KR100907594B1 - Radiation-sensitive Composition for Color Filter, Method for Forming Colored Layer, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Device - Google Patents

Radiation-sensitive Composition for Color Filter, Method for Forming Colored Layer, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Device Download PDF

Info

Publication number
KR100907594B1
KR100907594B1 KR1020080087444A KR20080087444A KR100907594B1 KR 100907594 B1 KR100907594 B1 KR 100907594B1 KR 1020080087444 A KR1020080087444 A KR 1020080087444A KR 20080087444 A KR20080087444 A KR 20080087444A KR 100907594 B1 KR100907594 B1 KR 100907594B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pigment
acid
weight
radiation
sensitive composition
Prior art date
Application number
KR1020080087444A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20080083254A (en
Inventor
히데유끼 가미이
히데또시 미야모또
Original Assignee
제이에스알 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 제이에스알 가부시끼가이샤 filed Critical 제이에스알 가부시끼가이샤
Publication of KR20080083254A publication Critical patent/KR20080083254A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100907594B1 publication Critical patent/KR100907594B1/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0047Photosensitive materials characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor

Abstract

본 발명은, 투과율 및 콘트라스트비가 높고, 형성한 패턴 상에 이물질 발생없이 제조 수율이 높은 적색 화소를 형성할 수 있는 컬러 필터용 감방사선성 조성물, 그로부터 형성되는 착색층의 형성 방법 및 그 착색층을 구비하는 컬러 필터, 또한 액정 표시 장치에 관한 것이다.The present invention provides a radiation-sensitive composition for color filters, a method for forming a colored layer formed therefrom, and a colored layer, which have a high transmittance and contrast ratio, and are capable of forming a red pixel having a high production yield on the formed pattern without generating foreign substances. It relates to a color filter to be provided, and also to a liquid crystal display device.

Description

컬러 필터용 감방사선성 조성물, 착색층의 형성 방법, 컬러 필터 및 컬러 액정 표시 장치{Radiation-sensitive Composition for Color Filter, Method for Forming Colored Layer, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Device}Radiation-sensitive composition for color filter, method for forming colored layer, color filter and color liquid crystal display device}

본 발명은 컬러 필터용 감방사선성 조성물, 컬러 필터 및 컬러 액정 표시 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 투과형 또는 반사형 컬러 액정 표시 장치, 컬러 촬상관 소자 등에 사용되는 컬러 필터 제조에 유용한 컬러 필터용 감방사선성 조성물, 및 이 컬러 필터용 감방사선성 조성물로부터 형성된 착색층을 구비한 컬러 필터 및 컬러 액정 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a radiation-sensitive composition for a color filter, a color filter and a color liquid crystal display device, and more particularly, a color filter perception useful for the production of a color filter used in a transmissive or reflective color liquid crystal display device, a color image tube device, or the like. A color filter and a color liquid crystal display device provided with the radiation composition and the colored layer formed from the radiation sensitive composition for color filters.

착색 감방사선성 조성물을 사용하여 컬러 필터를 제조할 때, 통상 기판 상 또는 미리 원하는 패턴의 차광층을 형성한 기판 상에 착색 감방사선성 조성물의 도포막을 형성하고, 이어서 원하는 패턴 형상을 갖는 마스크를 통해 방사선을 조사( 이하, "노광"이라고 함)하고, 알칼리성 현상액에 의해 현상하여 미노광부를 용해 제거하고, 그 후 클린 오븐이나 핫 플레이트를 이용하여 베이킹함으로써 각색의 화소를 얻는 형성 방법(일본 특허 공개 (평)2-144502호 공보 및 일본 특허 공개 (평)3-53201호 공보 참조)이 알려져 있다. When manufacturing a color filter using a coloring radiation sensitive composition, the coating film of a coloring radiation sensitive composition is normally formed on the board | substrate or the board | substrate in which the light shielding layer of the desired pattern was previously formed, and then the mask which has a desired pattern shape Forming method of obtaining various pixels by irradiating radiation (hereinafter referred to as "exposure"), developing with an alkaline developer, dissolving and removing unexposed portions, and then baking using a clean oven or hot plate (Japanese Patent Japanese Patent Laid-Open No. 2-144502 and Japanese Patent Laid-Open No. 3-53201 are known.

이러한 컬러 필터를 구비하는 액정 표시 소자는 고휘도화가 요구되고 있으며, 따라서 컬러 필터도 최근 점점 더 고도의 광투과율이 요구되고 있다. 또한, 이러한 컬러 필터를 형성하는 화소 내지 착색층은 점점 더 고콘트라스트화가 요구되고 있다. 이러한 요구에 대하여, 일본 특허 공개 (평)10-260309호 공보에 개시되어 있는 바와 같이, 특히 적색 화소에 사용되는 안료로서 C.I.피그먼트 레드 254가 효과적인 것이 알려져 있다. 그러나, C.I.피그먼트 레드 254를 포함하는 감방사선 조성물을 사용하면, 때에 따라 적색 패턴 상에 이물질이 발생하여 수율이 저하되는 경우가 있다는 문제가 있었다. The liquid crystal display device having such a color filter is required to have high luminance, and thus, a color filter has also recently been required to have a higher light transmittance. In addition, pixels and colored layers forming such color filters are increasingly required to have higher contrast. For this demand, it is known that C.I. Pigment Red 254 is particularly effective as a pigment used for red pixels, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 10-260309. However, when using the radiation sensitive composition containing C.I. Pigment Red 254, there existed a problem that a foreign material may arise on a red pattern, and a yield may fall sometimes.

최근의 고도의 광투과율, 고콘트라스트화의 요구를 충족하고, 패턴 상에 이물질이 발생하지 않으며 제조 수율이 높은 적색 화소를 형성하기 위한 감방사선성 조성물은 종래 알려져 있지 않았다.Background Art A radiation sensitive composition for forming a red pixel which satisfies the recent high light transmittance and high contrast and does not generate foreign matter on a pattern and has a high production yield has not been known.

본 발명의 과제는 투과율 및 콘트라스트비가 높고, 형성된 패턴 상에 이물질이 발생하지 않으며 제조 수율이 높은 적색 화소를 제조할 수 있는 컬러 필터용 감방사선성 조성물, 그로부터 형성되는 착색층을 구비하는 컬러 필터 및 그의 형성 방법, 및 그 컬러 필터를 구비하는 액정 표시 소자를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is a color filter having a radiation-sensitive composition for a color filter that can produce a red pixel having a high transmittance and contrast ratio, does not generate foreign matter on the formed pattern and has a high manufacturing yield, and a color filter having a colored layer formed therefrom; It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device comprising the formation method and the color filter.

본 발명에 따르면, 상기 과제는 첫째로,According to the present invention, the above object is first,

(A) 안료, (B) 알칼리 가용성 수지, (C) 다관능성 단량체 및 (D) 광라디칼 발생제를 함유하며, 상기 안료 (A)는 평균 입경 r(nm)이 100≤r≤300이고, 또한 C.I.피그먼트 레드 254를 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터용 감방사선성 조성물에 의해 달성된다.(A) a pigment, (B) alkali-soluble resin, (C) polyfunctional monomer, and (D) photoradical generator, The said pigment (A) has an average particle diameter r (nm) of 100 <= r <= 300, It is also achieved by a radiation sensitive composition for color filters comprising CI pigment red 254.

상기 과제는 둘째로, Secondly, the above task

(1) 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 컬러 필터용 감방사선성 조성물의 도포막을 기판 상에 형성하는 공정,(1) Process of forming the coating film of the radiation sensitive composition for color filters in any one of Claims 1-3 on a board | substrate,

(2) 상기 도포막의 적어도 일부에 방사선을 조사하는 공정,(2) irradiating at least a part of said coating film with radiation,

(3) 현상 공정, 및(3) developing process, and

(4) 가열 공정(4) heating process

을 포함하는 것을 특징으로 하는 착색층의 형성 방법에 의해 달성된다.It is achieved by the method of forming a colored layer comprising a.

본 발명에 따르면, 상기 과제는 세째로,According to the present invention, the problem is third,

상기 컬러 필터용 감방사선성 조성물로부터 형성된 착색층을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터에 의해 달성된다. It is achieved by the color filter characterized by including the colored layer formed from the radiation sensitive composition for color filters.

본 발명에 따르면, 상기 과제는 네째로,According to the present invention, the fourth problem,

상기 컬러 필터용 감방사선성 조성물로부터 형성된 착색층을 포함하는 컬러 액정 표시 장치에 의해 달성된다. It is achieved by the color liquid crystal display device containing the colored layer formed from the radiation sensitive composition for color filters.

본 발명에 따르면, 투과율 및 콘트라스트비가 높고, 형성한 패턴 상에 이물질 발생없이 제조 수율이 높은 적색 화소를 형성할 수 있는 컬러 필터용 감방사선성 조성물, 그로부터 형성되는 착색층의 형성 방법 및 그 착색층을 구비하는 컬러 필터, 또한 액정 표시 소자가 제공된다. According to the present invention, a radiation-sensitive composition for color filters having a high transmittance and a contrast ratio and capable of forming a red pixel having a high production yield without generating foreign substances on the formed pattern, a method of forming a colored layer formed therefrom and the colored layer thereof There is provided a color filter comprising a liquid crystal display device.

본 발명의 컬러 필터용 감방사선성 조성물은 전자 공업 분야의 컬러 액정 표시 장치를 비롯한 각종 컬러 필터를 갖는 기기 제조에 매우 바람직하게 이용할 수 있다. The radiation sensitive composition for color filters of this invention can be used very favorably for manufacture of the apparatus which has various color filters, including the color liquid crystal display device of the electronic industry.

본 발명자들은 상기한 종래 기술의 문제점(적색 패턴 상의 이물질 발생)이 착색층 형성 공정에서 고온의 처리 온도를 채용했을 때 빈번하게 발생하는 것을 발견하였다. 또한, 감방사선성 조성물이 C.I.피그먼트 레드 254를 포함하는 안료를 함유하는 경우라도 안료를 특정한 입경 범위로 하면, 고온으로 처리하는 경우에도 이물질이 발생하지 않고 색특성을 손상시키지 않는 것을 발견하여 본 발명을 완성 하기에 이르렀다.The present inventors have found that the above-mentioned problems of the prior art (generating foreign matter on a red pattern) frequently occur when high temperature treatment temperatures are employed in the colored layer forming process. In addition, even when the radiation-sensitive composition contains a pigment containing CI Pigment Red 254, if the pigment is in a specific particle size range, it has been found that even when treated at a high temperature, foreign matter does not occur and color characteristics are not impaired. The invention has been completed.

또한, 본 발명에서 말하는 "방사선"은 가시광선, 자외선, 원자외선, 전자선, X선 등을 포함하는 것을 의미한다.In addition, the term "radiation" in the present invention means that it includes visible light, ultraviolet rays, far ultraviolet rays, electron beams, X-rays and the like.

이하, 본 발명에 대하여 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail.

(A) 안료(A) pigment

본 발명의 조성물에 사용되는 안료는, 평균 입경 r(nm)이 100≤r≤300, 바람직하게는 100≤r≤150이고, 또한 C.I.피그먼트 레드 254를 포함한다. The pigment used in the composition of the present invention has an average particle diameter r (nm) of 100 ≦ r ≦ 300, preferably 100 ≦ r ≦ 150, and further comprises C.I. Pigment Red 254.

안료 (A)의 평균 입경이 이 범위에 있으면, 안료에 C.I.피그먼트 레드 254가 포함되어 있어도, 이러한 안료를 함유하는 감방사선성 조성물은 착색층 형성 공정에서의 처리 온도를 200 ℃ 이상으로 해도 이물질이 발생하지 않고, 또한 230 ℃ 이상, 특히 250 ℃ 이상의 처리 온도를 채용할 수 있다.If the average particle diameter of the pigment (A) exists in this range, even if CI pigment red 254 is contained in a pigment, the radiation sensitive composition containing such a pigment is a foreign material even if the process temperature in a colored layer formation process is 200 degreeC or more. It does not generate | occur | produce, and the process temperature of 230 degreeC or more, especially 250 degreeC or more can be employ | adopted.

또한, 안료의 1차 입경의 분포로서는, 평균 입경±100 nm에 들어가는 입자가 전체의 70 중량% 이상인 것이 바람직하고, 이 값이 전체의 80 중량% 이상인 것이 더욱 바람직하다. Moreover, as distribution of the primary particle diameter of a pigment, it is preferable that the particle | grains which enter into average particle diameter +/- 100 nm are 70 weight% or more of the whole, and it is more preferable that this value is 80 weight% or more of the whole.

일반적으로 착색 조성물 중의 안료에 포함되는 C.I.피그먼트 레드 254의 비율이 높을수록, 처리 온도를 높게 설정했을 경우에 이물질 발생 문제가 쉽게 일어나는 경향이 있지만, 상기와 같은 안료로 했을 경우에는 안료 중의 C.I.피그먼트 레드 254의 비율이 30 중량% 이상이라도 이물질이 발생하지 않고, 또한 그 비율을 50 중량% 이상으로 할 수 있으며, 특히 60 중량% 이상으로 하는 것도 가능하다. Generally, the higher the ratio of CI Pigment Red 254 contained in the pigment in the coloring composition, the more easily the problem of foreign matter generation occurs when the treatment temperature is set higher. Even if the ratio of the cement red 254 is 30 weight% or more, a foreign material does not generate | occur | produce, and the ratio can be 50 weight% or more, It is also possible to make it especially 60 weight% or more.

상기와 같은 평균 입경 및 입경 분포의 안료는, 시판되고 있는 C.I.피그먼트 레드 254 (평균 입경은 통상 300 nm 초과 1000 nm 이하임)를 필요에 따라 첨가되는 다른 안료 (평균 입경은 통상 300 nm 초과 1000 nm 이하임)와 함께 바람직하게는 분산제나 용매의 존재하에서 비드 밀이나 롤 밀로 적당한 조건하에 혼합ㆍ분산시킴으로써 안료 분산액으로 얻을 수 있다. The pigment of the average particle diameter and particle size distribution as mentioned above is commercially available CI Pigment Red 254 (average particle diameter is more than 300 nm and 1000 nm or less) as needed Other pigment (average particle diameter is more than 300 nm and 1000 normally) nm or less), preferably by mixing and dispersing with a bead mill or a roll mill under suitable conditions in the presence of a dispersant or a solvent, to obtain a pigment dispersion.

여기서 사용되는 분산제로서는 양이온계, 음이온계, 양쪽성, 또는 비이온계의 적절한 분산제를 사용할 수 있지만, 바람직하게는 우레탄 결합을 갖는 화합물 ( 이하, "우레탄계 분산제"라고 함)을 포함하는 분산제를 사용할 수 있다. As a dispersant used herein, a suitable dispersant of cationic, anionic, amphoteric, or nonionic type can be used, but preferably a dispersant containing a compound having a urethane bond (hereinafter referred to as "urethane-based dispersant") can be used. Can be.

우레탄 결합은 일반적으로 화학식 R-NH-COO-R' (단, R 및 R'는 지방족, 지환족 또는 방향족의 1가 또는 다가의 유기기이고, 다가의 유기기인 경우에는 또 다른 우레탄 결합을 갖는 기 또는 다른 기에 결합되어 있음)로 표시되고, 우레탄계 분산제 중의 친유성기 및(또는) 친수성기에 존재할 수 있으며, 또한 우레탄계 분산제의 주쇄 및(또는) 측쇄에 존재할 수 있고, 또한 우레탄계 분산제 중에 1개 이상 존재할 수 있다. 우레탄 결합이 우레탄계 분산제 중에 2개 이상 존재할 때, 각 우레탄 결합은 동일할 수도 있고 또는 상이할 수도 있다.Urethane bonds are generally of the formula R-NH-COO-R ', provided that R and R' are monovalent or polyvalent organic groups of aliphatic, cycloaliphatic or aromatic, and in the case of polyvalent organic groups have another urethane bond Groups or other groups, and may be present in the lipophilic and / or hydrophilic groups in the urethane-based dispersant, and may also be present in the main and / or side chains of the urethane-based dispersant, and also in one or more of the urethane-based dispersant. Can be. When two or more urethane bonds are present in a urethane-based dispersant, each urethane bond may be the same or different.

이러한 우레탄계 분산제로서는, 예를 들면 디이소시아네이트류 및(또는) 트리이소시아네이트류와 한쪽 말단에 히드록시기를 갖는 폴리에스테르류 및(또는) 양쪽 말단에 히드록시기를 갖는 폴리에스테르류와의 반응 생성물을 들 수 있다. Examples of such urethane-based dispersants include reaction products of diisocyanates and / or triisocyanates with polyesters having hydroxy groups at one end and / or polyesters having hydroxy groups at both ends.

상기 디이소시아네이트류로서는, 예를 들면 벤젠-1,3-디이소시아네이트, 벤젠-1,4-디이소시아네이트 등의 벤젠 디이소시아네이트류; 톨루엔-2,4-디이소시아네이트, 톨루엔-2,5-디이소시아네이트, 톨루엔-2,6-디이소시아네이트, 톨루엔-3,5-디 이소시아네이트 등의 톨루엔 디이소시아네이트류; 1,2-크실렌-3,5-디이소시아네이트, 1,2-크실렌-3,6-디이소시아네이트, 1,2-크실렌-4,6-디이소시아네이트, 1,3-크실렌-2,4-디이소시아네이트, 1,3-크실렌-2,5-디이소시아네이트, 1,3-크실렌-2,6-디이소시아네이트, 1,3-크실렌-4,6-디이소시아네이트, 1,4-크실렌-2,5-디이소시아네이트, 1,4-크실렌-2,6-디이소시아네이트 등의 크실렌 디이소시아네이트류 등의 방향족 디이소시아네이트류를 들 수 있고, 또한 상기 트리이소시아네이트류로서는 예를 들면, 벤젠-1,2,4-트리이소시아네이트, 벤젠-1,2,5-트리이소시아네이트, 벤젠-1,3,5-트리이소시아네이트 등의 벤젠 트리이소시아네이트류; 톨루엔-2,3,5-트리이소시아네이트, 톨루엔-2,3,6-트리이소시아네이트, 톨루엔-2,4,5-트리이소시아네이트, 톨루엔-2,4,6-트리이소시아네이트, 톨루엔-3,4,6-트리이소시아네이트, 톨루엔-3,5,6-트리이소시아네이트 등의 톨루엔 트리이소시아네이트류, 1,2-크실렌-3,4,6-트리이소시아네이트, 1,2-크실렌-3,5,6-트리이소시아네이트, 1,3-크실렌-2,4,5-트리이소시아네이트, 1,3-크실렌-2,4,6-트리이소시아네이트, 1,3-크실렌-3,4,5-트리이소시아네이트, 1,4-크실렌-2,3,5-트리이소시아네이트, 1,4-크실렌-2,3,6-트리이소시아네이트 등의 크실렌 트리이소시아네이트류 등의 방향족 트리이소시아네이트류를 들 수 있다.As said diisocyanate, For example, benzene diisocyanate, such as benzene-1, 3- diisocyanate and benzene-1, 4- diisocyanate; Toluene diisocyanates such as toluene-2,4-diisocyanate, toluene-2,5-diisocyanate, toluene-2,6-diisocyanate, toluene-3,5-diisocyanate; 1,2-xylene-3,5-diisocyanate, 1,2-xylene-3,6-diisocyanate, 1,2-xylene-4,6-diisocyanate, 1,3-xylene-2,4-di Isocyanate, 1,3-xylene-2,5-diisocyanate, 1,3-xylene-2,6-diisocyanate, 1,3-xylene-4,6-diisocyanate, 1,4-xylene-2,5 Aromatic diisocyanates, such as xylene diisocyanate, such as-diisocyanate and 1, 4- xylene-2, 6- diisocyanate, are mentioned, As said triisocyanate, For example, benzene-1,2,4 Benzene triisocyanates such as -triisocyanate, benzene-1,2,5-triisocyanate, benzene-1,3,5-triisocyanate; Toluene-2,3,5-triisocyanate, toluene-2,3,6-triisocyanate, toluene-2,4,5-triisocyanate, toluene-2,4,6-triisocyanate, toluene-3,4, Toluene triisocyanates such as 6-triisocyanate and toluene-3,5,6-triisocyanate, 1,2-xylene-3,4,6-triisocyanate, 1,2-xylene-3,5,6-triis Isocyanate, 1,3-xylene-2,4,5-triisocyanate, 1,3-xylene-2,4,6-triisocyanate, 1,3-xylene-3,4,5-triisocyanate, 1,4 And aromatic triisocyanates such as xylene triisocyanates such as -xylene-2,3,5-triisocyanate and 1,4-xylene-2,3,6-triisocyanate.

이들 디이소시아네이트류 및 트리이소시아네이트류는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. These diisocyanate and triisocyanate can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

또한, 상기 한쪽 말단에 히드록시기를 갖는 폴리에스테르류 또는 양쪽 말단에 히드록시기를 갖는 폴리에스테르류로서는, 예를 들면 한쪽 말단 또는 양쪽 말단 에 히드록시기를 갖는 폴리카프로락톤, 한쪽 말단 또는 양쪽 말단에 히드록시기를 갖는 폴리발레로락톤, 한쪽 말단 또는 양쪽 말단에 히드록시기를 갖는 폴리프로피오락톤 등의 한쪽 말단 또는 양쪽 말단에 히드록시기를 갖는 폴리락톤류; 한쪽 말단 또는 양쪽 말단에 히드록시기를 갖는 폴리에틸렌테레프탈레이트, 한쪽 말단 또는 양쪽 말단에 히드록시기를 갖는 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 한쪽 말단 또는 양쪽 말단에 히드록시기를 갖는 중축합계 폴리에스테르류 등을 들 수 있다. Moreover, as polyesters which have a hydroxyl group in the said one end, or polyesters which have a hydroxyl group in both terminal, For example, polycaprolactone which has a hydroxyl group in one terminal or both terminal, Poly which has a hydroxyl group in one terminal or both terminal is mentioned, for example. Polylactones having a hydroxy group at one or both ends, such as valerolactone and polypropiolactone having a hydroxy group at one or both ends; And polycondensed polyesters having a hydroxy group at one or both ends, such as polyethylene terephthalate having a hydroxy group at one or both ends, and polybutylene terephthalate having a hydroxy group at one or both ends.

이들 한쪽 말단에 히드록시기를 갖는 폴리에스테르류 및 양쪽 말단에 히드록시기를 갖는 폴리에스테르류는, 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. The polyester which has a hydroxyl group at these one terminal, and the polyester which has a hydroxyl group at both terminal can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively.

본 발명의 우레탄계 분산제로서는, 방향족 디이소시아네이트류와 한쪽 말단에 히드록시기를 갖는 폴리락톤류 및(또는) 양쪽 말단에 히드록시기를 갖는 폴리락톤류와의 반응 생성물이 바람직하며, 특히 톨루엔 디이소시아네이트류와 한쪽 말단에 히드록시기를 갖는 폴리카프로락톤 및(또는) 양쪽 말단에 히드록시기를 갖는 폴리카프로락톤과의 반응 생성물이 바람직하다.As the urethane-based dispersant of the present invention, a reaction product of aromatic diisocyanates with polylactones having a hydroxy group at one end and / or polylactones having a hydroxy group at both ends is preferable, and particularly toluene diisocyanates and one end Preference is given to reaction products with polycaprolactone having a hydroxy group at and / or polycaprolactone having a hydroxy group at both ends.

상기 특성 중 적어도 하나를 갖는 우레탄계 분산제의 구체예로서는, 상품명으로 예를 들면 EFKA-46, 동-47 (에프카 케미컬즈 비 브이(EFKA)사 제조), 디스퍼바익(Disperbyk; 빅케미(BYK)사 제조), 디스패론 (구마모또 가세이(주) 제조) 등을 들 수 있다. As a specific example of the urethane type dispersing agent which has at least one of the said characteristics, EFKA-46, East-47 (made by EFKA Chemicals Co., Ltd.), Disperbyk (BYK) by brand name, for example. Company), Disperon (Kumamoto Kasei Co., Ltd.), etc. are mentioned.

본 발명의 우레탄계 분산제의 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정한 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량 (이하, "Mw"라고 함)은 통상 5,000 내지 50,000, 바람직하게는 7,000 내지 20,000이다. The polystyrene reduced weight average molecular weight (hereinafter referred to as "Mw") measured by gel permeation chromatography (GPC) of the urethane-based dispersant of the present invention is usually 5,000 to 50,000, preferably 7,000 to 20,000.

본 발명에 있어서, 우레탄계 분산제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In this invention, a urethane type dispersing agent can be used individually or in mixture of 2 or more types.

우레탄계 분산제의 사용량은, C.I.피그먼트 레드 254 및 필요에 따라 첨가되는 다른 안료의 합계 100 중량부에 대하여 통상 100 중량부 이하, 바람직하게는 0.5 내지 100 중량부, 더욱 바람직하게는 1 내지 70 중량부, 특히 바람직하게는 10 내지 50 중량부이다. 이 경우, 우레탄계 분산제의 사용량이 100 중량부를 초과하면, 착색 레지스트로서의 현상성 등의 성능이 손상되는 경우가 있다. The amount of the urethane-based dispersant is usually 100 parts by weight or less, preferably 0.5 to 100 parts by weight, and more preferably 1 to 70 parts by weight based on 100 parts by weight of the total of CI Pigment Red 254 and other pigments added as necessary. And particularly preferably 10 to 50 parts by weight. In this case, when the usage-amount of a urethane type dispersing agent exceeds 100 weight part, performances, such as developability as a coloring resist, may be impaired.

또한, 용매로서는 본 발명의 감방사선성 조성물에 사용할 수 있는 용매로서 후술하는 것과 동일한 용매를 사용할 수 있다. In addition, as a solvent, the solvent similar to what is mentioned later can be used as a solvent which can be used for the radiation sensitive composition of this invention.

이러한 용매는 C.I.피그먼트 레드 254 및 필요에 따라 첨가되는 다른 안료의 합계 100 중량부에 대하여 통상 500 내지 1000 중량부, 바람직하게는 700 내지 900 중량부 사용할 수 있다. Such a solvent can be used in general from 500 to 1000 parts by weight, preferably 700 to 900 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total of C.I. Pigment Red 254 and other pigments added as necessary.

상기 혼합ㆍ분산을 비드 밀로 행하는 경우에는, 직경 0.5 내지 10 mm의 유리 비드나 티타니아 비드 등을 사용하며, 미리 혼합한 C.I.피그먼트 레드 254 및 필요에 따라 첨가되는 다른 안료의 합계, 분산제 및 용매의 혼합액을 비드 밀 중에 주입하여 실시할 수 있다. In the case of performing the mixing and dispersing with a bead mill, glass beads, titania beads, and the like having a diameter of 0.5 to 10 mm are used, and a total of CI pigment red 254 and other pigments added as necessary, a dispersant, and a solvent are used. It can carry out by inject | pouring a mixed liquid into the bead mill.

비드의 충전율은 통상 50 내지 80 %이며, 혼합액의 주입량은 통상 밀 용량의 20 내지 50 % 정도이다. 분산 시간은 통상 2 내지 4시간 정도이다. The filling rate of the beads is usually 50 to 80%, and the injection amount of the mixed liquid is usually about 20 to 50% of the mill capacity. Dispersion time is about 2 to 4 hours normally.

분산은 냉각수 등으로 냉각하면서 실시하는 것이 바람직하다. Dispersion is preferably performed while cooling with cooling water or the like.

롤 밀로서는 3축 롤 밀, 2축 롤 밀 등을 사용할 수 있다. 롤 간격은 10 ㎛ 이하인 것이 바람직하며, 전단력은 통상 108 dyn/sec 정도이다. As a roll mill, a triaxial roll mill, a biaxial roll mill, etc. can be used. It is preferable that a roll space | interval is 10 micrometers or less, and a shear force is about 10 8 dyn / sec normally.

분산 시간은 통상 2 내지 4시간 정도이다. Dispersion time is about 2 to 4 hours normally.

상기와 같이 하여 얻어진 안료 분산액 중의 안료의 평균 입경 및 그 분포는 동적 광산란법에 의해 측정할 수 있다.The average particle diameter of the pigment in the pigment dispersion liquid obtained as mentioned above and its distribution can be measured by the dynamic light scattering method.

또한, 안료 분산액 중의 안료의 평균 입경의 분포는 동적 광산란법에 의해 측정할 수 있다. In addition, the distribution of the average particle diameter of the pigment in a pigment dispersion liquid can be measured by the dynamic light scattering method.

본 발명의 감방사선성 조성물의 (A) 성분이 함유할 수 있는 그 밖의 안료로서는, 컬러 필터에는 고순도, 고투과성의 발색과 내열성이 요구되는 점에서 유기 안료가 바람직하다. As another pigment which (A) component of the radiation sensitive composition of this invention can contain, an organic pigment is preferable at the point which a color filter requires high purity, high permeability color development, and heat resistance.

이러한 그 밖의 안료로서는, 예를 들면 컬러 인덱스(C.I.; The Society of Dyers and Colourists사 발행)에서 피그먼트로 분류되어 있는 화합물, 구체적으로는 하기와 같은 컬러 인덱스(C.I.) 번호가 부여되어 있는 것을 들 수 있다. As such other pigments, for example, compounds classified as pigments in the color index (CI; issued by The Society of Dyers and Colourists), specifically those having the following color index (CI) numbers are given. Can be.

C.I.피그먼트 옐로우 12, C.I.피그먼트 옐로우 13, C.I.피그먼트 옐로우 14, C.I.피그먼트 옐로우 17, C.I.피그먼트 옐로우 20, C.I.피그먼트 옐로우 24, C.I.피그먼트 옐로우 31, C.I.피그먼트 옐로우 55, C.I.피그먼트 옐로우 83, C.I. 피그먼트 옐로우 93, C.I.피그먼트 옐로우 109, C.I.피그먼트 옐로우 110, C.I.피그먼트 옐로우 138, C.I.피그먼트 옐로우 139, C.I.피그먼트 옐로우 150, C.I.피그먼트 옐로우 153, C.I.피그먼트 옐로우 154, C.I.피그먼트 옐로우 155, C.I.피그먼트 옐 로우 166, C.I.피그먼트 옐로우 168, C.I.피그먼트 옐로우 211; CI Pigment Yellow 12, CI Pigment Yellow 13, CI Pigment Yellow 14, CI Pigment Yellow 17, CI Pigment Yellow 20, CI Pigment Yellow 24, CI Pigment Yellow 31, CI Pigment Yellow 55, CI Pigment Yellow 83, CI Pigment Yellow 93, CI Pigment Yellow 109, CI Pigment Yellow 110, CI Pigment Yellow 138, CI Pigment Yellow 139, CI Pigment Yellow 150, CI Pigment Yellow 153, CI Pigment Yellow 154, CI Pigment Yellow 155, CI pigment yellow 166, CI pigment yellow 168, CI pigment yellow 211;

C.I.피그먼트 오렌지 36, C.I.피그먼트 오렌지 43, C.I.피그먼트 오렌지 51, C.I.피그먼트 오렌지 61, C.I.피그먼트 오렌지 71;C.I. Pigment Orange 36, C.I.Pigment Orange 43, C.I.Pigment Orange 51, C.I.Pigment Orange 61, C.I.Pigment Orange 71;

C.I.피그먼트 레드 9, C.I.피그먼트 레드 97, C.I.피그먼트 레드 122, C.I.피그먼트 레드 123, C.I.피그먼트 레드 149, C.I.피그먼트 레드 168, C.I.피그먼트 레드 176, C.I.피그먼트 레드 177, C.I.피그먼트 레드 180, C.I.피그먼트 레드 207, C.I.피그먼트 레드 208, C.I.피그먼트 레드 209, C.I.피그먼트 레드 215, C.I.피그먼트 레드 224, C.I.피그먼트 레드 242;CI Pigment Red 9, CI Pigment Red 97, CI Pigment Red 122, CI Pigment Red 123, CI Pigment Red 149, CI Pigment Red 168, CI Pigment Red 176, CI Pigment Red 177, CI Pigment Pigment Red 180, CI Pigment Red 207, CI Pigment Red 208, CI Pigment Red 209, CI Pigment Red 215, CI Pigment Red 224, CI Pigment Red 242;

C.I.피그먼트 바이올렛 19, 피그먼트 바이올렛 23, 피그먼트 바이올렛 29;C.I. Pigment Violet 19, Pigment Violet 23, Pigment Violet 29;

C.I.피그먼트 블루 15, C.I.피그먼트 블루 60, C.I.피그먼트 블루 15:3, C.I.피그먼트 블루 15:4, C.I.피그먼트 블루 15:6,C.I. Pigment Blue 15, C.I. Pigment Blue 60, C.I.Pigment Blue 15: 3, C.I.Pigment Blue 15: 4, C.I.Pigment Blue 15: 6,

C.I.피그먼트 그린 7, C.I.피그먼트 그린 36, C.I.피그먼트 그린 136, C.I.피그먼트 그린 210;C.I. pigment green 7, C.I. pigment green 36, C.I. pigment green 136, C.I. pigment green 210;

C.I.피그먼트 브라운 23, C.I.피그먼트 브라운 25.C.I. Pigment Brown 23, C.I.Pigment Brown 25.

이들 유기 안료는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.These organic pigments can be used individually or in mixture of 2 or more types.

또한, C.I.피그먼트 레드 254 및 그 밖의 유기 안료는 재결정법, 재침전법, 용매 세정법, 승화법, 진공 가열법 및 이들의 조합에 의해 정제하여 사용할 수도 있다.In addition, C.I. Pigment Red 254 and other organic pigments may be purified by recrystallization, reprecipitation, solvent washing, sublimation, vacuum heating, or a combination thereof.

(B) 알칼리 가용성 수지(B) alkali soluble resin

본 발명의 알칼리 가용성 수지 (B)로서는, 안료 (A)에 대하여 결합제로서 작 용하며, 또한 컬러 필터를 제조할 때 그 현상 처리 공정에서 사용되는 현상액, 특히 바람직하게는 알칼리 현상액에 대하여 가용성을 갖는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 카르복실기를 갖는 알칼리 가용성 수지가 바람직하고, 특히 1개 이상의 카르복실기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체 (이하, "카르복실기 함유 불포화 단량체"라고 함)와 다른 공중합 가능한 에틸렌성 불포화 단량체 (이하, "공중합성 불포화 단량체"라고 함)의 공중합체 (이하, "카르복실기 함유 공중합체"라고 함)가 바람직하다.As alkali-soluble resin (B) of this invention, it operates as a binder with respect to pigment (A), and also has solubility with respect to the developing solution used by the developing process at the time of manufacturing a color filter, Especially preferably an alkaline developing solution. Although it does not specifically limit if it is a thing, Alkali-soluble resin which has a carboxyl group is preferable, In particular, the ethylenically unsaturated monomer copolymerizable with another ethylenically unsaturated monomer which has 1 or more carboxyl groups (henceforth "carboxyl group-containing unsaturated monomer") (hereinafter, Preferred is a copolymer of "copolymerizable unsaturated monomer" (hereinafter referred to as "carboxyl group-containing copolymer").

카르복실기 함유 불포화 단량체의 예로서는, As an example of a carboxyl group-containing unsaturated monomer,

아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, α-클로로아크릴산, 신남산 등의 불포화 모노카르복실산류;Unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid and cinnamic acid;

말레산, 무수 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 무수 이타콘산, 시트라콘산, 무수 시트라콘산, 메사콘산 등의 불포화 디카르복실산 또는 그의 무수물류; Unsaturated dicarboxylic acids or anhydrides thereof such as maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride and mesaconic acid;

3가 이상의 불포화 다가 카르복실산 또는 그의 무수물류;Trivalent or higher unsaturated polyvalent carboxylic acid or anhydrides thereof;

숙신산 모노(2-아크릴로일옥시에틸), 숙신산 모노(2-메타크릴로일옥시에틸), 프탈산 모노(2-아크릴로일옥시에틸), 프탈산 모노(2-메타크릴로일옥시에틸) 등의 2가 이상의 다가 카르복실산의 모노[(메트)아크릴로일옥시알킬]에스테르류; Succinic acid mono (2-acryloyloxyethyl), succinic acid mono (2-methacryloyloxyethyl), phthalic acid mono (2-acryloyloxyethyl), phthalic acid mono (2-methacryloyloxyethyl) Mono [(meth) acryloyloxyalkyl] esters of divalent or higher polyhydric carboxylic acid;

ω-카르복시 폴리카프로락톤 모노아크릴레이트, ω-카르복시 폴리카프로락톤 모노메타크릴레이트 등의 양쪽 말단에 카르복시기와 히드록시기를 갖는 중합체의 모노(메트)아크릴레이트류 등을 들 수 있다. and mono (meth) acrylates of polymers having a carboxyl group and a hydroxyl group at both terminals, such as? -carboxy polycaprolactone monoacrylate and? -carboxy polycaprolactone monomethacrylate.

이들 카르복실기 함유 불포화 단량체 중, 숙신산 모노(2-아크릴로일옥시에 틸) 및 프탈산 모노(2-아크릴로일옥시에틸)은 각각 M-5300 및 M-5400 (도아 고세이 (주) 제조)의 상품명으로 시판되고 있다.Among these carboxyl group-containing unsaturated monomers, succinic acid mono (2-acryloyloxyethyl) and phthalic acid mono (2-acryloyloxyethyl) are the trademarks of M-5300 and M-5400 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), respectively. It is commercially available.

상기 카르복실기 함유 불포화 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The said carboxyl group-containing unsaturated monomer can be used individually or in mixture of 2 or more types.

또한, 공중합성 불포화 단량체로서는, 예를 들면As the copolymerizable unsaturated monomer, for example,

스티렌, α-메틸스티렌, o-비닐톨루엔, m-비닐톨루엔, p-비닐톨루엔, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르 등의 방향족 비닐 화합물;Styrene, α-methylstyrene, o-vinyltoluene, m-vinyltoluene, p-vinyltoluene, p-chlorostyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxystyrene, o-vinylbenzylmethyl Aromatic vinyl compounds such as ether, m-vinyl benzyl methyl ether, p-vinyl benzyl methyl ether, o-vinyl benzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether, and p-vinyl benzyl glycidyl ether;

인덴, 1-메틸인덴 등의 인덴류;Indenes such as indene and 1-methylindene;

메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-프로필아크릴레이트, n-프로필메타크릴레이트, i-프로필아크릴레이트, i-프로필메타크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, i-부틸아크릴레이트, i-부틸메타크릴레이트, sec-부틸아크릴레이트, sec-부틸메타크릴레이트, t-부틸아크릴레이트, t-부틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 3-히드록시프로필아크릴레이트, 3-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-히드록시부틸아크릴레이트, 2-히드록시부틸메타크릴레이트, 3-히드록시부틸아크릴레이트, 3-히드록시부틸메타크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트, 4-히드록시부틸메타크릴레이트, 알릴아크릴레이트, 알릴메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤 질메타크릴레이트, 시클로헥실아크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 페닐아크릴레이트, 페닐메타크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 2-메톡시에틸메타크릴레이트, 2-페녹시에틸아크릴레이트, 2-페녹시에틸메타크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜메타크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜아크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜메타크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-8-일아크릴레이트, 트리시클로 [5.2.1.02,6]데칸-8-일메타크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필메타크릴레이트, 글리세롤 모노아크릴레이트, 글리세롤 모노메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 에스테르류; Methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, i-propyl acrylate, i-propyl methacrylate, n-butyl acrylate, n-butyl methacrylate, i-butyl acrylate, i-butyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, t-butyl acrylate, t-butyl methacrylate, 2-hydroxy Ethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxy Hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 3-hydroxybutyl acrylate, 3-hydroxybutyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 4-hydroxybutyl methacrylate, allyl Relate, allyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, phenyl acrylate, phenyl methacrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 2-methoxy Ethyl methacrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, 2-phenoxyethyl methacrylate, methoxy diethylene glycol acrylate, methoxy diethylene glycol methacrylate, methoxy triethylene glycol acrylate, methoxy triethylene glycol Methacrylate, methoxy propylene glycol acrylate, methoxy propylene glycol methacrylate, methoxy dipropylene glycol acrylate, methoxy dipropylene glycol methacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, tricyclo [ 5.2.1.0 2,6] decane-8-yl acrylate, tricyclo [5.2.1.0 2,6] decane-8-yl methacrylate les Bit, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, unsaturated carboxylic acid esters, glycerol monoacrylate, glycerol monomethacrylate;

2-아미노에틸아크릴레이트, 2-아미노에틸메타크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸메타크릴레이트, 2-아미노프로필아크릴레이트, 2-아미노프로필메타크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필메타크릴레이트, 3-아미노프로필아크릴레이트, 3-아미노프로필메타크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필아크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 아미노알킬에스테르류; 2-aminoethyl acrylate, 2-aminoethyl methacrylate, 2-dimethylaminoethyl acrylate, 2-dimethylaminoethyl methacrylate, 2-aminopropyl acrylate, 2-aminopropyl methacrylate, 2-dimethyl Unsaturated carboxyl such as aminopropyl acrylate, 2-dimethylaminopropyl methacrylate, 3-aminopropyl acrylate, 3-aminopropyl methacrylate, 3-dimethylaminopropyl acrylate and 3-dimethylaminopropyl methacrylate Acid aminoalkyl esters;

글리시딜아크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트 등의 불포화 카르복실산 글리시딜에스테르류;Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate;

아세트산 비닐, 프로피온산 비닐, 부티르산 비닐, 벤조산 비닐 등의 카르복실산 비닐에스테르류; Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate and vinyl benzoate;

비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, 알릴글리시딜에테르 등의 불포화 에테르류;Unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether and allyl glycidyl ether;

아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴, 시안화비닐리덴 등의 시안화비닐 화합물; Vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile, methacrylonitrile, α-chloroacrylonitrile and vinylidene cyanide;

아크릴아미드, 메타크릴아미드, α-클로로아크릴아미드, N-2-히드록시에틸 아크릴아미드, N-2-히드록시에틸메타크릴아미드 등의 불포화 아미드류;Unsaturated amides such as acrylamide, methacrylamide, α-chloroacrylamide, N-2-hydroxyethyl acrylamide and N-2-hydroxyethyl methacrylamide;

말레이미드, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드 등의 불포화 이미드류;Unsaturated imides such as maleimide, N-phenylmaleimide, and N-cyclohexylmaleimide;

1,3-부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 지방족 공액 디엔류; Aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene;

폴리스티렌, 폴리메틸아크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리-n-부틸아크릴레이트, 폴리-n-부틸메타크릴레이트, 폴리실록산 등의 중합체 분자쇄의 말단에 모노아크릴로일기 또는 모노메타크릴로일기를 갖는 거대 단량체류 등을 들 수 있다.Monoacryloyl group or monomethacryloyl group at the terminal of the polymer molecular chain, such as polystyrene, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, poly-n-butyl acrylate, poly-n-butyl methacrylate, and polysiloxane The macromonomer which has, etc. are mentioned.

이들 공중합성 불포화 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.These copolymerizable unsaturated monomers can be used individually or in mixture of 2 or more types.

본 발명의 카르복실기 함유 공중합체로서는, (1) 아크릴산 및(또는) 메타크릴산을 필수 성분으로 하며, 경우에 따라 숙신산 모노(2-아크릴로일옥시에틸), 숙신산 모노(2-메타크릴로일옥시에틸), ω-카르복시 폴리카프로락톤 모노아크릴레이 트 및 ω-카르복시 폴리카프로락톤 모노메타크릴레이트의 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물을 더 함유하는 카르복실기 함유 불포화 단량체 성분과, (2) 스티렌, 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 알릴아크릴레이트, 알릴메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 글리세롤 모노메타크릴레이트, 글리세롤 모노아크릴레이트, N-페닐말레이미드, 폴리스티렌 거대 단량체 및 폴리메틸메타크릴레이트 거대 단량체의 군에서 선택되는 1종 이상과의 공중합체가 바람직하다. As the carboxyl group-containing copolymer of the present invention, (1) acrylic acid and / or methacrylic acid are essential components, and monosuccinic acid mono (2-acryloyloxyethyl) and monosuccinic acid mono (2-methacryloyl) are optionally used. Oxyethyl), a carboxyl group-containing unsaturated monomer component further containing at least one compound selected from the group of? -Carboxy polycaprolactone monoacrylate and? -Carboxy polycaprolactone monomethacrylate, (2) styrene, Methyl acrylate, methyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, allyl acrylate, allyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, glycerol monomethacrylate, 1 type selected from the group of glycerol monoacrylate, N-phenylmaleimide, polystyrene macromonomer and polymethylmethacrylate macromonomer The copolymer with the above is preferable.

이러한 공중합체의 구체예로서는, As a specific example of such a copolymer,

(메트)아크릴산/메틸 (메트)아크릴레이트 공중합체, (Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate copolymer,

(메트)아크릴산/벤질 (메트)아크릴레이트 공중합체, (Meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate copolymers,

(메트)아크릴산/2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트/벤질 (메트)아크릴레이트 공중합체, (Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer,

(메트)아크릴산/메틸 (메트)아크릴레이트/폴리스티렌 거대 단량체 공중합체,(Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메트)아크릴산/메틸 (메트)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 거대 단량체 공중합체,(Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer,

(메트)아크릴산/벤질 (메트)아크릴레이트/폴리스티렌 거대 단량체 공중합체,(Meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메트)아크릴산/벤질 (메트)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 거대 단량체 공중합체, (Meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer,

(메트)아크릴산/2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트/벤질 (메트)아크릴레이트/폴리스티렌 거대 단량체 공중합체,(Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메트)아크릴산/2-히드록시에틸 (메트)아크릴레이트/벤질 (메트)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 거대 단량체 공중합체,(Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer,

메타크릴산/스티렌/벤질 (메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체,Methacrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer,

(메트)아크릴산/숙신산 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]/스티렌/벤질 (메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체,(Meth) acrylic acid / succinic mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer,

(메트)아크릴산/숙신산 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]/스티렌/알릴 (메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체, (Meth) acrylic acid / succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / styrene / allyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer,

(메트)아크릴산/스티렌/벤질 (메트)아크릴레이트/글리세롤 모노(메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체,(Meth) acrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer,

(메트)아크릴산/ω-카르복시 폴리카프로락톤 모노(메트)아크릴레이트/스티렌 /벤질 (메트)아크릴레이트/글리세롤 모노(메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체 등을 들 수 있다.(Meth) acrylic acid / ω-carboxy polycaprolactone mono (meth) acrylate / styrene / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer and the like.

카르복실기 함유 공중합체에서의 카르복실기 함유 불포화 단량체의 공중합 비율은 통상 5 내지 50 중량%, 바람직하게는 10 내지 40 중량%이다. 이 경우, 상기 공중합 비율이 5 중량% 미만에서는 얻어지는 감방사선성 조성물의 알칼리 현상액에 대한 용해성이 저하되는 경향이 있는 한편, 50 중량%를 초과하면 알칼리 현상액에 대한 용해성이 과대해지고, 알칼리 현상액에 의해 현상할 때 착색층이 기판에서 탈락되거나, 화소 표면의 막거침을 초래하기 쉬운 경향이 있다.The copolymerization ratio of the carboxyl group-containing unsaturated monomer in the carboxyl group-containing copolymer is usually 5 to 50% by weight, preferably 10 to 40% by weight. In this case, when the said copolymerization ratio is less than 5 weight%, the solubility with respect to the alkaline developing solution of the radiation sensitive composition obtained tends to fall, and when it exceeds 50 weight%, the solubility with respect to an alkaline developing solution will become excessive, When developing, the colored layer tends to fall off the substrate or cause film roughness of the pixel surface.

알칼리 가용성 수지의 겔 투과 크로마토그래피(GPC, 용출 용매: 테트라히드로푸란)로 측정한 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량 (이하, "Mw"라고 함)은 통상 3,000 내지 300,000, 바람직하게는 5,000 내지 100,000이다.The polystyrene reduced weight average molecular weight (hereinafter referred to as "Mw") measured by gel permeation chromatography (GPC, elution solvent: tetrahydrofuran) of the alkali-soluble resin is usually 3,000 to 300,000, preferably 5,000 to 100,000.

또한, 알칼리 가용성 수지의 겔 투과 크로마토그래피(GPC, 용출 용매: 테트라히드로푸란)로 측정한 폴리스티렌 환산 수평균 분자량 (이하, "Mn"이라고 함)은 통상 3,000 내지 60,000, 바람직하게는 5,000 내지 25,000이다. The polystyrene reduced number average molecular weight (hereinafter referred to as "Mn") measured by gel permeation chromatography (GPC, elution solvent: tetrahydrofuran) of alkali-soluble resin is usually 3,000 to 60,000, preferably 5,000 to 25,000. .

또한, 알칼리 가용성 수지의 Mw와 Mn의 비(Mw/Mn)는 바람직하게는 1 내지 5, 더욱 바람직하게는 1 내지 4이다.Moreover, ratio (Mw / Mn) of Mw and Mn of alkali-soluble resin becomes like this. Preferably it is 1-5, More preferably, it is 1-4.

본 발명에 있어서는, 이러한 특정한 Mw 및 Mn을 갖는 알칼리 가용성 수지를 사용함으로써 현상성이 우수한 감방사선성 조성물을 얻을 수 있으며, 그에 따라 날카로운(sharp) 패턴의 연부를 갖는 화소 패턴을 형성할 수 있음과 동시에, 현상시 미노광부의 기판 상 및 차광층 상에 잔사, 바탕 오염, 막잔여분 등이 발생하지 않게 된다.In the present invention, a radiation-sensitive composition excellent in developability can be obtained by using an alkali-soluble resin having such specific Mw and Mn, whereby a pixel pattern having edges of sharp patterns can be formed. At the same time, residue, ground contamination, film residue, etc. do not occur on the substrate and the light shielding layer of the unexposed part during development.

본 발명에 있어서, 알칼리 가용성 수지 (B)는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. In this invention, alkali-soluble resin (B) can be used individually or in mixture of 2 or more types.

본 발명의 알칼리 가용성 수지 (B)의 사용량은 안료 (A) 100 중량부에 대하여 통상 10 내지 1,000 중량부, 바람직하게는 20 내지 500 중량부이다. 이 경우, 알칼리 가용성 수지의 사용량이 10 중량부 미만에서는, 예를 들면 알칼리 현상성이 저하되거나, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에 바탕 오염 및 막잔여분이 발생할 우려가 있는 한편, 1,000 중량부를 초과하면 상대적으로 안료 농도가 저하되기 때문에 박막으로서 목적으로 하는 색 농도를 달성하는 것이 곤란해지는 경우가 있다.The use amount of alkali-soluble resin (B) of this invention is 10-1,000 weight part normally with respect to 100 weight part of pigments (A), Preferably it is 20-500 weight part. In this case, when the usage-amount of alkali-soluble resin is less than 10 weight part, alkali developability may fall, for example, a background contamination and a film residue may arise on the board | substrate or the light shielding layer of an unexposed part, and 1,000 weight part When exceeding, since a pigment density falls relatively, it may become difficult to achieve the target color density as a thin film.

(C) (C) 다관능성Multifunctional 단량체 Monomer

본 발명의 다관능성 단량체는 2개 이상의 중합성 불포화 결합을 갖는 단량체이다.The multifunctional monomer of the present invention is a monomer having two or more polymerizable unsaturated bonds.

다관능성 단량체의 예로서는, As an example of a polyfunctional monomer,

에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 알킬렌글리콜의 디아크릴레이트 또는 디메타크릴레이트류; Diacrylates or dimethacrylates of alkylene glycols such as ethylene glycol and propylene glycol;

폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜 등의 폴리알킬렌글리콜의 디아크릴레이트 또는 디메타크릴레이트류;Diacrylates or dimethacrylates of polyalkylene glycols such as polyethylene glycol and polypropylene glycol;

글리세린, 트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨, 디펜타에리스리톨 등의 3가 이상의 다가 알코올의 폴리아크릴레이트 또는 폴리메타크릴레이트류 및 이들의 디카르복실산 변성물; Polyacrylates or polymethacrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols such as glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, and dicarboxylic acid modified substances thereof;

폴리에스테르, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 실리콘 수지, 스피란 수지 등의 올리고 아크릴레이트 또는 올리고 메타크릴레이트류; Oligo acrylates or oligo methacrylates such as polyesters, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, silicone resins and spiran resins;

양쪽 말단 히드록시 폴리-1,3-부타디엔, 양쪽 말단 히드록시 폴리이소프렌, 양쪽 말단 히드록시 폴리카프로락톤 등의 양쪽 말단 히드록실화 중합체의 디아크릴레이트 또는 디메타크릴레이트류나, Diacrylates or dimethacrylates of both terminal hydroxylated polymers such as both terminal hydroxy poly-1,3-butadiene, both terminal hydroxy polyisoprene and both terminal hydroxy polycaprolactone,

트리스(2-아크릴로일옥시에틸)포스페이트, 트리스(2-메타크릴로일옥시에틸)포스페이트 등을 들 수 있다.Tris (2-acryloyloxyethyl) phosphate, a tris (2-methacryloyl oxyethyl) phosphate, etc. are mentioned.

이들 다관능성 단량체 중, 3가 이상의 다가 알코올의 폴리아크릴레이트 또는 폴리메타크릴레이트류나 이들의 디카르복실산 변성물, 구체적으로는 트리메틸올프 로판 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리메타크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리메타크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라메타크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 펜타메타크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트, 디펜타에리스리톨 헥사메타크릴레이트 등이 바람직하고, 특히 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트 및 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트가 착색층의 강도 및 표면 평활성이 우수하고, 또한 미노광부의 기판 상 및 차광층 상에 바탕 오염, 막잔여분 등이 발생하지 않는 점에서 바람직하다.Of these polyfunctional monomers, polyacrylates or polymethacrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols or their dicarboxylic acid modified substances, specifically trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol Triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate Methacrylate and the like are preferred, and trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate are particularly excellent in the strength and surface smoothness of the colored layer, and on the substrate and the difference of the unexposed portion. Background contamination, the film on the layer is preferable because such a residue does not occur.

상기 다관능성 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The said polyfunctional monomer can be used individually or in mixture of 2 or more types.

본 발명의 다관능성 단량체의 사용량은, 알칼리 가용성 수지 (B) 100 중량부에 대하여 통상 5 내지 500 중량부, 바람직하게는 20 내지 300 중량부이다. 이 경우, 다관능성 단량체의 사용량이 5 중량부 미만에서는 착색층의 강도 및 표면 평활성이 저하되는 경향이 있는 한편, 500 중량부를 초과하면, 예를 들어 알칼리 현상성이 저하되거나, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에 바탕 오염, 막잔여분 등이 발생하기 쉬운 경향이 있다.The usage-amount of the polyfunctional monomer of this invention is 5-500 weight part normally with respect to 100 weight part of alkali-soluble resin (B), Preferably it is 20-300 weight part. In this case, when the amount of the polyfunctional monomer used is less than 5 parts by weight, the strength and surface smoothness of the colored layer tends to be lowered, while when it exceeds 500 parts by weight, for example, alkali developability is lowered or on the substrate of the unexposed part. Or background contamination, film residues, etc. tend to occur on the light shielding layer.

또한, 본 발명에 있어서는 다관능성 단량체의 일부를 중합성 불포화 결합을 1개 갖는 단관능성 단량체로 치환할 수도 있다.In addition, in this invention, one part of a polyfunctional monomer can also be substituted by the monofunctional monomer which has one polymerizable unsaturated bond.

상기 단관능성 단량체로서는, 예를 들면 알칼리 가용성 수지 (B)에 대하여 예시한 카르복실기 함유 불포화 단량체나 공중합성 불포화 단량체와 동일한 단량체 및 N-아크릴로일모르폴린, N-메타크릴로일모르폴린, N-비닐피롤리돈, N-비닐-ε-카프로락탐 외에 시판품으로서 M-5300, M-5400, M-5600 (상품명, 도아 고세이(주) 제조) 등을 들 수 있다.As said monofunctional monomer, the same monomer as the carboxyl group-containing unsaturated monomer and copolymerizable unsaturated monomer which were illustrated with respect to alkali-soluble resin (B), N-acryloyl morpholine, N-methacryloyl morpholine, N, for example In addition to -vinylpyrrolidone and N-vinyl- epsilon caprolactam, M-5300, M-5400, M-5600 (brand name, Toagosei Co., Ltd.) etc. are mentioned as a commercial item.

이들 단관능성 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.These monofunctional monomers can be used individually or in mixture of 2 or more types.

단관능성 단량체의 사용 비율은, 다관능성 단량체와 단관능성 단량체의 합계량에 대하여 통상 90 중량% 이하, 바람직하게는 50 중량% 이하이다. 이 경우, 단관능성 단량체의 사용 비율이 90 중량%를 초과하면, 얻어지는 화소의 강도나 표면 평활성이 불충분해질 우려가 있다.The use ratio of a monofunctional monomer is 90 weight% or less normally with respect to the total amount of a polyfunctional monomer and a monofunctional monomer, Preferably it is 50 weight% or less. In this case, when the use ratio of a monofunctional monomer exceeds 90 weight%, there exists a possibility that the intensity and surface smoothness of the pixel obtained may become inadequate.

또한, 본 발명의 다관능성 단량체와 단관능성 단량체의 합계 사용량은, 알칼리 가용성 수지 (B) 100 중량부에 대하여 통상 5 내지 500 중량부, 바람직하게는 20 내지 300 중량부이다. 이 경우, 상기 합계 사용량이 5 중량부 미만에서는 착색층의 강도나 표면 평활성이 저하되는 경향이 있는 한편, 500 중량부를 초과하면 예를 들어 알칼리 현상성이 저하되거나, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에 바탕 오염, 막잔여분 등이 발생하기 쉬운 경우가 있다.In addition, the total usage-amount of the polyfunctional monomer and monofunctional monomer of this invention is 5-500 weight part normally with respect to 100 weight part of alkali-soluble resin (B), Preferably it is 20-300 weight part. In this case, when the total amount used is less than 5 parts by weight, the strength and surface smoothness of the colored layer tends to decrease, while when the total amount exceeds 500 parts by weight, for example, alkali developability is lowered, or on the substrate or the light shielding layer of the unexposed part. Background contamination, film residue, etc. may occur easily.

(D) (D) 광중합Photopolymerization 개시제Initiator

본 발명의 광중합 개시제는 가시광선, 자외선, 원자외선, 전자선, X선 등의 방사선 조사 (이하, "노광"이라고 함)에 의해, 상기 (C) 다관능성 단량체 및 경우에 따라 사용되는 단관능성 단량체의 중합을 개시하는 활성종을 발생시킬 수 있는 화합물이다.The photopolymerization initiator of the present invention is the (C) polyfunctional monomer and the monofunctional monomer used in some cases by irradiation (hereinafter referred to as "exposure") of visible light, ultraviolet ray, far ultraviolet ray, electron beam, X-ray, or the like. It is a compound which can generate | occur | produce the active species which initiates superposition | polymerization of.

이러한 광중합 개시제로서는, 예를 들면 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 트리아진계 화합물, 벤조인계 화합물, 벤조페논계 화합물, α-디케톤계 화합물, 다핵 퀴논계 화합물, 크산톤계 화합물, 디아조계 화합물 등을 들 수 있다.As such a photoinitiator, an acetophenone type compound, a biimidazole type compound, a triazine type compound, a benzoin type compound, a benzophenone type compound, the (alpha)-diketone type compound, a polynuclear quinone type compound, a xanthone type compound, a diazo type compound, for example Etc. can be mentioned.

본 발명에 있어서, 광중합 개시제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있는데, 본 발명의 광중합 개시제로서는 아세토페논계 화합물, 비이미다졸계 화합물 및 트리아진계 화합물의 군에서 선택되는 1종 이상이 바람직하다. In the present invention, the photopolymerization initiator may be used alone or in combination of two or more thereof. As the photopolymerization initiator of the present invention, one or more selected from the group of acetophenone compounds, biimidazole compounds, and triazine compounds may be used. desirable.

본 발명의 광중합 개시제의 일반적인 사용량은, (C) 다관능성 단량체와 단관능성 단량체의 합계 100 중량부에 대하여 통상 0.01 내지 80 중량부, 바람직하게는 1 내지 60 중량부이다. 이 경우, 광중합 개시제의 사용량이 0.01 중량부 미만에서는 노광에 의한 경화가 불충분하고, 화소 패턴이 소정의 배열에 따라 배치된 착색층을 얻는 것이 곤란해질 우려가 있는 한편, 80 중량부를 초과하면 형성된 화소가 현상시 기판에서 탈락되기 쉬운 경향이 있다. The general usage-amount of the photoinitiator of this invention is 0.01-80 weight part normally with respect to a total of 100 weight part of (C) polyfunctional monomer and a monofunctional monomer, Preferably it is 1-60 weight part. In this case, when the usage-amount of a photoinitiator is less than 0.01 weight part, hardening by exposure may become inadequate, and it may become difficult to obtain the colored layer arrange | positioned according to a predetermined | prescribed arrangement, and when it exceeds 80 weight part, the pixel formed There is a tendency to fall off from the substrate during the development.

본 발명의 바람직한 광중합 개시제 중, 아세토페논계 화합물의 구체예로서는, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로파논-1, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부타논-1, 1-히드록시시클로헥실ㆍ페닐케톤, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 등을 들 수 있다.As a specific example of an acetophenone type compound among the preferable photoinitiators of this invention, 2-hydroxy-2- methyl-1- phenyl propane- 1-one, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl]- 2-morpholinopropanone-1, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy -1,2-diphenylethan-1-one etc. are mentioned.

이들 아세토페논계 화합물 중, 특히 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로파논-1,2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부타논-1이 바람직하다.Among these acetophenone compounds, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1,2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholine) Nophenyl) butanone-1 is preferred.

상기 아세토페논계 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The acetophenone compounds may be used alone or in combination of two or more thereof.

본 발명에 있어서, 광중합 개시제로서 아세토페논계 화합물을 사용하는 경우의 사용량은, (C) 다관능성 단량체와 단관능성 단량체의 합계 100 중량부에 대하여 통상 0.01 내지 80 중량부, 바람직하게는 1 내지 60 중량부, 더욱 바람직하게는 1 내지 30 중량부이다. 이 경우, 아세토페논계 화합물의 사용량이 0.01 중량부 미만에서는 노광에 의한 경화가 불충분해지고, 화소가 소정 배열에 따라 배치된 화소 패턴을 얻는 것이 곤란해질 우려가 있는 한편, 80 중량부를 초과하면 형성된 착색층이 현상시 기판에서 탈락되기 쉬운 경향이 있다. In this invention, the usage-amount when using an acetophenone type compound as a photoinitiator is 0.01-80 weight part normally with respect to a total of 100 weight part of (C) polyfunctional monomer and a monofunctional monomer, Preferably it is 1-60. Parts by weight, more preferably 1 to 30 parts by weight. In this case, when the usage-amount of an acetophenone type compound is less than 0.01 weight part, hardening by exposure may become inadequate, and it may become difficult to obtain the pixel pattern in which the pixel arrange | positioned according to the predetermined arrangement, and when it exceeds 80 weight part, the coloring formed The layer tends to fall off the substrate during development.

또한, 비이미다졸계 화합물의 구체예로서는, Moreover, as a specific example of a biimidazole type compound,

2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸,2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole,

2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸,2,2'-bis (2-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole,

2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸,2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole,

2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸,2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole,

2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸,2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole,

2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-bis (2-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole,

2,2'-비스(2,4-디브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸,2,2'-bis (2,4-dibromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole,

*2,2'-비스(2,4,6-트리브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 등을 들 수 있다.* 2,2'-bis (2,4,6-tribromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole etc. are mentioned.

이들 비이미다졸계 화합물 중 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸이 더욱 바람직하고, 특히 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4'5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸이 바람직하다.Among these biimidazole compounds, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2 , 4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 More preferred are ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, especially 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4'5,5'-tetraphenyl -1,2'-biimidazole is preferred.

상기 비이미다졸계 화합물은 용매에 대한 용해성이 우수하고, 미용해물, 석출물 등의 이물질이 발생하지 않으며, 또한 감도가 높고 적은 에너지량의 노광에 의해 경화 반응을 충분히 진행시킴과 동시에, 미노광부에서 경화 반응이 발생하지 않기 때문에 노광 후의 도포막은 현상액에 대하여 불용성인 경화 부분과, 현상액에 대하여 높은 용해성을 갖는 미경화 부분으로 명확하게 구분되며, 그에 따라 언더 컷이 없는 화소가 소정의 배열에 따라 배치된 정밀도 높은 화소 패턴을 형성할 수 있다. The non-imidazole compound has excellent solubility in a solvent, does not generate foreign matters such as undissolved products, precipitates, etc., and also has a high sensitivity and sufficiently hardens the reaction by exposure of a small amount of energy. Since no curing reaction occurs, the coated film after exposure is clearly divided into a hardened portion insoluble in the developer and an uncured portion having high solubility in the developer, whereby pixels without undercuts are arranged according to a predetermined arrangement. A highly accurate pixel pattern can be formed.

상기 비이미다졸계 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The said biimidazole type compound can be used individually or in mixture of 2 or more types.

본 발명에 있어서, 광중합 개시제로서 비이미다졸계 화합물을 사용하는 경우의 사용량은, (C) 다관능성 단량체와 단관능성 단량체의 합계 100 중량부에 대하여 통상 0.01 내지 40 중량부, 바람직하게는 1 내지 30 중량부, 더욱 바람직하게는 1 내지 20 중량부이다. 이 경우, 비이미다졸계 화합물의 사용량이 0.01 중량부 미만에서는 노광에 의한 경화가 불충분해지고, 화소가 소정의 배열에 따라 배치된 화소 패턴을 얻는 것이 곤란해질 우려가 있는 한편, 40 중량부를 초과하면 현상시 형성된 착색층이 기판에서 탈락되기 쉬운 경향이 있다.In this invention, the usage-amount when using a biimidazole type compound as a photoinitiator is 0.01-40 weight part normally with respect to a total of 100 weight part of (C) polyfunctional monomer and a monofunctional monomer, Preferably it is 1- 30 parts by weight, more preferably 1 to 20 parts by weight. In this case, when the amount of the non-imidazole compound is less than 0.01 part by weight, curing by exposure becomes insufficient, and it may be difficult to obtain a pixel pattern in which pixels are arranged in a predetermined arrangement. There exists a tendency for the colored layer formed at the time of image development to fall off from a board | substrate.

-수소 공여체-Hydrogen donor

본 발명에 있어서는, 광중합 개시제로서 비이미다졸계 화합물을 사용하는 경우, 하기의 수소 공여체를 병용하는 것이 감도를 더 개량할 수 있다는 점에서 바람직하다.In this invention, when using a biimidazole type compound as a photoinitiator, using the following hydrogen donor together is preferable at the point which can improve a sensitivity further.

여기서 말하는 "수소 공여체"란, 노광에 의해 비이미다졸계 화합물로부터 발생된 라디칼에 대하여 수소 원자를 공여할 수 있는 화합물을 의미한다. The term "hydrogen donor" as used herein means a compound capable of donating a hydrogen atom to radicals generated from a biimidazole compound by exposure.

본 발명의 수소 공여체로서는, 하기에서 정의하는 머캅탄계 화합물, 아민계 화합물 등이 바람직하다. As the hydrogen donor of the present invention, mercaptan compounds, amine compounds and the like defined below are preferable.

상기 머캅탄계 화합물은 벤젠환 또는 복소환을 모핵으로 하며, 이 모핵에 직접 결합된 머캅토기를 1개 이상, 바람직하게는 1 내지 3개, 더욱 바람직하게는 1 내지 2개 갖는 화합물 (이하, "머캅탄계 수소 공여체"라고 함)을 포함한다.The mercaptan compound has a benzene ring or a heterocycle as a mother nucleus, and has at least one, preferably one to three, more preferably one to two mercapto groups directly bonded to the mother nucleus (hereinafter, “ Mercaptan-based hydrogen donors ".

또한, 상기 아민계 화합물은 벤젠환 또는 복소환을 모핵으로 하며, 이 모핵에 직접 결합된 아미노기를 1개 이상, 바람직하게는 1 내지 3개, 더욱 바람직하게는 1 내지 2개 갖는 화합물 (이하, "아민계 수소 공여체"라고 함)을 포함한다.In addition, the amine-based compound has a benzene ring or a heterocycle as a mother nucleus, and a compound having at least one, preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2 amino groups directly bonded to the mother nucleus (hereinafter, &Quot; amine-based hydrogen donors ").

또한, 이들 수소 공여체는 머캅토기와 아미노기를 동시에 가질 수도 있다.These hydrogen donors may also have a mercapto group and an amino group at the same time.

이하, 이들 수소 공여체에 대하여 보다 구체적으로 설명한다.Hereinafter, these hydrogen donors will be described in more detail.

머캅탄계 수소 공여체는 벤젠환 또는 복소환을 각각 1개 이상 가질 수 있고, 또한 벤젠환과 복소환 모두를 가질 수 있으며, 이들 환을 2개 이상 갖는 경우 축합 환을 형성할 수도 있고 또는 형성하지 않을 수도 있다.The mercaptan-based hydrogen donor may have one or more benzene rings or heterocycles, and may also have both benzene rings and heterocycles, and in the case of having two or more of these rings, it may or may not form a condensed ring. have.

또한, 머캅탄계 수소 공여체는 머캅토기를 2개 이상 갖는 경우, 1개 이상의 유리 머캅토기가 잔존하는 한, 나머지 머캅토기 중 1개 이상이 알킬, 아랄킬 또는 아릴기로 치환될 수도 있고, 또한 1개 이상의 유리 머캅토기가 잔존하는 한, 2개의 황 원자가 알킬렌기 등의 2가의 유기기를 개재시켜 결합된 구조 단위, 또는 2개의 황 원자가 디술피드의 형태로 결합된 구조 단위를 가질 수 있다.In addition, when the mercaptan-based hydrogen donor has two or more mercapto groups, as long as one or more free mercapto groups remain, one or more of the remaining mercapto groups may be substituted with an alkyl, aralkyl or aryl group, and also one As long as the above free mercapto group remains, two sulfur atoms may have a structural unit bonded via a divalent organic group such as an alkylene group, or two sulfur atoms in a form of disulfide.

또한, 머캅탄계 수소 공여체는, 머캅토기 이외의 부분에서 카르복실기, 알콕시카르보닐기, 치환 알콕시카르보닐기, 페녹시카르보닐기, 치환 페녹시카르보닐기, 니트릴기 등에 의해 치환될 수도 있다.The mercaptan-based hydrogen donor may be substituted by a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a substituted alkoxycarbonyl group, a phenoxycarbonyl group, a substituted phenoxycarbonyl group, a nitrile group, or the like at a portion other than the mercapto group.

이러한 머캅탄계 수소 공여체의 구체예로서는 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤조옥사졸, 2-머캅토벤조이미다졸, 2,5-디머캅토-1,3,4-티아디아졸, 2-머캅토-2,5-디메틸아미노피리딘 등을 들 수 있다. Specific examples of such mercaptan-based hydrogen donors include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoimidazole, 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole, 2 Mercapto-2,5-dimethylaminopyridine and the like.

이들 머캅탄계 수소 공여체 중 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤조옥사졸이 바람직하고, 특히 2-머캅토벤조티아졸이 바람직하다. Among these mercaptan-based hydrogen donors, 2-mercaptobenzothiazole and 2-mercaptobenzooxazole are preferable, and 2-mercaptobenzothiazole is particularly preferable.

이어서, 아민계 수소 공여체는 벤젠환 또는 복소환을 각각 1개 이상 가질 수 있고, 또한 벤젠환과 복소환 모두를 가질 수 있으며, 이들 환을 2개 이상 갖는 경우 축합환을 형성할 수도 있고 또는 형성하지 않을 수도 있다.Subsequently, the amine-based hydrogen donor may have one or more benzene rings or heterocycles, and may have both benzene rings and heterocycles, and in the case of having two or more rings, it may form or may not form a condensed ring. It may not.

또한, 아민계 수소 공여체는, 아미노기 중 1개 이상이 알킬기 또는 치환 알킬기로 치환될 수도 있고, 또한 아미노기 이외의 부분에서 카르복실기, 알콕시카르보닐기, 치환 알콕시카르보닐기, 페녹시카르보닐기, 치환 페녹시카르보닐기, 니트 릴기 등에 의해 치환될 수도 있다. In the amine-based hydrogen donor, one or more of the amino groups may be substituted with an alkyl group or a substituted alkyl group, and at a portion other than the amino group, a carboxyl group, alkoxycarbonyl group, substituted alkoxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group, substituted phenoxycarbonyl group and nitrile group Or the like.

이러한 아민계 수소 공여체의 구체예로서는 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4-디에틸아미노아세토페논, 4-디메틸아미노프로피오페논, 에틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 4-디메틸아미노벤조산, 4-디메틸아미노벤조니트릴 등을 들 수 있다. Specific examples of such amine hydrogen donors include 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 4-diethylaminoacetophenone, and 4-dimethylaminopropiophenone. , Ethyl-4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-dimethylaminobenzonitrile, and the like.

이들 아민계 수소 공여체 중 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하고, 특히 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하다.Among these amine-based hydrogen donors, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone are preferable, and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone is particularly preferred. This is preferred.

아민계 수소 공여체는 비이미다졸계 화합물 이외의 광중합 개시제의 경우에서도 증감제로서의 작용을 갖는 것이다.The amine hydrogen donor has a function as a sensitizer even in the case of photoinitiators other than a biimidazole type compound.

본 발명에 있어서, 수소 공여체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있지만, 1종 이상의 머캅탄계 수소 공여체와 1종 이상의 아민계 수소 공여체를 조합하여 사용하는 것이 형성된 착색층이 현상시 기판에서 탈락되지 않고, 또한 착색층의 강도 및 감도도 높다는 점에서 바람직하다. In the present invention, the hydrogen donor may be used alone or in combination of two or more thereof, but a colored layer formed by using one or more mercaptan-based hydrogen donors and one or more amine-based hydrogen donors in combination may be formed on the substrate during development. It is preferable at the point that it does not drop off and the intensity | strength and the sensitivity of a colored layer are also high.

머캅탄계 수소 공여체와 아민계 수소 공여체의 조합의 구체예로서는, 2-머캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 2-머캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-머캅토벤조옥사졸/4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 2-머캅토벤조옥사졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있고, 더욱 바람직한 조합으로서는 2-머캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-머캅토벤조옥사졸 /4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논을 들 수 있으며, 특히 바람직한 조합으 로서는 2-머캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논을 들 수 있다.Specific examples of the combination of the mercaptan-based hydrogen donor and the amine-based hydrogen donor include 2-mercaptobenzothiazole / 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone and 2-mercaptobenzothiazole / 4,4'-bis (Diethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzooxazole / 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzooxazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone Etc., and more preferable combinations include 2-mercaptobenzothiazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone and 2-mercaptobenzooxazole / 4,4'-bis (diethylamino ) Benzophenone, and 2-mercaptobenzothiazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone is mentioned as an especially preferable combination.

머캅탄계 수소 공여체와 아민계 수소 공여체의 조합에서 머캅탄계 수소 공여체와 아민계 수소 공여체의 중량비는 통상 1:1 내지 1:4, 바람직하게는 1:1 내지 1:3이다.The weight ratio of the mercaptan-based hydrogen donor and the amine-based hydrogen donor in the combination of the mercaptan-based hydrogen donor and the amine-based hydrogen donor is usually 1: 1 to 1: 4, preferably 1: 1 to 1: 3.

본 발명에 있어서, 수소 공여체를 비이미다졸계 화합물과 병용하는 경우의 사용량은, (C) 다관능성 단량체와 단관능성 단량체의 합계 100 중량부에 대하여 바람직하게는 0.01 내지 40 중량부, 더욱 바람직하게는 1 내지 30 중량부, 특히 바람직하게는 1 내지 20 중량부이다. 이 경우, 수소 공여체의 사용량이 0.01 중량부 미만이면 감도의 개량 효과가 저하되는 경향이 있는 한편, 40 중량부를 초과하면 형성된 착색층이 현상시 기판에서 탈락되기 쉬운 경향이 있다.In the present invention, the amount used when the hydrogen donor is used in combination with the biimidazole-based compound is preferably 0.01 to 40 parts by weight, more preferably based on 100 parts by weight of the total of the (C) polyfunctional monomer and the monofunctional monomer. Is 1 to 30 parts by weight, particularly preferably 1 to 20 parts by weight. In this case, when the amount of the hydrogen donor used is less than 0.01 part by weight, the effect of improving the sensitivity tends to be lowered, while when it exceeds 40 parts by weight, the formed colored layer tends to fall off the substrate during development.

또한, 상기 트리아진계 화합물의 구체예로서는,Moreover, as a specific example of the said triazine type compound,

2,4,6-트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진,2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine,

2-메틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진,2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine,

2-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진,2- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine,

2-[2-(푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진,2- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine,

2-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진,2- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine,

2-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine,

2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진,2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine,

2-(4-에톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진,2- (4-ethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine,

2-(4-n-부톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진 등의 할로메틸기를 갖는 트리아진계 화합물을 들 수 있다.And triazine-based compounds having halomethyl groups, such as 2- (4-n-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine.

이들 트리아진계 화합물 중 2-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진 등이 바람직하다. Among these triazine compounds, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine and the like are preferable.

상기 트리아진계 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The said triazine type compound can be used individually or in mixture of 2 or more types.

본 발명에 있어서, 광중합 개시제로서 트리아진계 화합물을 사용하는 경우의 사용량은, (C) 다관능성 단량체와 단관능성 단량체의 합계 100 중량부에 대하여 바람직하게는 0.01 내지 40 중량부, 더욱 바람직하게는 1 내지 30 중량부, 특히 바람직하게는 1 내지 20 중량부이다. 이 경우, 트리아진계 화합물의 사용량이 0.01 중량부 미만이면 노광에 의한 경화가 불충분해지고, 화소가 소정 배열에 따라 배치된 화소 패턴을 얻는 것이 곤란해질 우려가 있는 한편, 40 중량부를 초과하면 형성된 착색층이 현상시 기판에서 탈락되기 쉬운 경향이 있다. In the present invention, the amount used in the case of using a triazine-based compound as the photopolymerization initiator is preferably 0.01 to 40 parts by weight, more preferably 1 to 100 parts by weight in total of the (C) polyfunctional monomer and the monofunctional monomer. To 30 parts by weight, particularly preferably 1 to 20 parts by weight. In this case, when the amount of the triazine-based compound used is less than 0.01 part by weight, curing by exposure may be insufficient, and it may be difficult to obtain a pixel pattern in which pixels are arranged according to a predetermined arrangement. It tends to fall off from a substrate at this time.

임의 첨가 성분Optional ingredients

본 발명의 컬러 필터용 감방사선성 조성물은, 필요에 따라 여러가지 임의 첨가 성분을 함유할 수도 있다.The radiation sensitive composition for color filters of this invention may contain various arbitrary additional components as needed.

상기 임의 첨가 성분으로서는, 감방사선성 조성물의 알칼리 현상액에 대한 용해 특성을 보다 개선하고, 또한 현상 후의 미용해물의 잔존을 보다 억제하는 작용 등을 나타내는 유기산 또는 유기 아미노 화합물 (단, 상기 수소 공여체를 제외함) 및 그 밖의 임의 첨가 성분을 들 수 있다. As said optional addition component, the organic acid or organic amino compound which shows the effect which further improves the dissolution characteristic with respect to the alkaline developing solution of a radiation sensitive composition, and further suppresses the remainder of the undissolved matter after image development (except the said hydrogen donor) And other optional ingredients.

-유기산-Organic acids

상기 유기산으로서는 분자 중에 1개 이상의 카르복실기를 가지며, 분자량이 1,000 이하인 지방족 카르복실산 또는 페닐기 함유 카르복실산이 바람직하다. As said organic acid, the aliphatic carboxylic acid or phenyl group containing carboxylic acid which has one or more carboxyl groups in molecular weight, and whose molecular weight is 1,000 or less is preferable.

상기 지방족 카르복실산의 예로서는,As an example of the said aliphatic carboxylic acid,

포름산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 발레르산, 피발산, 카프로산, 디에틸아세트산, 에난트산, 카프릴산 등의 지방족 모노카르복실산류; Aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, diethyl acetic acid, enanthic acid, and caprylic acid;

옥살산, 말론산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 아젤라산, 세박산, 브라실산, 메틸말론산, 에틸말론산, 디메틸말론산, 메틸숙신산, 테트라메틸숙신산, 시클로헥산디카르복실산, 이타콘산, 시트라콘산, 말레산, 푸마르산, 메사콘산 등의 지방족 디카르복실산류; Oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, brasilic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methylsuccinic acid, tetramethylsuccinic acid, Aliphatic dicarboxylic acids such as cyclohexanedicarboxylic acid, itaconic acid, citraconic acid, maleic acid, fumaric acid and mesaconic acid;

트리카르발릴산, 아코니트산, 캄포론산 등의 지방족 트리카르복실산류 등을 들 수 있다.Aliphatic tricarboxylic acids, such as tricarvalic acid, aconitic acid, and camphoronic acid, etc. are mentioned.

또한, 상기 페닐기 함유 카르복실산으로서는, 예를 들면 카르복실기가 직접 페닐기에 결합된 화합물이나, 카르복실기가 탄소쇄를 통해 페닐기에 결합된 화합물 등을 들 수 있다. Examples of the phenyl group-containing carboxylic acid include compounds in which a carboxyl group is directly bonded to a phenyl group, compounds in which the carboxyl group is bonded to a phenyl group through a carbon chain, and the like.

페닐기 함유 카르복실산의 예로서는,As an example of a phenyl group containing carboxylic acid,

벤조산, 톨루일산, 쿠민산, 헤멜리트산, 메시틸렌산 등의 방향족 모노카르복실산류; Aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cuminic acid, hemelic acid and mesitylene acid;

프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산 등의 방향족 디카르복실산류;Aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid and terephthalic acid;

트리멜리트산, 트리메신산, 메로판산, 피로멜리트산 등의 3가 이상의 방향족 폴리카르복실산류나,Trivalent or higher aromatic polycarboxylic acids such as trimellitic acid, trimesic acid, meropanic acid and pyromellitic acid;

페닐아세트산, 히드로아트로파산, 히드로신남산, 만델산, 페닐숙신산, 아트로파산, 신남산, 신나밀리덴산, 쿠마르산, 움벨산 등을 들 수 있다.And phenylacetic acid, hydroatroic acid, hydrocinnamic acid, mandelic acid, phenylsuccinic acid, atropaic acid, cinnamic acid, cinnamiledic acid, kumaric acid, and umbelic acid.

이들 유기산 중 알칼리 용해성, 후술하는 용매에 대한 용해성, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상의 바탕 오염 및 막잔여분 방지 등의 관점에서, 지방족 카르복실산으로서는 지방족 디카르복실산류가 바람직하며, 특히 말론산, 아디프산, 이타콘산, 시트라콘산, 푸마르산, 메사콘산 등이 바람직하고, 또한 페닐기 함유 카르복실산으로서는 방향족 디카르복실산류가 바람직하고, 특히 프탈산이 바람직하다.Among these organic acids, aliphatic dicarboxylic acids are preferable as aliphatic carboxylic acids from the viewpoint of alkali solubility, solubility in a solvent to be described later, background contamination on the substrate or the light shielding layer of the unexposed portion, and prevention of film residue. , Adipic acid, itaconic acid, citraconic acid, fumaric acid, mesaconic acid and the like are preferable, and as the phenyl group-containing carboxylic acid, aromatic dicarboxylic acids are preferable, and phthalic acid is particularly preferable.

상기 유기산은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The said organic acid can be used individually or in mixture of 2 or more types.

유기산의 사용량은, (A) 내지 (D)의 각 성분 및 임의 첨가 성분의 합계량에 대하여 통상 15 중량% 이하, 바람직하게는 10 중량% 이하이다. 이 경우, 유기산의 사용량이 15 중량%를 초과하면 형성된 착색층의 기판에 대한 밀착성이 저하되는 경향이 있다. The usage-amount of an organic acid is 15 weight% or less normally with respect to the total amount of each component of (A)-(D) and arbitrary addition components, Preferably it is 10 weight% or less. In this case, when the usage-amount of an organic acid exceeds 15 weight%, there exists a tendency for adhesiveness with respect to the board | substrate of the formed colored layer to fall.

-유기 아미노 화합물-Organic Amino Compounds

또한, 상기 유기 아미노 화합물로서는 분자 중에 1개 이상의 아미노기를 갖는 지방족 아민 또는 페닐기 함유 아민이 바람직하다. Moreover, as said organic amino compound, the aliphatic amine or phenyl group containing amine which has 1 or more amino group in a molecule | numerator is preferable.

상기 지방족 아민의 예로서는, As an example of the said aliphatic amine,

n-프로필아민, i-프로필아민, n-부틸아민, i-부틸아민, sec-부틸아민, t-부틸아민, n-펜틸아민, n-헥실아민 등의 모노(시클로)알킬아민류; mono (cyclo) alkylamines such as n-propylamine, i-propylamine, n-butylamine, i-butylamine, sec-butylamine, t-butylamine, n-pentylamine and n-hexylamine;

메틸에틸아민, 디에틸아민, 메틸 n-프로필아민, 에틸 n-프로필아민, 디-n-프로필아민, 디-i-프로필아민, 디-n-부틸아민, 디-i-부틸아민, 디-sec-부틸아민, 디- t-부틸아민 등의 디(시클로)알킬아민류;Methylethylamine, diethylamine, methyl n-propylamine, ethyl n-propylamine, di-n-propylamine, di-i-propylamine, di-n-butylamine, di-i-butylamine, di- di (cyclo) alkylamines such as sec-butylamine and di-t-butylamine;

디메틸에틸아민, 메틸디에틸아민, 트리에틸아민, 디메틸 n-프로필아민, 디에틸 n-프로필아민, 메틸디-n-프로필아민, 에틸디-n-프로필아민, 트리-n-프로필아민, 트리-i-프로필아민, 트리-n-부틸아민, 트리-i-부틸아민, 트리-sec-부틸아민, 트리-t-부틸아민 등의 트리(시클로)알킬아민류;Dimethylethylamine, methyldiethylamine, triethylamine, dimethyl n-propylamine, diethyl n-propylamine, methyldi-n-propylamine, ethyldi-n-propylamine, tri-n-propylamine, tri tri (cyclo) alkylamines such as -i-propylamine, tri-n-butylamine, tri-i-butylamine, tri-sec-butylamine and tri-t-butylamine;

2-아미노에탄올, 3-아미노-1-프로판올, 1-아미노-2-프로판올, 4-아미노-1-부탄올 등의 모노(시클로)알칸올아민류;Mono (cyclo) alkanolamines such as 2-aminoethanol, 3-amino-1-propanol, 1-amino-2-propanol, and 4-amino-1-butanol;

디에탄올아민, 디-n-프로판올아민, 디-i-프로판올아민, 디-n-부탄올아민, 디-i-부탄올아민 등의 디(시클로)알칸올아민류;Di (cyclo) alkanolamines such as diethanolamine, di-n-propanolamine, di-i-propanolamine, di-n-butanolamine and di-i-butanolamine;

트리에탄올아민, 트리-n-프로판올아민, 트리-i-프로판올아민, 트리-n-부탄올아민, 트리-i-부탄올아민 등의 트리(시클로)알칸올아민류;Tri (cyclo) alkanolamines such as triethanolamine, tri-n-propanolamine, tri-i-propanolamine, tri-n-butanolamine and tri-i-butanolamine;

3-아미노-1,2-프로판디올, 2-아미노-1,3-프로판디올, 4-아미노-1,2-부탄디올, 4-아미노-1,3-부탄디올, 3-디메틸아미노-1,2-프로판디올, 3-디에틸아미노-1,2-프로판디올, 2-디메틸아미노-1,3-프로판디올, 2-디에틸아미노-1,3-프로판디올 등의 아미노(시클로)알칸디올류;3-amino-1,2-propanediol, 2-amino-1,3-propanediol, 4-amino-1,2-butanediol, 4-amino-1,3-butanediol, 3-dimethylamino-1,2 Amino (cyclo) alkanediols such as propanediol, 3-diethylamino-1,2-propanediol, 2-dimethylamino-1,3-propanediol, and 2-diethylamino-1,3-propanediol ;

β-알라닌, 2-아미노부티르산, 3-아미노부티르산, 4-아미노부티르산, 2-아미노이소부티르산, 3-아미노이소부티르산 등의 아미노카르복실산류 등을 들 수 있다.and aminocarboxylic acids such as β-alanine, 2-aminobutyric acid, 3-aminobutyric acid, 4-aminobutyric acid, 2-aminoisobutyric acid, and 3-aminoisobutyric acid.

또한, 페닐기 함유 아민으로서는, 예를 들면 아미노기가 직접 페닐기에 결합 된 화합물, 아미노기가 탄소쇄를 통해 페닐기에 결합된 화합물 등을 들 수 있다. Moreover, as a phenyl group containing amine, the compound etc. which the amino group couple | bonded with the phenyl group directly, the amino group couple | bonded with the phenyl group via the carbon chain, etc. are mentioned, for example.

페닐기 함유 아민의 예로서는,As an example of a phenyl group containing amine,

아닐린, o-메틸아닐린, m-메틸아닐린, p-메틸아닐린, p-에틸아닐린, 1-나프틸아민, 2-나프틸아민, N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, p-메틸-N,N-디메틸아닐린 등의 방향족 아민류; Aniline, o-methylaniline, m-methylaniline, p-methylaniline, p-ethylaniline, 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, p Aromatic amines such as -methyl-N, N-dimethylaniline;

o-아미노벤질알코올, m-아미노벤질알코올, p-아미노벤질알코올, p-디메틸아미노벤질알코올, p-디에틸아미노벤질알코올 등의 아미노벤질알코올류;aminobenzyl alcohols such as o-aminobenzyl alcohol, m-aminobenzyl alcohol, p-aminobenzyl alcohol, p-dimethylaminobenzyl alcohol and p-diethylaminobenzyl alcohol;

o-아미노페놀, m-아미노페놀, p-아미노페놀, p-디메틸아미노페놀, p-디에틸아미노페놀 등의 아미노페놀류;aminophenols such as o-aminophenol, m-aminophenol, p-aminophenol, p-dimethylaminophenol and p-diethylaminophenol;

m-아미노벤조산, p-아미노벤조산, p-디메틸아미노벤조산, p-디에틸아미노벤조산 등의 아미노벤조산 (유도체)류 등을 들 수 있다.and aminobenzoic acids (derivatives) such as m-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, p-dimethylaminobenzoic acid and p-diethylaminobenzoic acid.

이들 유기 아미노 화합물 중 후술하는 용매에 대한 용해성, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상의 바탕 오염 및 막잔여분 방지 등의 관점에서, 지방족 아민으로서는 모노(시클로)알칸올아민류 및 아미노(시클로)알칸디올류가 바람직하고, 특히 2-아미노에탄올, 3-아미노-1-프로판올, 5-아미노-1-펜탄올, 3-아미노-1,2-프로판디올, 2-아미노-1,3-프로판디올, 4-아미노-1,2-부탄디올 등이 바람직하며, 또한 페닐기 함유 아민으로서는 아미노페놀류가 바람직하고, 특히 o-아미노페놀, m-아미노페놀, p-아미노페놀 등이 바람직하다.Among these organic amino compounds, mono (cyclo) alkanolamines and amino (cyclo) alkanediols are used as aliphatic amines from the viewpoints of solubility in a solvent to be described later, background contamination on the substrate or the light shielding layer of the unexposed portion, and prevention of film residue. Preference is given to, in particular, 2-aminoethanol, 3-amino-1-propanol, 5-amino-1-pentanol, 3-amino-1,2-propanediol, 2-amino-1,3-propanediol, 4 -Amino-1,2-butanediol etc. are preferable, and as a phenyl group containing amine, aminophenols are preferable, and o-aminophenol, m-aminophenol, p-aminophenol, etc. are especially preferable.

상기 유기 아미노 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The said organic amino compound can be used individually or in mixture of 2 or more types.

유기 아미노 화합물의 사용량은, (A) 내지 (D)의 각 성분 및 임의 첨가 성분의 합계량에 대하여 통상 15 중량% 이하, 바람직하게는 10 중량% 이하이다. 이 경우, 유기 아미노 화합물의 사용량이 15 중량%를 초과하면, 형성된 착색층의 기판과의 밀착성이 저하되는 경향이 있다. The usage-amount of an organic amino compound is 15 weight% or less normally with respect to the total amount of each component of (A)-(D) and arbitrary addition components, Preferably it is 10 weight% or less. In this case, when the usage-amount of an organic amino compound exceeds 15 weight%, there exists a tendency for adhesiveness with the board | substrate of the formed colored layer to fall.

-그 밖의 임의 첨가 성분--Other optional ingredient-

또한, 그 밖의 임의 첨가 성분으로서는, 예를 들면In addition, as other optional components, for example

구리 프탈로시아닌 유도체 등의 청색 안료 유도체나 황색 안료 유도체 등의 분산 보조제;Dispersion aids such as blue pigment derivatives such as copper phthalocyanine derivatives and yellow pigment derivatives;

유리, 알루미나 등의 충전제;Fillers such as glass and alumina;

폴리비닐알코올, 폴리에틸렌글리콜 모노알킬에테르류, 폴리(플루오로알킬아크릴레이트)류 등의 고분자 화합물;Polymer compounds such as polyvinyl alcohol, polyethylene glycol monoalkyl ethers, and poly (fluoroalkyl acrylates);

비이온계, 양이온계, 음이온계 등의 계면활성제;Surfactants such as nonionic, cationic and anionic systems;

비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필ㆍ메틸ㆍ디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필ㆍ메틸ㆍ디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필ㆍ메틸ㆍ디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등의 밀착 촉진제;Vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-amino Ethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3, 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimeth Adhesion promoters such as oxysilane;

2,2-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸페놀 등의 산화 방지제;Antioxidants such as 2,2-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 2,6-di-t-butylphenol;

2-(3-t-부틸-5-메틸-2-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 알콕시벤조페논류 등의 자외선 흡수제;Ultraviolet absorbers such as 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenones;

폴리아크릴산 나트륨 등의 응집 방지제;Aggregation inhibitors such as sodium polyacrylate;

1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 2-페닐아조-4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴 등의 열라디칼 발생제 등을 들 수 있다. And thermal radical generators such as 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) and 2-phenylazo-4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile.

용매menstruum

본 발명의 컬러 필터용 감방사선성 조성물은, 상기 (A) 내지 (D) 성분을 필수 성분으로 하며, 필요에 따라 상기 임의 첨가 성분을 함유하지만, 통상 용매를 배합하여 액상 조성물로서 제조된다.The radiation sensitive composition for color filters of this invention makes said (A)-(D) component an essential component, and contains the said optional addition component as needed, but is normally manufactured as a liquid composition by mix | blending a solvent.

상기 용매로서는 감방사선성 조성물을 구성하는 (A) 내지 (D) 성분 및 첨가제 성분을 분산 또는 용해하며, 또한 이들 성분과 반응하지 않고 적당한 휘발성을 갖는 것이면 적절하게 선택하여 사용할 수 있다.As said solvent, if (A)-(D) component and additive component which comprise a radiation sensitive composition are disperse | distributed or melt | dissolved, and it does not react with these components, and has moderate volatility, it can select suitably, and can use.

이러한 용매의 구체예로서는,As a specific example of such a solvent,

에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜 모노 n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 프로필렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 디프로필렌 글리콜 모노-n-프로필에테르, 디프로필렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 트리프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜 모노에틸에테르 등의 (폴리)알킬렌글리콜 모노알킬에테르류;Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n- Propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol Mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene (Poly) alkylene glycol monoalkyl such as glycol monoethyl ether Ethers;

에틸렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트 등의 (폴리)알킬렌글리콜 모노알킬에테르아세테이트류; 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 테트라히드로푸란 등의 다른 에테르류;(Poly) alkylenes such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and propylene glycol monoethyl ether acetate Glycol monoalkyl ether acetates; Other ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methylethyl ether, diethylene glycol diethyl ether and tetrahydrofuran;

메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논 등의 케톤류;Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, and 3-heptanone;

2-히드록시프로피온산 메틸, 2-히드록시프로피온산 에틸 등의 락트산 알킬에스테르류; Lactic acid alkyl esters such as methyl 2-hydroxypropionate and ethyl 2-hydroxypropionate;

2-히드록시-2-메틸프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸, 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 에톡시아세트산 에틸, 히드록시아세트산 에틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산 메틸, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산 에틸, 아세트산 n-프로필, 아세트산 i-프로필, 아세트산 n-부틸, 아세트산 i-부틸, 포름산 n-아밀, 아세트산 i-아밀, 프로피온산 n-부틸, 부티르산 에틸, 부티르산 n-프로필, 부티르산 i-프로필, 부티르산 n-부틸, 피루브산 메틸, 피루브산 에틸, 피루브산 n-프로필, 아세토아세트산 메틸, 아세토아세트산 에틸, 2-옥소부탄산 에틸 등의 다른 에스테 르류;Ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, 2 Methyl hydroxy-3-methylbutanoate, 3-methyl-3-methoxybutylacetate, 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, i-propyl acetate, acetic acid n -Butyl, i-butyl acetate, n-amyl formate, i-amyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-pyruvate Other esters such as propyl, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, and ethyl 2-oxobutanoate;

톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene;

N-메틸피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드류 등을 들 수 있다.Amides such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and the like.

이들 용매 중 용해성, 안료의 분산성, 도포성 등의 관점에서 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논, 2-히드록시프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산 n-부틸, 아세트산 i-부틸, 포름산 n-아밀, 아세트산 i-아밀, 프로피온산 n-부틸, 부티르산 에틸, 부티르산 i-프로필, 부티르산 n-부틸, 피루브산 에틸 등이 바람직하다.Propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, di Ethylene glycol methylethyl ether, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, ethyl 2-hydroxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, 3- Methyl-3-methoxybutylpropionate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, n-amyl acetate, i-amyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, butyric acid i-propyl, butyric acid n-butyl, pyruvic acid Ethyl and the like are preferred.

상기 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The said solvent can be used individually or in mixture of 2 or more types.

또한, 상기 용매와 함께 벤질에틸에테르, 디-n-헥실에테르, 아세토닐아세톤, 이소포론, 카프로산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 아세트산 벤질, 벤조산 에틸, 옥살산 디에틸, 말레산 디에틸, γ-부티로락톤, 탄산에틸렌, 탄산프로필렌, 에틸렌글리콜 모노페닐에테르아세테이트 등의 고비점 용매를 병용할 수도 있다.In addition, benzyl ethyl ether, di-n-hexyl ether, acetonyl acetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, ethyl benzoate, together with the solvent High boiling point solvents, such as diethyl oxalate, diethyl maleate, gamma -butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, and ethylene glycol monophenyl ether acetate, can also be used together.

이들 고비점 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.These high boiling point solvents can be used individually or in mixture of 2 or more types.

용매의 사용량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 얻어지는 감방사선성 조성 물의 도포성, 안정성 등의 관점에서 해당 조성물의 용매를 제외한 각 성분의 합계 농도가 통상 5 내지 50 중량%, 바람직하게는 10 내지 40 중량%가 되는 양이 바람직하다.Although the usage-amount of a solvent is not specifically limited, From the viewpoint of the coating property, stability, etc. of the radiation sensitive composition obtained, the total concentration of each component except the solvent of the said composition is 5-50 weight% normally, Preferably it is 10-40 weight. The amount which becomes% is preferable.

착색층의Colored layer 형성 방법 Formation method

이어서, 본 발명의 컬러 필터용 감방사선성 조성물을 사용하여 착색층을 형성하는 방법에 대하여 설명한다.Next, the method to form a colored layer using the radiation sensitive composition for color filters of this invention is demonstrated.

*착색층을 형성하는 공정은 적어도 이하의 공정을 포함한다.The step of forming the colored layer includes at least the following steps.

(1) 본 발명의 컬러 필터용 감방사선성 조성물의 도포막을 기판 상에 형성하는 공정(1) Process of forming the coating film of the radiation sensitive composition for color filters of this invention on a board | substrate

(2) 상기 도포막의 적어도 일부에 방사선을 조사하는 공정(2) irradiating at least a part of the coating film with radiation

(3) 현상 공정(3) developing process

(4) 가열 공정 (4) heating process

이하, 순차적으로 설명한다.Hereinafter, it demonstrates sequentially.

(1) 본 발명의 컬러 필터용 감방사선성 조성물의 도포막을 기판 상에 형성하는 공정. (1) The coating film of the radiation sensitive composition for color filters of this invention Formation on the substrate .

기판 표면 상에 필요에 따라 화소를 형성하는 부분을 구획하도록 차광층을 형성하고, 이 기판 상에 예를 들면 적색 안료가 분산된 감방사선성 조성물의 액상 조성물을 도포한 후, 프리베이킹을 행하여 용매를 증발시키고 도포막을 형성할 수 있다.A light shielding layer is formed on the substrate surface so as to partition a portion for forming a pixel, if necessary, and a liquid composition of, for example, a radiation-sensitive composition in which a red pigment is dispersed, is applied to the substrate, followed by prebaking. Can be evaporated and a coating film can be formed.

여기서 사용할 수 있는 기판으로서는, 예를 들면 유리, 실리콘, 폴리카르보네이트, 폴리에스테르, 방향족 폴리아미드, 폴리아미드이미드, 폴리이미드, 폴리에테르술폰 및 환상 올레핀의 개환 중합체 및 그의 수소 첨가물 등을 들 수 있다.As a board | substrate which can be used here, the ring-opening polymer of glass, silicone, polycarbonate, polyester, aromatic polyamide, polyamideimide, polyimide, polyether sulfone, and cyclic olefin, and its hydrogenated substance etc. are mentioned, for example. have.

또한, 이들 기판에는 목적에 따라 실란 커플링제 등에 의한 약품 처리, 플라즈마 처리, 이온 플레이팅, 스퍼터링, 기상 반응법, 진공 증착 등의 적절한 전처리를 행해 둘 수도 있다.In addition, these substrates may be subjected to appropriate pretreatment such as chemical treatment with a silane coupling agent or the like, plasma treatment, ion plating, sputtering, vapor phase reaction, or vacuum deposition.

감방사선성 조성물을 기판에 도포할 때에는 회전 도포, 유연 도포, 롤 도포 등의 적절한 도포법을 이용할 수 있다.When apply | coating a radiation sensitive composition to a board | substrate, the appropriate application | coating methods, such as rotational coating, casting | flow_spread coating, roll coating, can be used.

프리베이킹의 조건으로서는 통상 70 내지 110 ℃에서 2 내지 4분 정도이다. As conditions for prebaking, it is about 2 to 4 minutes at 70-110 degreeC normally.

도포 두께는 용매 제거 후의 막두께로서 통상 0.1 내지 10 ㎛, 바람직하게는 0.2 내지 8.0 ㎛, 특히 바람직하게는 0.2 내지 6.0 ㎛이다. The coating thickness is usually 0.1 to 10 mu m, preferably 0.2 to 8.0 mu m, particularly preferably 0.2 to 6.0 mu m as the film thickness after solvent removal.

(2) 상기 (2) above 도포막의Of coating film 적어도 일부에 방사선을 조사하는 공정 Irradiating at least a part of it

*이어서, 상기와 같이 하여 형성된 도포막의 일부에, 예를 들면 적당한 패턴을 갖는 포토마스크를 통해 노광한다. 이 때 사용되는 방사선으로서는, 예를 들면 가시광선, 자외선, 원자외선, 전자선, X선 등을 사용할 수 있지만, 파장이 190 내지 450 nm의 범위에 있는 방사선이 바람직하다. Then, a part of the coating film formed as mentioned above is exposed through the photomask which has a suitable pattern, for example. As the radiation used at this time, for example, visible rays, ultraviolet rays, far ultraviolet rays, electron beams, X-rays and the like can be used, but radiation having a wavelength in the range of 190 to 450 nm is preferable.

방사선의 노광량은 바람직하게는 10 내지 10,000 J/m2이다.The exposure dose of radiation is preferably 10 to 10,000 J / m 2 .

(3) 현상 공정(3) developing process

그 후, 알칼리성 현상액을 사용하여 현상하고, 도포막의 미노광부를 용해 제거한다. 상기 알칼리 현상액으로서는, 예를 들면 탄산나트륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 테트라메틸암모늄히드록시드, 콜린, 1,8-디아자비시클로-[5.4.0]-7-운데센, 1,5-디아자비시클로-[4.3.0]-5-노넨 등의 수용액이 바람직하다.Then, it develops using alkaline developing solution and removes and removes the unexposed part of a coating film. Examples of the alkaline developer include sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, choline, 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diazabi, and the like. Aqueous solutions, such as cyclo- [4.3.0] -5-nonene, are preferable.

상기 알칼리 현상액에는, 예를 들면 메탄올, 에탄올 등의 수용성 유기 용매나 계면활성제 등을 적당량 첨가할 수도 있다. 또한, 알칼리 현상 후에는 통상 수세한다.An appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol, a surfactant, or the like may be added to the alkaline developer. In addition, after alkali development, water washing is normally performed.

현상 처리법으로서는 샤워 현상법, 스프레이 현상법, 딥(침지) 현상법, 퍼들 (액담굼) 현상법 등을 적용할 수 있다. 현상 조건은 상온에서 5 내지 300초가 바람직하다.As the developing treatment method, a shower developing method, a spray developing method, a dip (immersion) developing method, a puddle (liquid dipping) developing method, and the like can be applied. As for image development conditions, 5 to 300 second is preferable at normal temperature.

(4) 가열 공정(4) heating process

그 후, 가열(포스트베이킹)함으로써 적색 화소가 소정의 배열로 배치된 화소 패턴을 형성할 수 있다. 가열 공정의 조건으로서는 180 내지 230 ℃에서 20 내지 40분 정도가 바람직하다. Thereafter, by heating (postbaking), the pixel pattern in which the red pixels are arranged in a predetermined array can be formed. As conditions of a heating process, about 20 to 40 minutes are preferable at 180-230 degreeC.

상기한 공정 (1) 내지 (4)를 녹색 또는 청색 안료가 분산된 각 감방사선성 조성물을 사용하여 동일하게 반복함으로써, 각 색조성물의 도포막 형성, 노광, 현상 및 가열 공정을 행하고, 녹색 화소 패턴 및 청색 화소 패턴을 동일 기판 상에 형성함으로써 적색, 녹색 및 청색의 3원색 화소 패턴이 기판 상에 배치된 착색층을 얻을 수 있다.By repeating the above steps (1) to (4) in the same manner using each radiation-sensitive composition in which green or blue pigments are dispersed, a coating film formation, exposure, development and heating step of each color tone material are performed, and a green pixel is obtained. By forming the pattern and the blue pixel pattern on the same substrate, it is possible to obtain a colored layer in which the three primary color pixel patterns of red, green and blue are arranged on the substrate.

또한, 각 색의 화소 패턴의 형성 순서는 상기한 순서로 한정되는 것은 아니 다.In addition, the formation order of the pixel pattern of each color is not limited to the above-mentioned order.

컬러 필터Color filter

본 발명의 컬러 필터는, 이와 같이 하여 얻어진 착색층을 구비한다. 따라서, 본 발명의 컬러 필터는 투과율 및 콘트라스트비가 높고, 형성한 패턴 상에 이물질 발생이 없는 적색 화소 패턴을 구비한다.The color filter of this invention is equipped with the colored layer obtained in this way. Therefore, the color filter of the present invention has a high red transmittance and contrast ratio and includes a red pixel pattern on which no foreign matter is generated on the formed pattern.

본 발명의 컬러 필터가 갖는 적색 화소 패턴의 막두께는 0.5 내지 5.0 ㎛, 바람직하게는 1.5 내지 3.0 ㎛이다.The film thickness of the red pixel pattern which the color filter of this invention has is 0.5-5.0 micrometers, Preferably it is 1.5-3.0 micrometers.

본 발명의 컬러 필터가 구비하는 적색 화소 패턴은, 그 막두께를 1.50 ㎛로 했을 때 콘트라스트비를 500 이상, 바람직하게는 600 이상으로 할 수 있으며, 또한 형성한 패턴 상에 이물질 발생이 없는 것이다. 또한, 사용하는 안료의 평균 입경 r을 100 nm 미만으로 하면 콘트라스트비를 충분히 높일 수 있는 것은 종래부터 알려져 있지만, 500 이상의 콘트라스트비를 가지며, 또한 형성한 패턴 상에 이물질 발생이 없는 적색 화소 및 그것을 형성하기 위한 컬러 필터용 감방사선성 조성물은 종래 알려져 있지 않았다.The red pixel pattern of the color filter of the present invention can have a contrast ratio of 500 or more, preferably 600 or more when the film thickness is 1.50 占 퐉 and no foreign matter is generated on the formed pattern. In addition, although it is conventionally known that when the average particle diameter r of the pigment to be used may be less than 100 nm, it is known conventionally, but the red pixel which has a contrast ratio of 500 or more and does not generate | occur | produce a foreign material on the formed pattern and it is formed The radiation sensitive composition for color filters for that is not known conventionally.

따라서, 본 발명의 컬러 필터는, 예를 들면 투과형 또는 반사형의 컬러 액정 표시 장치, 컬러 촬상관 소자, 컬러 센서 등에 매우 유용하다. Therefore, the color filter of this invention is very useful, for example in a transmissive or reflective color liquid crystal display device, a color imaging tube element, a color sensor, etc.

또한, 상기 콘트라스트비는 형성된 화소 패턴을 갖는 기판을 2장의 편향판 사이에 끼워 뒷면측에서 형광등을 조사하면서 전면측 편향판을 회전시켜 투과하는 광강도의 최대치와 최소치를 측정하고, 그 최대치를 최소치로 나눈 값으로서 측정할 수 있다.In addition, the contrast ratio measures a maximum value and a minimum value of light intensity transmitted by rotating the front side deflection plate while irradiating a fluorescent lamp from the back side by sandwiching a substrate having the formed pixel pattern between two deflection plates, and measuring the maximum value and the minimum value. It can be measured as a value divided by.

컬러 액정 표시 장치Color liquid crystal display

본 발명의 컬러 액정 표시 장치는, 본 발명의 컬러 필터용 감방사선성 조성물로부터 상기와 같이 하여 형성된 착색층을 구비한다. The color liquid crystal display device of this invention is equipped with the colored layer formed as mentioned above from the radiation sensitive composition for color filters of this invention.

본 발명의 컬러 액정 표시 장치는 적절한 구조를 취할 수 있다. The color liquid crystal display device of this invention can take a suitable structure.

예를 들면, 컬러 필터를 박막 트랜지스터(TFT)가 배치된 구동용 기판과는 별도의 기판 상에 제조하고, 구동용 기판과 컬러 필터 기판이 액정층을 통해 대향된 구조를 취할 수 있다.For example, the color filter may be manufactured on a substrate separate from the driving substrate on which the thin film transistor TFT is disposed, and the driving substrate and the color filter substrate may be opposed to each other through the liquid crystal layer.

또한, 박막 트랜지스터(TFT)가 배치된 구동용 기판의 표면 상에 컬러 필터를 형성한 기판과, ITO(주석을 도핑한 산화인듐) 전극을 형성한 기판이 액정층을 통해 대향된 구조를 취할 수도 있다. 후자의 구조는 개구율을 현격히 향상시킬 수 있으며, 밝고 정밀도 높은 표시 소자를 얻을 수 있다는 특징이 있다. In addition, a substrate in which a color filter is formed on a surface of a driving substrate on which a thin film transistor (TFT) is disposed, and a substrate in which an ITO (indium oxide doped tin) electrode is formed may be opposed to each other through a liquid crystal layer. have. The latter structure can significantly improve the aperture ratio, and has the feature of providing a bright and accurate display element.

<실시예><Example>

이하, 실시예를 들어 본 발명의 실시 형태를 더욱 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 하기 실시예로 한정되지 않는다.Hereinafter, an Example is given and embodiment of this invention is described further more concretely. However, the present invention is not limited to the following examples.

<실시예 1> <Example 1>

안료 (A)로서 C.I.피그먼트 레드 254와 C.I.피그먼트 옐로우 139의 65/35 (중량비) 혼합물 40 중량부, (B) 분산제로서 EFKA-47 (ZENEKA사 제조) 10 중량부, (C) 용매로서 3-에톡시프로피온산 에틸 100 중량부를 포함하는 혼합액을 다이아몬드 파인 밀(상품명, 미쯔비시 마테리얼(주) 제조)로 2시간 교반하여 얻어진 안료 분산액 100 중량부, (D) 알칼리 가용성 수지로서 메타크릴산/스티렌/벤질메타크릴 레이트/글리세롤 모노메타크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체 (공중합 중량비 =15/15/35/10/25, Mw=30,000, Mn=10,000) 70 중량부, (E) 다관능성 단량체로서 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트 80 중량부, (F) 광중합 개시제로서 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부타논-1 50 중량부 및 용매로서 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 1,000 중량부를 혼합하여 감방사선성 조성물 (R1)을 제조하였다.40 parts by weight of a 65/35 (weight ratio) mixture of CI Pigment Red 254 and CI Pigment Yellow 139 as pigment (A), (B) 10 parts by weight of EFKA-47 (manufactured by ZENEKA) as a dispersant, (C) as solvent 100 parts by weight of a pigment dispersion obtained by stirring a mixed liquid containing 100 parts by weight of ethyl 3-ethoxypropionate with a diamond fine mill (trade name, manufactured by Mitsubishi Material Co., Ltd.) for 2 hours, (D) methacrylic acid / Styrene / benzyl methacrylate / glycerol monomethacrylate / N-phenylmaleimide copolymer (copolymer weight ratio = 15/15/35/10/25, Mw = 30,000, Mn = 10,000) 70 parts by weight, (E) shell 80 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate as the functional monomer, (F) 50 parts by weight of 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1 as the photopolymerization initiator and propylene glycol as a solvent Radiation-sensitive by mixing 1,000 parts by weight of monomethyl ether acetate A hydrous product (R1) was prepared.

또한, 상기에서 사용한 안료 혼합물의 분산 전의 평균 입경을 동적 광산란법에 의해 측정했더니 600 nm였다. 한편, 분산 처리 후의 안료 분산액의 평균 입경은 100 nm이고, 입경 200 nm 이하의 입자는 전체의 81 %였다.Moreover, it was 600 nm when the average particle diameter before dispersion of the pigment mixture used above was measured by the dynamic light scattering method. On the other hand, the average particle diameter of the pigment dispersion liquid after dispersion processing was 100 nm, and the particle | grains of particle size 200 nm or less were 81% of the whole.

<적색 화소 패턴의 형성><Formation of Red Pixel Patterns>

표면에 나트륨 이온의 용출을 방지하는 SiO2막이 형성된 소다 유리 기판 표면 상에 스핀 코팅기를 이용하여 감방사선성 조성물 (R1)을 도포한 후, 90 ℃의 클린 오븐 내에서 10분간 프리베이킹하여 막두께 2.0 ㎛의 도포막을 형성하였다. After applying a radiation sensitive composition (R1) using a spin coater on the surface of a soda glass substrate having a SiO 2 film formed thereon to prevent elution of sodium ions on the surface, the film thickness was prebaked for 10 minutes in a clean oven at 90 ° C. A 2.0 micrometer coating film was formed.

이어서, 이 기판을 실온으로 냉각한 후, 고압 수은 램프를 이용하고, 포토마스크를 통하여 도포막에 365 nm, 405 nm 및 436 nm의 각 파장을 포함하는 방사선을 5,000 J/m2의 노광량으로 노광하였다. 그 후, 이 기판을 23 ℃의 0.04 중량% 수산화칼륨 수용액을 포함하는 현상액에 1분간 침지하여 현상한 후, 초순수로 세정하여 풍건하고, 이어서 250 ℃에서 30분간 베이킹하여 기판 상에 적색 스트라이프형 화소 패턴을 형성하였다. 이 화소 패턴의 막두께는 1.60 ㎛였다.Subsequently, after cooling the substrate to room temperature, a high-pressure mercury lamp was used to expose radiation, including each wavelength of 365 nm, 405 nm and 436 nm, to the coating film through a photomask at an exposure dose of 5,000 J / m 2 . It was. Thereafter, the substrate was immersed in a developer containing a 0.04 wt% potassium hydroxide aqueous solution at 23 ° C. for 1 minute, developed, washed with ultrapure water, air dried, and then baked at 250 ° C. for 30 minutes to form a red striped pixel on the substrate. A pattern was formed. The film thickness of this pixel pattern was 1.60 micrometers.

<이물질의 평가><Evaluation of Foreign Matter>

얻어진 화소 패턴을 광학 현미경으로 관찰했더니 패턴 상에 이물질은 확인되지 않았다.When the obtained pixel pattern was observed with the optical microscope, a foreign material was not confirmed on the pattern.

화소 패턴의 색도를 컬러 분석기 TC-1800M (도꾜 덴쇼꾸(주) 제조)으로 평가했더니 (x, y, Y)=(0.650, 0.325, 19.1)이었다.When the chromaticity of the pixel pattern was evaluated by color analyzer TC-1800M (manufactured by Tokyo Denshoku Co., Ltd.), it was (x, y, Y) = (0.650, 0.325, 19.1).

<콘트라스트비의 평가><Evaluation of contrast ratio>

상기와 같이 하여 형성된 화소 패턴을 갖는 기판을 2장의 편향판 사이에 끼워 뒷면측에서 형광등을 조사하면서 전면측 편향판을 회전시켜 투과하는 광강도의 최대치와 최소치를 측정하였다. 이 때의 최대치를 최소치로 나눈 값을 "콘트라스트비"로 하였는데, 그 값은 730이었다. The substrate having the pixel pattern formed as described above was sandwiched between two deflection plates and the maximum and minimum values of light intensity transmitted by rotating the front deflection plate while measuring fluorescent lamps from the rear side were measured. The value obtained by dividing the maximum value at this time by the minimum value was defined as "contrast ratio", which was 730.

<실시예 2> <Example 2>

실시예 1에서 안료 분산액의 교반 시간을 1시간으로 한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 감방사선성 조성물 (R2)를 제조하였다. A radiation sensitive composition (R2) was produced in the same manner as in Example 1 except that the stirring time of the pigment dispersion in Example 1 was set to 1 hour.

여기서 사용한 분산 처리 후의 안료 분산액의 평균 입경을 동적 광산란법으로 측정했더니 150 nm이고, 입경 50 내지 250 nm의 입자는 전체의 68 %였다.When the average particle diameter of the pigment dispersion liquid after the dispersion treatment used here was measured by the dynamic light scattering method, the particles having a particle size of 50 to 250 nm were 68% of the whole.

감방사선성 조성물 (R2)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 두께 1.60 ㎛의 적색 스트라이프형 화소 패턴을 형성하고 평가한 결과, 패턴 상의 이물질은 극히 소량이 확인될 뿐이었다. 이물질수는 100 ㎛×100 ㎛의 범위에 평균 4개였다.Except having used the radiation sensitive composition (R2), it carried out similarly to Example 1, and formed and evaluated the red stripe-shaped pixel pattern of thickness 1.60 micrometers on the board | substrate, and, as a result, only a very small quantity of the foreign material on the pattern was confirmed. The number of foreign matters was an average of four in the range of 100 micrometer x 100 micrometers.

또한, 화소 패턴의 색도를 평가했더니 (x, y, Y)=(0.650, 0.325, 19.0)이었 다. 콘트라스트비는 650이었다. Moreover, when the chromaticity of the pixel pattern was evaluated, (x, y, Y) = (0.650, 0.325, 19.0). The contrast ratio was 650.

<비교예 1> Comparative Example 1

실시예 1에서 안료 분산액의 교반 시간을 5시간으로 한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 감방사선성 조성물 (r1)을 제조하였다. 이 감방사선성 조성물 (r1)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 두께 1.60 ㎛의 적색 스트라이프형 화소 패턴을 형성하고 평가하였다.A radiation sensitive composition (r1) was produced in the same manner as in Example 1 except that the stirring time of the pigment dispersion liquid was changed to 5 hours in Example 1. Except having used this radiation sensitive composition (r1), it carried out similarly to Example 1, and formed and evaluated the red stripe type pixel pattern with a thickness of 1.60 micrometers on the board | substrate.

화소 패턴의 색도를 평가했더니 (x, y, Y)=(0.650, 0.326, 19.3)이었다. 콘트라스트비는 1,100으로 높았지만, 패턴 상에 이물질이 발생하였다. 이물질수는 100 ㎛×100 ㎛의 범위에 평균 80개로서, 표시 소자에 사용하는 화소로서는 부적합하였다.When the chromaticity of the pixel pattern was evaluated, it was (x, y, Y) = (0.650, 0.326, 19.3). Although the contrast ratio was high as 1,100, the foreign material generate | occur | produced on the pattern. The number of foreign matters was an average of 80 in the range of 100 micrometers x 100 micrometers, and was unsuitable as a pixel used for a display element.

또한, 분산 처리 후의 안료 분산액의 평균 입경을 동적 광산란법으로 측정했더니 40 nm이고, 입경 140 nm 이하의 입자는 전체의 82 %였다.Moreover, when the average particle diameter of the pigment dispersion liquid after dispersion processing was measured by the dynamic light scattering method, it was 40 nm, and the particle | grains whose particle diameter was 140 nm or less were 82% of the whole.

<실시예 3> <Example 3>

분산 처리에 사용하는 안료 (A)로서 C.I.피그먼트 레드 254, C.I.피그먼트 레드 177 및 C.I.피그먼트 옐로우 139의 50/20/30(중량비) 혼합물 50 중량부, (B) 분산제로서 BYK-162(빅케미사 제조) 10 중량부를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 감방사선성 조성물의 액상 조성물 (R3)을 제조하였다. 50 parts by weight of a 50/20/30 (weight ratio) mixture of CI Pigment Red 254, CI Pigment Red 177, and CI Pigment Yellow 139 as pigment (A) used for the dispersion treatment, (B) BYK-162 ( A liquid composition (R3) of the radiation sensitive composition was produced in the same manner as in Example 1, except that 10 parts by weight of Big Chemistry Co., Ltd. was used.

여기서 사용한 안료 혼합물의 분산 전의 평균 입경을 동적 산란법에 의해 측정했더니 500 ㎛이고, 400 내지 600 ㎛ 범위의 입자는 전체의 51 %였다. 한편, 분산 처리 후의 안료 분산액의 평균 입경은 110 nm이고, 입경 210 nm 이하의 입자 는 전체의 79 %였다.When the average particle diameter before dispersion of the pigment mixture used here was measured by the dynamic scattering method, it was 500 micrometers, and the particle | grains of the range of 400-600 micrometers were 51% of the whole. On the other hand, the average particle diameter of the pigment dispersion liquid after dispersion processing was 110 nm, and the particle | grains of particle size 210 nm or less were 79% of the whole.

액상 조성물 (R2)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 두께 1.60 ㎛의 적색 스트라이프형 화소 패턴을 형성하고 평가한 결과, 패턴 상에 이물질은 확인되지 않았다. 화소 패턴의 색도를 평가했더니 (x, y, Y)= (0.650, 0.326, 19.1)이었다. 또한, 콘트라스트비는 700이었다. Except having used the liquid composition (R2), it carried out similarly to Example 1, and formed and evaluated the red striped pixel pattern of thickness 1.60 micrometers on the board | substrate, and the foreign material was not recognized on the pattern. When the chromaticity of the pixel pattern was evaluated, (x, y, Y) = (0.650, 0.326, 19.1). In addition, the contrast ratio was 700.

<비교예 2> Comparative Example 2

실시예 3에서 안료 혼합물의 분산 처리를 행하지 않은 것 이외에는, 실시예 3과 동일하게 하여 감방사선성 조성물 (r2)를 제조하였다. A radiation sensitive composition (r2) was produced in the same manner as in Example 3 except that the dispersion treatment of the pigment mixture was not performed in Example 3.

감방사선성 조성물 (r2)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 두께 1.60 ㎛의 적색 스트라이프형 화소 패턴을 형성하고 평가한 결과, 패턴 상에 이물질 발생은 확인되지 않았다. 그러나, 화소 패턴의 색도를 평가했더니 (x, y, Y)=(0.650, 0.322, 17.5)이었고, 휘도 Y값이 낮으며, 또한 콘트라스트비는 350으로 표시 소자에 사용하는 화소로서는 사용이 불가능하였다.Except having used the radiation sensitive composition (r2), it carried out similarly to Example 1, and formed and evaluated the red striped pixel pattern of thickness 1.60 micrometers on the board | substrate, and the foreign material generation was not confirmed on the pattern. However, when the chromaticity of the pixel pattern was evaluated, (x, y, Y) = (0.650, 0.322, 17.5), the luminance Y value was low, and the contrast ratio was 350, and it was not possible to use it as a pixel used for a display element. .

본 발명에 따르면, 투과율 및 콘트라스트비가 높고, 형성한 패턴 상에 이물질 발생없이 제조 수율이 높은 적색 화소를 형성할 수 있는 컬러 필터용 감방사선성 조성물, 그로부터 형성되는 착색층의 형성 방법 및 그 착색층을 구비하는 컬러 필터, 또한 액정 표시 소자가 제공된다. According to the present invention, a radiation-sensitive composition for color filters having a high transmittance and a contrast ratio and capable of forming a red pixel having a high production yield without generating foreign substances on the formed pattern, a method of forming a colored layer formed therefrom and the colored layer thereof There is provided a color filter comprising a liquid crystal display device.

본 발명의 컬러 필터용 감방사선성 조성물은 전자 공업 분야의 컬러 액정 표시 장치를 비롯한 각종 컬러 필터를 갖는 기기 제조에 매우 바람직하게 이용할 수 있다. The radiation sensitive composition for color filters of this invention can be used very favorably for manufacture of the apparatus which has various color filters, including the color liquid crystal display device of the electronic industry.

Claims (7)

(A) 안료, (B) 알칼리 가용성 수지, (C) 다관능성 단량체 및 (D) 광라디칼 발생제를 함유하며, 상기 안료 (A)는 동적 광산란법에 의해 측정한 평균 입경 r(nm)이 100≤r≤300이고, 평균 입경±100 nm에 들어가는 입자가 전체의 70 중량% 이상이며, 또한 C.I.피그먼트 레드 254를 포함하는 컬러 필터용 감방사선성 조성물이며, 상기 안료 (A)는 C.I.피그먼트 레드 254 또는 C.I.피그먼트 레드 254와 다른 안료의 혼합물을, 톨루엔 디이소시아네이트류와 한쪽 말단에 히드록시기를 갖는 폴리카프로락톤, 양쪽 말단에 히드록시기를 갖는 폴리카프로락톤 또는 이들의 혼합물과의 반응 생성물을 안료 100 중량부에 대하여 10 내지 50 중량부 포함하는 분산제 및 용매의 존재하에서 분쇄하면서 혼합ㆍ분산시킴으로써 안료 분산액의 형태로 제조된 것을 특징으로 하는, 컬러 필터용 감방사선성 조성물.(A) a pigment, (B) alkali-soluble resin, (C) polyfunctional monomer, and (D) optical radical generator, and said pigment (A) has an average particle diameter r (nm) measured by the dynamic light scattering method 100 ≤ r ≤ 300, the average particle diameter ± 100 nm, the total amount of particles is 70% by weight or more, the radiation-sensitive composition for color filters containing CI Pigment Red 254, the pigment (A) is CI pigment A mixture of pigment red 254 or CI pigment red 254 with other pigments is obtained by reacting toluene diisocyanates with polycaprolactone having a hydroxy group at one end, polycaprolactone having a hydroxy group at both ends or a mixture thereof. Persimmon for color filters, which is produced in the form of a pigment dispersion by mixing and dispersing in the presence of a dispersant and a solvent containing 10 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight. Diagonal composition. 제1항에 있어서, 안료 (A) 중의 C.I.피그먼트 레드 254의 함유량이 30 중량% 이상인 컬러 필터용 감방사선성 조성물.The radiation sensitive composition for color filters of Claim 1 whose content of C.I. pigment red 254 in pigment (A) is 30 weight% or more. 제1항에 있어서, 알칼리 가용성 수지 (B)가, (1) 아크릴산 및(또는) 메타크릴산을 필수 성분으로 하며, 숙신산 모노(2-아크릴로일옥시에틸), 숙신산 모노(2-메타크릴로일옥시에틸), ω-카르복시 폴리카프로락톤 모노아크릴레이트 및 ω-카르복시 폴리카프로락톤 모노메타크릴레이트의 군에서 선택되는 1종 이상의 화합물을 더 함유할 수 있는 카르복실기 함유 불포화 단량체 성분과, (2) 스티렌, 메틸아크 릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 알릴아크릴레이트, 알릴메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 글리세롤 모노메타크릴레이트, 글리세롤 모노아크릴레이트, N-페닐말레이미드, 폴리스티렌 거대 단량체 및 폴리메틸메타크릴레이트 거대 단량체의 군에서 선택되는 1종 이상의 공중합체인 컬러 필터용 감방사선성 조성물.The alkali-soluble resin (B) according to claim 1, wherein (1) acrylic acid and / or methacrylic acid are essential components, succinic mono (2-acryloyloxyethyl) and succinic acid mono (2-methacryl). Royloxyethyl), a carboxyl group-containing unsaturated monomer component which may further contain at least one compound selected from the group of? -Carboxy polycaprolactone monoacrylate and? -Carboxy polycaprolactone monomethacrylate, and (2 Styrene, methyl acrylate, methyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, allyl acrylate, allyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, glycerol mono At least one selected from the group of methacrylate, glycerol monoacrylate, N-phenylmaleimide, polystyrene macromonomers and polymethylmethacrylate macromonomers The radiation-sensitive polymer composition for a color filter. (1) 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 컬러 필터용 감방사선성 조성물의 도포막을 기판 상에 형성하는 공정,(1) Process of forming the coating film of the radiation sensitive composition for color filters in any one of Claims 1-3 on a board | substrate, (2) 상기 도포막의 적어도 일부에 방사선을 조사하는 공정,(2) irradiating at least a part of said coating film with radiation, (3) 현상 공정, 및(3) developing process, and (4) 가열 공정(4) heating process 을 포함하는 것을 특징으로 하는 착색층의 형성 방법.Forming method of the colored layer comprising a. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 컬러 필터용 감방사선성 조성물로부터 형성된 착색층을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터.The color filter formed from the radiation sensitive composition for color filters in any one of Claims 1-3. The color filter characterized by the above-mentioned. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 컬러 필터용 감방사선성 조성물로부터 형성된 착색층을 포함하는 컬러 액정 표시 장치.The color liquid crystal display device containing the colored layer formed from the radiation sensitive composition for color filters in any one of Claims 1-3. 제1항에 있어서, 상기 안료 (A)의 동적 광산란법에 의해 측정한 평균 입경 r(nm)이 100≤r≤150이고, 평균 입경±100 nm에 들어가는 입자가 전체의 70 중량% 이상인, 컬러 필터용 감방사선성 조성물.The color of Claim 1 whose average particle diameter r (nm) measured by the dynamic light-scattering method of the said pigment (A) is 100 <= r <= 150, and the particle | grains which fall in average particle diameter +/- 100 nm are 70 weight% or more of the whole. Radiation-sensitive composition for filters.
KR1020080087444A 2001-12-18 2008-09-04 Radiation-sensitive Composition for Color Filter, Method for Forming Colored Layer, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Device KR100907594B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001383981 2001-12-18
JPJP-P-2001-00383981 2001-12-18

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020020080652A Division KR20030076198A (en) 2001-12-18 2002-12-17 Radiation-sensitive Composition for Color Filter, Method for Forming Colored Layer, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20080083254A KR20080083254A (en) 2008-09-17
KR100907594B1 true KR100907594B1 (en) 2009-07-14

Family

ID=37764183

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020020080652A KR20030076198A (en) 2001-12-18 2002-12-17 Radiation-sensitive Composition for Color Filter, Method for Forming Colored Layer, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Device
KR1020080087444A KR100907594B1 (en) 2001-12-18 2008-09-04 Radiation-sensitive Composition for Color Filter, Method for Forming Colored Layer, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Device

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020020080652A KR20030076198A (en) 2001-12-18 2002-12-17 Radiation-sensitive Composition for Color Filter, Method for Forming Colored Layer, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Device

Country Status (2)

Country Link
KR (2) KR20030076198A (en)
TW (1) TWI257527B (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4407410B2 (en) * 2004-07-15 2010-02-03 Jsr株式会社 Radiation sensitive composition for color filter and preparation method thereof
JP2006047686A (en) * 2004-08-04 2006-02-16 Jsr Corp Radiation-sensitive composition for color filter, its preparation method, color filter and color liquid crystal display

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000035567A (en) * 1998-11-20 2000-06-26 마쯔모또 에이찌 Radiation-Sensitive Compositions for Color-Filter
JP2001139848A (en) * 1999-11-16 2001-05-22 Chisso Corp Colored composition, photocurable colored composition, color filter and liquid crystal display element

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000035567A (en) * 1998-11-20 2000-06-26 마쯔모또 에이찌 Radiation-Sensitive Compositions for Color-Filter
JP2001139848A (en) * 1999-11-16 2001-05-22 Chisso Corp Colored composition, photocurable colored composition, color filter and liquid crystal display element

Also Published As

Publication number Publication date
TWI257527B (en) 2006-07-01
TW200301404A (en) 2003-07-01
KR20030076198A (en) 2003-09-26
KR20080083254A (en) 2008-09-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100887096B1 (en) Radiation Sensitive Compositions for Color Filters, Color Filters and Color Liquid Crystal Display Devices
KR101134278B1 (en) Radiation sensitive composition and method for the preparation of the same
KR100870325B1 (en) Radiation sensitive composition for forming a colored layer, color filter and color liquid crystal display panel
KR100869214B1 (en) Radiosensitive Composition for Color Filter, Color Filter, Color Liquid Crystal Display Device and Process for Forming Colored Layer for Color Filter
KR100850170B1 (en) Radiation Sensitive Composition for Forming a Colored Layer, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Panel
KR100899938B1 (en) Radiation Sensitive Composition for Color Filters, Method for the Preparation of the Same, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Device
KR19990063073A (en) Radiation-sensitive composition
JP3940535B2 (en) Radiation sensitive composition for black resist
KR100760459B1 (en) Radiation Sensitive Composition for Forming Spacers on the Drive Substrate of a Thin Film Transistor Color Liquid Crystal Display Device, Drive Substrate Having Spacers Thereon, Production Process Therefor and Color Liquid Crystal Display Device
KR20060047458A (en) Radiation sensitive composition for forming a colored layer, color filter and liquid crystal display panel
KR20080006483A (en) Radiation-sensitive composition for forming a colored layer, color filter and color liquid crystal display device
JP3807108B2 (en) Radiation sensitive composition for color filter
JP3900078B2 (en) Radiation sensitive composition for color filter, color filter, and color liquid crystal display device
KR101442255B1 (en) Radiation-sensitive composition for forming colored layer
KR20070079007A (en) Radiosensitive compositions, color filters and liquid crystal display devices
KR100839745B1 (en) Radiation Sensitive Composition for Color Filters, Color Filter and Color Liquid Crystal Display
KR100907594B1 (en) Radiation-sensitive Composition for Color Filter, Method for Forming Colored Layer, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Device
JP4135247B2 (en) Radiation sensitive composition for color filter
JP2006030674A (en) Radiation sensitive composition for color filter, method for preparing the same, color filter and color liquid crystal display
KR20050076759A (en) Radiation sensitive composition for color filters, process for preparing the same, color filter and color liquid crystal display
KR20020010085A (en) Radiation Sensitive Composition and Colored Layer for Color Liquid Crystal Display Device, and Color Liquid Crystal Display Element
JP2007304614A (en) Method of forming coloring layer for use in color liquid crystal display device
JP5080715B2 (en) Radiation sensitive composition for color filter, color filter, and color liquid crystal display device
KR100483097B1 (en) Radiation Sensitive Composition and Color Liquid Crystal Display Device
JP3875642B2 (en) Colored image forming material, colored image forming photosensitive solution, and method for producing a color filter using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A107 Divisional application of patent
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
J201 Request for trial against refusal decision
AMND Amendment
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130628

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140701

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20150626

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160628

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170623

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180628

Year of fee payment: 10