JP5056025B2 - Radiation sensitive resin composition and color filter - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、透過型あるいは反射型のカラー液晶装置、カラー撮像管素子等に用いられるカラーフィルタの製造に有用な感放射線性樹脂組成物とその調製法、当該感放射線性樹脂組成物から形成されたカラーフィルタおよび当該カラーフィルタを具備するカラー液晶表示装置に関する。 The present invention is formed from a radiation-sensitive resin composition useful for the production of a color filter used in a transmissive or reflective color liquid crystal device, a color imaging tube element, and the like, a method for preparing the same, and the radiation-sensitive resin composition. The present invention relates to a color filter and a color liquid crystal display device including the color filter.
着色感放射線性樹脂組成物を用いてカラーフィルタを形成する方法としては、基板上あるいは予め所望のパターンの遮光層を形成した基板上に、着色感放射性線樹脂組成物の塗膜を形成して、所望のパターン形状を有するフォトマスクを介して放射線を照射(以下、「露光」という。)し、例えばアルカリ現像液により現像して未露光部を溶解除去し、その後クリーンオーブンやホットプレートを用いてポストベークすることにより、各色の画素を得る方法(例えば、特許文献1参照。)が知られている。
近年、カラーフィルターの形成に用いられる基板サイズが大型化していることから、着色感放射線性樹脂組成物の塗布方法が、中央滴下型のスピンコーターを用いる方式から、着色感放射線性樹脂組成物を塗布するための液出口部がより小径となったスリットノズルを用いる方式に置き換わりつつある。後者のスリットノズル方式では、液出口部の径が小さい(狭い)ため、塗布終了後のノズル先端部の周辺に着色感放射線性樹脂組成物が残ってしまうことが多く、これが乾燥すると次回の塗布時に乾燥異物としてカラーフィルター上に落下し、カラーフィルターの品質を著しく低下させるので、通常は塗布前にノズル先端部に洗浄溶剤を噴出させるジェット洗浄が行なわれているが、それでも乾燥異物によるカラーフィルターの品質低下を有効に防止できず、製品歩留まりが低下する大きな要因となっている。さらに、従来の着色感放射線性樹脂組成物では露光・現像後の被膜に色ムラを生じる場合があるが、この場合も製品歩留まり低下の要因となる。
そこで、このような問題に対処するため近年では、洗浄溶剤による洗浄性、即ち乾燥後でも洗浄溶剤に対する溶解性の高く、また露光・現像後の被膜に色ムラを生じない、カラーフィルタ用の着色感放射線性樹脂組成物が求められている。
As a method of forming a color filter using a colored radiation-sensitive resin composition, a coating film of a colored radiation-sensitive linear resin composition is formed on a substrate or a substrate on which a light-shielding layer having a desired pattern has been previously formed. Then, irradiation with radiation through a photomask having a desired pattern shape (hereinafter referred to as “exposure”) is performed with, for example, an alkali developer to dissolve and remove unexposed portions, and then using a clean oven or a hot plate A method of obtaining pixels of each color by post-baking (see, for example, Patent Document 1) is known.
In recent years, since the size of the substrate used for forming the color filter has increased, the colored radiation-sensitive resin composition coating method has been changed from a method using a central dropping type spin coater to the colored radiation-sensitive resin composition. The liquid outlet portion for application is being replaced by a method using a slit nozzle having a smaller diameter. In the latter slit nozzle method, since the diameter of the liquid outlet is small (narrow), the colored radiation-sensitive resin composition often remains around the tip of the nozzle after application, and when it is dried, the next application Since it sometimes drops onto the color filter as a dry foreign matter, and the quality of the color filter is significantly reduced, jet cleaning is usually carried out by spraying a cleaning solvent on the nozzle tip before coating, but it is still a color filter due to dry foreign matter. Therefore, it is not possible to effectively prevent the quality of the product from being deteriorated, which is a major factor in reducing the product yield. Furthermore, the conventional colored radiation-sensitive resin composition may cause uneven color in the film after exposure / development, which also causes a decrease in product yield.
Therefore, in recent years, in order to cope with such problems, the coloration for color filters, which is highly washable with a washing solvent, that is, highly soluble in the washing solvent even after drying and does not cause color unevenness in the film after exposure and development. There is a need for radiation sensitive resin compositions.
また、近年におけるカラーフィルタの技術分野においては、表示性能に関しても、長期にわたって焼き付きや残像等の不良を起こすことのないカラー液晶表示装置が強く求められており、そのためにカラーフィルタに対して、電圧保持率等に代表される電気特性に関する信頼性の向上への要求がますます強まっているが、従来の着色感放射線性樹脂組成物では、その要求に応えることは極めて困難なのが実情である。 Also, in recent years, in the technical field of color filters, there is a strong demand for color liquid crystal display devices that do not cause defects such as image sticking and afterimages over a long period of time with respect to display performance. There is an increasing demand for improvement in reliability related to electrical characteristics such as retention rate, but it is actually difficult to meet the demand with conventional colored radiation-sensitive resin compositions.
本発明の課題は、乾燥塗膜の溶剤再溶解性が優れ、露光・現像後の被膜に色ムラを生じることがなく、電圧保持率等に代表される電気特性の面での信頼性に優れたカラーフィルタを高い製品歩留まりで形成することができる感放射線性樹脂組成物等を提供することにある。 The problem of the present invention is that the solvent re-dissolvability of the dried coating film is excellent, the coating film after exposure / development does not cause color unevenness, and is excellent in terms of electrical characteristics such as voltage holding ratio. Another object of the present invention is to provide a radiation-sensitive resin composition or the like that can form a color filter with a high product yield.
本発明は、第一に、
(A)着色剤、(B)アルカリ可溶性樹脂、(C)多官能性単量体、(D)光重合開始剤を含有する感放射線性樹脂組成物であって、(B)アルカリ可溶性樹脂が(b1)不飽和カルボン酸もしくはその酸無水物および不飽和フェノール化合物の群から選ばれる1種と、(b2)重合性不飽和結合としてアリル基と他の重合性不飽和結合とを有する化合物と、(b3)前記以外の不飽和化合物との共重合体であり、かつゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定したポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)(以下、単に「Mw」という。)とゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)により測定したポリスチレン換算数平均分子量(Mn)(以下、単に「Mn」という。)との比(Mw/Mn)が1.0〜2.0であり、(D)光重合開始剤がカルバゾール系化合物を必須成分とすることを特徴とする感放射線性樹脂組成物(以下、「感放射線性樹脂組成物(I)」という。)、からなる。
The present invention, first,
A radiation-sensitive resin composition containing (A) a colorant, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer, and (D) a photopolymerization initiator, wherein (B) the alkali-soluble resin is (B1) one type selected from the group of unsaturated carboxylic acids or acid anhydrides and unsaturated phenol compounds, and (b2) a compound having an allyl group and another polymerizable unsaturated bond as a polymerizable unsaturated bond ; (B3) A copolymer with an unsaturated compound other than the above, and a polystyrene-converted weight average molecular weight (Mw) (hereinafter simply referred to as “Mw”) and gel measured by gel permeation chromatography (GPC). Ratio (Mw / Mn) to polystyrene-reduced number average molecular weight (Mn) (hereinafter simply referred to as “Mn”) measured by permeation chromatography (GPC) is 1.0 to 2. The radiation sensitive resin composition (hereinafter referred to as “radiation sensitive resin composition (I)”), which is 0, and (D) the photopolymerization initiator contains a carbazole-based compound as an essential component. Become.
本発明は、第二に、
(A)着色剤が顔料であり、該顔料を溶媒中、分散剤の存在下で粉砕しつつ混合・分散して得られる顔料分散液を、(B)アルカリ可溶性樹脂、(C)多官能性単量体および(D)光重合開始剤と混合することを特徴とする、感放射線性樹脂組成物(I)の調製法、からなる。
The present invention secondly,
(A) The colorant is a pigment, and a pigment dispersion obtained by mixing and dispersing the pigment in a solvent in the presence of a dispersant is mixed (B) alkali-soluble resin, (C) polyfunctional And (D) a method for preparing a radiation-sensitive resin composition (I), which is mixed with a photopolymerization initiator.
本発明は、第三に、
カラーフィルタ用である感放射線性樹脂組成物(I)、からなる。
Third, the present invention
It consists of the radiation sensitive resin composition (I) for color filters.
本発明は、第四に、
感放射線性樹脂組成物(I)を用いて形成されてなるカラーフィルタ、からなる。
The present invention fourthly,
It consists of a color filter formed using the radiation sensitive resin composition (I).
本発明は、第五に、
前記カラーフィルタを具備するカラー液晶表示装置、からなる。
The present invention fifthly,
A color liquid crystal display device including the color filter;
以下、本発明について詳細に説明する。
感放射線性樹脂組成物(I)
−(A)着色剤−
感放射線性樹脂組成物(I)における着色剤は、特に限定されるものではなく、顔料、染料あるいは天然色素のいずれでもよいが、カラーフィルタには高純度で高光透過性の発色と耐熱性が求められることから、顔料が好ましく、特に、有機顔料あるいはカーボンブラックが好ましい。
前記有機顔料としては、例えば、カラーインデックスにおいてピグメントに分類されている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデックス(C.I.)番号が付されているものを挙げることができる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
Radiation sensitive resin composition (I)
-(A) Colorant-
The colorant in the radiation-sensitive resin composition (I) is not particularly limited, and may be any of a pigment, a dye, or a natural pigment, but the color filter has high purity and high light transmission color and heat resistance. Since it is required, a pigment is preferable, and an organic pigment or carbon black is particularly preferable.
Examples of the organic pigment include compounds classified as pigments in the color index, and specifically those having the following color index (CI) numbers.
C.I.ピグメントイエロー12、C.I.ピグメントイエロー13、C.I.ピグメントイエロー14、C.I.ピグメントイエロー17、C.I.ピグメントイエロー20、C.I.ピグメントイエロー24、C.I.ピグメントイエロー31、C.I.ピグメントイエロー55、C.I.ピグメントイエロー83、C.I.ピグメントイエロー93、C.I.ピグメントイエロー109、C.I.ピグメントイエロー110、C.I.ピグメントイエロー138、C.I.ピグメントイエロー139、C.I.ピグメントイエロー150、C.I.ピグメントイエロー153、C.I.ピグメントイエロー154、C.I.ピグメントイエロー155、C.I.ピグメントイエロー166、C.I.ピグメントイエロー168、C.I.ピグメントイエロー211; C. I. Pigment yellow 12, C.I. I. Pigment yellow 13, C.I. I. Pigment yellow 14, C.I. I. Pigment yellow 17, C.I. I. Pigment yellow 20, C.I. I. Pigment yellow 24, C.I. I. Pigment yellow 31, C.I. I. Pigment yellow 55, C.I. I. Pigment yellow 83, C.I. I. Pigment yellow 93, C.I. I. Pigment yellow 109, C.I. I. Pigment yellow 110, C.I. I. Pigment yellow 138, C.I. I. Pigment yellow 139, C.I. I. Pigment yellow 150, C.I. I. Pigment yellow 153, C.I. I. Pigment yellow 154, C.I. I. Pigment yellow 155, C.I. I. Pigment yellow 166, C.I. I. Pigment yellow 168, C.I. I. Pigment yellow 211;
C.I.ピグメントオレンジ5、C.I.ピグメントオレンジ13、C.I.ピグメントオレンジ14、C.I.ピグメントオレンジ24、C.I.ピグメントオレンジ34、C.I.ピグメントオレンジ36、C.I.ピグメントオレンジ38、C.I.ピグメントオレンジ40、C.I.ピグメントオレンジ43、C.I.ピグメントオレンジ46、C.I.ピグメントオレンジ49、C.I.ピグメントオレンジ61、C.I.ピグメントオレンジ64、C.I.ピグメントオレンジ68、C.I.ピグメントオレンジ70、C.I.ピグメントオレンジ71、C.I.ピグメントオレンジ72、C.I.ピグメントオレンジ73、C.I.ピグメントオレンジ74; C. I. Pigment orange 5, C.I. I. Pigment orange 13, C.I. I. Pigment orange 14, C.I. I. Pigment orange 24, C.I. I. Pigment orange 34, C.I. I. Pigment orange 36, C.I. I. Pigment orange 38, C.I. I. Pigment orange 40, C.I. I. Pigment orange 43, C.I. I. Pigment orange 46, C.I. I. Pigment orange 49, C.I. I. Pigment orange 61, C.I. I. Pigment orange 64, C.I. I. Pigment orange 68, C.I. I. Pigment orange 70, C.I. I. Pigment orange 71, C.I. I. Pigment orange 72, C.I. I. Pigment orange 73, C.I. I. Pigment orange 74;
C.I.ピグメントレッド1、C.I.ピグメントレッド2、C.I.ピグメントレッド5、C.I.ピグメントレッド17、C.I.ピグメントレッド31、C.I.ピグメントレッド32、C.I.ピグメントレッド41、C.I.ピグメントレッド122、C.I.ピグメントレッド123、C.I.ピグメントレッド144、C.I.ピグメントレッド149、C.I.ピグメントレッド166、C.I.ピグメントレッド168、C.I.ピグメントレッド170、C.I.ピグメントレッド171、C.I.ピグメントレッド175、C.I.ピグメントレッド176、C.I.ピグメントレッド177、C.I.ピグメントレッド178、C.I.ピグメントレッド179、C.I.ピグメントレッド180、C.I.ピグメントレッド185、C.I.ピグメントレッド187、C.I.ピグメントレッド202、C.I.ピグメントレッド206、C.I.ピグメントレッド207、C.I.ピグメントレッド209、C.I.ピグメントレッド214、C.I.ピグメントレッド220、C.I.ピグメントレッド221、C.I.ピグメントレッド224、C.I.ピグメントレッド242、C.I.ピグメントレッド243、C.I.ピグメントレッド254、C.I.ピグメントレッド255、C.I.ピグメントレッド262、C.I.ピグメントレッド264、C.I.ピグメントレッド272; C. I. Pigment red 1, C.I. I. Pigment red 2, C.I. I. Pigment red 5, C.I. I. Pigment red 17, C.I. I. Pigment red 31, C.I. I. Pigment red 32, C.I. I. Pigment red 41, C.I. I. Pigment red 122, C.I. I. Pigment red 123, C.I. I. Pigment red 144, C.I. I. Pigment red 149, C.I. I. Pigment red 166, C.I. I. Pigment red 168, C.I. I. Pigment red 170, C.I. I. Pigment red 171, C.I. I. Pigment red 175, C.I. I. Pigment red 176, C.I. I. Pigment red 177, C.I. I. Pigment red 178, C.I. I. Pigment red 179, C.I. I. Pigment red 180, C.I. I. Pigment red 185, C.I. I. Pigment red 187, C.I. I. Pigment red 202, C.I. I. Pigment red 206, C.I. I. Pigment red 207, C.I. I. Pigment red 209, C.I. I. Pigment red 214, C.I. I. Pigment red 220, C.I. I. Pigment red 221, C.I. I. Pigment red 224, C.I. I. Pigment red 242, C.I. I. Pigment red 243, C.I. I. Pigment red 254, C.I. I. Pigment red 255, C.I. I. Pigment red 262, C.I. I. Pigment red 264, C.I. I. Pigment red 272;
C.I.ピグメントバイオレット1、C.I.ピグメントバイオレット19、C.I.ピグメントバイオレット23、C.I.ピグメントバイオレット29、C.I.ピグメントバイオレット32、C.I.ピグメントバイオレット36、C.I.ピグメントバイオレット38;
C.I.ピグメントブルー15、C.I.ピグメントブルー15:3、C.I.ピグメントブルー15:4、C.I.ピグメントブルー15:6、C.I.ピグメントブルー60、C.I.ピグメントブルー80;
C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36;
C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメントブラウン25;
C.I.ピグメントブラック1、C.I.ピグメントブラック7。
CI Pigment Violet 1, CI Pigment Violet 19, CI Pigment Violet 23, CI Pigment Violet 29, CI Pigment Violet 32, CI Pigment Violet 36, CI Pigment Violet 38;
CI Pigment Blue 15, CI Pigment Blue 15: 3, CI Pigment Blue 15: 4, CI Pigment Blue 15: 6, CI Pigment Blue 60, CI Pigment Blue 80;
CI Pigment Green 7, CI Pigment Green 36;
CI Pigment Brown 23, CI Pigment Brown 25;
CI Pigment Black 1, CI Pigment Black 7.
これらの有機顔料のうち、C.I.ピグメントイエロー83、C.I.ピグメントイエロー139、C.I.ピグメントイエロー138、C.I.ピグメントイエロー150、C.I.ピグメントイエロー180、C.I.ピグメントレッド177、C.I.ピグメントレッド254、C.I.ピグメントブルー15:3、C.I.ピグメントブルー15:4、C.I.ピグメントブルー15:6、C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36;C.I.ピグメントバイオレット23、C.I.ピグメントブルー60およびC.I.ピグメントブルー80の群から選ばれる少なくとも1種が好ましい。
前記有機顔料は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができ、また有機顔料とカーボンブラックとを混合して使用することもできる。
Among these organic pigments, C.I. I. Pigment yellow 83, C.I. I. Pigment yellow 139, C.I. I. Pigment yellow 138, C.I. I. Pigment yellow 150, C.I. I. Pigment yellow 180, C.I. I. Pigment red 177, C.I. I. CI Pigment Red 254, CI Pigment Blue 15: 3, CI Pigment Blue 15: 4, CI Pigment Blue 15: 6, CI Pigment Green 7, CI Pigment Green 36; CI Pigment Violet 23, CI Pigment Blue 60 and CI Pigment Blue 80 At least one selected from the group is preferred.
The organic pigments can be used alone or in admixture of two or more, and organic pigments and carbon black can also be mixed and used.
本発明において、感放射線性樹脂組成物(I)は、適宜の方法により調製することができるが、着色剤として顔料を用いる場合、該顔料を溶媒中、分散剤の存在下で、例えばビーズミル、ロールミル等を用いて、粉砕しつつ混合・分散して顔料分散液とし、これを、後述する(B)成分、(C)成分および(D)成分と、必要に応じてさらに追加の溶媒や後述する他の添加剤を添加し、混合することにより調製することが好ましい。 In the present invention, the radiation-sensitive resin composition (I) can be prepared by an appropriate method. When a pigment is used as a colorant, the pigment is used in a solvent in the presence of a dispersant, for example, a bead mill, Using a roll mill or the like, mixing and dispersing while pulverizing to obtain a pigment dispersion, which is to be described later as component (B), component (C) and component (D), and additional solvents as required It is preferable to prepare by adding other additives to be mixed.
前記顔料分散液の調製に使用される分散剤としては、例えば、カチオン系、アニオン系、ノニオン系や両性等の適宜の分散剤を使用することができるが、ウレタン結合を有する化合物(以下、「ウレタン系分散剤」という。)を含む分散剤が好ましい。
前記ウレタン結合は、一般に、式R’−NH−COO−R''(但し、R’およびR''は相互に独立に脂肪族、脂環族または芳香族の1価または多価の有機基であり、該多価の有機基はさらに別のウレタン結合を有する基あるいは他の基に結合している。)で表され、ウレタン系分散剤中の親油性基および/または親水性基に存在することができ、またウレタン系分散剤の主鎖および/または側鎖に存在することができ、さらにウレタン系分散剤中に1個以上存在することができる。ウレタン結合がウレタン系分散剤中に2個以上存在するとき、各ウレタン結合は同一でも異なってもよい。
As the dispersant used for the preparation of the pigment dispersion, for example, an appropriate dispersant such as a cationic, anionic, nonionic or amphoteric can be used, but a compound having a urethane bond (hereinafter, “ Dispersants containing “urethane-based dispersants”) are preferred.
The urethane bond generally has the formula R′—NH—COO—R ″, where R ′ and R ″ are independently of each other an aliphatic, alicyclic or aromatic monovalent or polyvalent organic group. And the polyvalent organic group is further bonded to another group having a urethane bond or another group, and is present in a lipophilic group and / or a hydrophilic group in the urethane-based dispersant. And can be present in the main chain and / or side chain of the urethane-based dispersant, and can further be present in the urethane-based dispersant. When two or more urethane bonds are present in the urethane-based dispersant, each urethane bond may be the same or different.
このようなウレタン系分散剤としては、例えば、ジイソシアナート類および/またはトリイソシアナート類と片末端に水酸基を有するポリエステル類および/または両末端に水酸基を有するポリエステル類との反応生成物を挙げることができる。
前記ジイソシアナート類としては、例えば、ベンゼン−1,3−ジイソシアナート、ベンゼン−1,4−ジイソシアナート等のベンゼンジイソシアナート類;トルエン−2,4−ジイソシアナート、トルエン−2,5−ジイソシアナート、トルエン−2,6−ジイソシアナート、トルエン−3,5−ジイソシアナート等のトルエンジイソシアナート類;1,2−キシレン−3,5−ジイソシアナート、1,2−キシレン−3,6−ジイソシアナート、1,3−キシレン−2,4−ジイソシアナート、1,3−キシレン−2,5−ジイソシアナート、1,3−キシレン−4,6−ジイソシアナート、1,4−キシレン−2,5−ジイソシアナート、1,4−キシレン−2,6−ジイソシアナート等のキシレンジイソシアナート類等の他の芳香族ジイソシアナート類等を挙げることができる。
Examples of such urethane dispersants include reaction products of diisocyanates and / or triisocyanates with polyesters having a hydroxyl group at one end and / or polyesters having a hydroxyl group at both ends. be able to.
Examples of the diisocyanates include benzene diisocyanates such as benzene-1,3-diisocyanate and benzene-1,4-diisocyanate; toluene-2,4-diisocyanate, toluene-2 , 5-diisocyanate, toluene-2,6-diisocyanate, toluene diisocyanates such as toluene-3,5-diisocyanate; 1,2-xylene-3,5-diisocyanate, 1, 2-xylene-3,6-diisocyanate, 1,3-xylene-2,4-diisocyanate, 1,3-xylene-2,5-diisocyanate, 1,3-xylene-4,6- Other aromatics such as xylene diisocyanates such as diisocyanate, 1,4-xylene-2,5-diisocyanate, 1,4-xylene-2,6-diisocyanate Mention may be made of an isocyanate, and the like.
また、前記トリイソシアナート類としては、例えば、ベンゼン−1,2,4−トリイソシアナート、ベンゼン−1,2,5−トリイソシアナート、ベンゼン−1,3,5−トリイソシアナート等のベンゼントリイソシアナート類;トルエン−2,3,5−トリイソシアナート、トルエン−2,3,6−トリイソシアナート、トルエン−2,4,5−トリイソシアナート、トルエン−2,4,6−トリイソシアナート等のトルエントリイソシアナート類;1,2−キシレン−3,4,5−トリイソシアナート、1,2−キシレン−3,4,6−トリイソシアナート、1,3−キシレン−2,4,5−トリイソシアナート、1,3−キシレン−2,4,6−トリイソシアナート、1,3−キシレン−4,5,6−トリイソシアナート、1,4−キシレン−2,3,5−トリイソシアナート、1,4−キシレン−2,3,6−トリイソシアナート等のキシレントリイソシアナート類等の他の芳香族トリイソシアナート類等を挙げることができる。
これらのジイソシアナート類およびトリイソシアナート類は、それぞれ単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
Examples of the triisocyanates include benzene such as benzene-1,2,4-triisocyanate, benzene-1,2,5-triisocyanate, and benzene-1,3,5-triisocyanate. Triisocyanates; toluene-2,3,5-triisocyanate, toluene-2,3,6-triisocyanate, toluene-2,4,5-triisocyanate, toluene-2,4,6-tri Toluene isocyanates such as isocyanate; 1,2-xylene-3,4,5-triisocyanate, 1,2-xylene-3,4,6-triisocyanate, 1,3-xylene-2, 4,5-triisocyanate, 1,3-xylene-2,4,6-triisocyanate, 1,3-xylene-4,5,6-triisocyanate, 1,4-chi Other aromatic triisocyanates such as xylene triisocyanates such as len-2,3,5-triisocyanate and 1,4-xylene-2,3,6-triisocyanate can be mentioned. .
These diisocyanates and triisocyanates can be used alone or in admixture of two or more.
前記片末端に水酸基を有するポリエステル類および両末端に水酸基を有するポリエステル類としては、例えば、片末端または両末端に水酸基を有するポリカプロラクトン、片末端または両末端に水酸基を有するポリバレロラクトン、片末端または両末端に水酸基を有するポリプロピオラクトン等の片末端または両末端に水酸基を有するポリラクトン類;片末端または両末端に水酸基を有するポリエチレンテレフタレート、片末端または両末端に水酸基を有するポリブチレンテレフタレート等の片末端または両末端に水酸基を有する重縮合系ポリエステル類等を挙げることができる。
これらの片末端に水酸基を有するポリエステル類および両末端に水酸基を有するポリエステル類は、それぞれ単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
Examples of the polyester having a hydroxyl group at one end and the polyester having a hydroxyl group at both ends include polycaprolactone having a hydroxyl group at one end or both ends, polyvalerolactone having a hydroxyl group at one end or both ends, and one end Or polylactones having a hydroxyl group at one or both ends, such as polypropiolactone having a hydroxyl group at both ends; polyethylene terephthalate having a hydroxyl group at one or both ends, polybutylene terephthalate having a hydroxyl group at one or both ends, etc. Examples thereof include polycondensed polyesters having a hydroxyl group at one or both ends.
These polyesters having a hydroxyl group at one end and polyesters having a hydroxyl group at both ends can be used alone or in admixture of two or more.
本発明におけるウレタン系分散剤としては、芳香族ジイソシアナート類と片末端に水酸基を有するポリラクトン類および/または両末端に水酸基を有するポリラクトン類との反応生成物が好ましく、特に、トルエンジイソシアナート類と片末端に水酸基を有するポリカプロラクトンおよび/または両末端に水酸基を有するポリカプロラクトンとの反応生成物が好ましい。
このようなウレタン系分散剤の具体例としては、商品名で、例えば、Disperbyk161、Disperbyk170(以上、ビックケミー(BYK)社製)や、EFKA(エフカーケミカルズビーブイ(EFKA)社製)、ディスパロン(楠本化成(株)製)等のシリーズのものを挙げることができる。
本発明におけるウレタン系分散剤のMwは、通常、5,000〜50,000、好ましくは7,000〜20,000である。
前記ウレタン系分散剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
The urethane-based dispersant in the present invention is preferably a reaction product of an aromatic diisocyanate and a polylactone having a hydroxyl group at one end and / or a polylactone having a hydroxyl group at both ends, particularly toluene diisocyanate. A reaction product of a polycaprolactone having a hydroxyl group at one end and / or a polycaprolactone having a hydroxyl group at both ends is preferred.
Specific examples of such urethane-based dispersants are trade names such as Disperbyk161 and Disperbyk170 (above, manufactured by BYK Chemy (BYK)), EFKA (manufactured by EFKA Chemicals Beebuy (EFKA)), Disparon (Enomoto) Series products such as Kasei Co., Ltd.) can be mentioned.
The Mw of the urethane-based dispersant in the present invention is usually 5,000 to 50,000, preferably 7,000 to 20,000.
The said urethane type dispersing agent can be used individually or in mixture of 2 or more types.
また、(メタ)アクリル系モノマーの(共)重合体からなる(メタ)アクリル系分散剤も、分散剤として好ましい。
このような(メタ)アクリル系分散剤の具体例としては、商品名で、Disperbyk2000 、Disperbyk2001(以上、ビックケミー(BYK)社製)等を挙げることができる。
前記(メタ)アクリル系分散剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
A (meth) acrylic dispersant composed of a (co) polymer of (meth) acrylic monomers is also preferred as the dispersant.
Specific examples of such (meth) acrylic dispersants include Disperbyk 2000 and Disperbyk 2001 (above, manufactured by BYK Corporation) as trade names.
The said (meth) acrylic-type dispersing agent can be used individually or in mixture of 2 or more types.
顔料分散液を調製する際の分散剤の使用量は、顔料100重量部に対して、通常、100重量部以下、好ましくは0.5〜100重量部、さらに好ましくは1〜70重量部、特に好ましくは10〜50重量部である。この場合、分散剤の使用量が100重量部を超えると、現像性等が損なわれるおそれがある。
また、顔料分散液を調製する際に使用される溶媒としては、例えば、後述する感放射線性樹脂組成物の液状組成物について例示する溶媒と同様のものを挙げることができる。
顔料分散液を調製する際の溶媒の使用量は、顔料100重量部に対して、通常、200〜1,200重量部、好ましくは300〜1000重量部である。
The amount of the dispersant used in preparing the pigment dispersion is usually 100 parts by weight or less, preferably 0.5 to 100 parts by weight, more preferably 1 to 70 parts by weight, particularly 100 parts by weight of the pigment. Preferably it is 10-50 weight part. In this case, if the amount of the dispersant used exceeds 100 parts by weight, developability and the like may be impaired.
Moreover, as a solvent used when preparing a pigment dispersion liquid, the thing similar to the solvent illustrated about the liquid composition of the radiation sensitive resin composition mentioned later can be mentioned, for example.
The amount of the solvent used in preparing the pigment dispersion is usually 200 to 1,200 parts by weight, preferably 300 to 1000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the pigment.
顔料分散液の調製に際し、ビーズミルを用いて調製する際には、例えば、直径0.5〜10mm程度のガラスビーズやチタニアビーズ等を使用し、顔料、溶媒および分散剤からなる顔料混合液を、好ましくは水等で冷却しながら混合・分散することにより実施することができる。
この場合、ビーズの充填率は、通常、ミル容量の50〜80%であり、顔料混合液の注入量は、通常、ミル容量の20〜50%程度である。また処理時間は、通常、2〜50時間、好ましくは2〜25時間である。
また、ロールミルを用いて調製する際には、例えば、3本ロールミルや2本ロールミル等を使用し、顔料混合液を、好ましくは冷却水等で冷却しながら処理することにより実施することができる。
この場合、ロール間隔は10μm以下であることが好ましく、剪断力は、通常、108 dyn/秒程度である。また処理時間は、通常、2〜50時間、好ましくは2〜25時間である。
When preparing a pigment dispersion using a bead mill, for example, glass beads or titania beads having a diameter of about 0.5 to 10 mm are used, and a pigment mixture composed of a pigment, a solvent and a dispersant is used. Preferably, it can be carried out by mixing and dispersing while cooling with water or the like.
In this case, the filling rate of the beads is usually 50 to 80% of the mill capacity, and the injection amount of the pigment mixed solution is usually about 20 to 50% of the mill capacity. The treatment time is usually 2 to 50 hours, preferably 2 to 25 hours.
Moreover, when preparing using a roll mill, it can carry out by processing, for example, using a 3 roll mill, a 2 roll mill, etc., preferably cooling a pigment liquid mixture with cooling water etc.
In this case, the roll interval is preferably 10 μm or less, and the shearing force is usually about 10 8 dyn / sec. The treatment time is usually 2 to 50 hours, preferably 2 to 25 hours.
−(B)アルカリ可溶性樹脂−
感放射線性樹脂組成物(I)におけるアルカリ可溶性樹脂は、(b1)不飽和カルボン酸もしくはその酸無水物および不飽和フェノール化合物の群から選ばれる1種(以下、「不飽和化合物(b1)」という。)と、(b2)重合性不飽和結合としてアリル基と他の重合性不飽和結合とを有する化合物(以下、「不飽和化合物(b2)」という。)と、(b3)前記以外の不飽和化合物(以下、「不飽和化合物(b3)」という。)との共重合体であり(以下、(b1)〜(b3)成分をまとめて「重合性不飽和化合物」ともいう。)、かつMwとMnとの比(Mw/Mn)が1.0〜2.0である共重合体(以下、「共重合体(B1)」という。)からなる。
-(B) Alkali-soluble resin-
The alkali-soluble resin in the radiation-sensitive resin composition (I) is (b1) one type selected from the group of unsaturated carboxylic acids or acid anhydrides and unsaturated phenol compounds (hereinafter referred to as “unsaturated compound (b1)”). And (b2) a compound having an allyl group and another polymerizable unsaturated bond as the polymerizable unsaturated bond (hereinafter referred to as “unsaturated compound (b2)”), and (b3) other than the above It is a copolymer with an unsaturated compound (hereinafter referred to as “unsaturated compound (b3)”) (hereinafter, the components (b1) to (b3) are collectively referred to as “polymerizable unsaturated compound”), And it consists of a copolymer (henceforth "copolymer (B1)") whose ratio (Mw / Mn) of Mw and Mn is 1.0-2.0.
不飽和化合物(b1)のうち、不飽和カルボン酸もしくはその酸無水物としては、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、けい皮酸等の不飽和モノカルボン酸類;マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸等の不飽和ジカルボン酸またはその無水物類;3価以上の不飽和多価カルボン酸またはその無水物類;こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕、フタル酸モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕等の2価以上の多価カルボン酸のモノ〔(メタ)アクリロイルオキシアルキル〕エステル類;ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート等の両末端にカルボキシ基と水酸基とを有するポリマーのモノ(メタ)アクリレート類等を挙げることができる。
これらの不飽和カルボン酸もしくはその酸無水物のうち、こはく酸モノ(2−アクリロイルオキシエチル)およびフタル酸モノ(2−アクリロイルオキシエチル)はそれぞれ、ライトエステルHOA−MSおよびライトエステルHOA−MPE(以上、共栄社化学(株)製)の商品名で市販されている。
Among unsaturated compounds (b1), examples of unsaturated carboxylic acids or acid anhydrides thereof include unsaturated monocarboxylic acids such as (meth) acrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid, cinnamic acid; Unsaturated dicarboxylic acids such as acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, mesaconic acid or the like; Substances: Mono [(meth) acryloyloxyalkyl] of divalent or higher polyvalent carboxylic acids such as succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl], phthalic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl], etc. Esters; polymers having carboxy groups and hydroxyl groups at both ends, such as ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate And mono (meth) acrylates.
Of these unsaturated carboxylic acids or acid anhydrides thereof, succinic acid mono (2-acryloyloxyethyl) and phthalic acid mono (2-acryloyloxyethyl) are respectively light ester HOA-MS and light ester HOA-MPE ( As mentioned above, it is marketed under the trade name of Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
また、不飽和フェノール化合物としては、例えば、o−ビニルフェノール、m−ビニルフェノール、p−ビニルフェノール、2−メチル−4−ビニルフェノール、3−メチル−4−ビニルフェノール、o−イソプロペニルフェノール、m−イソプロペニルフェノール、p−イソプロペニルフェノール等の不飽和フェノール類;2−ビニル−1−ナフトール、3−ビニル−1−ナフトール、1−ビニル−2−ナフトール、3−ビニル−2−ナフトール、2−イソプロペニル−1−ナフトール、3−イソプロペニル−1−ナフトール等の不飽和ナフトール類等を挙げることができる。 Examples of the unsaturated phenol compound include o-vinylphenol, m-vinylphenol, p-vinylphenol, 2-methyl-4-vinylphenol, 3-methyl-4-vinylphenol, o-isopropenylphenol, unsaturated phenols such as m-isopropenylphenol and p-isopropenylphenol; 2-vinyl-1-naphthol, 3-vinyl-1-naphthol, 1-vinyl-2-naphthol, 3-vinyl-2-naphthol, Examples thereof include unsaturated naphthols such as 2-isopropenyl-1-naphthol and 3-isopropenyl-1-naphthol.
本発明において、不飽和化合物(b1)としては、(メタ)アクリル酸、こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート、p−ビニルフェノール等が好ましく、特に、(メタ)アクリル酸が好ましい。 In the present invention, the unsaturated compound (b1) includes (meth) acrylic acid, succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl], ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate, p-vinylphenol, and the like. Are preferred, and (meth) acrylic acid is particularly preferred.
また、不飽和化合物(b2)としては、例えば、アリル(メタ)アクリレート、クロトン酸アリル、α−クロルアクリル酸アリル、けい皮酸アリル、マレイン酸モノアリル、フマル酸モノアリル等を挙げることができ、これらのうち、特に、アリル(メタ)アクリレートが好ましい。 Examples of the unsaturated compound (b2) include allyl (meth) acrylate, allyl crotonate, allyl α-chloroacrylate, allyl cinnamate, monoallyl maleate, monoallyl fumarate, and the like. Of these, allyl (meth) acrylate is particularly preferable.
前記不飽和化合物(b2)は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。 The unsaturated compound (b2) can be used alone or in admixture of two or more.
また、不飽和化合物(b3)としては、例えば、
スチレン、α−メチルスチレン、p−スチレンスルホン酸、o−ビニルトルエン、m−ビニルトルエン、p−ビニルトルエン、p−クロルスチレン、o−メトキシスチレン、m−メトキシスチレン、p−メトキシスチレン、o−ビニルベンジルメチルエーテル、m−ビニルベンジルメチルエーテル、p−ビニルベンジルメチルエーテル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル等の芳香族ビニル化合物;
インデン、1−メチルインデン等のインデン類;
Moreover, as an unsaturated compound (b3), for example,
Styrene, α-methylstyrene, p-styrenesulfonic acid, o-vinyltoluene, m-vinyltoluene, p-vinyltoluene, p-chlorostyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxystyrene, o- Aromatic vinyl compounds such as vinyl benzyl methyl ether, m-vinyl benzyl methyl ether, p-vinyl benzyl methyl ether, o-vinyl benzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether, p-vinyl benzyl glycidyl ether;
Indenes such as indene and 1-methylindene;
N−フェニルマレイミド、N−o−ヒドロキシフェニルマレイミド、N−m−ヒドロキシフェニルマレイミド、N−p−ヒドロキシフェニルマレイミド、N−o−メチルフェニルマレイミド、N−m−メチルフェニルマレイミド、N−p−メチルフェニルマレイミド、N−o−メトキシフェニルマレイミド、N−m−メトキシフェニルマレイミド、N−p−メトキシフェニルマレイミド等のN−(置換)アリールマレイミドや、N−シクロヘキシルマレイミド等のN−位置換マレイミド類;
ポリスチレン、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリ−n−ブチル(メタ)アクリレート、ポリシロキサン等の重合体分子鎖の片末端に(メタ)アクリロイル基を有するマクロモノマー(以下、単に「マクロモノマー」という。)類;
N-phenylmaleimide, N-o-hydroxyphenylmaleimide, Nm-hydroxyphenylmaleimide, Np-hydroxyphenylmaleimide, N-o-methylphenylmaleimide, Nm-methylphenylmaleimide, Np-methyl N- (substituted) arylmaleimides such as phenylmaleimide, N-o-methoxyphenylmaleimide, Nm-methoxyphenylmaleimide, Np-methoxyphenylmaleimide, and N-substituted maleimides such as N-cyclohexylmaleimide;
A macromonomer having a (meth) acryloyl group at one end of a polymer molecular chain such as polystyrene, polymethyl (meth) acrylate, poly-n-butyl (meth) acrylate, polysiloxane or the like (hereinafter simply referred to as “macromonomer”). Kind;
メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、i−プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ジエチレングルコールモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、トリエチレングルコールモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、プロピレングルコールモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ジプロピレングルコールモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、トリシクロ[ 5.2.1.02,6 ] デカン−8−イル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート等の不飽和カルボン酸エステル類; Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, i-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) Acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl (Meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (Meth) acrylate, diethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, triethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, propylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, dipropylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, isobornyl (meta ) Unsaturated carboxylic acids such as acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decan-8-yl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, etc. Esters;
2−アミノエチル(メタ)アクリレート、2−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−アミノプロピル(メタ)アクリレート、2−ジメチルアミノプロピルアクリレート、3−アミノプロピル(メタ)アクリレート、3−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート等の不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル類;
グリシジル(メタ)アクリレート等の不飽和カルボン酸グリシジルエステル類;
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル類;
ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル等の他の不飽和エーテル類;
(メタ)アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、シアン化ビニリデン等のシアン化ビニル化合物;
(メタ)アクリルアミド、α−クロロアクリルアミド、N−2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド等の不飽和アミド類;
1,3−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、イソプレンスルホン酸等の脂肪族共役ジエン類
等を挙げることができる。
2-aminoethyl (meth) acrylate, 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-aminopropyl (meth) acrylate, 2-dimethylaminopropyl acrylate, 3-aminopropyl (meth) acrylate, 3-dimethylaminopropyl ( Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl esters such as (meth) acrylate;
Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl (meth) acrylate;
Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl benzoate;
Other unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether;
Vinyl cyanide compounds such as (meth) acrylonitrile, α-chloroacrylonitrile, vinylidene cyanide;
Unsaturated amides such as (meth) acrylamide, α-chloroacrylamide, N-2-hydroxyethyl (meth) acrylamide;
Examples thereof include aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene, chloroprene and isoprenesulfonic acid.
これらの不飽和化合物(b3)のうち、スチレン、マクロモノマー類、N−位置換マレイミド類、メチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレート等が好ましく、またマクロモノマー類の中では、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチル(メタ)アクリレートマクロモノマー等が特に好ましく、N−位置換マレイミド類の中では、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等が特に好ましい。
前記不飽和化合物(b3)は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
Among these unsaturated compounds (b3), styrene, macromonomers, N-substituted maleimides, methyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate Glycerol mono (meth) acrylate and the like are preferable, and among the macromonomers, polystyrene macromonomer, polymethyl (meth) acrylate macromonomer and the like are particularly preferable. Among the N-substituted maleimides, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide and the like are particularly preferable.
The unsaturated compound (b3) can be used alone or in admixture of two or more.
本発明において、好ましい共重合体(B1)としては、より具体的には、(メタ)アクリル酸、こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕およびω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレートの群から選ばれる少なくとも1種からなる不飽和化合物(b1)と、アリル(メタ)アクリレートを必須成分とする不飽和化合物(b2)と、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチル(メタ)アクリレートマクロモノマー、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレートおよびグリセロールモノ(メタ)アクリレートの群から選ばれる少なくとも1種を必須成分とし、場合によりスチレン、メチル(メタ)アクリレートおよびフェニル(メタ)アクリレートの群から選ばれる少なくとも1種を含む不飽和化合物(b3)との混合物の共重合体(B1)(以下、「共重合体(B1−1)」という。)を挙げることができ、 In the present invention, the preferred copolymer (B1) is more specifically (meth) acrylic acid, succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] and ω-carboxypolycaprolactone mono (meth). An unsaturated compound (b1) comprising at least one selected from the group of acrylates, an unsaturated compound (b2) comprising allyl (meth) acrylate as an essential component, a polystyrene macromonomer, a polymethyl (meth) acrylate macromonomer, N -At least one selected from the group of phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate and glycerol mono (meth) acrylate as an essential component, and optionally styrene, methyl (meta ) Acrylate and fu Mentioning a copolymer (B1) (hereinafter referred to as “copolymer (B1-1)”) of a mixture with an unsaturated compound (b3) containing at least one selected from the group of nyl (meth) acrylates. Can
さらに好ましい共重合体(B1)としては、より具体的には、(メタ)アクリル酸を必須成分とし、場合によりこはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕を含む不飽和化合物(b1)と、アリル(メタ)アクリレートを必須成分とする不飽和化合物(b2)と、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチル(メタ)アクリレートマクロモノマー、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレートおよびグリセロールモノ(メタ)アクリレートの群から選ばれる少なくとも1種を必須成分とし、場合によりスチレン、メチル(メタ)アクリレートおよびフェニル(メタ)アクリレートの群から選ばれる少なくとも1種を含む不飽和化合物(b3)との混合物の共重合体(B1)(以下、「共重合体(B1−2)」という。)を挙げることができる。 More specifically, the copolymer (B1) is more preferably an unsaturated compound (b1) containing (meth) acrylic acid as an essential component and optionally containing succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl]. ), Unsaturated compound (b2) having allyl (meth) acrylate as an essential component, polystyrene macromonomer, polymethyl (meth) acrylate macromonomer, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, 2-hydroxyethyl (meth) An essential component is at least one selected from the group of acrylate, benzyl (meth) acrylate and glycerol mono (meth) acrylate, and at least one selected from the group of styrene, methyl (meth) acrylate and phenyl (meth) acrylate. An unsaturated compound (b3 Mixture copolymer (B1) (hereinafter, referred to as "copolymer (B1-2)".) Between the like.
共重合体(B1−2)の具体例としては、
(メタ)アクリル酸/アリル(メタ)アクリレート/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/アリル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/アリル(メタ)アクリレート/ポリメチル(メタ)アクリレートマクロモノマー/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/アリル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/グリセロールモノ(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/アリル(メタ)アクリレート/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/フェニル(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/アリル(メタ)アクリレート/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/スチレン共重合体、
(メタ)アクリル酸/アリル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/グリセロールモノ(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/アリル(メタ)アクリレート/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、
As specific examples of the copolymer (B1-2),
(Meth) acrylic acid / allyl (meth) acrylate / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / allyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / allyl (meth) acrylate / polymethyl (meth) acrylate macromonomer / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / allyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / allyl (meth) acrylate / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / allyl (meth) acrylate / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / styrene copolymer,
(Meth) acrylic acid / allyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / allyl (meth) acrylate / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(メタ)アクリル酸/アリル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/アリル(メタ)アクリレート/ポリメチル(メタ)アクリレートマクロモノマー/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/アリル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/スチレン共重合体、
(メタ)アクリル酸/アリル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/ベンジル(メタ)アクリレート/スチレン共重合体、
(メタ)アクリル酸/アリル(メタ)アクリレート/N−シクロヘキシルマレイミド/スチレン共重合体、
(メタ)アクリル酸/アリル(メタ)アクリレート/N−シクロヘキシルマレイミド/ベンジル(メタ)アクリレート/スチレン共重合体、
(メタ)アクリル酸/アリル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/ベンジル(メタ)アクリレート/グリセロールモノ(メタ)アクリレート/スチレン共重合体、
(Meth) acrylic acid / allyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / allyl (meth) acrylate / polymethyl (meth) acrylate macromonomer / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / allyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / styrene copolymer,
(Meth) acrylic acid / allyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / benzyl (meth) acrylate / styrene copolymer,
(Meth) acrylic acid / allyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide / styrene copolymer,
(Meth) acrylic acid / allyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide / benzyl (meth) acrylate / styrene copolymer,
(Meth) acrylic acid / allyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate / styrene copolymer,
(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/アリル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/グリセロールモノ(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/アリル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/スチレン共重合体、
(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/アリル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/ベンジル(メタ)アクリレート/スチレン共重合体、
(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/アリル(メタ)アクリレート/N−シクロヘキシルマレイミド/スチレン共重合体、
(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/アリル(メタ)アクリレート/N−シクロヘキシルマレイミド/ベンジル(メタ)アクリレート/スチレン共重合体、
(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/アリル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/ベンジル(メタ)アクリレート/グリセロールモノ(メタ)アクリレート/スチレン共重合体
等を挙げることができる。
(Meth) acrylic acid / succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / allyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / allyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / styrene copolymer,
(Meth) acrylic acid / succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / allyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / benzyl (meth) acrylate / styrene copolymer,
(Meth) acrylic acid / succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / allyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide / styrene copolymer,
(Meth) acrylic acid / succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / allyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide / benzyl (meth) acrylate / styrene copolymer,
(Meth) acrylic acid / succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / allyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate / styrene copolymer, etc. Can be mentioned.
また、共重合体(B1−2)以外の共重合体(B1−1)の具体例としては、
(メタ)アクリル酸/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/アリル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/ベンジル(メタ)アクリレート/グリセロールモノ(メタ)アクリレート/スチレン共重合体、
(メタ)アクリル酸/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/アリル(メタ)アクリレート/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/アリル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/アリル(メタ)アクリレート/ポリメチル(メタ)アクリレートマクロモノマー/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、
As specific examples of the copolymer (B1-1) other than the copolymer (B1-2),
(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / allyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate / styrene copolymer,
(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / allyl (meth) acrylate / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / allyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / allyl (meth) acrylate / polymethyl (meth) acrylate macromonomer / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(メタ)アクリル酸/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/アリル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/グリセロールモノ(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/アリル(メタ)アクリレート/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/フェニル(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/アリル(メタ)アクリレート/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/スチレン共重合体、
(メタ)アクリル酸/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/アリル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/グリセロールモノ(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/アリル(メタ)アクリレート/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、
(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / allyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / allyl (meth) acrylate / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / phenyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / allyl (meth) acrylate / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / styrene copolymer,
(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / allyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / allyl (meth) acrylate / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(メタ)アクリル酸/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/アリル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/アリル(メタ)アクリレート/ポリメチル(メタ)アクリレートマクロモノマー/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/アリル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/スチレン共重合体、
(メタ)アクリル酸/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/アリル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/ベンジル(メタ)アクリレート/スチレン共重合体、
(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / allyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / allyl (meth) acrylate / polymethyl (meth) acrylate macromonomer / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer,
(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / allyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / styrene copolymer,
(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / allyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / benzyl (meth) acrylate / styrene copolymer,
(メタ)アクリル酸/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/アリル(メタ)アクリレート/N−シクロヘキシルマレイミド/スチレン共重合体、
(メタ)アクリル酸/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/アリル(メタ)アクリレート/N−シクロヘキシルマレイミド/ベンジル(メタ)アクリレート/スチレン共重合体、
(メタ)アクリル酸/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/アリル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/ベンジル(メタ)アクリレート/グリセロールモノ(メタ)アクリレート/スチレン共重合体、
(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/アリル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート/グリセロールモノ(メタ)アクリレート共重合体、
(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/アリル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/スチレン共重合体、
(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / allyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide / styrene copolymer,
(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / allyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide / benzyl (meth) acrylate / styrene copolymer,
(Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / allyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate / styrene copolymer,
(Meth) acrylic acid / succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / allyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate Copolymer,
(Meth) acrylic acid / succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / allyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / styrene copolymer,
(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/アリル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/ベンジル(メタ)アクリレート/スチレン共重合体、
(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/アリル(メタ)アクリレート/N−シクロヘキシルマレイミド/スチレン共重合体、
(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/アリル(メタ)アクリレート/N−シクロヘキシルマレイミド/ベンジル(メタ)アクリレート/スチレン共重合体、
(メタ)アクリル酸/こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕/ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート/アリル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド/ベンジル(メタ)アクリレート/グリセロールモノ(メタ)アクリレート/スチレン共重合体
等を挙げることができる。
(Meth) acrylic acid / succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / allyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / benzyl (meth) acrylate / styrene Copolymer,
(Meth) acrylic acid / succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / allyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide / styrene copolymer,
(Meth) acrylic acid / succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / allyl (meth) acrylate / N-cyclohexylmaleimide / benzyl (meth) acrylate / styrene Copolymer,
(Meth) acrylic acid / succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / allyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide / benzyl (meth) acrylate / glycerol Examples thereof include a mono (meth) acrylate / styrene copolymer.
共重合体(B1)において、不飽和化合物(b1)の共重合割合は、好ましくは1〜40重量%、特に好ましくは5〜30重量%であり、不飽和化合物(b2)の共重合割合は、好ましくは1〜70重量%、特に好ましくは5〜40重量%であり、不飽和化合物(b3)の共重合割合は、好ましくは1〜80重量%、特に好ましくは5〜60重量%である。
本発明においては、共重合体(B1)における各不飽和化合物の共重合割合を前記範囲とすることにより、感度、基板密着性、耐溶剤性等に優れた感放射線性樹脂組成物(I)を得ることができる。
In the copolymer (B1), the copolymerization ratio of the unsaturated compound (b1) is preferably 1 to 40% by weight, particularly preferably 5 to 30% by weight, and the copolymerization ratio of the unsaturated compound (b2) is The copolymerization ratio of the unsaturated compound (b3) is preferably 1 to 80% by weight, particularly preferably 5 to 60% by weight. .
In the present invention, by setting the copolymerization ratio of each unsaturated compound in the copolymer (B1) within the above range, the radiation-sensitive resin composition (I) excellent in sensitivity, substrate adhesion, solvent resistance and the like. Can be obtained.
共重合体(B1)のMw/Mnは、1.0〜2.0、好ましくは1.0〜1.7、特に好ましくは1.0〜1.4である。
また、共重合体(B1)のMwは、好ましくは1,000〜45,000、さらに好ましくは3,000〜20,000、特に好ましくは4,000〜10,000である。
このような所定のMw/Mnを有し、好ましくはさらに前記特定のMwを有する共重合体(B1)を使用することによって、現像性に優れた感放射線性樹脂組成物(I)が得られ、それによりシャープなパターンエッジを有する画素を形成することができるとともに、現像時に未露光部の基板上および遮光層上に残渣、地汚れ、膜残り等が発生し難く、しかも有機溶剤による洗浄性が高いためカラーフィルター製造時に乾燥異物を発生することなく高い製品歩留まりを実現でき、かつカラーフィルターの“焼きつき”をさらに有効に防止することができる。
感放射線性樹脂組成物(I)において、共重合体(B1)は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
Mw / Mn of the copolymer (B1) is 1.0 to 2.0, preferably 1.0 to 1.7, particularly preferably 1.0 to 1.4.
The Mw of the copolymer (B1) is preferably 1,000 to 45,000, more preferably 3,000 to 20,000, and particularly preferably 4,000 to 10,000.
By using such a copolymer (B1) having a predetermined Mw / Mn, and preferably having the specific Mw, a radiation sensitive resin composition (I) excellent in developability can be obtained. As a result, pixels having sharp pattern edges can be formed, and residues, background stains, film residues, etc. are hardly generated on the unexposed substrate and the light-shielding layer during development, and cleaning with an organic solvent is possible. Therefore, it is possible to achieve a high product yield without producing dry foreign matters during the production of the color filter, and to effectively prevent “burn-in” of the color filter.
In the radiation sensitive resin composition (I), the copolymer (B1) can be used alone or in admixture of two or more.
共重合体(B1)は、例えば、重合性不飽和化合物を、溶媒中、リビングラジカルを生成するラジカル重合開始剤系の存在下で重合することにより製造することができる。
リビングラジカル重合に際しては、重合性不飽和化合物がカルボキシル基等の、リビングラジカルを失活させるおそれがある官能基を有する化合物を含有する場合、成長末端が失活しないようにするために必要に応じて、重合性不飽和化合物中の該官能基を、例えばエステル化などにより保護して重合したのち、脱保護することにより、共重合体(B1)を得ることもできる。
The copolymer (B1) can be produced, for example, by polymerizing a polymerizable unsaturated compound in a solvent in the presence of a radical polymerization initiator system that generates a living radical.
In living radical polymerization, if the polymerizable unsaturated compound contains a compound having a functional group that may deactivate the living radical, such as a carboxyl group, it is necessary to prevent the growth terminal from being deactivated. Then, the functional group in the polymerizable unsaturated compound is polymerized while being protected by, for example, esterification, and then deprotected, whereby the copolymer (B1) can be obtained.
リビングラジカル重合に使用されるラジカル重合開始剤系については種々提案されており、例えば、Georgesらにより提案されているTEMPO系(例えば、非特許文献1参照。)、Matyjaszewskiらにより提案されている臭化銅と臭素含有エステル化合物の組み合わせからなる系(例えば、非特許文献2参照。)、Hamasakiらにより提案されている四塩化炭素とルテニウム(II) 錯体の組み合わせからなる系(例えば、非特許文献3参照。)や、特許文献2、特許文献3および特許文献4に開示されているような、0.1より大きな連鎖移動定数をもつチオカルボニル化合物とラジカル開始剤の組み合わせからなる系等を挙げることができる。 Various radical polymerization initiator systems used for living radical polymerization have been proposed. For example, the TEMPO system proposed by Georges et al. (See, for example, Non-Patent Document 1), the odor proposed by Matyjazewski et al. A system composed of a combination of copper chloride and a bromine-containing ester compound (for example, see Non-patent Document 2), a system composed of a combination of carbon tetrachloride and a ruthenium (II) complex proposed by Hamasaki et al. 3), and a system comprising a combination of a thiocarbonyl compound having a chain transfer constant greater than 0.1 and a radical initiator as disclosed in Patent Document 2, Patent Document 3 and Patent Document 4. be able to.
リビングラジカル重合に使用される好適なラジカル重合開始剤系としては、使用される重合性不飽和化合物の種類に応じて、成長末端であるリビングラジカルが失活しない系が適宜選択されるが、重合効率やメタルフリー系等を考慮すると、分子量制御剤であるチオカルボニルチオ化合物とラジカル開始剤との組み合わせが好ましい。
前記チオカルボニルチオ化合物とラジカル開始剤との組み合わせに関しては、特許文献2〜4のほか、下記特許文献に詳しく記載されている。
As a suitable radical polymerization initiator system used in the living radical polymerization, a system in which the living radical at the growth end is not deactivated is appropriately selected according to the type of the polymerizable unsaturated compound used. In consideration of efficiency, metal-free system, and the like, a combination of a thiocarbonylthio compound that is a molecular weight control agent and a radical initiator is preferable.
The combination of the thiocarbonylthio compound and the radical initiator is described in detail in the following patent documents in addition to the patent documents 2 to 4.
特許文献2〜5に記載されているように、チオカルボニルチオ化合物およびラジカル開始剤の存在下に重合性不飽和化合物をリビングラジカル重合することにより、分子量分布の狭いランダム共重合体あるいはブロック共重合体を得ることができる。また、得られるランダム共重合体およびブロック共重合体には、チオカルボニルチオ化合物に由来する官能基を導入することができるため、該共重合体を水性ゲル(特許文献6参照)、フォトレジスト(特許文献7参照)、界面活性剤(特許文献8参照)等の用途にも使用することができることが明らかにされている。 As described in Patent Documents 2 to 5, by conducting living radical polymerization of a polymerizable unsaturated compound in the presence of a thiocarbonylthio compound and a radical initiator, a random copolymer or block copolymer having a narrow molecular weight distribution is obtained. Coalescence can be obtained. Moreover, since the functional group derived from a thiocarbonylthio compound can be introduce | transduced into the obtained random copolymer and block copolymer, this copolymer is made into aqueous gel (refer patent document 6), photoresist ( It has been clarified that it can be used for applications such as Patent Document 7) and surfactant (see Patent Document 8).
本発明において、好ましい共重合体(B1)としては、それを構成する各重合体鎖の少なくとも一方の末端に下記式(i)で表される基(以下、「末端基(i)」という。)あるいは式(ii)で表される基(以下、「末端基(ii)」という。)を有する共重合体(以下、「チオカルボニルチオ末端共重合体(B1)」という。)を挙げることができる。 In the present invention, a preferable copolymer (B1) is a group represented by the following formula (i) (hereinafter referred to as “terminal group (i)”) at least one terminal of each polymer chain constituting the copolymer (B1). ) Or a group represented by the formula (ii) (hereinafter referred to as “terminal group (ii)”) (hereinafter referred to as “thiocarbonylthio-terminated copolymer (B1)”). Can do.
〔式(i)において、Z1 は水素原子、塩素原子、カルボキシル基、シアノ基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の1価の複素環式基、−OR、−SR、−N(R)2、
−OC(=O)R、−C(=O)OR、−C(=O)N(R)2、−P(=O)(OR)2、−P(=O)(R)2または重合体鎖を有する1価の基を示し、各Rは相互に独立に炭素数1〜18のアルキル基、炭素数2〜18のアルケニル基、炭素数6〜18の1価の芳香族炭化水素基または炭素原子と異項原子との合計原子数3〜18の1価の複素環式基を示し、前記炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、合計原子数3〜20の1価の複素環式基およびRはそれぞれ置換されていてもよい。〕
[In the formula (i), Z 1 is different from a hydrogen atom, a chlorine atom, a carboxyl group, a cyano group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, or a carbon atom. A monovalent heterocyclic group having 3 to 20 atoms in total with the term atom, -OR, -SR, -N (R) 2 ,
-OC (= O) R, -C (= O) OR, -C (= O) N (R) 2 , -P (= O) (OR) 2 , -P (= O) (R) 2, or 1 represents a monovalent group having a polymer chain, and each R is independently an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, or a monovalent aromatic hydrocarbon having 6 to 18 carbon atoms. A monovalent heterocyclic group having 3 to 18 total atoms of a group or a carbon atom and a hetero atom, and the aforementioned alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and a monovalent aromatic hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms The group, the monovalent heterocyclic group having 3 to 20 atoms in total, and R may each be substituted. ]
〔式(ii)において、Z2 は炭素数1〜20のアルカンに由来するm価の基、炭素数6〜20の芳香族炭化水素に由来するm価の基、炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の複素環式化合物に由来するm価の基または重合体鎖を有するm価の基を示し、前記炭素数1〜20のアルカンに由来するm価の基、炭素数6〜20の芳香族炭化水素に由来するm価の基および合計原子数3〜20の複素環式化合物に由来するm価の基はそれぞれ置換されていてもよく、mは2以上の整数である。〕 [In the formula (ii), Z 2 represents an m-valent group derived from an alkane having 1 to 20 carbon atoms, an m-valent group derived from an aromatic hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms, a carbon atom and an extraneous atom; M-valent group derived from a heterocyclic compound having a total of 3 to 20 atoms or m-valent group having a polymer chain, m-valent group derived from the alkane having 1 to 20 carbon atoms, carbon number The m-valent group derived from 6 to 20 aromatic hydrocarbons and the m-valent group derived from the heterocyclic compound having 3 to 20 atoms in total may be substituted, and m is an integer of 2 or more. is there. ]
チオカルボニルチオ末端共重合体(B1)は、それを構成する重合体鎖が1個のみのとき、通常、該重合体鎖のいずれか一方の末端に末端基(i)が結合するが、他方の末端には末端基(i)、末端基(ii)もしくは連鎖停止基が結合しうる。この「連鎖停止基」はリビングラジカル重合時の反応条件により定まる基であり、重合体鎖に前記末端基(ii)が結合した場合は、該末端基(ii)中の重合体鎖と結合していない(m−1)個の結合手(S−)は連鎖停止基と結合する。なお、連鎖停止基は後述する式(1)におけるR1 ないし後述する式(2)におけるR2 であることもできる。
また、それを構成する重合体鎖が2個以上のとき、通常、各重合体鎖はそれらの一方の末端で末端基(ii)に結合して、共重合体(I)が分岐構造を有するものとなり、各重合体鎖の他方の末端には末端基(i)、末端基(ii)もしくは連鎖停止基が結合しうる。そして、重合体鎖の他方の末端に前記末端基(ii)が結合した場合は、該末端基(ii)中の重合体鎖と結合していない(m−1)個の結合手(S−)はさらに末端基(i)、末端基(ii)もしくは連鎖停止基と結合しうる。なお、連鎖停止基は後述する式(1)におけるR1 ないし後述する式(2)におけるR2 であることもできる。
When the thiocarbonylthio terminal copolymer (B1) has only one polymer chain, the terminal group (i) is usually bonded to one terminal of the polymer chain, while the other A terminal group (i), a terminal group (ii), or a chain terminating group can be bonded to the terminal of. This “chain terminating group” is a group determined by the reaction conditions during living radical polymerization. When the terminal group (ii) is bonded to the polymer chain, it is bonded to the polymer chain in the terminal group (ii). (M-1) bonds (S-) which are not bonded to the chain terminating group. The chain terminating group may be R 1 in formula (1) described later or R 2 in formula (2) described later.
In addition, when there are two or more polymer chains constituting it, each polymer chain is usually bonded to the terminal group (ii) at one end thereof, and the copolymer (I) has a branched structure. Thus, a terminal group (i), a terminal group (ii) or a chain terminating group can be bonded to the other terminal of each polymer chain. And when the said terminal group (ii) couple | bonds with the other terminal of a polymer chain, (m-1) bond (S-) which is not couple | bonded with the polymer chain in this terminal group (ii). ) May be further bonded to a terminal group (i), a terminal group (ii) or a chain terminating group. The chain terminating group may be R 1 in formula (1) described later or R 2 in formula (2) described later.
式(i)において、Z1 の置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換されていてもよい炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、置換されていてもよい炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の1価の複素環式基、置換されていてもよいR、および重合体鎖を有する1価の基としては、それらの好ましいものも含めて、例えば、後述する式(1)におけるZ1 のそれぞれ対応する基と同様のものを挙げることができる。 In the formula (i), Z 1 of the optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, substituted 1 also show good C6-20 optionally monovalent aromatic hydrocarbon group, optionally substituted Preferred examples of the monovalent heterocyclic group having 3 to 20 total atoms of carbon atoms and hetero atoms, optionally substituted R, and a monovalent group having a polymer chain are also preferred. In addition, for example, the same groups as those corresponding to Z 1 in formula (1) described later can be exemplified.
式(ii)において、Z2 の置換されていてもよい炭素数1〜20のアルカンに由来するm価の基、置換されていてもよい炭素数6〜20の芳香族炭化水素に由来するm価の基、置換されていてもよい炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の複素環式化合物に由来するm価の基、および重合体鎖を有するm価の基としては、それらの好ましいものも含めて、例えば、後述する式(2)におけるZ2 のそれぞれ対応する基と同様のものを挙げることができる。 In the formula (ii), m 2 derived from an optionally substituted aromatic hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms, an m-valent group derived from an optionally substituted alkane having 1 to 20 carbon atoms of Z 2. As a valent group, an m-valent group derived from a heterocyclic compound having a total of 3 to 20 carbon atoms and hetero atoms, and an m-valent group having a polymer chain, Including those preferable ones, for example, the same groups as those corresponding to each of Z 2 in formula (2) described later can be exemplified.
チオカルボニルチオ末端共重合体(B1)は、例えば、重合性不飽和化合物を下記式(1)または式(2)で表されるチオカルボニルチオ化合物を分子量制御剤として用いてリビングラジカル重合する工程を経て製造することができ、このリビングラジカル重合に際しては、通常、ラジカル開始剤も使用される。 The thiocarbonylthio-terminated copolymer (B1) is, for example, a step of living radical polymerization of a polymerizable unsaturated compound using a thiocarbonylthio compound represented by the following formula (1) or formula (2) as a molecular weight control agent. In this living radical polymerization, a radical initiator is usually also used.
〔式(1)において、Z1 は水素原子、塩素原子、カルボキシル基、シアノ基、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の1価の複素環式基、−OR、−SR、−N(R)2、
−OC(=O)R、−C(=O)OR、−C(=O)N(R)2、−P(=O)(OR)2、−P(=O)(R)2または重合体鎖を有する1価の基を示し、各Rは相互に独立に炭素数1〜18のアルキル基、炭素数2〜18のアルケニル基、炭素数6〜18の1価の芳香族炭化水素基または炭素原子と異項原子との合計原子数3〜18の1価の複素環式基を示し、前記炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、合計原子数3〜20の1価の複素環式基およびRはそれぞれ置換されていてもよく、pは1以上の整数であり、R1 は、p=1のとき、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜20の1価の脂環族炭化水素基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の1価の複素環式基、−OR、−SR、−N(R)2、または重合体鎖を有する1価の基を示し、各Rは相互に独立に炭素数1〜18のアルキル基、炭素数2〜18のアルケニル基、炭素数6〜18の1価の芳香族炭化水素基または炭素原子と異項原子との合計原子数3〜18の1価の複素環式基を示し、p≧2のとき、炭素数1〜20のアルカンに由来するp価の基、炭素数6〜20の芳香族炭化水素に由来するp価の基、炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の複素環式化合物に由来するp価の基または重合体鎖を有するp価の基を示し、前記炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜20の1価の脂環族炭化水素基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、合計原子数3〜20の1価の複素環式基、R、炭素数1〜20のアルカンに由来するp価の基、炭素数6〜20の芳香族炭化水素に由来するp価の基および合計原子数3〜20の複素環式化合物に由来するp価の基はそれぞれ置換されていてもよい。〕
[In the formula (1), Z 1 is different from a hydrogen atom, a chlorine atom, a carboxyl group, a cyano group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, or a carbon atom. A monovalent heterocyclic group having 3 to 20 atoms in total with the term atom, -OR, -SR, -N (R) 2 ,
-OC (= O) R, -C (= O) OR, -C (= O) N (R) 2 , -P (= O) (OR) 2 , -P (= O) (R) 2, or 1 represents a monovalent group having a polymer chain, and each R is independently an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, or a monovalent aromatic hydrocarbon having 6 to 18 carbon atoms. A monovalent heterocyclic group having 3 to 18 total atoms of a group or a carbon atom and a hetero atom, and the aforementioned alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and a monovalent aromatic hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms Group, a monovalent heterocyclic group having 3 to 20 atoms in total and R may each be substituted, p is an integer of 1 or more, and R 1 is 1 to 1 carbon atoms when p = 1. 20 alkyl groups, monovalent alicyclic hydrocarbon groups having 3 to 20 carbon atoms, monovalent aromatic hydrocarbon groups having 6 to 20 carbon atoms, and 3 to 20 total atoms of carbon atoms and hetero atoms 1 of Heterocyclic group, -OR, -SR, represent a monovalent group having a -N (R) 2 or a polymer chain, each R is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms independently of one another, the number of carbon atoms An alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a monovalent heterocyclic group having 3 to 18 total atoms of carbon atoms and hetero atoms, p ≧ 2 In this case, a p-valent group derived from an alkane having 1 to 20 carbon atoms, a p-valent group derived from an aromatic hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms, a total number of atoms of 3 to 20 carbon atoms and hetero atoms A p-valent group derived from the above heterocyclic compound or a p-valent group having a polymer chain, wherein the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and the monovalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms , Monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, monovalent heterocyclic group having 3 to 20 atoms in total, R, alkane having 1 to 20 carbon atoms The derived p-valent group, the p-valent group derived from an aromatic hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms, and the p-valent group derived from a heterocyclic compound having 3 to 20 atoms in total may be substituted. Good. ]
〔式(2)において、Z2 は炭素数1〜20のアルカンに由来するm価の基、炭素数6〜20の芳香族炭化水素に由来するm価の基、炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の複素環式化合物に由来するm価の基または重合体鎖を有するm価の基を示し、前記炭素数1〜20のアルカンに由来するm価の基、炭素数6〜20の芳香族炭化水素に由来するm価の基および合計原子数3〜20の複素環式化合物に由来するm価の基はそれぞれ置換されていてもよく、R2 は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜20の1価の脂環族炭化水素基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の1価の複素環式基、−OR、−SR、−N(R)2、または重合体鎖を有する1価の基を示し、各Rは相互に独立に炭素数1〜18のアルキル基、炭素数2〜18のアルケニル基、炭素数6〜18の1価の芳香族炭化水素基または炭素原子と異項原子との合計原子数3〜18の1価の複素環式基を示し、前記炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜20の1価の脂環族炭化水素基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、合計原子数3〜20の1価の複素環式基およびRはそれぞれ置換されていてもよく、mは2以上の整数である。〕 [In the formula (2), Z 2 represents an m-valent group derived from an alkane having 1 to 20 carbon atoms, an m-valent group derived from an aromatic hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms, a carbon atom and a hetero atom. M-valent group derived from a heterocyclic compound having a total of 3 to 20 atoms or m-valent group having a polymer chain, m-valent group derived from the alkane having 1 to 20 carbon atoms, carbon number The m-valent group derived from an aromatic hydrocarbon having 6 to 20 and the m-valent group derived from a heterocyclic compound having 3 to 20 atoms in total may be substituted, and R 2 may have 1 to 20 alkyl groups, monovalent alicyclic hydrocarbon groups having 3 to 20 carbon atoms, monovalent aromatic hydrocarbon groups having 6 to 20 carbon atoms, and 3 to 20 total atoms of carbon atoms and hetero atoms monovalent heterocyclic group, -OR, -SR, represent a monovalent group having a -N (R) 2 or a polymer chain, each R is the phase Independently an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a total number of atoms of 3 to 18 carbon atoms and hetero atoms. Wherein the alkyl group has 1 to 20 carbon atoms, the monovalent alicyclic hydrocarbon group has 3 to 20 carbon atoms, and the monovalent aromatic hydrocarbon has 6 to 20 carbon atoms. The group, the monovalent heterocyclic group having 3 to 20 atoms in total, and R may each be substituted, and m is an integer of 2 or more. ]
式(1)において、Z1 の炭素数1〜20のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、1,1−ジメチルプロピル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、1,1−ジメチル−3,3−ジメチルブチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−テトラデシル基、n−ヘキサデシル基、n−オクタデシル基、n−エイコシル基等を挙げることができる。
また、Z1 の炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基、1−アントラセニル基、9−アントラセニル基、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α,α−ジメチルベンジル基、フェネチル基等を挙げることができる。
In formula (1), examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms of Z 1 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, an i-butyl group, sec- Butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, 1,1-dimethylpropyl group, neopentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, 1,1-dimethyl-3,3-dimethyl A butyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, n-tetradecyl group, n-hexadecyl group, n-octadecyl group, n-eicosyl group, etc. can be mentioned.
Examples of the monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms of Z 1 include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, a 1-anthracenyl group, a 9-anthracenyl group, a benzyl group, An α-methylbenzyl group, an α, α-dimethylbenzyl group, a phenethyl group, and the like can be given.
また、Z1 の炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の1価の複素環式基としては、例えば、オキシラニル基、アジリジニル基、2−フラニル基、3−フラニル基、2−テトラヒドロフラニル基、3−テトラヒドロフラニル基、1−ピロール基、2−ピロール基、3−ピロール基、1−ピロリジニル基、2−ピロリジニル基、3−ピロリジニル基、1−ピラゾール基、2−ピラゾール基、3−ピラゾール基、2−テトラヒドロピラニル基、3−テトラヒドロピラニル基、4−テトラヒドロピラニル基、2−チアニル基、3−チアニル基、4−チアニル基、2−ピリジニル基、3−ピリジニル基、4−ピリジニル基、2−ピペリジニル基、3−ピペリジニル基、4−ピペリジニル基、2−モルホリニル基、3−モルホリニル基等を挙げることができる。 Examples of the monovalent heterocyclic group having 3 to 20 total atoms of carbon atoms and hetero atoms of Z 1 include oxiranyl group, aziridinyl group, 2-furanyl group, 3-furanyl group, 2- Tetrahydrofuranyl group, 3-tetrahydrofuranyl group, 1-pyrrole group, 2-pyrrole group, 3-pyrrole group, 1-pyrrolidinyl group, 2-pyrrolidinyl group, 3-pyrrolidinyl group, 1-pyrazole group, 2-pyrazole group, 3-pyrazole group, 2-tetrahydropyranyl group, 3-tetrahydropyranyl group, 4-tetrahydropyranyl group, 2-thianyl group, 3-thianyl group, 4-thianyl group, 2-pyridinyl group, 3-pyridinyl group 4-pyridinyl group, 2-piperidinyl group, 3-piperidinyl group, 4-piperidinyl group, 2-morpholinyl group, 3-morpholinyl group, etc. Can.
また、Z1 の−OR、−SR、−N(R)2、−OC(=O)R、−C(=O)OR、
−C(=O)N(R)2、−P(=O)(OR)2および−P(=O)(R)2におけるRの炭素数1〜18のアルキル基、炭素数6〜18の1価の芳香族炭化水素基または炭素原子と異項原子との合計原子数3〜18の1価の複素環式基としては、例えば、Z1 について例示した炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基または炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の1価の複素環式基のうち、炭素数ないし合計原子数が18以下の基を挙げることができる。
Z 1 —OR, —SR, —N (R) 2 , —OC (═O) R, —C (═O) OR,
An alkyl group having 1 to 18 carbon atoms of R in —C (═O) N (R) 2 , —P (═O) (OR) 2 and —P (═O) (R) 2 ; As the monovalent aromatic hydrocarbon group or the monovalent heterocyclic group having 3 to 18 total atoms of carbon atoms and hetero atoms, for example, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms exemplified for Z 1 Among monovalent aromatic hydrocarbon groups having 6 to 20 carbon atoms or monovalent heterocyclic groups having 3 to 20 total atoms of carbon atoms and hetero atoms, the number of carbon atoms or the total number of atoms is 18 or less. Can be mentioned.
また、同Rの炭素数2〜18のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、1−ブテニル基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、1−ペンテニル基、2−ペンテニル基、3−ペンテニル基、4−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、3−ヘキセニル基、4−ヘキセニル基、5−ヘキセニル基等を挙げることができる。 Examples of the alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms of the same R include, for example, a vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, and 1-pentenyl group. 2-pentenyl group, 3-pentenyl group, 4-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 3-hexenyl group, 4-hexenyl group, 5-hexenyl group and the like.
前記炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の1価の複素環式基およびRに対する置換基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、カルボン酸塩基、スルホン酸基、スルホン酸塩基、イソシアナート基、シアノ基、ビニル基、エポキシ基、シリル基、ハロゲン原子のほか、Z1 について例示した−OR、−SR、−N(R)2、−OC(=O)R、
−C(=O)OR、−C(=O)N(R)2、−P(=O)(OR)2あるいは
−P(=O)(R)2や、Rについて例示した炭素数1〜18のアルキル基、炭素数2〜18のアルケニル基、炭素数6〜18の1価の芳香族炭化水素基あるいは炭素原子と異項原子との合計原子数3〜18の1価の複素環式基と同様の基の中から適宜選択することができ、これらの置換基は置換誘導体中に1個以上あるいは1種以上存在することができる。但し、置換誘導体中の合計炭素数ないし合計原子数は20を越えないことが好ましい。
For the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, the monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, the monovalent heterocyclic group having 3 to 20 total atoms of carbon atoms and hetero atoms, and R Examples of the substituent include, for example, hydroxyl group, carboxyl group, carboxylate group, sulfonate group, sulfonate group, isocyanate group, cyano group, vinyl group, epoxy group, silyl group, halogen atom, and Z 1 . -OR, -SR, -N (R) 2 , -OC (= O) R,
-C (= O) OR, -C (= O) N (R) 2 , -P (= O) (OR) 2 or -P (= O) (R) 2, and carbon number exemplified for R 1 -18 alkyl group, alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or monovalent heterocyclic ring having 3 to 18 total atoms of carbon atoms and hetero atoms A group similar to the formula group can be selected as appropriate, and one or more of these substituents can be present in the substituted derivative. However, it is preferable that the total number of carbon atoms or the total number of atoms in the substituted derivative does not exceed 20.
また、Z1 の重合体鎖を有する1価の基としては、例えば、エチレン、プロピレン等のα−オレフィン類;スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物;ふっ化ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン等のハロゲン化ビニル類;ビニルアルコール、アリルアルコール等の不飽和アルコール類;酢酸ビニル、酢酸アリル等の不飽和アルコールのエステル類;(メタ)アクリル酸、p−ビニル安息香酸等の不飽和カルボン酸類;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸i−プロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸n−ヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル等の(メタ)アクリル酸エステル類;(メタ)アクルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクルアミド等の(メタ)アクルアミド類;(メタ)アクリロニトリル、シアン化ビニリデン等の不飽和ニトリル類;ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン類等の不飽和化合物の1種以上から形成される付加重合系重合体鎖を有する1価の基のほか、末端がエーテル化されていてもよいポリオキシエチレン、末端がエーテル化されていてもよいポリオキシプロピレン等のポリエーテルや、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド等の重付加系重合体鎖や重縮合系重合体鎖等を有する1価の基を挙げることができる。これらの重合体鎖を有する1価の基においては、該重合体鎖が直接式(1)中のチオカルボニル基の炭素原子に結合しても、例えば−CH2 −COO−、−C(CH3)(CN)CH2 CH2 −COO−等の連結手を介して式(1)中のチオカルボニル基の炭素原子に結合してもよい。
式(1)において、複数存在するZ1 は相互に同一でも異なってもよい。
Examples of the monovalent group having a polymer chain of Z 1 include α-olefins such as ethylene and propylene; aromatic vinyl compounds such as styrene and α-methylstyrene; vinyl fluoride, vinyl chloride, and chloride. Vinyl halides such as vinylidene; unsaturated alcohols such as vinyl alcohol and allyl alcohol; esters of unsaturated alcohols such as vinyl acetate and allyl acetate; unsaturated carboxylic acids such as (meth) acrylic acid and p-vinylbenzoic acid Acids; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, i-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, t- (meth) acrylic acid (Meth) acrylic acid esters such as butyl, n-hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate; (Meth) acrylamides such as Acrylamide and N, N-dimethyl (meth) acramide; Unsaturated nitriles such as (meth) acrylonitrile and vinylidene cyanide; One kind of unsaturated compounds such as conjugated dienes such as butadiene and isoprene In addition to the monovalent group having an addition polymerization polymer chain formed as described above, a polyoxyethylene whose terminal may be etherified, a polyether such as polyoxypropylene whose terminal may be etherified, And monovalent groups having a polyaddition polymer chain such as polyester, polyamide, or polyimide, or a polycondensation polymer chain. In the monovalent group having these polymer chains, even when the polymer chain is directly bonded to the carbon atom of the thiocarbonyl group in the formula (1), for example, —CH 2 —COO—, —C (CH 3) (CN) may be through a linking hand CH 2 CH 2 -COO-, etc. attached to the carbon atom of the thiocarbonyl group in the formula (1).
In the formula (1), a plurality of Z 1 may be the same or different from each other.
式(1)において、p=1のとき、R1 は、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜20の1価の脂環族炭化水素基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の1価の複素環式基、−OR、−SR、−N(R)2または重合体鎖を有する1価の基を示し、前記炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜20の1価の脂環族炭化水素基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の1価の複素環式基およびRはそれぞれ置換されていてもよい。 In the formula (1), when p = 1, R 1 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, or a monovalent group having 6 to 20 carbon atoms. A monovalent heterocyclic group, a monovalent heterocyclic group having 3 to 20 total atoms of carbon atoms and hetero atoms, -OR, -SR, -N (R) 2 or a monovalent polymer chain A group having 1 to 20 carbon atoms, a monovalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, and a carbon atom different from the above. The monovalent heterocyclic group having 3 to 20 atoms in total and R may each be substituted.
前記炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、合計原子数3〜20の1価の複素環式基、−OR、−SR、−N(R)2やそれらの置換誘導体または重合体鎖を有する1価の基としては、例えば、前記Z1 のそれぞれ対応する基について例示した基と同様のものを挙げることができる。R1 (但し、p=1)の重合体鎖を有する1価の基においては、該重合体鎖が直接式(1)中の硫黄原子に結合しても、例えば、−CH2 −COO−、−C(CH3)(CN)CH2 CH2 −COO−等の連結手を介して式(1)中の硫黄原子に結合してもよい。 The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, the monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, the monovalent heterocyclic group having 3 to 20 atoms in total, -OR, -SR, -N (R As the monovalent group having 2 or a substituted derivative or polymer chain thereof, for example, the same groups as those exemplified for the corresponding groups of Z 1 can be given. In a monovalent group having a polymer chain of R 1 (p = 1), even when the polymer chain is directly bonded to the sulfur atom in the formula (1), for example, —CH 2 —COO— , —C (CH 3 ) (CN) CH 2 CH 2 —COO— or the like, may be bonded to the sulfur atom in the formula (1).
また、前記炭素数3〜20の1価の脂環族炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等を挙げることができる。
前記炭素数3〜20の1価の脂環族炭化水素基に対する置換基としては、例えば、前記Z1 の炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の1価の複素環式基およびRに対する置換基について例示した基と同様のものの中から適宜選択することができ、これらの置換基は置換誘導体中に1個以上あるいは1種以上存在することができる。但し、置換誘導体中の合計炭素数ないし合計原子数は20を越えないことが好ましい。
Moreover, as said C3-C20 monovalent alicyclic hydrocarbon group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclopentenyl group, a cyclohexenyl group etc. can be mentioned, for example.
Examples of the substituent for the monovalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms include, for example, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms in Z 1 and a monovalent aromatic hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms. Group, a monovalent heterocyclic group having 3 to 20 total atoms of carbon atom and hetero atom, and a group similar to those exemplified for the substituent for R can be appropriately selected from these substituents. May be present in the substituted derivative in one or more or one or more. However, it is preferable that the total number of carbon atoms or the total number of atoms in the substituted derivative does not exceed 20.
また、p≧2のとき、R1 は、炭素数1〜20のアルカンに由来するp価の基、炭素数6〜20の芳香族炭化水素に由来するp価の基、炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の複素環式化合物に由来するp価の基または重合体鎖を有するp価の基を示し、前記アルカンに由来するp価の基、芳香族炭化水素に由来するp価の基および合計原子数3〜20の複素環式化合物に由来するp価の基はそれぞれ置換されていてもよい。 In addition, when p ≧ 2, R 1 is a p-valent group derived from an alkane having 1 to 20 carbon atoms, a p-valent group derived from an aromatic hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms, or a carbon atom that is different from the carbon atom. A p-valent group derived from a heterocyclic compound having 3 to 20 atoms in total or a p-valent group having a polymer chain, and derived from a p-valent group derived from the alkane, an aromatic hydrocarbon The p-valent group and the p-valent group derived from the heterocyclic compound having a total of 3 to 20 atoms may each be substituted.
前記炭素数1〜20のアルカンとしては、例えば、メタン、エタン、プロパン、n−ブタン、i−ブタン、n−ペンタン、i−ペンタン、ネオペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、n−ノナン、n−デカン、n−ドデカン、n−テトラデカン、n−ヘキサデカン、n−オクタデカン、n−エイコサン等を挙げることができる。 Examples of the alkane having 1 to 20 carbon atoms include methane, ethane, propane, n-butane, i-butane, n-pentane, i-pentane, neopentane, n-hexane, n-heptane, n-octane, and n. -Nonane, n-decane, n-dodecane, n-tetradecane, n-hexadecane, n-octadecane, n-eicosane and the like can be mentioned.
また、前記炭素数6〜20の芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼン、1,4−ジメチルベンゼン(例えば、1,4−位の各メチル基の炭素原子が式(1)中の硫黄原子に結合する。)、1,2,4,5−テトラメチルベンゼン(例えば、1,2,4,5−位の各メチル基の炭素原子が式(1)中の硫黄原子に結合する。)、1,2,3,4,5,6−ヘキサメチルベンゼン(例えば、1,2,3,4,5,6−位の各メチル基の炭素原子が式(1)中の硫黄原子に結合する。)、1,4−ジ−i−プロピルベンゼン(例えば、1,4−位の各i−プロピル基の2−位の炭素原子が式(1)中の硫黄原子に結合する。)、ナフタレン、アントラセン基等を挙げることができる。 Examples of the aromatic hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms include benzene and 1,4-dimethylbenzene (for example, the carbon atom of each methyl group at the 1,4-position is a sulfur atom in the formula (1)). ), 1,2,4,5-tetramethylbenzene (for example, the carbon atom of each methyl group at the 1,2,4,5-position binds to the sulfur atom in formula (1).) 1,2,3,4,5,6-hexamethylbenzene (for example, the carbon atom of each methyl group at the 1,2,3,4,5,6-position binds to the sulfur atom in formula (1)) 1,4-di-i-propylbenzene (for example, the carbon atom at the 2-position of each i-propyl group at the 1,4-position is bonded to the sulfur atom in the formula (1)). Examples include naphthalene and anthracene groups.
また、前記合計原子数3〜20の複素環式化合物としては、例えば、オキシラン、アジリジン、フラン、テトラヒドロフラン、ピロール、ピロリジン、ピラゾール、テトラヒドロピラン、チアン、ピリジン、ピペリジン、モルホリン等を挙げることができる。 Examples of the heterocyclic compound having 3 to 20 atoms in total include oxirane, aziridine, furan, tetrahydrofuran, pyrrole, pyrrolidine, pyrazole, tetrahydropyran, thiane, pyridine, piperidine, morpholine, and the like.
前記炭素数1〜20のアルカンに由来するp価の基、炭素数6〜20の芳香族炭化水素に由来するp価の基および合計原子数3〜20の複素環式化合物に由来するp価の基に対する置換基としては、例えば、前記Z1 の炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の1価の複素環式基およびRに対する置換基について例示した基と同様のものの中から適宜選択することができ、これらの置換基は置換誘導体中に1個以上あるいは1種以上存在することができる。但し、置換誘導体中の合計炭素数ないし合計原子数は20を越えないことが好ましい。 P-valent group derived from the alkane having 1 to 20 carbon atoms, p-valent group derived from an aromatic hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms, and p-valent group derived from a heterocyclic compound having 3 to 20 atoms in total. Examples of the substituent for the above group include, for example, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms of Z 1, a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, and a total number of 3 atoms of carbon atoms and hetero atoms. -20 monovalent heterocyclic groups and the same groups as those exemplified for the substituent for R can be selected as appropriate, and these substituents are present in one or more or one or more kinds in the substituted derivative. be able to. However, it is preferable that the total number of carbon atoms or the total number of atoms in the substituted derivative does not exceed 20.
また、R1 のp価の基を与える重合体鎖としては、前記Z1 の重合体鎖を有する1価の基について例示した付加重合系重合体鎖、重付加系重合体鎖や重縮合系重合体鎖と同様のものを挙げることができる。R1 の重合体鎖を有するp価の基においては、該重合体鎖が直接式(1)中の硫黄原子に結合しても、例えば、−CH2 −COO−、
−C(CH3)(CN)CH2 CH2 −COO−等の連結手を介して式(1)中の硫黄原子に結合してもよい。
Examples of the polymer chain giving the p-valent group of R 1 include addition polymerization polymer chains, polyaddition polymer chains and polycondensation systems exemplified for the monovalent group having the Z 1 polymer chain. The thing similar to a polymer chain can be mentioned. In the p-valent group having the polymer chain of R 1 , even when the polymer chain is directly bonded to the sulfur atom in the formula (1), for example, —CH 2 —COO—,
-C (CH 3) (CN) may be through a linking hand CH 2 CH 2 -COO-, etc. attached to the sulfur atom in the formula (1).
次に、式(2)において、Z2 のm価の基を与える炭素数1〜20のアルカンとしては、例えば、前記R1 のp価の基を与える炭素数1〜20のアルカンについて例示した化合物と同様のものを挙げることができる。
また、Z2 のm価の基を与える炭素数6〜20の芳香族炭化水素としては、例えば、前記R1 のp価の基を与える炭素数6〜20の芳香族炭化水素について例示した化合物と同様のものを挙げることができる。
また、Z2 のm価の基を与える炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の複素環式化合物としては、例えば、前記R1 のp価の基を与える炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の複素環式化合物について例示した化合物と同様のものを挙げることができる。
Next, in the formula (2), examples of the alkane having 1 to 20 carbon atoms that give an m-valent group of Z 2 include, for example, the alkane having 1 to 20 carbon atoms that gives a p-valent group of the R 1 . The thing similar to a compound can be mentioned.
Examples of the aromatic hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms that gives m 2 group of Z 2 include, for example, compounds exemplified for the aromatic hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms that gives p group of R 1 . The same thing can be mentioned.
Examples of the heterocyclic compound having a total of 3 to 20 carbon atoms and hetero atoms of the Z 2 m-valent group and the hetero atoms include, for example, the carbon atom and the hetero ring of the R 1 p-valent group. The thing similar to the compound illustrated about the heterocyclic compound of 3-20 total atoms with an atom can be mentioned.
Z2 の炭素数1〜20のアルカンに由来するm価の基、炭素数6〜20の芳香族炭化水素に由来するm価の基および合計原子数3〜20の複素環式化合物に由来するm価の基に対する置換基としては、例えば、前記Z1 の炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の1価の複素環式基およびRに対する置換基について例示した基と同様のものの中から適宜選択することができ、これらの置換基は置換誘導体中に1個以上あるいは1種以上存在することができる。但し、置換誘導体中の合計炭素数ないし合計原子数は20を越えないことが好ましい。 Derived from an m-valent group derived from an alkane having 1 to 20 carbon atoms of Z 2 , an m-valent group derived from an aromatic hydrocarbon having 6 to 20 carbon atoms, and a heterocyclic compound having 3 to 20 atoms in total. Examples of the substituent for the m-valent group include, for example, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms of Z 1, a monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, and a total atom of carbon atoms and hetero atoms. The monovalent heterocyclic group of 3 to 20 and the same groups as those exemplified for the substituent for R can be selected as appropriate, and these substituents are one or more or one or more in the substituted derivatives. Can exist. However, it is preferable that the total number of carbon atoms or the total number of atoms in the substituted derivative does not exceed 20.
また、Z2 のm価の基を与える重合体鎖としては、例えば、前記Z1 の重合体鎖を有する1価の基について例示した付加重合系重合体鎖、重付加系重合体鎖や重縮合系重合体鎖と同様のものを挙げることができる。Z2 の重合体鎖を有するm価の基においては、該重合体鎖が直接式(2)中のチオカルボニル基の炭素原子に結合しても、例えば、
−CH2 −COO−、−C(CH3)(CN)CH2 CH2 −COO−等の連結手を介して式(2)中のチオカルボニル基の炭素原子に結合してもよい。
Examples of the polymer chain that gives an m-valent group of Z 2 include, for example, the addition polymerization-type polymer chain, polyaddition-type polymer chain, and heavy chain exemplified for the monovalent group having the Z 1 polymer chain. The thing similar to a condensation type polymer chain can be mentioned. In the m-valent group having a polymer chain of Z 2 , even when the polymer chain is directly bonded to the carbon atom of the thiocarbonyl group in the formula (2), for example,
-CH 2 -COO -, - C ( CH 3) (CN) may be through a linking hand CH 2 CH 2 -COO-, etc. attached to the carbon atom of the thiocarbonyl group in the formula (2).
式(2)において、R2 の炭素数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20の1価の芳香族炭化水素基、炭素原子と異項原子との合計原子数3〜20の1価の複素環式基、−OR、−SR、−N(R)2 および重合体鎖を有する1価の基やそれらの置換誘導体としては、例えば、前記Z1 のそれぞれ対応する基について例示した基と同様のものを挙げることができる。R2 の重合体鎖を有する1価の基においては、該重合体鎖が直接式(2)中の硫黄原子に結合しても、例えば、−CH2 −COO−、
−C(CH3)(CN)CH2 CH2 −COO−等の連結手を介して式(2)中の硫黄原子に結合してもよい。
また、R2 の炭素数3〜20の1価の脂環族炭化水素基やその置換誘導体としては、例えば、前記R1 (但し、p=1)の炭素数3〜20の1価の脂環族炭化水素基やその置換誘導体について例示した基と同様のものを挙げることができる。
式(2)において、複数存在するR2 は相互に同一でも異なってもよい。
式(2)において、Z2 と−C(=S)−S−R2 との間の連結部分が脂肪族炭素原子である場合は、Z2 中の脂肪族炭素原子が−C(=S)−S−R2 と結合し、該連結部分が芳香族炭素原子である場合は、Z2 中の芳香族炭素原子が−C(=S)−S−R2 と結合し、さらに該連結部分が硫黄原子である場合は、Z2 を示す−SR中の硫黄原子が
−C(=S)−S−R2 と結合している。
In the formula (2), R 2 alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, monovalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, monovalent having 3 to 20 total atoms of carbon atoms and hetero atoms. As the monovalent group having a heterocyclic group, —OR, —SR, —N (R) 2 and a polymer chain, or a substituted derivative thereof, for example, groups exemplified for the corresponding groups of Z 1 The same thing can be mentioned. In the monovalent group having a polymer chain of R 2 , even when the polymer chain is directly bonded to the sulfur atom in the formula (2), for example, —CH 2 —COO—,
-C (CH 3) (CN) may be through a linking hand CH 2 CH 2 -COO-, etc. attached to the sulfur atom in the formula (2).
In addition, examples of the monovalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms of R 2 and substituted derivatives thereof include, for example, monovalent fat having 3 to 20 carbon atoms of R 1 (p = 1). The thing similar to the group illustrated about the cyclic hydrocarbon group and its substituted derivative can be mentioned.
In the formula (2), a plurality of R 2 may be the same as or different from each other.
In Formula (2), when the connecting part between Z 2 and —C (═S) —S—R 2 is an aliphatic carbon atom, the aliphatic carbon atom in Z 2 is —C (═S ) When bonded to —S—R 2 and the linking moiety is an aromatic carbon atom, the aromatic carbon atom in Z 2 is bonded to —C (═S) —S—R 2, and When the moiety is a sulfur atom, the sulfur atom in —SR representing Z 2 is bonded to —C (═S) —S—R 2 .
本発明における特に好ましいチオカルボニルチオ化合物の具体例としては、下記式(3)〜(22)で表される化合物等を挙げることができる。 Specific examples of particularly preferred thiocarbonylthio compounds in the present invention include compounds represented by the following formulas (3) to (22).
これらのチオカルボニルチオ化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
本発明において、リビングラジカル重合に際しては、チオカルボニルチオ化合物と共に、他の分子量制御剤、例えば、α−メチルスチレンダイマー、t−ドデシルメルカプタン等の1種以上を併用することもできる。
These thiocarbonylthio compounds can be used alone or in admixture of two or more.
In the present invention, in living radical polymerization, together with the thiocarbonylthio compound, one or more other molecular weight control agents such as α-methylstyrene dimer, t-dodecyl mercaptan and the like can be used in combination.
リビングラジカル重合に使用されるラジカル開始剤としては、特に限定されるものではなく、一般にラジカル重合開始剤として知られているものを使用することができ、例えば、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)等のアゾ化合物;ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、1,1’−ビス(t−ブチルペルオキシ)シクロヘキサン、t−ブチルペルオキシピバレート等の有機過酸化物;過酸化水素;これらの過酸化物と還元剤とからなるレドックス系開始剤等を挙げることができる。
これらのラジカル開始剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
The radical initiator used in the living radical polymerization is not particularly limited, and those generally known as radical polymerization initiators can be used, for example, 2,2′-azobisisobutyrate. Azo compounds such as nitrile, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile); benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, 1 , 1'-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, organic peroxides such as t-butylperoxypivalate; hydrogen peroxide; redox initiators composed of these peroxides and reducing agents. it can.
These radical initiators can be used alone or in admixture of two or more.
リビングラジカル重合に使用される溶媒としては、リビングラジカルが失活しない限り特に限定されるものでないが、例えば、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;
エチレングリコールメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールエチルエーテルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類;
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールジアルキルエーテル類;
テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等のケトン類;
ジアセトンアルコール(即ち、4−ヒドロキシ−4−メチルペンタン−2−オン)、4−ヒドロキシ−4−メチルヘキサン−2−オン等のケトアルコール類;
The solvent used in the living radical polymerization is not particularly limited as long as the living radical is not deactivated.
Propylene glycol monoalkyl ethers such as propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monoethyl ether;
Ethylene glycol methyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol methyl ether acetate, diethylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, dipropylene glycol ethyl ether acetate, etc. Poly) alkylene glycol alkyl ether acetates;
(Poly) alkylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol methyl ethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether;
Other ethers such as tetrahydrofuran;
Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone;
Ketoalcohols such as diacetone alcohol (ie 4-hydroxy-4-methylpentan-2-one), 4-hydroxy-4-methylhexan-2-one;
乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸アルキルエステル類;
2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸i−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、ぎ酸n−ペンチル、酢酸i−ペンチル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸n−プロピル、酪酸i−プロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸n−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類;
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;
N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類
等を挙げることができる。
Lactic acid alkyl esters such as methyl lactate and ethyl lactate;
Ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, 3-ethoxypropion Ethyl acetate, ethyl ethoxy acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl propionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, i-propyl acetate, n-butyl acetate, i-acetate Butyl, n-pentyl formate, i-pentyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-propyl pyruvate , Methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, 2-oxobutanoic acid Other esters such as Le;
Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene;
Examples thereof include amides such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, and N, N-dimethylacetamide.
これらの溶媒のうち、後述する感放射線性樹脂組成物(I)の液状組成物としたときの各成分の溶解性、顔料分散性、塗布性等の観点から、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、ぎ酸n−ペンチル、酢酸i−ペンチル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸i−プロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸エチル等が好ましい。
前記溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
Of these solvents, propylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monomethyl are used from the viewpoints of solubility of each component, pigment dispersibility, coatability and the like when the liquid composition of the radiation sensitive resin composition (I) described later is used. Ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, 3-methoxypropion Ethyl acetate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, 3-methyl-3-methoxybutylpropio Over preparative acetate n- butyl acetate i- butyl, formic acid n- pentyl acetate, i- pentyl, n- butyl propionate, ethyl butyrate, i- propyl butyrate n- butyl, ethyl pyruvate and the like are preferable.
The said solvent can be used individually or in mixture of 2 or more types.
リビングラジカル重合において、チオカルボニルチオ化合物の使用量は、重合性不飽和化合物100重量部に対して、通常、0.1〜50重量部、好ましくは0.2〜16重量部であり、ラジカル重合開始剤の使用量は、重合性不飽和化合物100重量部に対して、通常、0.1〜50重量部、好ましくは0.1〜20重量部である。
また、重合温度は、通常、0〜150℃、好ましくは50〜120℃であり、重合時間は、通常、10分〜20時間、好ましくは30分〜6時間である。
In the living radical polymerization, the amount of the thiocarbonylthio compound used is usually 0.1 to 50 parts by weight, preferably 0.2 to 16 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymerizable unsaturated compound. The usage-amount of an initiator is 0.1-50 weight part normally with respect to 100 weight part of polymerizable unsaturated compounds, Preferably it is 0.1-20 weight part.
The polymerization temperature is usually 0 to 150 ° C., preferably 50 to 120 ° C., and the polymerization time is usually 10 minutes to 20 hours, preferably 30 minutes to 6 hours.
共重合体(B1)は、重合性不飽和化合物をラジカル重合した後に、極性の異なる有機溶媒を2種以上用いる再沈殿法を経て精製することによっても製造することができる。
精製に供される共重合体(以下、「未精製共重合体」という。)を製造するラジカル重合は、特に限定されるものではなく、常法により実施することができる。
重合後の未精製共重合体は、重合に使用された溶媒が下記する再沈殿法における良溶媒である場合は、そのままあるいは濃度を調整したのち、ポリマー溶液として精製処理に供することができ、また重合により得られたポリマー溶液から未精製共重合体を常法により分離し、固体として精製処理に供することができる。
The copolymer (B1) can also be produced by radical polymerization of a polymerizable unsaturated compound and then purification through a reprecipitation method using two or more organic solvents having different polarities.
The radical polymerization for producing a copolymer to be subjected to purification (hereinafter referred to as “unpurified copolymer”) is not particularly limited, and can be carried out by a conventional method.
If the solvent used for the polymerization is a good solvent in the reprecipitation method described below, the unpurified copolymer after polymerization can be subjected to purification treatment as a polymer solution as it is or after adjusting the concentration. The unpurified copolymer can be separated from the polymer solution obtained by polymerization by a conventional method and subjected to purification treatment as a solid.
ラジカル重合後、得られた未精製共重合体を、極性の異なる有機溶媒2種以上を用いる再沈殿法により精製する。即ち、未精製共重合体の良溶媒中の溶液を、必要に応じてろ過あるいは遠心分離などによって不溶な不純物を除去したのち、大量(通常は、ポリマー溶液体積の5〜10倍量)の沈殿剤(貧溶媒)中に注いで、共重合体を再沈殿させることにより精製する。その際、ポリマー溶液中に残っている不純物のうち、沈殿剤に可溶な不純物は液相に残り、精製された共重合体(B1)から分離される。 After radical polymerization, the resulting unpurified copolymer is purified by a reprecipitation method using two or more organic solvents having different polarities. That is, after removing insoluble impurities from the solution of the unpurified copolymer in a good solvent by filtration or centrifugation as necessary, a large amount (usually 5 to 10 times the volume of the polymer solution) is precipitated. It refine | purifies by pouring in an agent (poor solvent) and reprecipitating a copolymer. At that time, out of the impurities remaining in the polymer solution, impurities soluble in the precipitant remain in the liquid phase and are separated from the purified copolymer (B1).
この再沈殿法に使用される良溶媒/沈殿剤の組み合わせとしては、例えば、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート/n−ヘキサン、メチルエチルケトン/n−ヘキサン、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート/n−ヘプタン、メチルエチルケトン/n−ヘプタン等を挙げることができる。 Examples of the good solvent / precipitant combination used in this reprecipitation method include diethylene glycol monomethyl ether acetate / n-hexane, methyl ethyl ketone / n-hexane, diethylene glycol monomethyl ether acetate / n-heptane, methyl ethyl ketone / n-heptane, and the like. Can be mentioned.
未精製共重合体の再沈殿に際しては、沈殿剤を激しく攫拝しながら、ポリマー溶液をなるべく少しづつ加えることが望ましく、それにより、沈殿内に取り込まれる不純物の量を最小限に抑えることができる。また、再沈殿処理を複数回繰り返すことにより、共重合体(B1)の純度をより高くすることができる。なお、沈殿した共重合体(B1)が極めて微細でろ過に適さない場合は、遠心分離などにより分離することができる。 During reprecipitation of the unpurified copolymer, it is desirable to add the polymer solution as little as possible while vigorously worring the precipitant, thereby minimizing the amount of impurities incorporated into the precipitate. . Moreover, the purity of a copolymer (B1) can be made higher by repeating a reprecipitation process in multiple times. When the precipitated copolymer (B1) is very fine and not suitable for filtration, it can be separated by centrifugation or the like.
また、より厳密な精製が必要な場合には、再沈殿法の変法である分別沈殿法が望ましい。即ち、未精製共重合体を良溶媒に溶解し、溶媒条件(溶媒の種類や組成と温度)を細かく変化させながら、溶質である未精製共重合体を逐次沈殿させることにより、精製された共重合体(B1)を溶解度が僅かに違う複数の区分に分けて分取する。この方法の場合、沈殿剤をポリマー溶液に添加するのが普通である。また、一定温度で良溶媒と沈殿剤の組成(良溶媒の混合比率)を順次変えても、良溶媒の混合比率を一定にして温度を変化させてもよい。このような分別沈殿法を用いることにより、狭い分子量範囲の共重合体(B1)を収率よく分取することができる。分別沈殿法により分取された共重合体(B1)の各画分は、それらのMwの値に応じて、一つまたは複数の画分を濃縮・乾燥することによって、固体として取得することができる。
さらに、このような再沈殿法によって得られた共重合体(B1)は、必要に応じて、吸着・親和性クロマトグラフィや透析法などにより、さらに精製することもできる。
Further, when more rigorous purification is required, a fractional precipitation method, which is a modification of the reprecipitation method, is desirable. That is, the purified copolymer is dissolved by dissolving the unpurified copolymer in a good solvent and sequentially precipitating the unpurified copolymer as a solute while finely changing the solvent conditions (solvent type, composition and temperature). The polymer (B1) is divided into a plurality of sections having slightly different solubility. In this method, it is common to add a precipitant to the polymer solution. Further, the composition of the good solvent and the precipitant (mixing ratio of the good solvent) may be sequentially changed at a constant temperature, or the temperature may be changed while keeping the mixing ratio of the good solvent constant. By using such a fractional precipitation method, the copolymer (B1) having a narrow molecular weight range can be fractionated with a high yield. Each fraction of the copolymer (B1) fractionated by the fractional precipitation method can be obtained as a solid by concentrating and drying one or more fractions according to their Mw values. it can.
Furthermore, the copolymer (B1) obtained by such a reprecipitation method can be further purified by adsorption / affinity chromatography, dialysis method, or the like, if necessary.
感放射線性樹脂組成物(I)におけるアルカリ可溶性樹脂の使用量は、(A)着色剤100重量部に対して、通常、10〜1,000重量部、好ましくは20〜500重量部である。この場合、アルカリ可溶性樹脂の使用量が10重量部未満では、例えば、アルカリ現像性が低下したり、未露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚れや膜残りが発生するおそれがあり、一方1,000重量部を超えると、相対的に顔料濃度が低下するため、薄膜として目的とする色濃度を達成することが困難となるおそれがある。 The amount of the alkali-soluble resin used in the radiation sensitive resin composition (I) is usually 10 to 1,000 parts by weight, preferably 20 to 500 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the colorant (A). In this case, if the amount of the alkali-soluble resin used is less than 10 parts by weight, for example, the alkali developability may be lowered, or background stains or film residues may be generated on the substrate or the light shielding layer in the unexposed area. When the amount exceeds 1,000 parts by weight, the pigment concentration is relatively lowered, and it may be difficult to achieve the target color concentration as a thin film.
−(C)多官能性単量体−
感放射線性樹脂組成物(I)における多官能性単量体は、2個以上の重合性不飽和結合を有する単量体である。 このような多官能性単量体としては、例えば、
エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレングリコールのジ(メタ)アクリレート類;
ジエチレングリコール以上のポリエチレングリコール、ジプロピレングリコール以上のポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコールのジ(メタ)アクリレート類;
グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等の3価以上の多価アルコールのポリ(メタ)アクリレート類やそれらのジカルボン酸変性物;
ポリエステル、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、シリコーン樹脂、スピラン樹脂等のオリゴ(メタ)アクリレート類;
両末端に水酸基を有するポリ−1,3−ブタジエン、両末端に水酸基を有するポリイソプレン、両末端に水酸基を有するポリカプロラクトン等の両末端に水酸基を有する重合体のジ(メタ)アクリレート類や、
トリス〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕フォスフェート
等を挙げることができる。
-(C) polyfunctional monomer-
The polyfunctional monomer in the radiation sensitive resin composition (I) is a monomer having two or more polymerizable unsaturated bonds. As such a polyfunctional monomer, for example,
Di (meth) acrylates of alkylene glycols such as ethylene glycol and propylene glycol;
Di (meth) acrylates of polyalkylene glycols such as polyethylene glycol of diethylene glycol or higher, polypropylene glycol of dipropylene glycol or higher;
Poly (meth) acrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols such as glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, etc. and their dicarboxylic acid-modified products;
Oligo (meth) acrylates such as polyester, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, silicone resin, spirane resin;
Polymer di (meth) acrylates having hydroxyl groups at both ends, such as poly-1,3-butadiene having hydroxyl groups at both ends, polyisoprene having hydroxyl groups at both ends, polycaprolactone having hydroxyl groups at both ends,
And tris [2- (meth) acryloyloxyethyl] phosphate.
これらの多官能性単量体のうち、3価以上の多価アルコールのポリ(メタ)アクリレート類やそれらのジカルボン酸変性物が好ましく、具体的には、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が好ましく、特に、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが、画素強度が高く、画素表面の平滑性に優れ、かつ未露光部の基板上および遮光層上に地汚れ、膜残り等を発生し難い点で好ましい。 前記多官能性単量体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。 Of these polyfunctional monomers, poly (meth) acrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols and their modified dicarboxylic acids are preferable. Specifically, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, penta Erythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and the like are preferable, and in particular, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate and di Pentaerythritol hexaacrylate is preferred because it has high pixel strength, excellent pixel surface smoothness, and is less likely to cause scumming or film residue on the unexposed substrate and the light shielding layer. The said polyfunctional monomer can be used individually or in mixture of 2 or more types.
感放射線性樹脂組成物(I)における多官能性単量体の使用量は、共重合体(B1)100重量部に対して、通常、5〜500重量部、好ましくは20〜300重量部である。この場合、多官能性単量体の使用量が5重量部未満では、画素の強度や表面平滑性が低下する傾向があり、一方500重量部を超えると、例えば、アルカリ現像性が低下したり、未露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚れ、膜残り等が発生しやすくなる傾向がある。 The amount of the polyfunctional monomer used in the radiation sensitive resin composition (I) is usually 5 to 500 parts by weight, preferably 20 to 300 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the copolymer (B1). is there. In this case, when the amount of the polyfunctional monomer used is less than 5 parts by weight, the strength and surface smoothness of the pixel tend to be reduced. On the other hand, when the amount exceeds 500 parts by weight, for example, alkali developability is reduced. In addition, background stains, film residue, etc. tend to occur on the unexposed portion of the substrate or on the light shielding layer.
本発明においては、多官能性単量体の一部を、1個の重合性不飽和結合を有する単官能性単量体で置き換えることもできる。
前記単官能性単量体としては、例えば、前記共重合体(B1)について例示した不飽和化合物(b1)、不飽和化合物(b2)および不飽和化合物(b3)のほか、N−ビニルサクシンイミド、N−ビニルピロリドン、N−ビニルフタルイミド、N−ビニル−2−ピペリドン、N−ビニル−ε−カプロラクタム、N−ビニルピロール、N−ビニルピロリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルイミダゾリジン、N−ビニルインドール、N−ビニルインドリン、N−ビニルベンズイミダゾ−ル、N−ビニルカルバゾール、N−ビニルピペリジン、N−ビニルピペラジン、N−ビニルモルフォリン、N−ビニルフェノキサジン等のN−ビニル含窒素複素環式化合物;N−(メタ)アクリロイルモルフォリンや、市販品として商品名で、M−5300、M−5400、M−5600(以上、東亞合成(株)製)等を挙げることができる。
これらの単官能性単量体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
In the present invention, a part of the polyfunctional monomer can be replaced with a monofunctional monomer having one polymerizable unsaturated bond.
Examples of the monofunctional monomer include the unsaturated compound (b1), unsaturated compound (b2) and unsaturated compound (b3) exemplified for the copolymer (B1), as well as N-vinylsuccinimide. N-vinylpyrrolidone, N-vinylphthalimide, N-vinyl-2-piperidone, N-vinyl-ε-caprolactam, N-vinylpyrrole, N-vinylpyrrolidine, N-vinylimidazole, N-vinylimidazolidine, N- N-vinyl nitrogen-containing complexes such as vinyl indole, N-vinyl indoline, N-vinyl benzimidazole, N-vinyl carbazole, N-vinyl piperidine, N-vinyl piperazine, N-vinyl morpholine, N-vinyl phenoxazine Cyclic compound; N- (meth) acryloylmorpholine or a commercial product under the trade name M-5 00, M-5400, M-5600 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), and the like can be given.
These monofunctional monomers can be used alone or in admixture of two or more.
単官能性単量体の使用割合は、多官能性単量体と単官能性単量体の合計に対して、通常、90重量%以下、好ましくは50重量%以下である。この場合、単官能性単量体の使用割合が90重量%を超えると、画素の強度や表面平滑性が低下する傾向がある。 The proportion of the monofunctional monomer used is usually 90% by weight or less, preferably 50% by weight or less, based on the total of the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer. In this case, when the use ratio of the monofunctional monomer exceeds 90% by weight, the strength and surface smoothness of the pixel tend to be lowered.
−(D)光重合開始剤−
感放射線性樹脂組成物(I)における光重合開始剤は、カルバゾール系化合物を必須成分とし、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等の放射線の露光により、前記(C)多官能性単量体および場合により使用される単官能性単量体の重合を開始しうる活性種を生じる化合物である。
本発明においては、カルバゾール系化合物と共に、他の光重合開始剤を併用することができる。
前記他の光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物等を挙げることができ、これらの他の光重合開始剤のうち、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物およびトリアジン系化合物の群から選ばれる少なくとも1種が好ましい。
本発明において、カルバゾール系化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができ、また他の光重合開始剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
-(D) Photopolymerization initiator-
The photopolymerization initiator in the radiation-sensitive resin composition (I) contains a carbazole compound as an essential component, and is exposed to radiation such as visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, X-ray, etc. Is a compound that yields an active species capable of initiating polymerization of the functional monomer and optionally the monofunctional monomer used.
In the present invention, other photopolymerization initiators can be used in combination with the carbazole compound.
Examples of the other photopolymerization initiator include acetophenone compounds, biimidazole compounds, triazine compounds, benzoin compounds, benzophenone compounds, α-diketone compounds, polynuclear quinone compounds, xanthone compounds, diazo compounds. Among these other photopolymerization initiators, at least one selected from the group of acetophenone compounds, biimidazole compounds, and triazine compounds is preferable .
In the present invention, the carbazole compounds can be used alone or in admixture of two or more, and the other photopolymerization initiators can be used alone or in admixture of two or more.
感放射線性樹脂組成物(I)において、光重合開始剤の一般的な使用量は、(C)多官能性単量体と単官能性単量体との合計100重量部に対して、通常、0.01〜80重量部、好ましくは1〜60重量部である。この場合、光重合開始剤の使用量が0.01重量部未満では、露光による硬化が不十分となり、画素パターンが所定の配列に従って配置されたカラーフィルタを得ることが困難となるおそれがあり、一方80重量部を超えると、形成された画素が現像時に基板から脱落しやすくなる傾向がある。 In the radiation sensitive resin composition (I), the general use amount of the photopolymerization initiator is usually (C) based on 100 parts by weight of the total of the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer. 0.01 to 80 parts by weight, preferably 1 to 60 parts by weight. In this case, if the amount of the photopolymerization initiator used is less than 0.01 parts by weight, curing by exposure becomes insufficient, and it may be difficult to obtain a color filter in which a pixel pattern is arranged according to a predetermined arrangement. On the other hand, if it exceeds 80 parts by weight, the formed pixels tend to fall off the substrate during development.
前記カルバゾール系化合物としては、例えば、 下記式(23)で表される化合物(以下、「カルバゾール系化合物(1)」という。)、下記式(24)で表される化合物(以下、「カルバゾール系化合物(2)」という。)等を挙げることができる。 Examples of the carbazole-based compound include a compound represented by the following formula (23) (hereinafter referred to as “carbazole-based compound (1)”) and a compound represented by the following formula (24) (hereinafter referred to as “carbazole-based compound”). Compound (2) ") and the like.
〔式(23)において、R3 は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基またはフェニル基を示し、R4 およびR5 は相互に独立に水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基または炭素数7〜20の1価の脂環式基(但し、前記シクロアルキル基を除く。)を示し、R6 は炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシル基または炭素数3〜8のシクロアルキルオキシ基を示し、複数存在するR6 は相互に同一でも異なってもよく、R7 は炭素数4〜20の1価の含酸素複素環式基、炭素数4〜20の1価の含窒素複素環式基または炭素数4〜20の1価の含硫黄複素環式基を示し、複数存在するR7 は相互に同一でも異なってもよく、aは0〜5の整数、bは0〜5の整数で、(a+b)≦5である。〕 [In the formula (23), R 3 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms or a phenyl group, and R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom, carbon number 1 -20 alkyl group, cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, phenyl group which may be substituted, or monovalent alicyclic group having 7 to 20 carbon atoms (excluding the cycloalkyl group). R 6 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cycloalkyloxy group having 3 to 8 carbon atoms, and a plurality of R 6 may be the same as or different from each other, and R 7 is a monovalent oxygen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, or 4 to 4 carbon atoms. a monovalent sulfur-containing heterocyclic groups 20, R 7 where there are a plurality of phases May be the same as or different, a is an integer of 0-5, b is an integer of 0 to 5, which is (a + b) ≦ 5. ]
〔式(24)において、R3 は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基またはフェニル基を示し、R4 およびR5 は相互に独立に水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基または炭素数7〜20の1価の脂環式基(但し、前記シクロアルキル基を除く。)を示し、R6 は炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシル基または炭素数3〜8のシクロアルキルオキシ基を示し、複数存在するR6 は相互に同一でも異なってもよく、R7 は炭素数4〜20の1価の含酸素複素環式基、炭素数4〜20の1価の含窒素複素環式基または炭素数4〜20の1価の含硫黄複素環式基を示し、複数存在するR7 は相互に同一でも異なってもよく、cは0〜5の整数、dは1〜5の整数で、(c+d)≦5であり、eは0〜6の整数である。〕 [In the formula (24), R 3 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, or a phenyl group, and R 4 and R 5 are each independently a hydrogen atom, carbon number 1 -20 alkyl group, cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, phenyl group which may be substituted, or monovalent alicyclic group having 7 to 20 carbon atoms (excluding the cycloalkyl group). R 6 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cycloalkyloxy group having 3 to 8 carbon atoms, and a plurality of R 6 may be the same as or different from each other, and R 7 is a monovalent oxygen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, or 4 to 4 carbon atoms. a monovalent sulfur-containing heterocyclic groups 20, R 7 where there are a plurality of phases May be the same or different to, c is an integer of 0 to 5, d is an integer from 1 to 5, a (c + d) ≦ 5, e is an integer of 0 to 6. ]
式(23)および式(24)において、R3 の炭素数1〜20のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチ基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基等を挙げることができる。
また、R3 の炭素数3〜8のシクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
式(23)および式(24)において、R3 としては、例えば、メチル基、エチル基等が好ましい。
In Formula (23) and Formula (24), examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms of R 3 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, sec- Examples include butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, etc. be able to.
Further, the cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms R 3, examples thereof include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group.
In Formula (23) and Formula (24), R 3 is preferably, for example, a methyl group, an ethyl group, or the like.
式(23)および式(24)において、R4 およびR5 の炭素数1〜20のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチ基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基等を挙げることができる。
また、R4 およびR5 の炭素数3〜8のシクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
In formula (23) and formula (24), examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms of R 4 and R 5 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, and an n-butyl group. , Sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group Etc.
Moreover, as a C3-C8 cycloalkyl group of R < 4 > and R < 5 >, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, etc. can be mentioned, for example.
R4 およびR5 のフェニル基に対する置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等の炭素数1〜6のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数3〜6のシクロアルキル基:メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、t−ブトキシ基等の炭素数1〜6のアルコキシル基;シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の炭素数3〜6のシクロアルキルオキシ基:フェニル基;フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子等を挙げることができる。 Examples of the substituent for the phenyl group of R 4 and R 5 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, and n-pentyl. Group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as n-hexyl group; a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms such as cyclopentyl group and cyclohexyl group: methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, i-propoxy group, an alkoxyl group having 1 to 6 carbon atoms such as an n-butoxy group and a t-butoxy group; a cycloalkyloxy group having 3 to 6 carbon atoms such as a cyclopentyloxy group and a cyclohexyloxy group: a phenyl group; a fluorine atom, a chlorine atom, etc. A halogen atom etc. can be mentioned.
また、R4 およびR5 の炭素数7〜20の1価の脂環式基(但し、前記シクロアルキル基を除く。)としては、例えば、1−アルキルシクロアルカン骨格を有する基、ビシクロアルカン骨格を有する基、トリシクロアルカン骨格を有する基、スピロアルカン骨格を有する基、テルペン骨格を有する基、アダマンタン骨格を有する基等を挙げることができる。
式(23)および式(24)において、R4 およびR5 としては、水素原子、メチル基、エチル基等が好ましい。
Examples of the monovalent alicyclic group having 7 to 20 carbon atoms of R 4 and R 5 (excluding the cycloalkyl group) include, for example, a group having a 1-alkylcycloalkane skeleton and a bicycloalkane skeleton. A group having a tricycloalkane skeleton, a group having a spiroalkane skeleton, a group having a terpene skeleton, a group having an adamantane skeleton, and the like.
In formula (23) and formula (24), R 4 and R 5 are preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or the like.
式(23)および式(24)において、R6 の炭素数1〜12のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチ基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基等を挙げることができる。
また、R6 の炭素数3〜8のシクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
In Formula (23) and Formula (24), examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms of R 6 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, sec- Examples include butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, etc. be able to.
Moreover, as a C3-C8 cycloalkyl group of R < 6 >, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, etc. can be mentioned, for example.
また、R6 の炭素数1〜12のアルコキシル基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、n−ウンデシルオキシ基、n−ドデシルオキシ基等を挙げることができる。
また、R6 の炭素数3〜8のシクロアルキルオキシ基としては、例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等を挙げることができる。
式(23)および式(24)において、R6 としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基等が好ましい。
Moreover, as a C1-C12 alkoxyl group of R < 6 >, a methoxy group, an ethoxy group, n-propoxy group, i-propoxy group, n-butoxy group, t-butoxy group, n-pentyloxy group, Examples include n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, n-nonyloxy group, n-decyloxy group, n-undecyloxy group, n-dodecyloxy group and the like.
Moreover, as a C3-C8 cycloalkyloxy group of R < 6 >, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, etc. can be mentioned, for example.
In Formula (23) and Formula (24), R 6 is preferably a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, a methoxy group, an ethoxy group, or the like.
式(23)および式(24)において、R7 の炭素数4〜20の1価の含酸素複素環式基、炭素数4〜20の1価の含窒素複素環式基または炭素数4〜20の1価の含硫黄複素環式基としては、例えば、チオラニル基、アゼピニル基、ジヒドロアゼピニル基、ジオキソラニル基、トリアジニル基、オキサチアニル基、チアゾーリル基、オキサジアジニル基、ジオキサインダニイル基、ジヒアナフタレニル基、フラニル基、チオフェニル基、ピロリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、ピラゾリル基、フラザニル基、ピラニル基、ピリジニル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジニル基、ピロリニル基、モルホニル基、ピペラジニル基、キヌクリジニル基、インドーリル基、イソインドーリル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチオフェニル基、インドリジニル基、クロメニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、プリニル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、フタラジニル基、プテリジニル基、カルバゾーリル基、アクリジニル基、フェナントリジニル基、チオキサンテニル基、フェナジニル基、フェノチアジニル基、フェノキサチイニル基、フェノキサジニル基、チアントレニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基等を挙げることができる。
式(23)および式(24)において、R7 としては、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基等が好ましい。
In the formula (23) and (24), a monovalent oxygen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms R 7, monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, or 4 carbon having 4 to 20 carbon atoms Examples of the monovalent sulfur-containing heterocyclic group of 20 include, for example, a thiolanyl group, an azepinyl group, a dihydroazepinyl group, a dioxolanyl group, a triazinyl group, an oxathanyl group, a thiazolyl group, an oxadiazinyl group, a dioxaindanyl group, Anaphthalenyl group, furanyl group, thiophenyl group, pyrrolyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, thiazolyl group, isothiazolyl group, pyrazolyl group, furazanyl group, pyranyl group, pyridinyl group, pyridazinyl group, pyrimidyl group, pyrazinyl group, pyrrolinyl group, Morphonyl group, piperazinyl group, quinuclidinyl group, indolyl group, isoindolyl group Benzofuranyl group, benzothiophenyl group, indolizinyl group, chromenyl group, quinolinyl group, isoquinolinyl group, purinyl group, quinazolinyl group, cinnolinyl group, phthalazinyl group, pteridinyl group, carbazolyl group, acridinyl group, phenanthridinyl group, thioxanthenyl group A phenazinyl group, a phenothiazinyl group, a phenoxathinyl group, a phenoxazinyl group, a thiantenyl group, a tetrahydrofuranyl group, a tetrahydropyranyl group, and the like.
In Formula (23) and Formula (24), R 7 is preferably a tetrahydrofuranyl group, a tetrahydropyranyl group, or the like.
式(23)において、aは0、1または2が好ましく、特に1であることが好ましく、bは0または1が好ましく、特に0であることが好ましい。 In the formula (23), a is preferably 0, 1 or 2, particularly preferably 1, and b is preferably 0 or 1, particularly preferably 0.
式(24)において、cは0、1または2が好ましく、特に1であることが好ましく、dは1が好ましく、eは0、1または2が好ましく、特に1であることが好ましい。 In the formula (24), c is preferably 0, 1 or 2, particularly preferably 1, d is preferably 1, e is preferably 0, 1 or 2, and particularly preferably 1.
カルバゾール系化合物(1)の具体例としては、
1−〔9−エチル−6−ベンゾイル−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1,2−ノナン−2−オキシム−O−ベンゾエート、1−〔9−エチル−6−ベンゾイル−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1,2−ノナン−2−オキシム−O−アセテート、1−〔9−エチル−6−ベンゾイル−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1,2−ペンタン−2−オキシム−O−アセテート、1−〔9−エチル−6−ベンゾイル−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−オクタン−1−オンオキシム−O−アセテート、
1−〔9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−エタン−1−オンオキシム−O−ベンゾエート、1−〔9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−エタン−1−オンオキシム−O−アセテート、1−〔9−n−ブチル−6−(2−エチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−エタン−1−オンオキシム−O−ベンゾエート、
Specific examples of the carbazole compound (1) include
1- [9-Ethyl-6-benzoyl-9. H. -Carbazol-3-yl] -1,2-nonane-2-oxime-O-benzoate, 1- [9-ethyl-6-benzoyl-9. H. -Carbazol-3-yl] -1,2-nonane-2-oxime-O-acetate, 1- [9-ethyl-6-benzoyl-9. H. -Carbazol-3-yl] -1,2-pentane-2-oxime-O-acetate, 1- [9-ethyl-6-benzoyl-9. H. -Carbazol-3-yl] -octane-1-one oxime-O-acetate,
1- [9-Ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-benzoate, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-acetate, 1- [9-n-butyl-6- (2-ethylbenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-benzoate,
エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチル−4−テトラヒドロフラニルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチル−4−テトラヒドロピラニルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチル−5−テトラヒドロフラニルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチル−5−テトラヒドロピラニルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−{2−メチル−4−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラニル)ベンゾイル}−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)
等を挙げることができる。
Ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydrofuranylbenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydropyranylbenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydrofuranylbenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydropyranylbenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone-1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl) benzoyl} -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime)
Etc.
また、カルバゾール系化合物(2)の具体例としては、
エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチル−4−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチル−4−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチル−5−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチル−5−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−{2−メチル−4−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラニル)メトキシベンゾイル}−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)等を挙げることができる。
Specific examples of the carbazole compound (2) include
Ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydrofuranylmethoxybenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydropyranylmethoxybenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydrofuranylmethoxybenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydropyranylmethoxybenzoyl) -9. H. -Carbazole-3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone-1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl) methoxybenzoyl } -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) and the like.
これらのカルバゾール系化合物(1)およびカルバゾール系化合物(2)のうち、1−〔9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−エタン−1−オンオキシム−O−アセテート、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチル−4−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−{2−メチル−4−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラニル)メトキシベンゾイル}−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)等が好ましく、特に、エタノン−1−〔9−エチル−6−{2−メチル−4−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラニル)メトキシベンゾイル}−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)が好ましい。
前記カルバゾール系化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
Of these carbazole compounds (1) and carbazole compounds (2), 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-acetate, ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydrofuranylmethoxybenzoyl) -9. H. -Carbazole-3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone-1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl) methoxybenzoyl } -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) and the like are preferable, and in particular, ethanone-1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3). -Dioxolanyl) methoxybenzoyl} -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) is preferred.
The carbazole compounds can be used alone or in admixture of two or more.
感放射線性樹脂組成物(I)において、カルバゾール系化合物の使用量は、(C)多官能性単量体と単官能性単量体との合計100重量部に対して、通常、0.01〜80重量部、好ましくは1〜60重量部、さらに好ましくは1〜30重量部である。この場合、カルバゾール系化合物の使用量が0.01重量部未満では、露光による硬化が不十分となり、画素パターンが所定の配列に従って配置されたカラーフィルタを得ることが困難となるおそれがあり、一方80重量部を超えると、形成された画素が現像時に基板から脱落しやすくなる傾向がある。 In the radiation sensitive resin composition (I), the amount of the carbazole compound used is usually 0.01 with respect to the total of 100 parts by weight of the (C) polyfunctional monomer and the monofunctional monomer. -80 parts by weight, preferably 1-60 parts by weight, more preferably 1-30 parts by weight. In this case, if the amount of the carbazole compound used is less than 0.01 parts by weight, curing due to exposure may be insufficient, and it may be difficult to obtain a color filter in which a pixel pattern is arranged according to a predetermined arrangement, If it exceeds 80 parts by weight, the formed pixels tend to fall off the substrate during development.
また、前記アセトフェノン系化合物の具体例としては、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパノン−1、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン−1、1−ヒドロキシシクロヘキシル・フェニルケトン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、1,2−オクタンジオン、1−〔4−(フェニルチオ)フェニル〕−2−(O−ベンゾイルオキシム)等を挙げることができる。
これらのアセトフェノン系化合物のうち、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパノン−1、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン−1、1,2−オクタンジオン、1−〔4−(フェニルチオ)フェニル〕−2−(O−ベンゾイルオキシム)等が好ましい。
前記アセトフェノン系化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
Specific examples of the acetophenone compound include 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone- 1,2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 1, , 2-octanedione, 1- [4- (phenylthio) phenyl] -2- (O-benzoyloxime), and the like.
Among these acetophenone compounds, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone -1,1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio) phenyl] -2- (O-benzoyloxime) and the like are preferable.
The acetophenone compounds can be used alone or in admixture of two or more.
また、前記ビイミダゾール系化合物の具体例としては、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール等を挙げることができる。 Specific examples of the biimidazole compound include 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2′-bi Imidazole, 2,2′-bis (2-bromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2 -Chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra Phenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2, 2'-bis (2-bromophenyl)- , 4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4-dibromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1, 2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-tribromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole and the like can be mentioned. .
これらのビイミダゾール系化合物のうち、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール等が好ましく、特に、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾールが好ましい。 Among these biimidazole compounds, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2 , 4-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ′, 5 , 5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole and the like are preferable, and in particular, 2,2′-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2 '-Biimidazole is preferred.
これらのビイミダゾール系化合物は、溶剤に対する溶解性に優れ、未溶解物、析出物等の異物を生じることがなく、しかも感度が高く、少ないエネルギー量の露光により硬化反応を十分進行させるとともに、未露光部で硬化反応が生じることがないものである。
前記ビイミダゾール系化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
These biimidazole compounds are excellent in solubility in solvents, do not generate foreign matters such as undissolved substances and precipitates, have high sensitivity, and sufficiently advance the curing reaction by exposure with a small amount of energy. those never cured at an exposure portion occurs.
The biimidazole compounds can be used alone or in admixture of two or more.
本発明においては、光重合開始剤としてビイミダゾール系化合物を用いる場合、下記する水素供与体を併用することが、感度をさらに改良することができる点で好ましい。
ここでいう「水素供与体」とは、露光によりビイミダゾール系化合物から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物を意味する。
本発明における水素供与体としては、下記で定義するメルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。
In the present invention, when a biimidazole compound is used as a photopolymerization initiator, it is preferable to use a hydrogen donor described below in combination because the sensitivity can be further improved.
The “hydrogen donor” as used herein means a compound that can donate a hydrogen atom to a radical generated from a biimidazole compound by exposure.
As the hydrogen donor in the present invention, mercaptan compounds, amine compounds and the like defined below are preferable.
前記メルカプタン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したメルカプト基を1個以上、好ましくは1〜3個、さらに好ましくは1〜2個有する化合物(以下、「メルカプタン系水素供与体」という。)からなる。
前記アミン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したアミノ基を1個以上、好ましくは1〜3個、さらに好ましくは1〜2個有する化合物(以下、「アミン系水素供与体」という。)からなる。
なお、これらの水素供与体は、メルカプト基とアミノ基とを同時に有することもできる。
The mercaptan-based compound is a compound having a benzene ring or a heterocyclic ring as a mother nucleus and having one or more, preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2, mercapto groups directly bonded to the mother nucleus (hereinafter referred to as “ Mercaptan-based hydrogen donor ").
The amine compound is a compound having a benzene ring or a heterocyclic ring as a mother nucleus and having 1 or more, preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2 amino groups directly bonded to the mother nucleus (hereinafter referred to as “ Amine-based hydrogen donor ").
These hydrogen donors can also have a mercapto group and an amino group at the same time.
以下、水素供与体について、より具体的に説明する。
メルカプタン系水素供与体は、ベンゼン環あるいは複素環をそれぞれ1個以上有することができ、またベンゼン環と複素環との両者を有することができ、これらの環を2個以上有する場合、縮合環を形成しても形成しなくてもよい。
また、メルカプタン系水素供与体は、メルカプト基を2個以上有する場合、少なくとも1個の遊離メルカプト基が残存する限りでは、残りのメルカプト基の1個以上がアルキル、アラルキルまたはアリール基で置換されていてもよく、さらには少なくとも1個の遊離メルカプト基が残存する限りでは、2個の硫黄原子がアルキレン基等の2価の有機基を介在して結合した構造単位、あるいは2個の硫黄原子がジスルフィドの形で結合した構造単位を有することができる。
さらに、メルカプタン系水素供与体は、メルカプト基以外の箇所で、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、置換フェノキシカルボニル基、ニトリル基等によって置換されていてもよい。
Hereinafter, the hydrogen donor will be described more specifically.
The mercaptan-based hydrogen donor can have one or more benzene rings or heterocyclic rings, and can have both a benzene ring and a heterocyclic ring. When two or more of these rings are present, It may or may not be formed.
In addition, when the mercaptan hydrogen donor has two or more mercapto groups, at least one of the remaining mercapto groups is substituted with an alkyl, aralkyl or aryl group as long as at least one free mercapto group remains. Furthermore, as long as at least one free mercapto group remains, a structural unit in which two sulfur atoms are bonded via a divalent organic group such as an alkylene group, or two sulfur atoms are It can have structural units linked in the form of disulfides.
Furthermore, the mercaptan-based hydrogen donor may be substituted with a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a substituted alkoxycarbonyl group, a phenoxycarbonyl group, a substituted phenoxycarbonyl group, a nitrile group, or the like at a place other than the mercapto group.
このようなメルカプタン系水素供与体の具体例としては、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2,5−ジメルカプト−1,3,4−チアジアゾール、2−メルカプト−2,5−ジメチルアミノピリジン等を挙げることができる。
これらのメルカプタン系水素供与体のうち、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール等が好ましく、特に、2−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。
Specific examples of such mercaptan hydrogen donors include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoimidazole, 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole, 2-mercapto- 2,5-dimethylaminopyridine and the like can be mentioned.
Of these mercaptan-based hydrogen donors, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole and the like are preferable, and 2-mercaptobenzothiazole is particularly preferable.
また、アミン系水素供与体は、ベンゼン環あるいは複素環をそれぞれ1個以上有することができ、またベンゼン環と複素環との両者を有することができ、これらの環を2個以上有する場合、縮合環を形成しても形成しなくてもよい。
また、アミン系水素供与体は、アミノ基の1個以上がアルキル基または置換アルキル基で置換されてもよく、またアミノ基以外の箇所で、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、置換アルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、置換フェノキシカルボニル基、ニトリル基等によって置換されていてもよい。
In addition, the amine hydrogen donor can have one or more benzene rings or heterocyclic rings, and can have both a benzene ring and a heterocyclic ring. A ring may or may not be formed.
In addition, in the amine-based hydrogen donor, one or more of the amino groups may be substituted with an alkyl group or a substituted alkyl group. It may be substituted with a carbonyl group, a substituted phenoxycarbonyl group, a nitrile group or the like.
このようなアミン系水素供与体の具体例としては、4、4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4、4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4−ジエチルアミノアセトフェノン、4−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノベンゾニトリル等を挙げることができる。
これらのアミン系水素供与体のうち、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等が好ましく、特に、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンが好ましい。
なお、アミン系水素供与体は、ビイミダゾール系化合物以外のラジカル発生剤の場合においても、増感剤としての作用を有するものである。
Specific examples of such amine-based hydrogen donors include 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, Examples thereof include ethyl-4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-dimethylaminobenzonitrile and the like.
Of these amine-based hydrogen donors, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone and the like are preferable, and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone is particularly preferable. .
The amine-based hydrogen donor has a function as a sensitizer even in the case of radical generators other than biimidazole compounds.
本発明において、水素供与体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができるが、1種以上のメルカプタン系水素供与体と1種以上のアミン系水素供与体とを組み合わせて使用することが、形成された画素が現像時に基板から脱落し難く、また画素強度および感度も高い点で好ましい。
メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組み合わせの具体例としては、2−メルカプトベンゾチアゾール/4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、2−メルカプトベンゾチアゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2−メルカプトベンゾオキサゾール/4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、2−メルカプトベンゾオキサゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等を挙げることができ、さらに好ましい組み合わせは、2−メルカプトベンゾチアゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2−メルカプトベンゾオキサゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンであり、特に好ましい組み合わせは、2−メルカプトベンゾチアゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンである。
メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組み合わせにおけるメルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との重量比は、通常、1:1〜1:4、好ましくは1:1〜1:3である。
In the present invention, the hydrogen donor can be used alone or in admixture of two or more. However, one or more mercaptan hydrogen donors and one or more amine hydrogen donors are used in combination. It is preferable that the formed pixels are difficult to drop off from the substrate during development, and that the pixel intensity and sensitivity are high.
Specific examples of the combination of a mercaptan hydrogen donor and an amine hydrogen donor include 2-mercaptobenzothiazole / 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzothiazole / 4,4′-bis. (Diethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzoxazole / 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzoxazole / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, and the like, and more preferred combinations 2-mercaptobenzothiazole / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzoxazole / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, and a particularly preferred combination is 2-mercaptobenzothiazole / , 4'-bis (diethylamino) benzophenone.
The weight ratio of mercaptan hydrogen donor to amine hydrogen donor in the combination of mercaptan hydrogen donor and amine hydrogen donor is usually 1: 1 to 1: 4, preferably 1: 1 to 1: 3.
また、前記トリアジン系化合物の具体例としては、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔2−(5−メチルフラン−2−イル)エテニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔2−(フラン−2−イル)エテニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔2−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)エテニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−n−ブトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン等のハロメチル基を有するトリアジン系化合物を挙げることができる。 Specific examples of the triazine compound include 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2 -(5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloro Methyl) -s-triazine, 2- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (3,4-dimethoxy) Phenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4- Triazine-based compounds having a halomethyl group such as xystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-n-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine Can be mentioned.
これらのトリアジン系化合物のうち、特に、2−〔2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジンが好ましい。
前記トリアジン系化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
Of these triazine compounds, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine is particularly preferable.
The triazine compounds can be used alone or in admixture of two or more.
−他の添加剤−
感放射線性樹脂組成物(I)は、前記(A)〜(D)成分を必須成分とするものであるが、必要に応じて、他の添加剤をさらに含有することもできる。
前記他の添加剤としては、例えば、ガラス、アルミナ等の充填剤;ポリビニルアルコール、ポリ(フロオロアルキルアクリレート)類等の高分子化合物;ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤等の界面活性剤;ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロイロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤;2,2−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,6−ジ−t−ブチルフェノール等の酸化防止剤;2−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン類等の紫外線吸収剤;ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤等を挙げることができる。
-Other additives-
Although the radiation sensitive resin composition (I) has the components (A) to (D) as essential components, it may further contain other additives as necessary.
Examples of the other additives include fillers such as glass and alumina; polymer compounds such as polyvinyl alcohol and poly (fluoroalkyl acrylates); nonionic surfactants, cationic surfactants, anionic interfaces Surfactants such as activators; vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-amino Ethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl Trimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldi Adhesion promoters such as toxisilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane; 2,2-thiobis (4-methyl-6-tert-butylphenol), Antioxidants such as 2,6-di-t-butylphenol; UV absorbers such as 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenones; poly Examples thereof include an aggregation inhibitor such as sodium acrylate.
液状組成物の調製
感放射線性樹脂組成物(I)は、通常、溶媒を配合して液状組成物として調製される。 前記溶媒としては、感放射線性樹脂組成物(I)を構成する(A)〜(D)成分や他の添加剤成分を分散または溶解し、かつこれらの成分と反応せず、適度の揮発性を有するものである限り、適宜に選択して使用することができる。
Preparation of liquid composition The radiation-sensitive resin composition (I) is usually prepared as a liquid composition by blending a solvent. As said solvent, (A)-(D) component which comprises radiation sensitive resin composition (I), and another additive component are disperse | distributed or melt | dissolved, and it does not react with these components, but moderate volatility As long as it has, it can be appropriately selected and used.
このような溶媒としては、例えば、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;
エチレングリコールメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールエチルエーテルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類;
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールジアルキルエーテル類;
テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等のケトン類;
ジアセトンアルコール(即ち、4−ヒドロキシ−4−メチルペンタン−2−オン)、4−ヒドロキシ−4−メチルヘキサン−2−オン等のケトアルコール類;
As such a solvent, for example,
Propylene glycol monoalkyl ethers such as propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monoethyl ether;
Ethylene glycol methyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol methyl ether acetate, diethylene glycol ethyl ether acetate, propylene glycol methyl ether acetate, propylene glycol ethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, dipropylene glycol ethyl ether acetate, etc. Poly) alkylene glycol alkyl ether acetates;
(Poly) alkylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol methyl ethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether;
Other ethers such as tetrahydrofuran;
Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone;
Ketoalcohols such as diacetone alcohol (ie 4-hydroxy-4-methylpentan-2-one), 4-hydroxy-4-methylhexan-2-one;
乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸アルキルエステル類;
2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸i−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、ぎ酸n−ペンチル、酢酸i−ペンチル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸n−プロピル、酪酸i−プロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸n−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類;
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;
N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類
等を挙げることができる。
Lactic acid alkyl esters such as methyl lactate and ethyl lactate;
Ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, ethyl hydroxyacetate, methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, 3-ethoxypropion Ethyl acetate, ethyl ethoxy acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl propionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, i-propyl acetate, n-butyl acetate, i-acetate Butyl, n-pentyl formate, i-pentyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-propyl pyruvate , Methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, 2-oxobutanoic acid Other esters such as Le;
Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene;
Examples thereof include amides such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, and N, N-dimethylacetamide.
これらの溶媒のうち、溶解性、顔料分散性、塗布性等の観点から、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、ぎ酸n−ペンチル、酢酸i−ペンチル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸i−プロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸エチル等が好ましい。
前記溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
Among these solvents, from the viewpoint of solubility, pigment dispersibility, coatability, etc., propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate , Diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, 3-methyl-3 -Methoxybutylpropionate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, n-pentyl formate, i-acetate Pentyl, n- butyl propionate, ethyl butyrate, i- propyl butyrate n- butyl, ethyl pyruvate and the like are preferable.
The said solvent can be used individually or in mixture of 2 or more types.
さらに、前記溶媒と共に、ベンジルエチルエーテル、ジ−n−ヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1−オクタノール、1−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート等の高沸点溶媒を併用することもできる。
前記高沸点溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
Further, together with the solvent, benzyl ethyl ether, di-n-hexyl ether, acetonyl acetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, ethyl benzoate, diethyl oxalate In addition, a high boiling point solvent such as diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, ethylene glycol monophenyl ether acetate can be used in combination.
The high boiling point solvents can be used alone or in admixture of two or more.
溶媒の使用量は、特に限定されるものではないが、得られる液状組成物の塗布性、安定性等の観点から、液状組成物の溶媒を除いた各成分の合計濃度が、好ましくは、5〜50重量%、特に好ましくは10〜40重量%となる量が望ましい。 The amount of the solvent used is not particularly limited, but the total concentration of each component excluding the solvent of the liquid composition is preferably 5 from the viewpoint of applicability and stability of the obtained liquid composition. An amount of -50% by weight, particularly preferably 10-40% by weight is desirable.
カラーフィルタの形成方法
次に、感放射線性樹脂組成物(I)を用いて、本発明のカラーフィルタを形成する方法について説明する。
カラーフィルタを形成する方法は、通常、少なくとも下記(1)〜(4)の工程を含んでいる。
(1)基板上に感放射線性樹脂組成物(I)の塗膜を形成する工程。
(2)該塗膜の少なくとも一部に露光する工程。
(3)露光後の該塗膜を現像する工程。
(4)現像後の該塗膜を熱処理(以下、「ポストベーク」という。)する工程。
以下、これらの工程について順次説明する。
Method of forming a color filter Next, using the radiation-sensitive resin composition (I), a method for forming a color filter of the present invention.
The method for forming a color filter usually includes at least the following steps (1) to (4).
(1) The process of forming the coating film of radiation sensitive resin composition (I) on a board | substrate.
(2) A step of exposing at least a part of the coating film.
(3) A step of developing the coated film after exposure.
(4) A step of heat-treating (hereinafter referred to as “post-bake”) the coated film after development.
Hereinafter, these steps will be sequentially described.
−(1)工程−
先ず、基板の表面上に、必要に応じて、画素を形成する部分を区画するように遮光層を形成して、この基板上に、例えば赤色の顔料を含有する感放射線性樹脂組成物(I)の液状組成物を塗布したのち、プレベークを行って溶媒を蒸発させ、塗膜を形成する。
この工程で使用される基板としては、例えば、ガラス、シリコン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリエーテルスルホンのほか、環状オレフィンの開環重合体やその水素添加物等を挙げることができる。
また、これらの基板には、所望により、シランカップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の適宜の前処理を施しておくこともできる。
液状組成物を基板に塗布する際には、回転塗布(スピンコーターによる塗布)、流延塗布、ロール塗布、スリットノズルによる塗布等の適宜の塗布法を採用することができるが、本発明の感放射線性樹脂組成物(I)は、乾燥後でも洗浄溶剤に対する溶解性が高く、スリットノズルによる塗布にも好適である。
プレベークの条件は、通常、70〜110℃で2〜4分程度である。
塗布厚さは、溶媒除去後の膜厚として、通常、0.1〜10μm、好ましくは0.2〜8.0μm、さらに好ましくは0.2〜6.0μmである。
-(1) Process-
First, a light-shielding layer is formed on the surface of the substrate, if necessary, so as to divide the pixel forming portion, and the radiation-sensitive resin composition (I) containing, for example, a red pigment is formed on the substrate. After the liquid composition is applied, pre-baking is performed to evaporate the solvent to form a coating film.
Examples of the substrate used in this step include glass, silicon, polycarbonate, polyester, aromatic polyamide, polyamideimide, polyimide, polyethersulfone, cyclic olefin ring-opening polymer, and hydrogenated products thereof. be able to.
In addition, these substrates may be subjected to appropriate pretreatment such as chemical treatment with a silane coupling agent or the like, plasma treatment, ion plating, sputtering, gas phase reaction method, vacuum deposition, etc., if desired.
When applying the liquid composition to the substrate, an appropriate coating method such as spin coating (coating with a spin coater), casting coating, roll coating, or coating with a slit nozzle can be employed. The radiation resin composition (I) has high solubility in a cleaning solvent even after drying, and is suitable for application by a slit nozzle.
The prebaking condition is usually about 2 to 4 minutes at 70 to 110 ° C.
The coating thickness is usually 0.1 to 10 μm, preferably 0.2 to 8.0 μm, and more preferably 0.2 to 6.0 μm as the film thickness after removal of the solvent.
−(2)工程−
その後、形成された塗膜の少なくとも一部に、例えば適当なパターンを有するフォトマスクを介して露光する。 この工程に使用される放射線としては、例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等を使用することができるが、波長が190〜450nmの範囲にある放射線が好ましい。
放射線の露光量は、通常、10〜10,000J/m2 程度である。
-(2) Process-
Thereafter, at least a part of the formed coating film is exposed, for example, through a photomask having an appropriate pattern. As the radiation used in this step, for example, visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, X-ray or the like can be used, but radiation having a wavelength in the range of 190 to 450 nm is preferable.
Exposure of radiation is usually, 10~10,000J / m 2 approximately.
−(3)工程−
その後、露光された塗膜を、好ましくはアルカリ現像液を用いて現像して、塗膜の未露光部を溶解除去して、パターンを形成する。
前記アルカリ現像液としては、例えば、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、コリン、1,8−ジアザビシクロ−[5.4.0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ−[4.3.0]−5−ノネン等の水溶液が好ましい。
前記アルカリ現像液には、例えばメタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等を適量添加することもできる。なお、アルカリ現像後は、通常、水洗する。
現像処理法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ(浸漬)現像法、パドル(液盛り)現像法等を適用することができる。
現像条件は、常温で5〜300秒程度が好ましい。
-(3) Process-
Thereafter, the exposed coating film is preferably developed using an alkali developer, and an unexposed portion of the coating film is dissolved and removed to form a pattern.
Examples of the alkali developer include sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, choline, 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene, 1,5- An aqueous solution of diazabicyclo- [4.3.0] -5-nonene is preferred.
An appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol, a surfactant, or the like can be added to the alkaline developer. In addition, it is usually washed with water after alkali development.
As a development processing method, a shower development method, a spray development method, a dip (immersion) development method, a paddle (liquid accumulation) development method, or the like can be applied.
The development conditions are preferably about 5 to 300 seconds at room temperature.
−(4)工程−
その後、現像後の塗膜をポストベークすることにより、感放射線性樹脂組成物(I)の硬化物からなる赤色の画素パターンが所定の配列で配置された基板を得ることができる。 ポストベークの条件は、180〜230℃で20〜40分程度が好ましい。
このようにして形成された画素の膜厚は、通常、0.5〜5.0μm、好ましくは1.5〜3.0μmである。
-(4) Process-
Thereafter, by post-baking the developed coating film, a substrate on which red pixel patterns made of a cured product of the radiation-sensitive resin composition (I) are arranged in a predetermined arrangement can be obtained. The post-baking conditions are preferably 180 to 230 ° C. and about 20 to 40 minutes.
The film thickness of the pixel thus formed is usually 0.5 to 5.0 μm, preferably 1.5 to 3.0 μm.
さらに、前記(1)〜(4)の工程を、緑色または青色の顔料を含有する感放射線性樹脂組成物(I)の各液状組成物を用いて繰り返すことにより、緑色の画素パターンおよび青色の画素パターンを同一基板上に形成することによって、赤色、緑色および青色の三原色の画素パターンが所定の配列で配置された着色層を基板上に形成することができる。但し、本発明における各色の画素パターンの形成順は、前記した順序に限られるものではない。
また、ブラックマトリックスは、黒色の顔料を含有する感放射線性樹脂組成物(I)を用い、前記画素の場合と同様にして形成することができる。
Further, by repeating the steps (1) to (4) using each liquid composition of the radiation sensitive resin composition (I) containing a green or blue pigment, a green pixel pattern and a blue By forming the pixel pattern on the same substrate, a colored layer in which pixel patterns of the three primary colors of red, green, and blue are arranged in a predetermined arrangement can be formed on the substrate. However, the order of forming the pixel patterns of the respective colors in the present invention is not limited to the order described above.
The black matrix can be formed in the same manner as in the case of the pixel using the radiation-sensitive resin composition (I) containing a black pigment.
カラーフィルタ
本発明のカラーフィルタは、本発明の感放射線性樹脂組成物(I)を用いて形成されてなるものである。
本発明のカラーフィルタは、例えば、透過型あるいは反射型のカラー液晶表示装置、カラー撮像管素子、カラーセンサー等に極めて有用である。
Color filter The color filter of the present invention is formed using the radiation-sensitive resin composition (I) of the present invention.
The color filter of the present invention is extremely useful for, for example, a transmissive or reflective color liquid crystal display device, a color imaging tube element, a color sensor and the like.
カラー液晶表示装置
本発明のカラー液晶表示装置は、本発明のカラーフィルタを具備するものである。
本発明のカラー液晶表示装置は、適宜の構造をとることができる。例えば、カラーフィルタを、薄膜トランジスター(TFT)が配置された駆動用基板とは別の基板上に形成し、駆動用基板とカラーフィルタを形成した基板とが、液晶層を介して対向した構造をとることができ、さらに薄膜トランジスター(TFT)が配置された駆動用基板上にカラーフィルタを形成した基板と、ITO(錫をドープした酸化インジュウム)電極を形成した基板とが、液晶層を介して対向した構造をとることもできる。後者の構造は、開口率を格段に向上させることができ、明るく高精細な液晶表示素子が得られるという利点を有する。
Color liquid crystal display device The color liquid crystal display device of the present invention comprises the color filter of the present invention.
The color liquid crystal display device of the present invention can have an appropriate structure. For example, the color filter is formed on a substrate different from the driving substrate on which the thin film transistor (TFT) is arranged, and the driving substrate and the substrate on which the color filter is formed are opposed to each other through the liquid crystal layer. Furthermore, a substrate in which a color filter is formed on a driving substrate on which a thin film transistor (TFT) is arranged, and a substrate in which an ITO (indium oxide doped with tin) electrode is formed through a liquid crystal layer An opposing structure can also be taken. The latter structure has the advantage that the aperture ratio can be remarkably improved, and a bright and high-definition liquid crystal display element can be obtained.
本発明の感放射線性樹脂組成物(I)は、乾燥塗膜の溶剤再溶解性が優れ、露光・現像後の被膜に色ムラを生じることがなく、電圧保持率等に代表される電気特性の面での信頼性に優れたカラーフィルタを高い製品歩留まりで形成することができる。
したがって、本発明の感放射線性樹脂組成物(I)は、電子工業分野におけるカラー液晶表示装置用カラーフィルタを始めとする各種のカラーフィルタの製造に極めて好適に使用することができる。
The radiation-sensitive resin composition (I) of the present invention has excellent solvent re-solubility of the dried coating film, does not cause color unevenness in the film after exposure and development, and has electrical characteristics represented by voltage holding ratio and the like. Therefore, it is possible to form a color filter having excellent reliability in terms of high product yield.
Therefore, the radiation-sensitive resin composition (I) of the present invention can be used very suitably for the production of various color filters including color filters for color liquid crystal display devices in the electronic industry.
以下、実施例を挙げて、本発明の実施の形態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、下記実施例に限定されるものではない。
下記各合成例で得た樹脂のMwおよびMnは、下記仕様によるゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)により測定した。
装置 :GPC−101(商品名、昭和電工(株)製)。
カラム:GPC−KF−801、GPC−KF−802、GPC−KF−803および GPC−KF−804を結合して用いた。
移動相:リン酸0.5重量%を含むテトラヒドロフラン。
Hereinafter, the embodiment of the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples.
Mw and Mn of the resin obtained in each of the following synthesis examples were measured by gel permeation chromatography (GPC) according to the following specifications.
Apparatus: GPC-101 (trade name, manufactured by Showa Denko KK).
Column: GPC-KF-801, GPC-KF-802, GPC-KF-803 and GPC-KF-804 were used in combination.
Mobile phase: Tetrahydrofuran containing 0.5% by weight of phosphoric acid.
合成例1
冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル2重量部、ピラゾール−1−ジチオカルボン酸シアノ(ジメチル)メチルエステル4重量部、ジプロピレングリコールジメチルエーテル200重量部を仕込み、引き続きメタクリル酸20重量部、N−フェニルマレイミド31.2重量部、アリルメタクリレート20重量部、スチレン18.8重量部、こはく酸2−メタクリロイルオキシエチル10重量部を仕込んで、窒素置換したのち、ゆるやかに攪拌しつつ、反応溶液を80℃に昇温し、この温度を保持して3時間重合を行った。その後、反応溶液を100℃に昇温し、2,2’−アゾビスイソバレロニトリル1重量部を追加し、さらに2時間重合を継続することにより、共重合体(B1)の溶液(S-1)(固形分濃度=33.0重量%)を得た。この共重合体(B1)は、Mw=6,000、Mw/Mn=1.4であった。この共重合体(B1)を「共重合体(S-1)」とする。
Synthesis example 1
In a flask equipped with a condenser and a stirrer, 2 parts by weight of 2,2′-azobisisobutyronitrile, 4 parts by weight of pyrazole-1-dithiocarboxylic acid cyano (dimethyl) methyl ester, 200 parts by weight of dipropylene glycol dimethyl ether Subsequently, 20 parts by weight of methacrylic acid, 31.2 parts by weight of N-phenylmaleimide, 20 parts by weight of allyl methacrylate, 18.8 parts by weight of styrene, and 10 parts by weight of 2-methacryloyloxyethyl succinate were charged with nitrogen. Thereafter, the reaction solution was heated to 80 ° C. while gently stirring, and polymerization was carried out for 3 hours while maintaining this temperature. Thereafter, the temperature of the reaction solution was raised to 100 ° C., 1 part by weight of 2,2′-azobisisovaleronitrile was added, and polymerization was continued for another 2 hours, whereby a solution of the copolymer (B1) (S— 1) (solid content concentration = 33.0 wt%) was obtained. This copolymer (B1) had Mw = 6,000 and Mw / Mn = 1.4. This copolymer (B1) is referred to as “copolymer (S-1)”.
合成例2
冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル2重量部、ピラゾール−1−ジチオカルボン酸シアノ(ジメチル)メチルエステル4重量部、ジプロピレングリコールジメチルエーテル200重量部を仕込み、引き続きメタクリル酸20重量部、N−フェニルマレイミド18.8重量部、アリルメタクリレート20重量部、スチレン11.2重量部、こはく酸2−メタクリロイルオキシエチル10重量部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート10重量部を仕込んで、窒素置換したのち、ゆるやかに攪拌しつつ、反応溶液を80℃に昇温し、この温度を保持して3時間重合を行った。その後、反応溶液を100℃に昇温し、2,2’−アゾビスイソバレロニトリル1重量部を追加し、さらに2時間重合を継続することにより、共重合体(B1)の溶液(S-2)(固形分濃度=33.0重量%)を得た。この共重合体(B1)は、Mw=6,500、Mw/Mn=1.5であった。この共重合体(B1)を「共重合体(S-2)」とする。
Synthesis example 2
In a flask equipped with a condenser and a stirrer, 2 parts by weight of 2,2′-azobisisobutyronitrile, 4 parts by weight of pyrazole-1-dithiocarboxylic acid cyano (dimethyl) methyl ester, 200 parts by weight of dipropylene glycol dimethyl ether Methacrylic acid 20 parts by weight, N-phenylmaleimide 18.8 parts by weight, allyl methacrylate 20 parts by weight, styrene 11.2 parts by weight, succinic acid 2-methacryloyloxyethyl 10 parts by weight, 2-hydroxyethyl methacrylate 10 After charging a part by weight and substituting with nitrogen, the reaction solution was heated to 80 ° C. while gently stirring, and polymerization was carried out for 3 hours while maintaining this temperature. Thereafter, the temperature of the reaction solution was raised to 100 ° C., 1 part by weight of 2,2′-azobisisovaleronitrile was added, and polymerization was continued for another 2 hours, whereby a solution of the copolymer (B1) (S— 2) (solid content concentration = 33.0 wt%) was obtained. This copolymer (B1) had Mw = 6,500 and Mw / Mn = 1.5. This copolymer (B1) is referred to as “copolymer (S-2)”.
合成例3
冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル2重量部、ピラゾール−1−ジチオカルボン酸シアノ(ジメチル)メチルエステル4重量部、ジプロピレングリコールジメチルエーテル200重量部を仕込み、引き続きメタクリル酸20重量部、N−フェニルマレイミド18.8重量部、アリルメタクリレート30重量部、スチレン11.2重量部、こはく酸2−メタクリロイルオキシエチル10重量部を仕込んで、窒素置換したのち、ゆるやかに攪拌しつつ、反応溶液を80℃に昇温し、この温度を保持して3時間重合を行った。その後、反応溶液を100℃に昇温し、2,2’−アゾビスイソバレロニトリル1重量部を追加し、さらに2時間重合を継続することにより、共重合体(B1)の溶液(S-3)(固形分濃度=33.0重量%)を得た。この共重合体(B1)は、Mw=6,000、Mw/Mn=1.4であった。この共重合体(B1)を「共重合体(S-3)」とする。
Synthesis example 3
In a flask equipped with a condenser and a stirrer, 2 parts by weight of 2,2′-azobisisobutyronitrile, 4 parts by weight of pyrazole-1-dithiocarboxylic acid cyano (dimethyl) methyl ester, 200 parts by weight of dipropylene glycol dimethyl ether Subsequently, 20 parts by weight of methacrylic acid, 18.8 parts by weight of N-phenylmaleimide, 30 parts by weight of allyl methacrylate, 11.2 parts by weight of styrene, and 10 parts by weight of 2-methacryloyloxyethyl succinate were charged with nitrogen. Thereafter, the reaction solution was heated to 80 ° C. while gently stirring, and polymerization was carried out for 3 hours while maintaining this temperature. Thereafter, the temperature of the reaction solution was raised to 100 ° C., 1 part by weight of 2,2′-azobisisovaleronitrile was added, and polymerization was continued for another 2 hours, whereby a solution of the copolymer (B1) (S— 3) (solid content concentration = 33.0 wt%) was obtained. This copolymer (B1) had Mw = 6,000 and Mw / Mn = 1.4. This copolymer (B1) is referred to as “copolymer (S-3)”.
合成例4
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル2重量部、ジプロピレングリコールジメチルエーテル200重量部を仕込み、引き続きメタクリル酸20重量部、N−フェニルマレイミド31.2重量部、アリルメタクリレート20重量部、スチレン18.8重量部、こはく酸2−メタクリロイルオキシエチル10重量部、α−メチルスチレンダイマー(分子量制御剤)4重量部を仕込んで、窒素置換したのち、ゆるやかに攪拌しつつ、反応溶液を80℃に昇温し、この温度を保持して3時間重合した。その後、反応溶液を100℃に昇温して、2,2’−アゾビスイソバレロニトリル1重量部を追加し、さらに1時間重合を継続することにより、共重合体の溶液(S-4)(固形分濃度=33.0重量%)を得た。この共重合体は、Mw=46,000、Mw/Mn=4.7であった。この共重合体を「共重合体(S-4)」とする。
Synthesis example 4
A flask equipped with a condenser and a stirrer was charged with 2 parts by weight of 2,2′-azobisisobutyronitrile and 200 parts by weight of dipropylene glycol dimethyl ether, followed by 20 parts by weight of methacrylic acid and 31.2 parts by weight of N-phenylmaleimide. 1 part by weight, 20 parts by weight of allyl methacrylate, 18.8 parts by weight of styrene, 10 parts by weight of 2-methacryloyloxyethyl succinate, 4 parts by weight of α-methylstyrene dimer (molecular weight control agent) While stirring, the temperature of the reaction solution was raised to 80 ° C., and this temperature was maintained for polymerization for 3 hours. Thereafter, the temperature of the reaction solution was raised to 100 ° C., 1 part by weight of 2,2′-azobisisovaleronitrile was added, and the polymerization was continued for another 1 hour to obtain a copolymer solution (S-4). (Solid concentration = 33.0 wt%) was obtained. This copolymer had Mw = 46,000 and Mw / Mn = 4.7. This copolymer is referred to as “copolymer (S-4)”.
合成例5
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、2,2’−アゾビスイソバレロニトリル12重量部、ジプロピレングリコールジメチルエーテル200重量部を仕込み、引き続きメタクリル酸20重量部、N−フェニルマレイミド31.2重量部、アリルメタクリレート20重量部、スチレン18.8重量部、こはく酸2−メタクリロイルオキシエチル10重量部、α−メチルスチレンダイマー(分子量制御剤)10重量部を仕込んで、窒素置換したのち、ゆるやかに攪拌しつつ、反応溶液を70℃に昇温し、この温度を保持して2時間重合した。この後、反応溶液を70℃に保持しつつ、2,2’−アゾビスイソバレロニトリル3重量部を追加し、さらに2時間重合を継続することにより、共重合体の溶液(S-5)(固形分濃度=32.4重量%)を得た。この共重合体は、Mw=6,000、Mw/Mn=2.5であった。この共重合体を「共重合体(S-5)」とする。
Synthesis example 5
A flask equipped with a condenser and a stirrer was charged with 12 parts by weight of 2,2′-azobisisovaleronitrile and 200 parts by weight of dipropylene glycol dimethyl ether, followed by 20 parts by weight of methacrylic acid and 31.2 parts by weight of N-phenylmaleimide. , 20 parts by weight of allyl methacrylate, 18.8 parts by weight of styrene, 10 parts by weight of 2-methacryloyloxyethyl succinate, and 10 parts by weight of α-methylstyrene dimer (molecular weight control agent) were substituted with nitrogen, and then gently stirred. However, the temperature of the reaction solution was raised to 70 ° C., and polymerization was carried out for 2 hours while maintaining this temperature. Thereafter, while maintaining the reaction solution at 70 ° C., 3 parts by weight of 2,2′-azobisisovaleronitrile was added, and the polymerization was continued for 2 hours to obtain a copolymer solution (S-5). (Solid concentration = 32.4% by weight) was obtained. This copolymer had Mw = 6,000 and Mw / Mn = 2.5. This copolymer is referred to as “copolymer (S-5)”.
合成例6
冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル2重量部、ピラゾール−1−ジチオカルボン酸シアノ(ジメチル)メチルエステル4重量部、ジプロピレングリコールジメチルエーテル200重量部を仕込み、引き続きメタクリル酸20重量部、N−フェニルマレイミド31.2重量部、ベンジルメタクリレート30重量部、スチレン18.8重量部を仕込んで、窒素置換したのち、ゆるやかに攪拌しつつ、反応溶液を80℃に昇温し、この温度を保持して3時間重合を行った。その後、反応溶液を100℃に昇温して、2,2’−アゾビスイソバレロニトリル1重量部を追加し、さらに1時間重合を継続することにより、共重合体の溶液(S-6)(固形分濃度=33.0重量%)を得た。この共重合体は、Mw=6,000、Mw/Mn=1.4であった。この共重合体を「共重合体(S-6)」とする。
Synthesis Example 6
In a flask equipped with a condenser and a stirrer, 2 parts by weight of 2,2′-azobisisobutyronitrile, 4 parts by weight of pyrazole-1-dithiocarboxylic acid cyano (dimethyl) methyl ester, 200 parts by weight of dipropylene glycol dimethyl ether Then, 20 parts by weight of methacrylic acid, 31.2 parts by weight of N-phenylmaleimide, 30 parts by weight of benzyl methacrylate, and 18.8 parts by weight of styrene were added, and the reaction solution was stirred while gently stirring. The temperature was raised to 80 ° C., and the polymerization was carried out for 3 hours while maintaining this temperature. Thereafter, the temperature of the reaction solution was raised to 100 ° C., 1 part by weight of 2,2′-azobisisovaleronitrile was added, and the polymerization was continued for another hour to obtain a copolymer solution (S-6). (Solid concentration = 33.0 wt%) was obtained. This copolymer had Mw = 6,000 and Mw / Mn = 1.4. This copolymer is referred to as “copolymer (S-6)”.
溶剤再溶解性の評価
参考例1
(A)着色剤としてC.I.ピグメントレッド254とC.I.ピグメントイエロー139との50/50(重量比)混合物40重量部、分散剤としてDisperbyk2001を10重量部、溶媒として3−エトキシプロピオン酸エチル100重量部からなる混合液を、ダイヤモンドファインミル(商品名、三菱マテリアル(株)製ビーズミル(ビーズ直径1.0mm))により12時間混合・分散して、顔料分散液を調製した。
次いで、この顔料分散液100重量部、(B)アルカリ可溶性樹脂として溶液(S-1)を共重合体(S-1)が70重量部となる量、(C)多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート80重量部、(D)光重合開始剤として2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン50重量部、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート1,000重量部を混合して、液状組成物(r-1)を調製した。
次いで、液状組成物(r-1)を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止するSiO2 膜が形成された直径4インチのソーダガラス基板上に、スピンコートしたのち、23℃のクリーンルーム内で12時間放置して乾燥することにより、塗膜を形成した。
次いで、この基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100cc中に2分間浸漬したところ、塗膜は完全に溶解した。
Evaluation of solvent resolubility
Reference example 1
(A) C.I. I. Pigment red 254 and C.I. I. A mixture of 40 parts by weight of a 50/50 (weight ratio) mixture with Pigment Yellow 139, 10 parts by weight of Disperbyk 2001 as a dispersant, and 100 parts by weight of ethyl 3-ethoxypropionate as a solvent was added to Diamond Fine Mill (trade name, A pigment dispersion was prepared by mixing and dispersing for 12 hours using a bead mill (bead diameter: 1.0 mm) manufactured by Mitsubishi Materials Corporation.
Next, 100 parts by weight of this pigment dispersion, (B) the solution (S-1) as an alkali-soluble resin, the amount of 70 parts by weight of the copolymer (S-1), and (C) the polyfunctional monomer 80 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, (D) 50 parts by weight of 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one as a photopolymerization initiator, and propylene glycol monomethyl ether as a solvent A liquid composition (r-1) was prepared by mixing 1,000 parts by weight of acetate.
Next, the liquid composition (r-1) is spin-coated on a soda glass substrate having a diameter of 4 inches on which a SiO 2 film for preventing elution of sodium ions is formed on the surface. A coating film was formed by drying after standing for a period of time.
Next, when this substrate was immersed in 100 cc of propylene glycol monomethyl ether acetate for 2 minutes, the coating film was completely dissolved.
参考例2
溶液(S-1)に代えて溶液(S-2)を、共重合体(S-2)が70重量部となる量で用いた以外は、参考例1と同様にして、液状組成物(r-2)を調製して、ソーダガラス基板上に塗膜を形成した。
次いで、この基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100cc中に2分間浸漬したところ、塗膜は完全に溶解した。
Reference example 2
The liquid composition (S-2) was replaced with the liquid composition (S-2) in the same manner as in Reference Example 1 except that the solution (S-2) was used in an amount of 70 parts by weight of the copolymer (S-2). r-2) was prepared and a coating film was formed on a soda glass substrate.
Next, when this substrate was immersed in 100 cc of propylene glycol monomethyl ether acetate for 2 minutes, the coating film was completely dissolved.
参考例3
溶液(S-1)に代えて溶液(S-3)を、共重合体(S-3)が70重量部となる量で用いた以外は、参考例1と同様にして、液状組成物(r-3)を調製して、ソーダガラス基板上に塗膜を形成した。
次いで、この基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100cc中に2分間浸漬したところ、塗膜は完全に溶解した。
Reference example 3
The liquid composition (S-3) was replaced with the liquid composition (S-3) in the same manner as in Reference Example 1, except that the copolymer (S-3) was used in an amount of 70 parts by weight. r-3) was prepared, and a coating film was formed on a soda glass substrate.
Next, when this substrate was immersed in 100 cc of propylene glycol monomethyl ether acetate for 2 minutes, the coating film was completely dissolved.
実施例1
(A)着色剤としてC.I.ピグメントレッド254とC.I.ピグメントイエロー139との50/50(重量比)混合物40重量部、分散剤としてDisperbyk2001を10重量部、溶媒として3−エトキシプロピオン酸エチル100重量部からなる混合液を、ダイヤモンドファインミル(商品名、三菱マテリアル(株)製ビーズミル(ビーズ直径1.0mm))により12時間混合・分散して、顔料分散液を調製した。
次いで、この顔料分散液100重量部、(B)アルカリ可溶性樹脂として溶液(S-1)を共重合体(S-1)が70重量部となる量、(C)多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート80重量部、(D)光重合開始剤としてエタノン−1−〔9−エチル−6−{2−メチル−4−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラニル)メトキシベンゾイル}−9.H.−カルバゾール−3−イ〕−1−(O−アセチルオキシム)50重量部、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート1,000重量部を混合して、液状組成物(r-4)を調製した。
次いで、液状組成物(r-4)を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止するSiO 2 膜が形成された直径4インチのソーダガラス基板上に、スピンコートしたのち、23℃のクリーンルーム内で12時間放置して乾燥することにより、塗膜を形成した。
次いで、この基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100cc中に2分間浸漬したところ、塗膜は完全に溶解した。
Example 1
(A) C.I. I. Pigment red 254 and C.I. I. A mixture of 40 parts by weight of a 50/50 (weight ratio) mixture with Pigment Yellow 139, 10 parts by weight of Disperbyk 2001 as a dispersant, and 100 parts by weight of ethyl 3-ethoxypropionate as a solvent was added to Diamond Fine Mill (trade name, A pigment dispersion was prepared by mixing and dispersing for 12 hours using a bead mill (bead diameter: 1.0 mm) manufactured by Mitsubishi Materials Corporation.
Next, 100 parts by weight of this pigment dispersion, (B) the solution (S-1) as an alkali-soluble resin, the amount of 70 parts by weight of the copolymer (S-1), and (C) the polyfunctional monomer 80 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, (D) Etanone-1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl) methoxybenzoyl as a photopolymerization initiator } -9. H. -Carbazole-3-i] -1- (O-acetyloxime) 50 parts by weight and 1,000 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent were mixed to prepare a liquid composition (r-4) .
Next, the liquid composition (r-4) is spin-coated on a soda glass substrate having a diameter of 4 inches on which a SiO 2 film for preventing elution of sodium ions is formed on the surface. A coating film was formed by drying after standing for a period of time .
Next, when this substrate was immersed in 100 cc of propylene glycol monomethyl ether acetate for 2 minutes, the coating film was completely dissolved.
比較例1
溶液(S-1)に代えて溶液(S-4)を、共重合体(S-4)が70重量部となる量で用い、(D)光重合開始剤を2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン50重量部に変更した以外は、実施例1と同様にして、液状組成物(r-5)を調製して、ソーダガラス基板上に塗膜を形成した。
次いで、この基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100cc中に2分間浸漬したところ、塗膜は完全に溶解せず、液中に多量の異物が観察された。
Comparative Example 1
Instead of the solution (S-1), the solution (S-4) was used in such an amount that the copolymer (S-4) was 70 parts by weight, and (D) the photopolymerization initiator was 2-benzyl-2-dimethyl. A liquid composition (r-5) was prepared in the same manner as in Example 1 except that amino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one was changed to 50 parts by weight. A coating was formed on top.
Next, when this substrate was immersed in 100 cc of propylene glycol monomethyl ether acetate for 2 minutes, the coating film was not completely dissolved, and a large amount of foreign matter was observed in the liquid.
比較例2
溶液(S-1)に代えて溶液(S-5)を、共重合体(S-5)が70重量部となる量で用い、(D)光重合開始剤を2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン50重量部に変更した以外は、実施例1と同様にして、液状組成物(r-6)を調製して、ソーダガラス基板上に塗膜を形成した。
次いで、この基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100cc中に2分間浸漬したところ、塗膜は完全に溶解した。
Comparative Example 2
Instead of the solution (S-1), the solution (S-5) was used in such an amount that the copolymer (S-5) was 70 parts by weight, and (D) the photopolymerization initiator was 2-benzyl-2-dimethyl. A liquid composition (r-6) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount was changed to 50 parts by weight of amino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1- one, and a soda glass substrate was prepared. A coating was formed on top.
Next, when this substrate was immersed in 100 cc of propylene glycol monomethyl ether acetate for 2 minutes, the coating film was completely dissolved.
比較例3
溶液(S-1)に代えて溶液(S-6)を、共重合体(S-6)が70重量部となる量で用い、(D)光重合開始剤を2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン50重量部に変更した以外は、実施例1と同様にして、液状組成物(r-7)を調製して、ソーダガラス基板上に塗膜を形成した。
次いで、この基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100cc中に2分間浸漬したところ、塗膜は完全に溶解した。
Comparative Example 3
Instead of the solution (S-1), the solution (S-6) was used in such an amount that the copolymer (S-6) was 70 parts by weight, and (D) the photopolymerization initiator was 2-benzyl-2-dimethyl. A liquid composition (r-7) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount was changed to 50 parts by weight of amino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1- one, and a soda glass substrate was prepared. A coating was formed on top.
Next, when this substrate was immersed in 100 cc of propylene glycol monomethyl ether acetate for 2 minutes, the coating film was completely dissolved.
参考例4
(A)顔料としてC.I.ピグメントブルー15:6とC.I.ピグメントバイオレット23との90/10(重量比)混合物40重量部、分散剤としてDisperbyk2001を10重量部、および溶媒として3−エトキシプロピオン酸エチル100重量部からなる混合液を、ダイヤモンドファインミル(商品名、三菱マテリアル(株)製ビーズミル(ビーズ直径1.0mm))により12時間混合・分散して、顔料分散液を調製した。 次いで、この顔料分散液100重量部、(B)アルカリ可溶性樹脂として溶液(S-1)を共重合体(S-1)が80重量部となる量、(C)多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート70重量部、(D)光重合開始剤として2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン30重量部、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート1,000重量部を混合して、液状組成物(b-1)を調製した。
次いで、液状組成物(b-1)を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止するSiO2 膜が形成された直径4インチのソーダガラス基板上に、スピンコートしたのち、23℃のクリーンルーム内で12時間放置して乾燥することにより、塗膜を形成した。
次いで、この基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100cc中に2分間浸漬したところ、塗膜は完全に溶解した。
Reference example 4
(A) C.I. I. Pigment blue 15: 6 and C.I. I. Diamond Fine Mill (trade name) was prepared by mixing 40 parts by weight of a 90/10 (weight ratio) mixture with Pigment Violet 23, 10 parts by weight of Disperbyk 2001 as a dispersant, and 100 parts by weight of ethyl 3-ethoxypropionate as a solvent. A pigment dispersion was prepared by mixing and dispersing for 12 hours using a bead mill (bead diameter: 1.0 mm) manufactured by Mitsubishi Materials Corporation. Next, 100 parts by weight of this pigment dispersion, (B) the solution (S-1) as an alkali-soluble resin, the amount that the copolymer (S-1) is 80 parts by weight, and (C) the polyfunctional monomer 70 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, (D) 30 parts by weight of 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one as a photopolymerization initiator, and propylene glycol monomethyl as a solvent 1,000 parts by weight of ether acetate was mixed to prepare a liquid composition (b-1).
Next, the liquid composition (b-1) is spin-coated on a soda glass substrate having a diameter of 4 inches on which a SiO 2 film for preventing elution of sodium ions is formed on the surface, and then is subjected to 12 in a clean room at 23 ° C. A coating film was formed by drying after standing for a period of time.
Next, when this substrate was immersed in 100 cc of propylene glycol monomethyl ether acetate for 2 minutes, the coating film was completely dissolved.
参考例5
溶液(S-1)に代えて溶液(S-2)を、共重合体(S-2)が80重量部となる量で用いた以外は、参考例4と同様にして、液状組成物(b-2)を調製して、ソーダガラス基板上に塗膜を形成した。
次いで、この基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100cc中に2分間浸漬したところ、塗膜は完全に溶解した。
Reference Example 5
The liquid composition (S-2) was replaced with the liquid composition (S-2) in the same manner as in Reference Example 4 , except that the copolymer (S-2) was used in an amount of 80 parts by weight. b-2) was prepared and a coating film was formed on a soda glass substrate.
Next, when this substrate was immersed in 100 cc of propylene glycol monomethyl ether acetate for 2 minutes, the coating film was completely dissolved.
参考例6
溶液(S-1)に代えて溶液(S-3)を、共重合体(S-3)が80重量部となる量で用いた以外は、参考例4と同様にして、液状組成物(b-3)を調製して、ソーダガラス基板上に塗膜を形成した。
次いで、この基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100cc中に2分間浸漬したところ、塗膜は完全に溶解した。
Reference Example 6
The liquid composition (S-3) was replaced with the liquid composition (S-3) in the same manner as in Reference Example 4 , except that the copolymer (S-3) was used in an amount of 80 parts by weight. b-3) was prepared, and a coating film was formed on a soda glass substrate.
Next, when this substrate was immersed in 100 cc of propylene glycol monomethyl ether acetate for 2 minutes, the coating film was completely dissolved.
実施例2
(A)顔料としてC.I.ピグメントブルー15:6とC.I.ピグメントバイオレット23との90/10(重量比)混合物40重量部、分散剤としてDisperbyk2001を10重量部、および溶媒として3−エトキシプロピオン酸エチル100重量部からなる混合液を、ダイヤモンドファインミル(商品名、三菱マテリアル(株)製ビーズミル(ビーズ直径1.0mm))により12時間混合・分散して、顔料分散液を調製した。 次いで、この顔料分散液100重量部、(B)アルカリ可溶性樹脂として溶液(S-1)を共重合体(S-1)が80重量部となる量、(C)多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート70重量部、(D)光重合開始剤としてエタノン−1−〔9−エチル−6−{2−メチル−4−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラニル)メトキシベンゾイル}−9.H.−カルバゾール−3−イ〕−1−(O−アセチルオキシム)50重量部、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート1,000重量部を混合して、液状組成物(b-4)を調製した。
次いで、液状組成物(b-4)を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止するSiO 2 膜が形成された直径4インチのソーダガラス基板上に、スピンコートしたのち、23℃のクリーンルーム内で12時間放置して乾燥することにより、塗膜を形成した。
次いで、この基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100cc中に2分間浸漬したところ、塗膜は完全に溶解した。
Example 2
(A) C.I. I. Pigment blue 15: 6 and C.I. I. Diamond Fine Mill (trade name) was prepared by mixing 40 parts by weight of a 90/10 (weight ratio) mixture with Pigment Violet 23, 10 parts by weight of Disperbyk 2001 as a dispersant, and 100 parts by weight of ethyl 3-ethoxypropionate as a solvent. A pigment dispersion was prepared by mixing and dispersing for 12 hours using a bead mill (bead diameter: 1.0 mm) manufactured by Mitsubishi Materials Corporation. Next, 100 parts by weight of this pigment dispersion, (B) the solution (S-1) as an alkali-soluble resin, the amount that the copolymer (S-1) is 80 parts by weight, and (C) the polyfunctional monomer 70 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, (D) Etanone-1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl) methoxybenzoyl as a photopolymerization initiator } -9. H. -Carbazole-3-i] -1- (O-acetyloxime) 50 parts by weight and 1,000 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent were mixed to prepare a liquid composition (b-4) .
Next, the liquid composition (b-4) is spin-coated on a soda glass substrate having a diameter of 4 inches on which a SiO 2 film for preventing elution of sodium ions is formed on the surface. A coating film was formed by drying after standing for a period of time .
Next, when this substrate was immersed in 100 cc of propylene glycol monomethyl ether acetate for 2 minutes, the coating film was completely dissolved.
比較例4
溶液(S-1)に代えて溶液(S-4)を、共重合体(S-4)が80重量部となる量で用い、(D)光重合開始剤を2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン30重量部に変更した以外は、実施例2と同様にして、液状組成物(b-5)を調製して、ソーダガラス基板上に塗膜を形成した。
次いで、この基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100cc中に2分間浸漬したところ、塗膜は完全に溶解せず、液中に多量の異物が観察された。
Comparative Example 4
Instead of the solution (S-1), the solution (S-4) was used in an amount such that the copolymer (S-4) was 80 parts by weight, and (D) the photopolymerization initiator was 2-methyl-1- [ 4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one A liquid composition (b-5) was prepared in the same manner as in Example 2 except that the amount was changed to 30 parts by weight. A coating film was formed on the substrate.
Next, when this substrate was immersed in 100 cc of propylene glycol monomethyl ether acetate for 2 minutes, the coating film was not completely dissolved, and a large amount of foreign matter was observed in the liquid.
比較例5
溶液(S-1)に代えて溶液(S-5)を、共重合体(S-5)が80重量部となる量で用い、(D)光重合開始剤を2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン30重量部に変更した以外は、実施例2と同様にして、液状組成物(b-6)を調製して、ソーダガラス基板上に塗膜を形成した。
次いで、この基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100cc中に2分間浸漬したところ、塗膜は完全に溶解した。
Comparative Example 5
Instead of the solution (S-1), the solution (S-5) was used in such an amount that the copolymer (S-5) was 80 parts by weight, and (D) the photopolymerization initiator was 2-methyl-1- [ 4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one A liquid composition (b-6) was prepared in the same manner as in Example 2 except that the amount was changed to 30 parts by weight. A coating film was formed on the substrate.
Next, when this substrate was immersed in 100 cc of propylene glycol monomethyl ether acetate for 2 minutes, the coating film was completely dissolved.
比較例6
溶液(S-1)に代えて溶液(S-6)を、共重合体(S-6)が80重量部となる量で用い、(D)光重合開始剤を2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン30重量部に変更した以外は、実施例2と同様にして、液状組成物(b-7)を調製して、ソーダガラス基板上に塗膜を形成した。
次いで、この基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100cc中に2分間浸漬したところ、塗膜は完全に溶解した。
Comparative Example 6
Instead of the solution (S-1), the solution (S-6) was used in an amount such that the copolymer (S-6) was 80 parts by weight, and (D) the photopolymerization initiator was 2-methyl-1- [ 4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one A liquid composition (b-7) was prepared in the same manner as in Example 2 except that the amount was changed to 30 parts by weight. A coating film was formed on the substrate.
Next, when this substrate was immersed in 100 cc of propylene glycol monomethyl ether acetate for 2 minutes, the coating film was completely dissolved.
参考例7
(A)顔料としてC.I.ピグメントグリーン36とC.I.ピグメントイエロー150との50/50(重量比)混合物40重量部、分散剤としてDisperbyk2001を10重量部、溶媒として3−エトキシプロピオン酸エチル100重量部からなる混合液を、ダイヤモンドファインミル(商品名、三菱マテリアル(株)製ビーズミル(ビーズ直径1.0mm))により12時間混合・分散して、顔料分散液を調製した。
次いで、この顔料分散液100重量部、(B)アルカリ可溶性樹脂として溶液(S-1)を共重合体(S-1)が80重量部となる量、(C)多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート70重量部、(D)光重合開始剤として2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン30重量部、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート1,000重量部を混合して、液状組成物(g-1)を調製した。
次いで、液状組成物(g-1)を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止するSiO2 膜が形成された直径4インチのソーダガラス基板上に、スピンコートしたのち、23℃のクリーンルーム内で12時間放置して乾燥させることにより、塗膜を形成した。
次いで、この基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100cc中に2分間浸漬したところ、塗膜は完全に溶解した。
Reference Example 7
(A) C.I. I. Pigment Green 36 and C.I. I. A mixture of 40 parts by weight of a 50/50 (weight ratio) mixture with Pigment Yellow 150, 10 parts by weight of Disperbyk 2001 as a dispersant, and 100 parts by weight of ethyl 3-ethoxypropionate as a solvent was added to Diamond Fine Mill (trade name, A pigment dispersion was prepared by mixing and dispersing for 12 hours using a bead mill (bead diameter: 1.0 mm) manufactured by Mitsubishi Materials Corporation.
Next, 100 parts by weight of this pigment dispersion, (B) the solution (S-1) as an alkali-soluble resin, the amount that the copolymer (S-1) is 80 parts by weight, and (C) the polyfunctional monomer 70 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, (D) 30 parts by weight of 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one as a photopolymerization initiator, and propylene glycol monomethyl as a solvent 1,000 parts by weight of ether acetate was mixed to prepare a liquid composition (g-1).
Next, the liquid composition (g-1) was spin-coated on a soda glass substrate having a diameter of 4 inches on which a SiO 2 film for preventing elution of sodium ions was formed on the surface. A coating film was formed by drying for a period of time.
Next, when this substrate was immersed in 100 cc of propylene glycol monomethyl ether acetate for 2 minutes, the coating film was completely dissolved.
参考例8
溶液(S-1)に代えて溶液(S-2)を、共重合体(S-2)が80重量部となる量で用いた以外は、参考例7と同様にして、液状組成物(g-2)を調製して、ソーダガラス基板上に塗膜を形成した。
次いで、この基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100cc中に2分間浸漬したところ、塗膜は完全に溶解した。
Reference Example 8
The liquid composition (S-2) was replaced with the liquid composition (S-2) in the same manner as in Reference Example 7 , except that the copolymer (S-2) was used in an amount of 80 parts by weight. g-2) was prepared, and a coating film was formed on a soda glass substrate.
Next, when this substrate was immersed in 100 cc of propylene glycol monomethyl ether acetate for 2 minutes, the coating film was completely dissolved.
参考例9
溶液(S-1)に代えて溶液(S-3)を、共重合体(S-3)が80重量部となる量で用いた以外は、参考例7と同様にして、液状組成物(g-3)を調製して、ソーダガラス基板上に塗膜を形成した。
次いで、この基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100cc中に2分間浸漬したところ、塗膜は完全に溶解した。
Reference Example 9
The liquid composition (S-3) was replaced with the liquid composition (S-3) in the same manner as in Reference Example 7 , except that the copolymer (S-3) was used in an amount of 80 parts by weight. g-3) was prepared, and a coating film was formed on a soda glass substrate.
Next, when this substrate was immersed in 100 cc of propylene glycol monomethyl ether acetate for 2 minutes, the coating film was completely dissolved.
実施例3
(A)顔料としてC.I.ピグメントグリーン36とC.I.ピグメントイエロー150との50/50(重量比)混合物40重量部、分散剤としてDisperbyk2001を10重量部、溶媒として3−エトキシプロピオン酸エチル100重量部からなる混合液を、ダイヤモンドファインミル(商品名、三菱マテリアル(株)製ビーズミル(ビーズ直径1.0mm))により12時間混合・分散して、顔料分散液を調製した。
次いで、この顔料分散液100重量部、(B)アルカリ可溶性樹脂として溶液(S-1)を共重合体(S-1)が80重量部となる量、(C)多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート70重量部、(D)光重合開始剤としてエタノン−1−〔9−エチル−6−{2−メチル−4−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラニル)メトキシベンゾイル}−9.H.−カルバゾール−3−イ〕−1−(O−アセチルオキシム)50重量部、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート1,000重量部を混合して、液状組成物(g-4)を調製した。
次いで、液状組成物(g-4)を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止するSiO 2 膜が形成された直径4インチのソーダガラス基板上に、スピンコートしたのち、23℃のクリーンルーム内で12時間放置して乾燥させることにより、塗膜を形成した。
次いで、この基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100cc中に2分間浸漬したところ、塗膜は完全に溶解した。
Example 3
(A) C.I. I. Pigment Green 36 and C.I. I. A mixture of 40 parts by weight of a 50/50 (weight ratio) mixture with Pigment Yellow 150, 10 parts by weight of Disperbyk 2001 as a dispersant, and 100 parts by weight of ethyl 3-ethoxypropionate as a solvent was added to Diamond Fine Mill (trade name, A pigment dispersion was prepared by mixing and dispersing for 12 hours using a bead mill (bead diameter: 1.0 mm) manufactured by Mitsubishi Materials Corporation.
Next, 100 parts by weight of this pigment dispersion, (B) the solution (S-1) as an alkali-soluble resin, the amount that the copolymer (S-1) is 80 parts by weight, and (C) the polyfunctional monomer 70 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, (D) Etanone-1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl) methoxybenzoyl as a photopolymerization initiator } -9. H. -Carbazole-3-i] -1- (O-acetyloxime) 50 parts by weight and 1,000 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent were mixed to prepare a liquid composition (g-4) .
Next, the liquid composition (g-4) was spin-coated on a soda glass substrate having a diameter of 4 inches on which a SiO 2 film for preventing elution of sodium ions was formed on the surface. A coating film was formed by drying for a period of time .
Next, when this substrate was immersed in 100 cc of propylene glycol monomethyl ether acetate for 2 minutes, the coating film was completely dissolved.
比較例7
溶液(S-1)に代えて溶液(S-4)を、共重合体(S-4)が80重量部となる量で用い、(D)光重合開始剤を2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン30重量部に変更した以外は、実施例3と同様にして、液状組成物(g-5)を調製して、ソーダガラス基板上に塗膜を形成した。
次いで、この基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100cc中に2分間浸漬したところ、塗膜は完全に溶解せず、液中に多量の異物が観察された。
Comparative Example 7
Instead of the solution (S-1), the solution (S-4) was used in an amount such that the copolymer (S-4) was 80 parts by weight , and (D) the photopolymerization initiator was 2-methyl-1- [ 4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one A liquid composition (g-5) was prepared in the same manner as in Example 3 except that the amount was changed to 30 parts by weight. A coating film was formed on the substrate.
Next, when this substrate was immersed in 100 cc of propylene glycol monomethyl ether acetate for 2 minutes, the coating film was not completely dissolved, and a large amount of foreign matter was observed in the liquid.
比較例8
溶液(S-1)に代えて溶液(S-5)を、共重合体(S-5)が80重量部となる量で用い、(D)光重合開始剤を2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン30重量部に変更した以外は、実施例3と同様にして、液状組成物(g-6)を調製して、ソーダガラス基板上に塗膜を形成した。
次いで、この基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100cc中に2分間浸漬したところ、塗膜は完全に溶解した。
Comparative Example 8
Instead of the solution (S-1), the solution (S-5) was used in such an amount that the copolymer (S-5) was 80 parts by weight, and (D) the photopolymerization initiator was 2-methyl-1- [ 4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one A liquid composition (g-6) was prepared in the same manner as in Example 3 except that the amount was changed to 30 parts by weight. A coating film was formed on the substrate.
Next, when this substrate was immersed in 100 cc of propylene glycol monomethyl ether acetate for 2 minutes, the coating film was completely dissolved.
比較例9
溶液(S-1)に代えて溶液(S-6)を、共重合体(S-6)が80重量部となる量で用い、(D)光重合開始剤を2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン30重量部に変更した以外は、実施例3と同様にして、液状組成物(g-7)を調製して、ソーダガラス基板上に塗膜を形成した。
次いで、この基板をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100cc中に2分間浸漬したところ、塗膜は完全に溶解した。
Comparative Example 9
Instead of the solution (S-1), the solution (S-6) was used in an amount such that the copolymer (S-6) was 80 parts by weight, and (D) the photopolymerization initiator was 2-methyl-1- [ 4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one A liquid composition (g-7) was prepared in the same manner as in Example 3 except that the amount was changed to 30 parts by weight. A coating film was formed on the substrate.
Next, when this substrate was immersed in 100 cc of propylene glycol monomethyl ether acetate for 2 minutes, the coating film was completely dissolved.
電圧保持率の評価
参考例10
実施例1で調製した液状組成物(r-1)を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止するSiO2 膜が形成され、さらにITO(インジウム−酸化錫合金)電極を所定形状に蒸着したソーダガラス基板上に、スピンコートしたのち、90℃のクリーンオーブン内で10分間プレベークを行って、膜厚2.0μmの塗膜を形成した。
次いで、高圧水銀ランプを用い、フォトマスクを介さずに、塗膜に365nm、405nmおよび436nmの各波長を含む放射線を5,000J/m2 の露光量で露光した。その後、この基板を23℃の0.04重量%水酸化カリウム水溶液からなる現像液に1分間浸漬して、現像したのち、超純水で洗浄して風乾し、さらに250℃で30分間ポストベークを行い塗膜を硬化させて、基板上に赤色の画素を形成した。この画素の膜厚は1.60μmであった。
次いで、この画素を形成した基板とITO電極を所定形状に蒸着しただけの基板とを、0.8mmのガラスビーズを混合したシール剤で貼り合わせたのち、メルク社製液晶MLC6608(商品名)を注入して、液晶セルを作製した。
次いで、液晶セルを60℃の恒温層に入れて、液晶セルの電圧保持率を、東陽テクニカ(株)製液晶電圧保持率測定システムVHR−1A型(商品名)により測定した。このときの印加電圧は5.5Vの方形波、測定周波数は60Hzである。ここで電圧保持率とは、(16.7ミリ秒後の液晶セル電位差/0ミリ秒で印加した電圧)の値である。その結果、電圧保持率は95%であった。
液晶セルの電圧保持率が90%以下であると、液晶セルは16.7ミリ秒の時間、印加電圧を所定レベルに保持できず、十分に液晶を配向させることができないことを意味する。したがって、液状組成物(r-1)を用いて形成したカラーフィルターを具備する液晶表示装置は、“焼きつき”を起こすおそれが低い。
Evaluation of voltage holding ratio
Reference Example 1 0
The soda glass in which the liquid composition (r-1) prepared in Example 1 is formed with a SiO 2 film for preventing elution of sodium ions on the surface, and an ITO (indium-tin oxide alloy) electrode is deposited in a predetermined shape. After spin coating on the substrate, pre-baking was performed for 10 minutes in a clean oven at 90 ° C. to form a coating film having a thickness of 2.0 μm.
Next, using a high-pressure mercury lamp, the coating film was exposed to radiation containing wavelengths of 365 nm, 405 nm, and 436 nm at an exposure amount of 5,000 J / m 2 without using a photomask. Thereafter, the substrate is immersed in a developer comprising a 0.04 wt% potassium hydroxide aqueous solution at 23 ° C. for 1 minute, developed, washed with ultrapure water, air-dried, and further post-baked at 250 ° C. for 30 minutes. And the coating film was cured to form red pixels on the substrate. The film thickness of this pixel was 1.60 μm.
Next, the substrate on which this pixel is formed and the substrate on which the ITO electrode is simply deposited in a predetermined shape are bonded together with a sealing agent mixed with 0.8 mm glass beads, and then a liquid crystal MLC6608 (trade name) manufactured by Merck is used. The liquid crystal cell was manufactured by pouring.
Next, the liquid crystal cell was placed in a constant temperature layer at 60 ° C., and the voltage holding ratio of the liquid crystal cell was measured by a liquid crystal voltage holding ratio measuring system VHR-1A type (trade name) manufactured by Toyo Technica Co., Ltd. The applied voltage at this time is a square wave of 5.5 V, and the measurement frequency is 60 Hz. Here, the voltage holding ratio is a value of (liquid crystal cell potential difference after 16.7 milliseconds / voltage applied at 0 milliseconds). As a result, the voltage holding ratio was 95%.
When the voltage holding ratio of the liquid crystal cell is 90% or less, it means that the liquid crystal cell cannot hold the applied voltage at a predetermined level for a time of 16.7 milliseconds, and the liquid crystal cannot be sufficiently aligned. Therefore, a liquid crystal display device including a color filter formed using the liquid composition (r-1) is less likely to cause “burn-in”.
参考例11
液状組成物(r-1)に代えて、参考例2で調製した液状組成物(r-2)を用いた以外は、参考例10と同様にして、液晶セルを作製して、電圧保持率を測定したところ、94%であった。したがって、液状組成物(r-2)を用いた形成したカラーフィルターを具備する液晶表示装置は、“焼きつき”を起こすおそれが低い。
Reference Example 1 1
Instead of the liquid composition (r-1), except that the liquid composition prepared in Reference Example 2 (r-2) was used, in the same manner as in Reference Example 1 0, to prepare a liquid crystal cell, the voltage retention When the rate was measured, it was 94%. Therefore, a liquid crystal display device including a color filter formed using the liquid composition (r-2) is less likely to cause “burn-in”.
参考例12
液状組成物(r-1)に代えて、参考例3で調製した液状組成物(r-3)を用いた以外は、参考例10と同様にして、液晶セルを作製して、電圧保持率を測定したところ、94%であった。したがって、液状組成物(r-3)を用いた形成したカラーフィルターを具備する液晶表示装置は、“焼きつき”を起こすおそれが低い。
Reference Example 1 2
Instead of the liquid composition (r-1), except that the liquid composition prepared in Reference Example 3 (r-3) was used, in the same manner as in Reference Example 1 0, to prepare a liquid crystal cell, the voltage retention When the rate was measured, it was 94%. Therefore, a liquid crystal display device including a color filter formed using the liquid composition (r-3) is less likely to cause “burn-in”.
実施例4
実施例1で調製した液状組成物(r-4)を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止するSiO 2 膜が形成され、さらにITO(インジウム−酸化錫合金)電極を所定形状に蒸着したソーダガラス基板上に、スピンコートしたのち、90℃のクリーンオーブン内で10分間プレベークを行って、膜厚2.0μmの塗膜を形成した。
次いで、高圧水銀ランプを用い、フォトマスクを介さずに、塗膜に365nm、405nmおよび436nmの各波長を含む放射線を5,000J/m 2 の露光量で露光した。その後、この基板を23℃の0.04重量%水酸化カリウム水溶液からなる現像液に1分間浸漬して、現像したのち、超純水で洗浄して風乾し、さらに250℃で30分間ポストベークを行い塗膜を硬化させて、基板上に赤色の画素を形成した。この画素の膜厚は1.60μmであった。
次いで、この画素を形成した基板とITO電極を所定形状に蒸着しただけの基板とを、0.8mmのガラスビーズを混合したシール剤で貼り合わせたのち、メルク社製液晶MLC6608(商品名)を注入して、液晶セルを作製した。
次いで、液晶セルを60℃の恒温層に入れて、液晶セルの電圧保持率を、東陽テクニカ(株)製液晶電圧保持率測定システムVHR−1A型(商品名)により測定した。このときの印加電圧は5.5Vの方形波、測定周波数は60Hzである。ここで電圧保持率とは、(16.7ミリ秒後の液晶セル電位差/0ミリ秒で印加した電圧)の値である。その結果、電圧保持率は99%であった。
液晶セルの電圧保持率が90%以下であると、液晶セルは16.7ミリ秒の時間、印加電圧を所定レベルに保持できず、十分に液晶を配向させることができないことを意味する。したがって、液状組成物(r-4)を用いた形成したカラーフィルターを具備する液晶表示装置は、“焼きつき”を起こすおそれが殆どない。
Example 4
Soda glass in which the liquid composition (r-4) prepared in Example 1 is formed with a SiO 2 film on its surface to prevent elution of sodium ions , and an ITO (indium-tin oxide alloy) electrode is deposited in a predetermined shape. After spin coating on the substrate, pre-baking was performed for 10 minutes in a clean oven at 90 ° C. to form a coating film having a thickness of 2.0 μm.
Next, using a high-pressure mercury lamp, the coating film was exposed to radiation containing wavelengths of 365 nm, 405 nm, and 436 nm at an exposure amount of 5,000 J / m 2 without using a photomask . Thereafter, the substrate is immersed in a developer comprising a 0.04 wt% potassium hydroxide aqueous solution at 23 ° C. for 1 minute, developed, washed with ultrapure water, air-dried, and further post-baked at 250 ° C. for 30 minutes. And the coating film was cured to form red pixels on the substrate. The film thickness of this pixel was 1.60 μm.
Next, the substrate on which this pixel is formed and the substrate on which the ITO electrode is simply deposited in a predetermined shape are bonded together with a sealing agent mixed with 0.8 mm glass beads, and then a liquid crystal MLC6608 (trade name) manufactured by Merck is used. The liquid crystal cell was manufactured by pouring .
Next, the liquid crystal cell was placed in a constant temperature layer at 60 ° C., and the voltage holding ratio of the liquid crystal cell was measured by a liquid crystal voltage holding ratio measuring system VHR-1A type (trade name) manufactured by Toyo Technica Co., Ltd. The applied voltage at this time is a square wave of 5.5 V, and the measurement frequency is 60 Hz. Here, the voltage holding ratio is a value of (liquid crystal cell potential difference after 16.7 milliseconds / voltage applied at 0 milliseconds). As a result, the voltage holding ratio was 99%.
When the voltage holding ratio of the liquid crystal cell is 90% or less, it means that the liquid crystal cell cannot hold the applied voltage at a predetermined level for a time of 16.7 milliseconds, and the liquid crystal cannot be sufficiently aligned. Therefore, the liquid crystal display device including the color filter formed using the liquid composition (r-4) has almost no risk of “burn-in”.
比較例10
液状組成物(r-4)に代えて、比較例1で調製した液状組成物(r-5)を用いた以外は、実施例4と同様にして、液晶セルを作製して、電圧保持率を測定したところ、94%であった。したがって、液状組成物(r-5)を用いた形成したカラーフィルターを具備する液晶表示装置は、“焼きつき”を起こすおそれが低い。
Comparative Example 10
A liquid crystal cell was produced in the same manner as in Example 4 except that the liquid composition (r-5) prepared in Comparative Example 1 was used instead of the liquid composition (r- 4 ), and the voltage holding ratio was Was 94%. Therefore, a liquid crystal display device including a color filter formed using the liquid composition (r-5) is less likely to cause “burn-in”.
比較例11
液状組成物(r-4)に代えて、比較例2で調製した液状組成物(r-6)を用いた以外は、実施例4と同様にして、液晶セルを作製して、電圧保持率を測定したところ、45%であった。したがって、液状組成物(r-6)を用いた形成したカラーフィルターを具備する液晶表示装置は、“焼きつき”を起こすおそれが高い。
Comparative Example 11
A liquid crystal cell was produced in the same manner as in Example 4 except that the liquid composition (r-6) prepared in Comparative Example 2 was used instead of the liquid composition (r -4 ), and the voltage holding ratio was Was 45%. Therefore, a liquid crystal display device including a color filter formed using the liquid composition (r-6) has a high possibility of causing “burn-in”.
比較例12
液状組成物(r-4)に代えて、比較例3で調製した液状組成物(r-7)を用いた以外は、実施例4と同様にして、液晶セルを作製して、電圧保持率を測定したところ、95%であった。したがって、液状組成物(r-7)を用いた形成したカラーフィルターを具備する液晶表示装置は、“焼きつき”を起こすおそれが低い。
Comparative Example 12
Instead of the liquid composition (r -4), except for using a liquid composition prepared in Comparative Example 3 (r-7), in the same manner as in Example 4, to prepare a liquid crystal cell, the voltage holding ratio Was measured to be 95%. Therefore, a liquid crystal display device including a color filter formed using the liquid composition (r-7) is less likely to cause “burn-in”.
参考例13
液状組成物(r-1)に代えて、参考例4で調製した液状組成物(b-1)を用いた以外は、参考例10と同様にして、液晶セルを作製して、電圧保持率を測定したところ、94%であった。したがって、液状組成物(b-1)を用いた形成したカラーフィルターを具備する液晶表示装置は、“焼きつき”を起こすおそれが低い。
Reference Example 1 3
Instead of the liquid composition (r-1), except that the liquid composition prepared in Reference Example 4 (b-1) was used, in the same manner as in Reference Example 1 0, to prepare a liquid crystal cell, the voltage retention When the rate was measured, it was 94%. Therefore, the liquid crystal display device including the color filter formed using the liquid composition (b-1) is less likely to cause “burn-in”.
参考例14
液状組成物(r-1)に代えて、参考例5で調製した液状組成物(b-2)を用いた以外は、参考例10と同様にして、液晶セルを作製して、電圧保持率を測定したところ、94%であった。したがって、液状組成物(b-2)を用いた形成したカラーフィルターを具備する液晶表示装置は、“焼きつき”を起こすおそれが低い。
Reference Example 1 4
Instead of the liquid composition (r-1), except that the liquid composition prepared in Reference Example 5 (b-2) was used, in the same manner as in Reference Example 1 0, to prepare a liquid crystal cell, the voltage retention When the rate was measured, it was 94%. Therefore, the liquid crystal display device including the color filter formed using the liquid composition (b-2) is less likely to cause “burn-in”.
参考例15
液状組成物(r-1)に代えて、参考例6で調製した液状組成物(b-3)を用いた以外は、参考例10と同様にして、液晶セルを作製して、電圧保持率を測定したところ、94%であった。したがって、液状組成物(b-3)を用いた形成したカラーフィルターを具備する液晶表示装置は、“焼きつき”を起こすおそれが低い。
Reference Example 1 5
Instead of the liquid composition (r-1), except that the liquid composition prepared in Reference Example 6 (b-3) was used, in the same manner as in Reference Example 1 0, to prepare a liquid crystal cell, the voltage retention When the rate was measured, it was 94%. Therefore, the liquid crystal display device including the color filter formed using the liquid composition (b-3) is less likely to cause “burn-in”.
実施例5
液状組成物(r-4)に代えて、実施例2で調製した液状組成物(b-4)を用いた以外は、実施例4と同様にして、液晶セルを作製して、電圧保持率を測定したところ、98%であった。したがって、液状組成物(b-4)を用いた形成したカラーフィルターを具備する液晶表示装置は、“焼きつき”を起こすおそれが殆どない。
Example 5
A liquid crystal cell was produced in the same manner as in Example 4 except that the liquid composition (b-4) prepared in Example 2 was used instead of the liquid composition (r -4 ), and the voltage holding ratio was Was measured to be 98%. Therefore, the liquid crystal display device including the color filter formed using the liquid composition (b-4) has almost no risk of “burn-in”.
比較例13
液状組成物(r-4)に代えて、比較例4で調製した液状組成物(b-5)を用いた以外は、実施例4と同様にして、液晶セルを作製して、電圧保持率を測定したところ、94%であった。したがって、液状組成物(b-5)を用いた形成したカラーフィルターを具備する液晶表示装置は、“焼きつき”を起こすおそれが低い。
Comparative Example 13
A liquid crystal cell was produced in the same manner as in Example 4 except that the liquid composition (b-5) prepared in Comparative Example 4 was used instead of the liquid composition (r -4 ), and the voltage holding ratio was Was 94%. Therefore, the liquid crystal display device including the color filter formed using the liquid composition (b-5) is less likely to cause “burn-in”.
比較例14
液状組成物(r-4)に代えて、比較例5で調製した液状組成物(b-6)を用いた以外は、実施例4と同様にして、液晶セルを作製して、電圧保持率を測定したところ、45%であった。したがって、液状組成物(b-6)を用いた形成したカラーフィルターを具備する液晶表示装置は、“焼きつき”を起こすおそれが高い。
Comparative Example 14
A liquid crystal cell was produced in the same manner as in Example 4 except that the liquid composition (b-6) prepared in Comparative Example 5 was used instead of the liquid composition (r -4 ), and the voltage holding ratio was Was 45%. Therefore, a liquid crystal display device including a color filter formed using the liquid composition (b-6) is likely to cause “burn-in”.
比較例15
液状組成物(r-4)に代えて、比較例6で調製した液状組成物(b-7)を用いた以外は、実施例4と同様にして、液晶セルを作製して、電圧保持率を測定したところ、95%であった。したがって、液状組成物(b-7)を用いた形成したカラーフィルターを具備する液晶表示装置は、“焼きつき”を起こすおそれが低い。
Comparative Example 15
A liquid crystal cell was produced in the same manner as in Example 4 except that the liquid composition (b-7) prepared in Comparative Example 6 was used in place of the liquid composition (r -4 ), and the voltage holding ratio was Was measured to be 95%. Therefore, a liquid crystal display device including a color filter formed using the liquid composition (b-7) is less likely to cause “burn-in”.
参考例16
液状組成物(r-1)に代えて、参考例7で調製した液状組成物(g-1)を用いた以外は、参考例10と同様にして、液晶セルを作製して、電圧保持率を測定したところ、94%であった。したがって、液状組成物(g-1)を用いた形成したカラーフィルターを具備する液晶表示装置は、“焼きつき”を起こすおそれが低い。
Reference Example 16
Instead of the liquid composition (r-1), except that the liquid composition prepared in Reference Example 7 (g-1) was used, in the same manner as in Reference Example 1 0, to prepare a liquid crystal cell, the voltage retention When the rate was measured, it was 94%. Therefore, a liquid crystal display device including a color filter formed using the liquid composition (g-1) is less likely to cause “burn-in”.
参考例17
液状組成物(r-1)に代えて、参考例8で調製した液状組成物(g-2)を用いた以外は、参考例10と同様にして、液晶セルを作製して、電圧保持率を測定したところ、94%であった。したがって、液状組成物(g-2)を用いた形成したカラーフィルターを具備する液晶表示装置は、“焼きつき”を起こすおそれが低い。
Reference Example 17
Instead of the liquid composition (r-1), except that the liquid composition prepared in Reference Example 8 (g-2) was used, in the same manner as in Reference Example 1 0, to prepare a liquid crystal cell, the voltage retention When the rate was measured, it was 94%. Therefore, a liquid crystal display device including a color filter formed using the liquid composition (g-2) is less likely to cause “burn-in”.
参考例18
液状組成物(r-1)に代えて、参考例9で調製した液状組成物(g-3)を用いた以外は、参考例10と同様にして、液晶セルを作製して、電圧保持率を測定したところ、94%であった。したがって、液状組成物(g-3)を用いた形成したカラーフィルターを具備する液晶表示装置は、“焼きつき”を起こすおそれが低い。
Reference Example 18
Instead of the liquid composition (r-1), except for using a liquid composition prepared in Reference Example 9 (g-3), in the same manner as in Reference Example 1 0, to prepare a liquid crystal cell, the voltage retention When the rate was measured, it was 94%. Therefore, a liquid crystal display device including a color filter formed using the liquid composition (g-3) is less likely to cause “burn-in”.
実施例6
液状組成物(r-4)に代えて、実施例3で調製した液状組成物(g-4)を用いた以外は、実施例4と同様にして、液晶セルを作製して、電圧保持率を測定したところ、99%であった。したがって、液状組成物(g-4)を用いた形成したカラーフィルターを具備する液晶表示装置は、“焼きつき”を起こすおそれが殆どない。
Example 6
A liquid crystal cell was produced in the same manner as in Example 4 except that the liquid composition (g-4) prepared in Example 3 was used instead of the liquid composition (r -4 ), and the voltage holding ratio was Was 99%. Therefore, the liquid crystal display device including the color filter formed using the liquid composition (g-4) has almost no risk of “burn-in”.
比較例16
液状組成物(r-4)に代えて、比較例7で調製した液状組成物(g-5)を用いた以外は、実施例4と同様にして、液晶セルを作製して、電圧保持率を測定したところ、94%であった。したがって、液状組成物(g-5)を用いた形成したカラーフィルターを具備する液晶表示装置は、“焼きつき”を起こすおそれが低い。
Comparative Example 16
A liquid crystal cell was produced in the same manner as in Example 4 except that the liquid composition (g-5) prepared in Comparative Example 7 was used in place of the liquid composition (r -4 ), and the voltage holding ratio was Was 94%. Therefore, the liquid crystal display device including the color filter formed using the liquid composition (g-5) is less likely to cause “burn-in”.
比較例17
液状組成物(r-4)に代えて、比較例8で調製した液状組成物(g-6)を用いた以外は、実施例4と同様にして、液晶セルを作製して、電圧保持率を測定したところ、45%であった。したがって、液状組成物(g-6)を用いた形成したカラーフィルターを具備する液晶表示装置は、“焼きつき”を起こすおそれが高い。
Comparative Example 17
A liquid crystal cell was produced in the same manner as in Example 4 except that the liquid composition (g-6) prepared in Comparative Example 8 was used in place of the liquid composition (r -4 ), and the voltage holding ratio was Was 45%. Therefore, a liquid crystal display device including a color filter formed using the liquid composition (g-6) is likely to cause “burn-in”.
比較例18
液状組成物(r-4)に代えて、比較例9で調製した液状組成物(g-7)を用いた以外は、実施例4と同様にして、液晶セルを作製して、電圧保持率を測定したところ、95%であった。したがって、液状組成物(g-7)を用いた形成したカラーフィルターを具備する液晶表示装置は、“焼きつき”を起こすおそれが低い。
Comparative Example 18
A liquid crystal cell was produced in the same manner as in Example 4 except that the liquid composition (g-7) prepared in Comparative Example 9 was used instead of the liquid composition (r -4 ), and the voltage holding ratio was Was measured to be 95%. Therefore, the liquid crystal display device including the color filter formed using the liquid composition (g-7) is less likely to cause “burn-in”.
色ムラの評価
参考例19
参考例1で調製した液状組成物(r-1)を用いて、ソーダガラス基板上に塗膜を形成した。
次いで、高圧水銀ランプを用い、90ミクロンのストライプパターンフォトマスクを介して、塗膜に365nm、405nmおよび436nmの各波長を含む放射線を5,000J/m2 の露光量で露光した。その後、この基板を23℃の0.04重量%水酸化カリウム水溶液からなる現像液に1分間浸漬して、現像したのち、超純水で洗浄して風乾して、被膜を形成した。
次いで、被膜表面を光学顕微鏡を用いて観察したとこころ、色ムラは観測されなかった。
Evaluation of uneven color
Reference Example 19
Using the liquid composition (r-1) prepared in Reference Example 1, a coating film was formed on a soda glass substrate.
Next, using a high-pressure mercury lamp, the coating film was exposed to radiation containing wavelengths of 365 nm, 405 nm, and 436 nm at an exposure amount of 5,000 J / m 2 through a 90-micron stripe pattern photomask. Thereafter, the substrate was immersed in a developer composed of a 0.04 wt% potassium hydroxide aqueous solution at 23 ° C. for 1 minute, developed, washed with ultrapure water, and air dried to form a coating.
Next, when the surface of the coating was observed using an optical microscope, no color unevenness was observed.
参考例20
液状組成物(r-1)に代えて、参考例2で調製した液状組成物(r-2)を用いた以外は、参考例19と同様にして、被膜を形成し、被膜表面を光学顕微鏡を用いて観察したところ、色ムラは観測されなかった。
Reference Example 2 0
A film was formed in the same manner as in Reference Example 19 except that the liquid composition (r-2) prepared in Reference Example 2 was used instead of the liquid composition (r-1), and the surface of the film was observed with an optical microscope. When observed using, no color unevenness was observed.
参考例21
液状組成物(r-1)に代えて、参考例3で調製した液状組成物(r-3)を用いた以外は、参考例19と同様にして、被膜を形成し、被膜表面を光学顕微鏡を用いて観察したところ、色ムラは観測されなかった。
Reference Example 2 1
A film was formed in the same manner as in Reference Example 19 except that the liquid composition (r-3) prepared in Reference Example 3 was used instead of the liquid composition (r-1), and the surface of the film was observed with an optical microscope. When observed using, no color unevenness was observed.
実施例7
実施例1で調製した液状組成物(r-4)を用いて、ソーダガラス基板上に塗膜を形成した。
次いで、高圧水銀ランプを用い、90ミクロンのストライプパターンフォトマスクを介して、塗膜に365nm、405nmおよび436nmの各波長を含む放射線を5,000J/m 2 の露光量で露光した。その後、この基板を23℃の0.04重量%水酸化カリウム水溶液からなる現像液に1分間浸漬して、現像したのち、超純水で洗浄して風乾して、被膜を形成した。
次いで、被膜表面を光学顕微鏡を用いて観察したとこころ、色ムラは観測されなかった。
Example 7
A coating film was formed on a soda glass substrate using the liquid composition (r-4) prepared in Example 1 .
Next, using a high-pressure mercury lamp, the coating film was exposed to radiation containing wavelengths of 365 nm, 405 nm, and 436 nm at an exposure amount of 5,000 J / m 2 through a 90-micron stripe pattern photomask . Then immersed for 1 minute in a developing solution comprising the substrate from 0.04 wt% aqueous potassium hydroxide 23 ° C., then the developed, and air-dried and washed with ultrapure water to form a film.
Next , when the surface of the coating was observed using an optical microscope, no color unevenness was observed.
比較例19
液状組成物(r-4)に代えて、比較例1で調製した液状組成物(r-5)を用いた以外は、実施例7と同様にして、被膜を形成し、被膜表面を光学顕微鏡を用いて観察したところ、色ムラは観測されなかった。
Comparative Example 19
A film was formed in the same manner as in Example 7 except that the liquid composition (r-5) prepared in Comparative Example 1 was used instead of the liquid composition (r -4 ), and the surface of the film was observed with an optical microscope. When observed using, no color unevenness was observed.
比較例20
液状組成物(r-4)に代えて、比較例2で調製した液状組成物(r-6)を用いた以外は、実施例7と同様にして、被膜を形成し、被膜表面を光学顕微鏡を用いて観察したところ、色ムラは観測されなかった。
Comparative Example 20
A film was formed in the same manner as in Example 7 except that the liquid composition (r-6) prepared in Comparative Example 2 was used in place of the liquid composition (r -4 ). When observed using, no color unevenness was observed.
比較例21
液状組成物(r-4)に代えて、比較例3で調製した液状組成物(r-7)を用いた以外は、実施例7と同様にして、被膜を形成し、被膜表面を光学顕微鏡を用いて観察したところ、色ムラが観測された。
色ムラが観測されるのは、カラーフィルター製造工程における異物検査機で渋滞を引き起こし、製品歩留まりを低下させるおそれが大きい。
Comparative Example 21
A film was formed in the same manner as in Example 7 except that the liquid composition (r-7) prepared in Comparative Example 3 was used instead of the liquid composition (r -4 ), and the surface of the film was observed with an optical microscope. When observed using, color unevenness was observed.
Color unevenness is observed, which is likely to cause traffic jams in the foreign matter inspection machine in the color filter manufacturing process and reduce the product yield.
以上の主な結果を、表1に示す。
表1で、「重合形態」は共重合体を製造する重合法であり、「リビング」は「リビングラジカル重合」を意味し、「ラジカル」は「ラジカル重合」を意味する。また、「溶剤再溶解性」の「○」は塗膜が完全に溶解したことを意味し、「×」は液中に多量の異物が観察されたことを意味する。
The main results are shown in Table 1.
In Table 1, “polymerization form” is a polymerization method for producing a copolymer, “living” means “living radical polymerization”, and “radical” means “radical polymerization”. In addition, “◯” in “solvent re-solubility” means that the coating film was completely dissolved, and “x” means that a large amount of foreign matter was observed in the liquid.
Claims (7)
R6 は相互に同一でも異なってもよく、R7 は炭素数4〜20の1価の含酸素複素環式基、炭素数4〜20の1価の含窒素複素環式基または炭素数4〜20の1価の含硫黄複素環式基を示し、複数存在するR7 は相互に同一でも異なってもよく、aは0〜5の整数、bは0〜5の整数で、(a+b)≦5である。〕
R6 は相互に同一でも異なってもよく、R7 は炭素数4〜20の1価の含酸素複素環式基、炭素数4〜20の1価の含窒素複素環式基または炭素数4〜20の1価の含硫黄複素環式基を示し、複数存在するR7 は相互に同一でも異なってもよく、cは0〜5の整数、dは1〜5の整数で、(c+d)≦5であり、eは0〜6の整数である。〕 (D), wherein the carbazole compound is an essential component of the photopolymerization initiator is a compound represented by the compound and / or formula represented by the following formula (23) (24), according to claim 1 or The radiation sensitive resin composition of Claim 2.
Priority Applications (5)
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