ｎ−プロピルアミン、エチル・ジ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｉ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−ｉ−ブチルアミン、トリ−ｓｅｃ−ブチルアミン、トリ−ｔ−ブチルアミンの如きトリ（シクロ）アルキルアミン；
２−アミノエタノール、３−アミノ−１−プロパノール、１−アミノ−２−プロパノール、４−アミノ−１−ブタノールの如きモノ（シクロ）アルカノールアミン；
ジエタノールアミン、ジ−ｎ−プロパノールアミン、ジ−ｉ−プロパノールアミン、ジ−ｎ−ブタノールアミン、ジ−ｉ−ブタノールアミンの如きジ（シクロ）アルカノールアミン；
トリエタノールアミン、トリ−ｎ−プロパノールアミン、トリ−ｉ−プロパノールアミン、トリ−ｎ−ブタノールアミン、トリ−ｉ−ブタノールアミンの如きトリ（シクロ）アルカノールアミン；
３−アミノ−１，２−プロパンジオール、２−アミノ−１，３−プロパンジオール、４−アミノ−１，２−ブタンジオール、４−アミノ−１，３−ブタンジオール、３−ジメチルアミノ−１，２−プロパンジオール、３−ジエチルアミノ−１，２−プロパンジオール、２−ジメチルアミノ−１，３−プロパンジオール、２−ジエチルアミノ−１，３−プロパンジオールの如きアミノ（シクロ）アルカンジオール；
β−アラニン、２−アミノ酪酸、３−アミノ酪酸、４−アミノ酪酸、２−アミノイソ酪酸、３−アミノイソ酪酸の如きアミノカルボン酸
等を挙げることができる。 The organic amino compound is preferably an aliphatic amine or a phenyl group-containing amine having one or more amino groups in the molecule.
Examples of the aliphatic amine include:
mono (cyclo) alkylamines such as n-propylamine, i-propylamine, n-butylamine, i-butylamine, sec-butylamine, t-butylamine, n-pentylamine, n-hexylamine;
Methyl ethylamine, diethylamine, methyl n-propylamine, ethyl n-propylamine, di-n-propylamine, di-i-propylamine, di-n-butylamine, di-i-butylamine, di-sec- Di (cyclo) alkylamines such as butylamine, di-t-butylamine;
Dimethyl ethylamine, methyl diethylamine, triethylamine, dimethyl n-propylamine, diethyl n-propylamine, methyl di-n-propylamine, ethyl di-n-propylamine, tri-n-propylamine, tri -Tri (cyclo) alkylamines such as i-propylamine, tri-n-butylamine, tri-i-butylamine, tri-sec-butylamine, tri-t-butylamine;
Mono (cyclo) alkanolamines such as 2-aminoethanol, 3-amino-1-propanol, 1-amino-2-propanol, 4-amino-1-butanol;
Di (cyclo) alkanolamines such as diethanolamine, di-n-propanolamine, di-i-propanolamine, di-n-butanolamine, di-i-butanolamine;
Tri (cyclo) alkanolamines such as triethanolamine, tri-n-propanolamine, tri-i-propanolamine, tri-n-butanolamine, tri-i-butanolamine;
3-amino-1,2-propanediol, 2-amino-1,3-propanediol, 4-amino-1,2-butanediol, 4-amino-1,3-butanediol, 3-dimethylamino-1 Amino (cyclo) alkanediols such as 2, 2-propanediol, 3-diethylamino-1,2-propanediol, 2-dimethylamino-1,3-propanediol, 2-diethylamino-1,3-propanediol;
Examples thereof include aminocarboxylic acids such as β-alanine, 2-aminobutyric acid, 3-aminobutyric acid, 4-aminobutyric acid, 2-aminoisobutyric acid, and 3-aminoisobutyric acid.

また、フェニル基含有アミンとしては、例えば、アミノ基が直接フェニル基に結合した化合物、アミノ基が２価の炭素鎖を介してフェニル基に結合した化合物等を挙げることができる。
フェニル基含有アミンとしては、例えば、
アニリン、ｏ−メチルアニリン、ｍ−メチルアニリン、ｐ−メチルアニリン、ｐ―エチルアニリン、１−ナフチルアミン、２−ナフチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ｐ−メチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンの如き芳香族アミン；
ｏ−アミノベンジルアルコール、ｍ−アミノベンジルアルコール、ｐ−アミノベンジルアルコール、ｐ−ジメチルアミノベンジルアルコール、ｐ−ジエチルアミノベンジルアルコールの如きアミノベンジルアルコール類；
ｏ−アミノフェノール、ｍ―アミノフェノール、ｐ―アミノフェノール、ｐ−ジメチルアミノフェノール、ｐ−ジエチルアミノフェノールの如きアミノフェノール類；
ｍ−アミノ安息香酸、ｐ―アミノ安息香酸、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸の如きアミノ安息香酸類
等を挙げることができる。 Examples of the phenyl group-containing amine include compounds in which an amino group is directly bonded to a phenyl group, and compounds in which an amino group is bonded to a phenyl group via a divalent carbon chain.
As the phenyl group-containing amine, for example,
Aniline, o-methylaniline, m-methylaniline, p-methylaniline, p-ethylaniline, 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, p-methyl-N, Aromatic amines such as N-dimethylaniline;
aminobenzyl alcohols such as o-aminobenzyl alcohol, m-aminobenzyl alcohol, p-aminobenzyl alcohol, p-dimethylaminobenzyl alcohol, p-diethylaminobenzyl alcohol;
aminophenols such as o-aminophenol, m-aminophenol, p-aminophenol, p-dimethylaminophenol, p-diethylaminophenol;
Examples thereof include aminobenzoic acids such as m-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, p-dimethylaminobenzoic acid, and p-diethylaminobenzoic acid.

これらの有機アミノ化合物のうち、後述する溶媒に対する溶解性、未露光部の基板上および遮光層上における地汚れや膜残りの防止等の観点から、脂肪族アミンとしては、モノ（シクロ）アルカノールアミンおよびアミノ（シクロ）アルカンジオールが好ましく、特に、２−アミノエタノール、３−アミノ−１−プロパノール、５−アミノ−１−ペンタノール、３−アミノ−１，２−プロパンジオール、２−アミノ−１、３−プロパンジオール、４−アミノ−１、２−ブタンジオール等が好ましく、またフェニル基含有アミンとしては、アミノフェノール類が好ましく、特に、ｏ−アミノフェノール、ｍ−アミノフェノール、ｐ−アミノフェノール等が好ましい。
前記有機アミノ化合物は、単独でまたは２種以上混合して使用することができる。
有機アミノ化合物の使用量は、（Ａ）〜（Ｅ）成分および添加剤成分の合計１００重量部に対して、好ましくは１５重量部以下、より好ましくは１０重量部以下である。この場合、有機アミノ化合物の使用量が１５重量部を超えると、形成された画素の基板への密着性が低下する傾向がある。 Among these organic amino compounds, mono (cyclo) alkanolamine is used as the aliphatic amine from the viewpoints of solubility in a solvent described later, prevention of soiling and film residue on the unexposed substrate and the light shielding layer, and the like. And amino (cyclo) alkanediols are preferred, especially 2-aminoethanol, 3-amino-1-propanol, 5-amino-1-pentanol, 3-amino-1,2-propanediol, 2-amino-1 , 3-propanediol, 4-amino-1,2-butanediol and the like, and as the phenyl group-containing amine, aminophenols are preferable, and in particular, o-aminophenol, m-aminophenol, p-aminophenol. Etc. are preferred.
The organic amino compounds can be used alone or in admixture of two or more.
The amount of the organic amino compound used is preferably 15 parts by weight or less, more preferably 10 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the total of the components (A) to (E) and the additive component. In this case, when the usage-amount of an organic amino compound exceeds 15 weight part, there exists a tendency for the adhesiveness to the board | substrate of the formed pixel to fall.

また、前記以外の添加剤成分としては、例えば、
銅フタロシアニン誘導体の如き青色顔料誘導体や黄色顔料誘導体等の分散助剤；
ガラス、アルミナ等の充填剤；
ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリ（フロロアルキルアクリレート）等の高分子化合物；
ノニオン系、カチオン系、アニオン系等の界面活性剤；
ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピル・メチル・ジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピル・メチル・ジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピル・メチル・ジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤；
２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール等の酸化防止剤；
２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン類等の紫外線吸収剤；
ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤；
１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２−フェニルアゾ−４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル等の熱ラジカル発生剤
等を挙げることができる。 Moreover, as an additive component other than the above, for example,
Dispersion aids such as blue pigment derivatives and yellow pigment derivatives such as copper phthalocyanine derivatives;
Fillers such as glass and alumina;
Polymer compounds such as polyvinyl alcohol, polyethylene glycol monoalkyl ether, poly (fluoroalkyl acrylate);
Nonionic, cationic and anionic surfactants;
Vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyl-methyl-dimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-amino Propyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyl methyl dimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, Adhesion promoters such as 3-chloropropyl, methyl, dimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane;
Antioxidants such as 2,2-thiobis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,6-di-tert-butylphenol;
UV absorbers such as 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole, alkoxybenzophenones;
Anti-agglomeration agents such as sodium polyacrylate;
Examples include thermal radical generators such as 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) and 2-phenylazo-4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile.

（Ｆ）溶媒
本発明における溶媒としては、感放射線性組成物を構成する（Ａ）〜（Ｅ）成分や添加剤成分を分散または溶解し、かつこれらの成分と反応せず、適度の揮発性を有するもを適宜に選択して使用することができる。 (F) Solvent As the solvent in the present invention, the components (A) to (E) constituting the radiation-sensitive composition and the additive component are dispersed or dissolved, and do not react with these components, and are appropriately volatile. Can be selected and used as appropriate.

このような溶媒としては、例えば、
メタノール、エタノール、ベンジルアルコールの如きアルコール類；
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテルの如き（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテル； As such a solvent, for example,
Alcohols such as methanol, ethanol, benzyl alcohol;
Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n- Butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, di Propylene glycol mono- - butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, such as tripropylene glycol monoethyl ether (poly) alkylene glycol monoalkyl ether;

エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルアセテートの如き（ポリ）アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート；
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフランの如き他のエーテル類；
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、ジアセトンアルコール（４−ヒドロキシ−４−メチルペンタン−２−オン）、４−ヒドロキシ−４−メチルヘキサン−２−オン等のケトン類； Ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol mono-n-propyl ether acetate, ethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol mono-n-propyl ether (Poly) alkylene glycol monoalkyl ether acetates such as acetate, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate;
Other ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran;
Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, diacetone alcohol (4-hydroxy-4-methylpentan-2-one), 4-hydroxy-4-methylhexane-2-one;

乳酸メチル、乳酸エチルの如き乳酸アルキルエステル；
酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、ぎ酸ｎ−ペンチル、酢酸ｉ−ペンチル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、プロピオン酸ｎ−ブチル、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、酪酸エチル、酪酸ｎ−プロピル、酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブチル、ヒドロキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸ｎ−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチル酪酸メチル、２−オキソ酪酸酸エチル等の如きエステル類；
トルエン、キシレンの如き芳香族炭化水素；
Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドの如きアミド類
等を挙げることができる。 Lactic acid alkyl esters such as methyl lactate and ethyl lactate;
Ethyl acetate, n-propyl acetate, i-propyl acetate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, n-pentyl formate, i-pentyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, n-butyl propionate, 3-methyl-3-methoxybutyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, ethyl hydroxyacetate, ethyl ethoxyacetate, methyl 3-methoxypropionate, 3-methoxypropionic acid Ethyl, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, 2 -Methyl hydroxy-3-methylbutyrate, ethyl 2-oxobutyrate, etc. Such as esters;
Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene;
Examples include amides such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, and N, N-dimethylacetamide.

これらの溶媒のうち、溶解性、顔料分散性、塗布性等の観点から、ベンジルアルコール、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、ぎ酸ｎ−ペンチル、酢酸ｉ−ペンチル、３−メトキシブチルアセテート、プロピオン酸ｎ−ブチル、酪酸エチル、酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、ピルビン酸エチル等が好ましい。
前記溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。 Among these solvents, benzyl alcohol, ethylene glycol mono-n-butyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol from the viewpoints of solubility, pigment dispersibility, coatability, etc. Mono-n-butyl ether acetate, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, n-butyl acetate I-butyl acetate, n-pentyl formate, i-pentyl acetate, 3-methyl Xylbutyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, 3-methyl-3- Methoxybutyl propionate, ethyl pyruvate and the like are preferable.
The said solvent can be used individually or in mixture of 2 or more types.

さらに、前記溶媒と共に、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート等の高沸点溶媒を併用することもできる。
前記高沸点溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。 Further, together with the solvent, benzyl ethyl ether, dihexyl ether, acetonyl acetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl acetate, ethyl benzoate, diethyl oxalate, diethyl maleate, γ- A high boiling point solvent such as butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, or ethylene glycol monophenyl ether acetate may be used in combination.
The high boiling point solvents can be used alone or in admixture of two or more.

溶媒の使用量は、特に限定されるものではないが、得られる感放射線性組成物の塗布性、保存安定性等の観点から、当該組成物の溶媒を除いた各成分の合計濃度が、好ましくは、５〜５０重量％、さらに好ましくは１０〜４０重量％となる量が望ましい。   The amount of solvent used is not particularly limited, but the total concentration of each component excluding the solvent of the composition is preferable from the viewpoints of applicability and storage stability of the resulting radiation-sensitive composition. Is preferably 5 to 50% by weight, more preferably 10 to 40% by weight.

−カラーフィルタ用感放射線性組成物の調製法−
本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物の調製法としては、特に限定されるものではないが、予め（Ａ）顔料を、（Ｂ）分散剤、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂および（Ｆ）溶媒を含む媒体中に分散させる工程を経て調製することが好ましい。
以下では、予め（Ａ）顔料を前記媒体中に分散させる工程を「予備分散工程」といい、予め（Ａ）顔料を前記媒体中に分散させた分散液を「予備分散液」という。 -Preparation of radiation sensitive composition for color filter-
The method for preparing the radiation sensitive composition for a color filter of the present invention is not particularly limited, but (A) a pigment, (B) a dispersant, (C) an alkali-soluble resin, and (F) a solvent in advance. It is preferable to prepare through a step of dispersing in a medium containing.
Hereinafter, the step of dispersing (A) the pigment in the medium in advance is referred to as “preliminary dispersion step”, and the dispersion in which (A) the pigment is dispersed in the medium in advance is referred to as “preliminary dispersion”.

予備分散工程において、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂の使用量は、カラーフィルタ用感放射線性組成物における（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂の使用量に対して、好ましくは５〜１００重量％、より好ましくは１０〜５０重量％である。この場合、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂の使用量が５重量％未満では、得られる組成物の保存安定性が低下したり、基板上に残渣が発生しやすくなる傾向がある。   In the preliminary dispersion step, the amount of (C) alkali-soluble resin used is preferably 5 to 100% by weight, more preferably 10 with respect to the amount of (C) alkali-soluble resin used in the radiation sensitive composition for color filters. ~ 50% by weight. In this case, when the amount of the (C) alkali-soluble resin used is less than 5% by weight, the storage stability of the resulting composition tends to be reduced, or a residue tends to be generated on the substrate.

予備分散工程は、例えば、ディゾルバー、ビーズミル、ロッドミル等の混合装置を用いて、前記各成分を混合することにより実施することができる。
このようにして得られる予備分散液中の（Ａ）顔料の平均粒径は、好ましくは５０〜４００ｎｍ、より好ましくは５０〜１５０ｎｍである。 The pre-dispersing step can be performed, for example, by mixing the components using a mixing apparatus such as a dissolver, a bead mill, or a rod mill.
The average particle size of the (A) pigment in the preliminary dispersion thus obtained is preferably 50 to 400 nm, more preferably 50 to 150 nm.

予備分散工程に続いて、予備分散液を、（Ｄ）多官能性単量体および（Ｅ）光重合開始剤と、場合により（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂および（Ｆ）溶媒をさらに加えてこれらと共に、常法により混合することにより、本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物を得ることができる。   Following the pre-dispersing step, the pre-dispersed liquid is added with (D) a polyfunctional monomer and (E) a photopolymerization initiator, and optionally (C) an alkali-soluble resin and (F) a solvent. The radiation sensitive composition for a color filter of the present invention can be obtained by mixing by a conventional method.

カラーフィルタの形成方法
次に、本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物（以下、単に「感放射線性組成物」ともいう。）を用いて、本発明のカラーフィルタを形成する方法について説明する。
本発明のカラーフィルタを形成する方法は、少なくとも下記（１）〜（４）の工程を含んでいる。
（１）本発明の感放射線性組成物の被膜を基板上に形成する工程。
（２）該被膜の少なくとも一部に放射線を露光する工程。
（３）露光後の該被膜を現像する工程。
（４）現像後の該被膜をポストベークする工程。
以下、これらの工程について順次説明する。 Next, a method for forming the color filter of the present invention using the radiation sensitive composition for color filters of the present invention (hereinafter also simply referred to as “radiation sensitive composition”) will be described. .
The method for forming a color filter of the present invention includes at least the following steps (1) to (4).
(1) The process of forming the film of the radiation sensitive composition of this invention on a board | substrate.
(2) A step of exposing radiation to at least a part of the coating.
(3) A step of developing the coated film after exposure.
(4) A step of post-baking the film after development.
Hereinafter, these steps will be sequentially described.

−（１）工程−
先ず、基板の表面上に、必要に応じて、画素を形成する部分を区画するように遮光層を形成し、この基板上に、本発明の感放射線性組成物を塗布したのち、プレベークを行って溶媒を蒸発させて被膜を形成する。
この工程で使用される基板としては、例えば、ガラス、シリコン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホンのほか、環状オレフィンの開環重合体やその水素添加物等を挙げることができる。
また、これらの基板には、所望により、シランカップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の適宜の前処理を施しておくこともできる。
感放射線性組成物を基板に塗布する際には、回転塗布、流延塗布、ロール塗布等の適宜の塗布法を採用することができるが、スピンコーターあるいはスリットダイコーターを用いる塗布法が好ましい。
プレベークの条件は、好ましくは７０〜１１０℃で２〜４分程度である。

塗布厚さは、乾燥後の膜厚として、好ましくは０．１〜８．０μｍ、より好ましくは０．２〜６．０μｍ、さらに好ましくは０．２〜４．０μｍである。 -(1) Process-
First, on the surface of the substrate, if necessary, a light shielding layer is formed so as to divide the pixel forming portion, and after applying the radiation-sensitive composition of the present invention on this substrate, pre-baking is performed. The solvent is evaporated to form a film.
Examples of the substrate used in this step include glass, silicon, polycarbonate, polyester, aromatic polyamide, polyamideimide, polyimide, polyethersulfone, cyclic olefin ring-opening polymer, and hydrogenated products thereof. be able to.
In addition, these substrates may be subjected to appropriate pretreatment such as chemical treatment with a silane coupling agent or the like, plasma treatment, ion plating, sputtering, gas phase reaction method, vacuum deposition, etc., if desired.
When the radiation-sensitive composition is applied to the substrate, an appropriate application method such as spin coating, cast coating or roll coating can be employed, but a coating method using a spin coater or a slit die coater is preferred.
The prebaking conditions are preferably 70 to 110 ° C. and about 2 to 4 minutes.

The coating thickness is preferably 0.1 to 8.0 [mu] m, more preferably 0.2 to 6.0 [mu] m, still more preferably 0.2 to 4.0 [mu] m, as the film thickness after drying.

−（２）工程−
次いで、形成された被膜の少なくとも一部に放射線を露光する。この工程で被膜の一部に露光する際には、好ましくは所定のパターンを有するフォトマスクを介して露光する。
露光に使用される放射線としては、例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の放射線を適宜選択して使用することができる。波長が１９０〜４５０ｎｍの範囲にある放射線が好ましい。
放射線の露光量は、好ましくは１０〜１０，０００Ｊ／ｍ２ 程度である。 -(2) Process-
Next, radiation is exposed to at least a part of the formed film. When exposing a part of the film in this step, it is preferably exposed through a photomask having a predetermined pattern.
As radiation used for exposure, for example, radiation such as visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, and X-ray can be appropriately selected and used. Radiation having a wavelength in the range of 190 to 450 nm is preferred.
Exposure of radiation is preferably 10~10,000J / m 2 approximately.

−（３）工程−
次いで、露光後の被膜を、現像液、好ましくはアルカリ現像液を用いて現像して、被膜の未露光部を溶解除去することにより、所定のパターンを形成する。
前記アルカリ現像液としては、例えば、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、コリン、１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ−［４．３．０］−５−ノネン等の水溶液が好ましい。
前記アルカリ現像液には、例えばメタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等を適量添加することもできる。なお、アルカリ現像後は、好ましくは水洗される。
現像処理法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ（浸漬）現像法、パドル（液盛り）現像法等を適用することができる。
現像条件は、常温で５〜３００秒程度が好ましい。 -(3) Process-
Next, the exposed film is developed using a developer, preferably an alkali developer, and the unexposed portion of the film is dissolved and removed to form a predetermined pattern.
Examples of the alkali developer include sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, choline, 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene, 1,5- An aqueous solution of diazabicyclo- [4.3.0] -5-nonene is preferred.
An appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol, a surfactant, or the like can be added to the alkaline developer. The alkali development is preferably washed with water.
As a development processing method, a shower development method, a spray development method, a dip (immersion) development method, a paddle (liquid accumulation) development method, or the like can be applied.
The development conditions are preferably about 5 to 300 seconds at room temperature.

−（４）工程−
次いで、現像後の被膜をポストベークすることにより、画素パターンが所定の配列で配置された基板を得ることができる。
ポストベークの処理条件としては、例えば１８０〜２４０℃で１５〜９０分程度が好ましい。 このようにして形成された画素の膜厚は、好ましくは０．１〜６．０μｍ、より好ましくは０．５〜３．０μｍである。 -(4) Process-
Subsequently, the substrate on which the pixel pattern is arranged in a predetermined arrangement can be obtained by post-baking the developed film.
As post-baking treatment conditions, for example, 180 to 240 ° C. and about 15 to 90 minutes are preferable. The film thickness of the pixel thus formed is preferably 0.1 to 6.0 μm, more preferably 0.5 to 3.0 μm.

前記（１）〜（４）工程を、赤色、緑色または青色の顔料が分散された各感放射線性組成物を用いて繰り返すことにより、赤色、緑色および青色の画素パターンを同一基板上に形成することによって、赤色、緑色および青色の三原色の画素パターンが所定の配列で配置された着色層を基板上に形成することができる。
なお、本発明においては、各色の画素パターンの形成順は任意に選択することができる。 By repeating the steps (1) to (4) using each radiation sensitive composition in which red, green or blue pigments are dispersed, red, green and blue pixel patterns are formed on the same substrate. Accordingly, a colored layer in which pixel patterns of the three primary colors of red, green, and blue are arranged in a predetermined arrangement can be formed on the substrate.
In the present invention, the order of forming the pixel patterns of the respective colors can be arbitrarily selected.

カラーフィルタ
本発明のカラーフィルタは、本発明のカラーフィルタ用感放射線性組成物から形成されたものである。
本発明のカラーフィルタは、透過型あるいは反射型のカラー液晶表示装置のほか、カラー撮像管素子、カラーセンサー等に極めて有用である。 Color filter The color filter of the present invention is formed from the radiation-sensitive composition for a color filter of the present invention.
The color filter of the present invention is extremely useful for color imaging tube elements, color sensors, etc., in addition to transmissive or reflective color liquid crystal display devices.

カラー液晶表示装置
本発明のカラー液晶表示装置は、本発明のカラーフィルタを具備するものである。
本発明のカラー液晶表示装置は、適宜の構造をとることができる。例えば、カラーフィルタを、薄膜トランジスター（ＴＦＴ）が配置された駆動用基板とは別の基板上に形成し、駆動用基板とカラーフィルタを形成した基板とが、液晶層を介して対向した構造をとることができ、さらに薄膜トランジスター（ＴＦＴ）が配置された駆動用基板の表面上にカラーフィルタを形成した基板と、ＩＴＯ（錫をドープした酸化インジュウム）電極を形成した基板とが、液晶層を介して対向した構造をとることもできる。後者の構造は、開口率を格段に向上させることができ、明るく高精細な液晶表示装置が得られるという利点を有する。 Color liquid crystal display device The color liquid crystal display device of the present invention comprises the color filter of the present invention.
The color liquid crystal display device of the present invention can have an appropriate structure. For example, the color filter is formed on a substrate different from the driving substrate on which the thin film transistor (TFT) is arranged, and the driving substrate and the substrate on which the color filter is formed are opposed to each other through the liquid crystal layer. Further, a substrate in which a color filter is formed on the surface of a driving substrate on which a thin film transistor (TFT) is disposed, and a substrate in which an ITO (indium oxide doped with tin) electrode is formed include a liquid crystal layer. It is also possible to adopt a structure facing each other. The latter structure has the advantage that the aperture ratio can be remarkably improved and a bright and high-definition liquid crystal display device can be obtained.

以下、実施例を挙げて本発明の実施の形態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、下記実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the embodiments of the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples.

実施例１
（Ａ）顔料としてC.I.ピグメントレッド２５４／C.I.ピグメントレッド１７７＝８０／２０（重量比）混合物１５重量部、（Ｂ）分散剤としてＤｉｓｐｅｒｂｙｋ−２００１（固形分濃度４５．１重量％）５重量部（固形分換算約２．２６重量部）、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂としてメタクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合重量比＝２０／３０／２０／３０、Ｍｗ＝９，５００、Ｍｎ＝５，０００）６重量部および（Ｆ）溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３７重量部と３−エトキシプロピオン酸エチル３７重量部を、ビーズミルにより処理して、予備分散液（Ｒ１）を調製した。 Example 1
(A) CI Pigment Red 254 / CI Pigment Red 177 = 80/20 (weight ratio) mixture 15 parts by weight as a pigment, (B) Disperbyk-2001 (solid content concentration 45.1% by weight) 5 parts by weight as a dispersant ( About 2.26 parts by weight in terms of solid content), (C) methacrylic acid / N-phenylmaleimide / styrene / benzyl methacrylate copolymer (copolymerization weight ratio = 20/30/20/30, Mw = 9) as alkali-soluble resin , 500, Mn = 5,000) 6 parts by weight and (F) 37 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate and 37 parts by weight of ethyl 3-ethoxypropionate as a solvent were treated with a bead mill to prepare a pre-dispersion liquid (R1) Was prepared.

次いで、予備分散液（Ｒ１）１００重量部、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂としてメタクリル酸／こはく酸モノ（２−メタクリロイロキシエチル）／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合重量比＝２５／１０／３０／２０／１５、Ｍｗ＝１２，０００、Ｍｎ＝６，５００）５重量部、（Ｄ）多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０重量部、（Ｅ）光重合開始剤として２−メチル−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノ−１−プロパノン−１を５重量部、および（Ｆ）溶媒として３−メトキシブチルアセテート７０重量部を混合して、感放射線性組成物を調製した。   Next, 100 parts by weight of the preliminary dispersion (R1), (C) methacrylic acid / succinic acid mono (2-methacryloyloxyethyl) / N-phenylmaleimide / styrene / benzyl methacrylate copolymer (copolymerization weight) as the alkali-soluble resin Ratio = 25/10/30/20/15, Mw = 12,000, Mn = 6,500) 5 parts by weight, (D) 10 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate as a polyfunctional monomer, (E) Mixing 5 parts by weight of 2-methyl- (4-methylthiophenyl) -2-morpholino-1-propanone-1 as a photopolymerization initiator and 70 parts by weight of 3-methoxybutyl acetate as a solvent (F) A radiation composition was prepared.

実施例２
（Ａ）顔料としてC.I.ピグメントグリーン３６／C.I.ピグメントイエロー１３８／C.I.ピグメントイエロー１５０＝５０／４０／１０（重量比）混合物１５重量部、（Ｂ）分散剤としてＤｉｓｐｅｒｂｙｋ−２００１を７．５重量部（固形分換算約３．３８重量部）、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂としてメタクリル酸／ω−カルボキシジカプロラクトンモノアクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／ベンジルメタクリレート／グリセロールモノメタクリレート共重合体（共重合重量比＝１５／１０／２０／１０／３５／１０、Ｍｗ＝６，０００、Ｍｎ＝３，０００）４重量部、および（Ｆ）溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート７３．５重量部を、実施例１と同様に処理して、予備分散液（Ｇ１）を調製した。 Example 2
(A) CI Pigment Green 36 / CI Pigment Yellow 138 / CI Pigment Yellow 150 = 50/40/10 (weight ratio) 15 parts by weight of the mixture as pigment, (B) 7.5 parts by weight of Disperbyk-2001 as the dispersant ( (About 3.38 parts by weight in terms of solid content), (C) methacrylic acid / ω-carboxydicaprolactone monoacrylate / N-phenylmaleimide / styrene / benzyl methacrylate / glycerol monomethacrylate copolymer (copolymerization weight ratio) as alkali-soluble resin = 15/10/20/10/35/10, Mw = 6,000, Mn = 3,000) 4 parts by weight, and (F) 73.5 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate as solvent. In the same manner as above, a preliminary dispersion (G1) was prepared.

次いで、予備分散液（Ｇ１）１００重量部、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂としてメタクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／ベンジルメタクリレート／グリセロールモノメタクリレート共重合体（共重合重量比＝１５／２５／１５／３５／１０、Ｍｗ＝１３，５００、Ｍｎ＝６，０００）５重量部、（Ｄ）多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０重量部、（Ｅ）光重合開始剤として２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１を５重量部、および（Ｆ）溶媒として３−エトキシプロピオン酸エチル７０重量部を混合して、感放射線性組成物を調製した。   Next, 100 parts by weight of the preliminary dispersion (G1), (C) a methacrylic acid / N-phenylmaleimide / styrene / benzyl methacrylate / glycerol monomethacrylate copolymer (copolymerization weight ratio = 15/25/15 /) as an alkali-soluble resin 35/10, Mw = 1,500, Mn = 6,000) 5 parts by weight, (D) 10 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate as a polyfunctional monomer, (E) 2-benzyl as a photopolymerization initiator A radiation sensitive composition was prepared by mixing 5 parts by weight of 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1 and 70 parts by weight of ethyl 3-ethoxypropionate as a solvent (F). did.

実施例３
（Ａ）顔料としてC.I.ピグメントブルー１５／C.I.ピグメントバイオレット２３＝９０／１０（重量比）混合物１５重量部、（Ｂ）分散剤としてＤｉｓｐｅｒｂｙｋ−２００１を１０重量部（固形分換算４．５１重量部）、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂としてアクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／フェニルメタクリレート／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体（共重合重量比＝１５／２０／１０／３５／１０／１０、Ｍｗ＝２３，０００、Ｍｎ＝１１，０００）２重量部、および（Ｆ）溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート６３重量部とプロピレングリコールモノメチルエーテル１０重量部を、実施例１と同様に処理して、予備分散液（Ｂ１）を調製した。 Example 3
(A) CI Pigment Blue 15 / CI Pigment Violet 23 = 90/10 (weight ratio) mixture 15 parts by weight as a pigment, (B) Disperbyk-2001 10 parts by weight (4.51 parts by weight in terms of solid content) as a dispersant (C) acrylic acid / N-phenylmaleimide / styrene / phenyl methacrylate / 2-hydroxyethyl methacrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer (copolymer weight ratio = 15/20/10/35/10) as alkali-soluble resin / 10, Mw = 23,000, Mn = 11,000) 2 parts by weight, and (F) 63 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate and 10 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether as the solvent were treated in the same manner as in Example 1. Thus, a preliminary dispersion (B1) was prepared. .

次いで、予備分散液（Ｂ１）１００重量部、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂としてメタクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／α−メチルスチレン／ベンジルメタクリレート（共重合重量比＝２０／２５／２５／３０、Ｍｗ＝４３，０００、Ｍｎ＝２１，０００）１０重量部、（Ｄ）多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２０重量部、（Ｅ）光重合開始剤として２−メチル−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノ−１−プロパノン−１を５重量部、および（Ｆ）溶媒として３−メチル−３−メトキシブチルアセテート３０重量部とプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート８０重量部を混合して、感放射線性組成物を調製した。   Next, 100 parts by weight of the preliminary dispersion (B1), (C) methacrylic acid / N-phenylmaleimide / α-methylstyrene / benzyl methacrylate (copolymerization weight ratio = 20/25/25/30, Mw = as alkali-soluble resin) 43,000, Mn = 21,000) 10 parts by weight, (D) 20 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate as a polyfunctional monomer, (E) 2-methyl- (4-methylthiophenyl) as a photopolymerization initiator ) -2-morpholino-1-propanone-1 and (F) 30 parts by weight of 3-methyl-3-methoxybutyl acetate and 80 parts by weight of propylene glycol monoethyl ether acetate as a solvent were mixed, A radiation composition was prepared.

実施例４
実施例１における予備分散工程において（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂６重量部に代えて、メタクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／ｎ−ブチルメタクリレート共重合体（共重合重量比＝２０／３０／２０／３０、Ｍｗ＝８，０００、Ｍｎ＝４，０００）６重量部を用い、予備分散液（Ｒ１）と混合する工程において（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂５重量部に代えて、メタクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／２−エチルへキシルメタクリレート共重合体（共重合重量比＝２０／３０／２０／３０、Ｍｗ＝１４，０００、Ｍｎ＝６，５００）５重量部を用いた以外は、実施例１と同様にして、感放射線性組成物を調製した。 Example 4
In the pre-dispersion step in Example 1, instead of 6 parts by weight of (C) alkali-soluble resin, a methacrylic acid / N-phenylmaleimide / styrene / n-butyl methacrylate copolymer (copolymerization weight ratio = 20/30/20 / 30, Mw = 8,000, Mn = 4,000) In the step of mixing with the preliminary dispersion (R1), 6 parts by weight (C) instead of 5 parts by weight of the alkali-soluble resin, methacrylic acid / N-phenyl Example except that 5 parts by weight of maleimide / styrene / 2-ethylhexyl methacrylate copolymer (copolymerization weight ratio = 20/30/20/30, Mw = 14,000, Mn = 6,500) was used In the same manner as in No. 1, a radiation sensitive composition was prepared.

比較例１
実施例１における予備分散液（Ｒ１）の（Ｂ）分散剤であるＤｉｓｐｅｒｂｙｋ−２００１を５重量部に代えて、ソルスパースＳ２４０００（アミン価＝５０、酸価＝２５）２．５重量部を用いた以外は、実施例１と同様にして、感放射線性組成物を調製した。 Comparative Example 1
Dispersbyk-2001, which is the dispersant (B) in the preliminary dispersion (R1) in Example 1, was replaced with 5 parts by weight, and 2.5 parts by weight of Solsperse S24000 (amine value = 50, acid value = 25) was used. Except for the above, a radiation-sensitive composition was prepared in the same manner as in Example 1.

比較例２
実施例１における予備分散液（Ｒ１）の（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂であるメタクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体に代えて、メタクリル酸／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合重量比＝２５／７５、Ｍｗ＝１３，０００、Ｍｎ＝６，５００）を用い、また実施例１における（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂であるメタクリル酸／こはく酸モノ（２−メタクリロイロキシエチル）／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／ベンジルメタクリレート共重合体に代えて、メタクリル酸／２−ヒドロキシエチルメタクリレート／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合重量比＝１５／１５／７０、Ｍｗ＝１６，０００、Ｍｎ＝７，５００）を用いた以外は、実施例１と同様にして、感放射線性組成物を調製した。 Comparative Example 2
Instead of the methacrylic acid / N-phenylmaleimide / styrene / benzyl methacrylate copolymer (C) which is the alkali-soluble resin (C) of the preliminary dispersion (R1) in Example 1, a methacrylic acid / benzyl methacrylate copolymer (copolymerization weight) Ratio = 25/75, Mw = 13,000, Mn = 6,500), and (C) methacrylic acid / succinic acid mono (2-methacryloyloxyethyl) / N which is an alkali-soluble resin in Example 1 -Instead of phenylmaleimide / styrene / benzyl methacrylate copolymer, methacrylic acid / 2-hydroxyethyl methacrylate / benzyl methacrylate copolymer (copolymerization weight ratio = 15/15/70, Mw = 16,000, Mn = 7 , 500) was used in the same manner as in Example 1 to prepare a radiation-sensitive composition. It was.

比較例３
実施例２における予備分散液（Ｇ１）の（Ｂ）分散剤であるＤｉｓｐｅｒｂｙｋ−２００１を７．５重量部に代えて、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１８２（アミン価＝１４、酸価＝０、固形分濃度４４．６重量％）７．５重量部（固形分換算約３．３５重量部）を用いた以外は、実施例２と同様にして、感放射線性組成物を調製した。 Comparative Example 3
Disperbyk-182 (amine value = 14, acid value = 0, solid content concentration 44.) was changed to 7.5 parts by weight of Disperbyk-2001 (B) dispersant in the pre-dispersion liquid (G1) in Example 2. 6 wt%) A radiation-sensitive composition was prepared in the same manner as in Example 2 except that 7.5 parts by weight (about 3.35 parts by weight in terms of solid content) was used.

比較例４
実施例２における予備分散液（Ｇ１）の（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂であるメタクリル酸／ω−カルボキシジカプロラクトンモノアクリレート／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／ベンジルメタクリレート／グリセロールモノメタクリレート共重合体に代えて、メタクリル酸／ω−カルボキシポリカクロラクトンモノアクリレート／スチレン／ベンジルメタクリレート／グリセロールモノメタクリレート共重合体（共重合重量比＝１５／１５／２０／３５／１５、Ｍｗ＝１５，５００、Ｍｎ＝６，５００）を用い、また実施例２における（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂であるメタクリル酸／Ｎ−フェニルマレイミド／スチレン／ベンジルメタクリレート／グリセロールモノメタクリレート共重合体に代えて、メタクリル酸／ベンジルメタクリレート共重合体（共重合重量比＝２５／７５、Ｍｗ＝２２，０００、Ｍｎ＝１０，０００）を用いた以外は、実施例２と同様にして、感放射線性組成物を調製した。 Comparative Example 4
In place of the (C) alkali-soluble resin (meth) acrylic acid / ω-carboxydicaprolactone monoacrylate / N-phenylmaleimide / styrene / benzyl methacrylate / glycerol monomethacrylate copolymer of the preliminary dispersion (G1) in Example 2 Methacrylic acid / ω-carboxypolycacrolactone monoacrylate / styrene / benzyl methacrylate / glycerol monomethacrylate copolymer (copolymerization weight ratio = 15/15/20/35/15, Mw = 15,000, Mn = 6,500 ), And instead of the methacrylic acid / N-phenylmaleimide / styrene / benzyl methacrylate / glycerol monomethacrylate copolymer (C) which is an alkali-soluble resin in Example 2, methacrylic acid / benzyl methacrylate A radiation-sensitive composition was prepared in the same manner as in Example 2 except that a copolymer (copolymer weight ratio = 25/75, Mw = 22,000, Mn = 10,000) was used.

比較例５
実施例３における予備分散液（Ｂ１）の（Ｂ）分散剤であるＤｉｓｐｅｒｂｙｋ−２００１を１０重量部に代えて、アジスパ−ＰＢ−８２２（アミン価＝１３、酸価＝１６）４．５重量部を用いた以外は、実施例３と同様にして、感放射線性組成物を調製した。 Comparative Example 5
Dispersbyk-2001 which is (B) dispersant of the preliminary dispersion (B1) in Example 3 is replaced by 10 parts by weight, and 4.5 parts by weight of Ajispa-PB-822 (amine number = 13, acid number = 16) A radiation-sensitive composition was prepared in the same manner as in Example 3 except that was used.

各実施例および各比較例で得た感放射線性組成物について、下記の要領で評価を行った。評価結果を表１に示す。   The radiation sensitive composition obtained in each example and each comparative example was evaluated in the following manner. The evaluation results are shown in Table 1.

密着性の評価
コーニング社製＃１７３７ガラス基板を２枚用意し、各感放射線性組成物を各基板の表面上に、スピンコーターを用いて塗布したのち、７０℃で３分間プレベークして、膜厚２．５μｍの被膜を形成した。その後、各基板を室温に冷却したのち、高圧水銀ランプ（照度 ２５０Ｗ／ｍ２)を用い、フォトマスクを介して、３６５ｎｍ、４０５ｎｍおよび４３６ｎｍの各波長を含む紫外線を、一方の基板の被膜に１，０００Ｊ／ｍ２の露光量で、また他方の基板の被膜に５００Ｊ／ｍ２ の露光量でそれぞれ露光した。その後各基板上の被膜を、現像液として２３℃のＪＳＲ（株）製現像液ＣＤ１５０ＣＲ（水酸化カリウム０．０４重量％を含む。）を用い、現像液吐出圧０．３ＭＰａ（ノズル径１．０ｍｍ）にて１分間シャワー現像したのち、超純水で洗浄し、さらに２００℃で３０分間ポストベークして、各基板上に９０／２１０μｍのライン・アンド・スペースパターンのストライプ状画素パターンを形成した。
得られた画素パターンを光学顕微鏡で観察し、画素パターンに欠けおよび剥がれが認められない場合を「○」、欠けや剥がれが認められる場合を「×」として評価した。 Evaluation of Adhesion Two # 1737 glass substrates manufactured by Corning Co., Ltd. were prepared, and each radiation-sensitive composition was applied onto the surface of each substrate using a spin coater and then pre-baked at 70 ° C. for 3 minutes to form a film. A film having a thickness of 2.5 μm was formed. Then, after each substrate is cooled to room temperature, ultraviolet rays including 365 nm, 405 nm, and 436 nm are applied to the coating on one substrate through a photomask using a high-pressure mercury lamp (illuminance: 250 W / m 2 ). , at an exposure dose of 000J / m 2, it was also exposed respectively at the other exposure of the film to 500 J / m 2 of substrate. Thereafter, the coating on each substrate was developed using a developer CD150CR (containing 0.04 wt% of potassium hydroxide) manufactured by JSR Co., Ltd. at 23 ° C. as a developer, and a developer discharge pressure of 0.3 MPa (nozzle diameter 1. (0 mm) for 1 minute, followed by washing with ultrapure water, followed by post-baking at 200 ° C. for 30 minutes to form 90/210 μm line-and-space pattern stripe pixel patterns on each substrate did.
The obtained pixel pattern was observed with an optical microscope, and a case where no chipping or peeling was observed in the pixel pattern was evaluated as “◯”, and a case where chipping or peeling was observed was evaluated as “x”.

表面平滑性の評価
前記密着性の評価において得られた各画素パターンの上部の表面粗度を、デジタル・インスツルメンツ社製原子間力顕微鏡を用いて測定して評価した。一般に、表面粗度が６０Å以下であるとき、表面平滑性が良好であるといえる。 Evaluation of surface smoothness The surface roughness of the upper part of each pixel pattern obtained in the evaluation of adhesion was measured and evaluated using an atomic force microscope manufactured by Digital Instruments. Generally, when the surface roughness is 60 mm or less, it can be said that the surface smoothness is good.

現像性の評価
各感放射線性組成物を、コーニング社製＃１７３７ガラス基板の表面上に、スピンコーターを用いて塗布したのち、９０℃で３分間プレベークして、膜厚２．５μｍの皮膜を形成した。その後、基板を室温に冷却したのち、高圧水銀ランプ（照度 ２５０Ｗ／ｍ２)を用い、フォトマスクを介して、被膜に３６５ｎｍ、４０５ｎｍおよび４３６ｎｍの各波長を含む紫外線を、１，０００Ｊ／ｍ２の露光量で露光した。その後被膜を、現像液としてＪＳＲ（株）製現像液ＣＤ１５０ＣＲ（水酸化カリウム０．０４重量％を含む。）を用い、現像液吐出圧０．１ＭＰａ（ノズル径０．３ｍｍ）にて１分間シャワー現像したのち、超純水で洗浄し、さらに２００℃で３０分間ポストベークして、基板上に９０／２１０μｍのライン・アンド・スペースパターンのストライプ状画素パターンを形成した。
得られた画素パターンを光学顕微鏡で観察し、未露光部の基板上に残渣および地汚れが認められない場合を「○」、残渣や地汚れが認められる場合を「×」として評価した。 Evaluation of developability Each radiation sensitive composition was applied on the surface of a # 1737 glass substrate manufactured by Corning, using a spin coater, and then pre-baked at 90 ° C. for 3 minutes to form a film having a thickness of 2.5 μm. Formed. Then, after cooling the substrate to room temperature, using a high-pressure mercury lamp (illuminance: 250 W / m 2 ), ultraviolet rays containing wavelengths of 365 nm, 405 nm, and 436 nm are applied to the coating through a photomask at 1,000 J / m 2. The exposure amount was as follows. Thereafter, the film was showered for 1 minute at a developer discharge pressure of 0.1 MPa (nozzle diameter 0.3 mm) using a developer CD150CR (containing 0.04% by weight of potassium hydroxide) as a developer. After development, the substrate was washed with ultrapure water and further post-baked at 200 ° C. for 30 minutes to form a 90/210 μm line-and-space pattern pixel pattern on the substrate.
The obtained pixel pattern was observed with an optical microscope, and a case where no residue or background stain was observed on the unexposed portion of the substrate was evaluated as “◯”, and a case where residue or background soil was observed was evaluated as “x”.

保存安定性の評価：
各感放射線性組成物について、東京計器製Ｅ型粘度計を用いて初期粘度を測定した。また、各感放射線性組成物５０ｇを遮光ガラス容器に入れ、密閉状態で２３℃にて１４日間静置したのち、東京計器製Ｅ型粘度計を用いて静置後粘度を測定した。このとき、静置後粘度の初期粘度に対する変化率を算出し、変化率が５％未満の場合を「○」、５％以上１０％未満の場合を「△」、１０％以上の場合を「×」として評価した。 Evaluation of storage stability:
About each radiation sensitive composition, the initial viscosity was measured using the Tokyo Keiki E-type viscosity meter. Further, 50 g of each radiation sensitive composition was put in a light-shielding glass container and allowed to stand at 23 ° C. for 14 days in a sealed state, and then the viscosity after standing was measured using an E-type viscometer manufactured by Tokyo Keiki. At this time, the rate of change of the viscosity after standing with respect to the initial viscosity is calculated, “◯” when the rate of change is less than 5%, “Δ” when 5% or more and less than 10%, “×” was evaluated.

Figure 2005316388
Figure 2005316388

Claims (4)

（Ａ）顔料、（Ｂ）分散剤、（Ｃ）（ｃ１）（メタ）アクリル酸を含有するカルボキシル基含有不飽和単量体と、（ｃ２）Ｎ−位置換マレイミドと、（ｃ３）スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、ポリスチレンマクロモノマーおよびポリメチルメタクリレートマクロモノマーよりなる群から選ばれる少なくとも１種との共重合体からなるアルカリ可溶性樹脂、（Ｄ）多官能性単量体、（Ｅ）光重合開始剤および（Ｆ）溶媒を含有しそして上記（Ｂ）分散剤がリビングアニオン重合を経て得られ且つアミン価（単位ｍｇＫＯＨ／ｇ）と酸価（単位ｍｇＫＯＨ／ｇ）がいずれも０を超えるアクリル系共重合体を含有することを特徴とするカラーフィルタ用感放射線性組成物。 (A) pigment, (B) dispersant, (C) (c1) a carboxyl group-containing unsaturated monomer containing (meth) acrylic acid, (c2) N-substituted maleimide, (c3) styrene, α-methylstyrene, p-hydroxy-α-methylstyrene, methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate An alkali-soluble resin comprising a copolymer with at least one selected from the group consisting of benzyl (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, polystyrene macromonomer and polymethylmethacrylate macromonomer, (D) A monomer, (E) a photoinitiator and (F) a solvent and B) A color wherein the dispersant is obtained through living anionic polymerization and contains an acrylic copolymer in which both the amine value (unit mgKOH / g) and the acid value (unit mgKOH / g) exceed 0 Radiation sensitive composition for filters. （Ａ）顔料、（Ｂ）分散剤、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｄ）多官能性単量体、（Ｅ）光重合開始剤および（Ｆ）溶媒を含有しそして上記（Ｂ）分散剤がリビングアニオン重合を経て得られ且つアミン価（単位ｍｇＫＯＨ／ｇ）と酸価（単位ｍｇＫＯＨ／ｇ）がいずれも０を超えるアクリル系共重合体を含有し、そして上記（Ａ）顔料は（Ｂ）分散剤、（Ｃ）アルカリ可溶性樹脂および（Ｆ）溶媒を含む媒体中に予め分散させて調製されたものであることを特徴とするカラーフィルタ用感放射線性組成物。 (A) a pigment, (B) a dispersant, (C) an alkali-soluble resin, (D) a polyfunctional monomer, (E) a photopolymerization initiator and (F) a solvent, and the (B) dispersant Containing an acrylic copolymer obtained through living anionic polymerization and having both an amine value (unit mgKOH / g) and an acid value (unit mgKOH / g) exceeding 0, and the pigment (A) is (B A radiation-sensitive composition for a color filter, which is prepared by previously dispersing in a medium containing a dispersant, (C) an alkali-soluble resin, and (F) a solvent. 請求項１または請求項２に記載のカラーフィルタ用感放射線性組成物から形成されたカラーフィルタ。 The color filter formed from the radiation sensitive composition for color filters of Claim 1 or Claim 2. 請求項３に記載のカラーフィルタを具備する液晶表示装置。
A liquid crystal display device comprising the color filter according to claim 3.
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