KR100850170B1 - Radiation Sensitive Composition for Forming a Colored Layer, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Panel - Google Patents

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Abstract

본 발명은 착색제, 알칼리 가용성 수지, 다관능성 단량체 및 0-아실옥심형 광라디칼 발생제를 함유하는 착색층 형성용 감방사선성 조성물에 관한 것이다. 이 조성물은 현상시에 미용해물이 잔존하거나 패턴 엣지에 이물을 발생시키지 않으며, 저노광량에서도 패턴 엣지의 깨짐 및 언더 컷트가 발생하지 않는 화소 및 블랙 매트릭스를 제공하기 때문에, 컬러 필터의 착색층을 형성하는 데 사용된다. This invention relates to the radiation sensitive composition for colored layer formation containing a coloring agent, alkali-soluble resin, a polyfunctional monomer, and a 0-acyl oxime type photoradical generator. This composition forms a colored layer of a color filter because it does not leave undissolved matters at the time of development or foreign matters on the pattern edges and provides pixels and black matrices in which the pattern edges are not broken and undercut even at low exposure doses. Used to.

착색층, 감방사선성 조성물, 컬러 필터, 컬러 액정 표시 패널 Colored layer, radiation sensitive composition, color filter, color liquid crystal display panel

Description

착색층 형성용 감방사선성 조성물, 컬러 필터 및 컬러 액정 표시 패널{Radiation Sensitive Composition for Forming a Colored Layer, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Panel} Radiation Sensitive Composition for Forming a Colored Layer, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Panel}

[문헌 1] 일본 특허 공개 (평)2-144502호 공보 [Document 1] Japanese Unexamined Patent Publication No. 2-144502

[문헌 2] 일본 특허 공개 (평)3-53201호 공보[Document 2] Japanese Unexamined Patent Publication No. 3-53201

[문헌 3] 일본 특허 공개 (평)8-259876호 공보 [Document 3] Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-259876

본 발명은 착색층 형성용 감방사선성 조성물, 컬러 필터 및 컬러 액정 표시 패널에 관한 것이다. 보다 자세하게는, 투과형 또는 반사형의 컬러 액정 표시 장치, 컬러 촬상관 소자 등에 사용되는 컬러 필터의 제조에 유용한 착색층, 예를 들면 화소 및(또는) 블랙 매트릭스의 형성에 사용되는 감방사선성 조성물, 이 감방사선성 조성물로 형성된 착색층을 구비한 컬러 필터, 및 이 컬러 필터를 구비한 컬러 액정 표시 패널에 관한 것이다. The present invention relates to a radiation sensitive composition for forming a colored layer, a color filter, and a color liquid crystal display panel. In more detail, the radiation sensitive composition used for formation of the colored layer used for manufacture of the color filter used for a transmissive or reflective color liquid crystal display device, a color image tube element, etc., for example, a pixel and / or a black matrix, and The color filter provided with the colored layer formed from the radiation sensitive composition, and the color liquid crystal display panel provided with this color filter.

종래, 착색 감방사선성 조성물을 사용하여 컬러 필터를 제조하는 데에 있어서는, 기판 상 또는 미리 소정 패턴의 차광층을 형성한 기판 상에 착색 감방사선성 조성물을 도포하여 건조한 후, 건조 도막을 소정의 패턴 형상으로 방사선을 조사(이하, "노광"이라고 함)하여 현상함으로써, 각 색의 화소를 얻는 방법이 알려져 있다(일본 특허 공개 (평)2-144502호 공보 및 일본 특허 공개 (평)3-53201호 공보 참조). Conventionally, in manufacturing a color filter using a colored radiation sensitive composition, after apply | coating a colored radiation sensitive composition on a board | substrate or the board | substrate which previously formed the light shielding layer of a predetermined pattern, and drying, a dry coating film is prescribed | regulated. The method of obtaining the pixel of each color is known by irradiating a pattern shape with radiation (henceforth "exposure"), and it is known (Japanese Unexamined-Japanese-Patent No. 2-144502 and Japanese Unexamined-Japanese-Patent No. 3-). 5353).

또한, 최근 컬러 필터의 기술 분야에서는 노광량을 낮춤으로써 택트 타임(tact time)을 단축시키는 움직임이 주류가 되고 있지만, 종래의 착색 감방사선성 조성물에서는 현상시에 패턴 엣지의 깨짐이나 언더 컷트를 일으키기 쉽기 때문에, 택트 타임을 단축시키면서 양호한 패턴 형상의 화소 및 블랙 매트릭스를 얻는 것이 곤란하였다. In addition, in the technical field of the color filter, the movement of shortening the tact time by reducing the exposure amount has become mainstream, but in the conventional colored radiation-sensitive composition, it is easy to cause cracking or undercut of the pattern edge during development. For this reason, it was difficult to obtain satisfactory patterned pixels and black matrices while shortening the tact time.

본 발명의 목적은 우수한 현상성을 나타내는 착색층 형성용 감방사선성 조성물, 보다 구체적으로는 현상시에 미용해물이 잔존하거나 패턴 엣지에 이물을 발생시키지 않으며, 저노광량에서도 패턴 엣지의 깨짐이나 언더 컷트가 발생하지 않는 화소 및 블랙 매트릭스를 제공할 수 있는 신규한 착색층 형성용 감방사선성 조성물을 제공하는 것이다. An object of the present invention is a radiation-sensitive composition for forming a colored layer that exhibits excellent developability, more specifically, no cosmetic debris remains or foreign substances are generated at the pattern edge during development, and the pattern edge is not broken or undercut even at a low exposure amount. It is to provide a novel radiation-sensitive composition for forming a colored layer capable of providing a pixel and a black matrix which does not occur.

본 발명의 다른 목적은 상기 조성물로부터 형성된 착색층을 구비한 컬러 필터 및 이를 구비한 컬러 액정 표시 패널을 제공하는 것이다. Another object of the present invention is to provide a color filter having a colored layer formed from the composition and a color liquid crystal display panel having the same.

본 발명의 또 다른 목적 및 이점은 이하의 설명에서 밝혀질 것이다. Further objects and advantages of the invention will be apparent from the following description.

첫째, 본 발명에 따르면 본 발명의 상기 목적 및 이점은 (A) 착색제, (B) 알 칼리 가용성 수지, (C) 다관능성 단량체 및 (D) 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 광라디칼 발생제를 함유하는 것을 특징으로 하는 착색층 형성용 감방사선성 조성물에 의해 달성된다. First, according to the present invention, the above object and advantages of the present invention are photoradical generation including (A) colorant, (B) alkali soluble resin, (C) polyfunctional monomer and (D) a compound represented by the following formula (1): It is achieved by the radiation sensitive composition for colored layer formation characterized by containing an agent.

Figure 112005039864380-pat00001
Figure 112005039864380-pat00001

여기서, R1 및 R2 중 하나는 수소 원자, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 8의 시클로알킬기, 페닐기(이 페닐기는 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 탄소수 1 내지 6의 알콕시기, 페닐기 및 할로겐 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상의 치환기로 치환될 수도 있음), 탄소수 7 내지 20의 지환족기(상기 시클로알킬기를 제외함), 탄소수 4 내지 20의 산소 함유 복소환기, 탄소수 4 내지 20의 질소 함유 복소환기 또는 탄소수 4 내지 20의 황 함유 복소환기이고, 또한 R1 및 R2 중 다른 하나는 탄소수 13 내지 20의 알킬기, 탄소수 7 내지 20의 지환족기(상기 시클로알킬기를 제외함), 탄소수 4 내지 20의 산소 함유 복소환기, 탄소수 4 내지 20의 질소 함유 복소환기 또는 탄소수 4 내지 20의 황 함유 복소환기이며, R3은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기를 나타내고, R4, R5 및 R6은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기를 나타낸다. Wherein one of R 1 and R 2 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, a phenyl group (this phenyl group is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group and May be substituted with one or more substituents selected from the group consisting of halogen atoms), alicyclic groups having 7 to 20 carbon atoms (excluding the cycloalkyl group), oxygen-containing heterocyclic groups having 4 to 20 carbon atoms, nitrogen having 4 to 20 carbon atoms Containing heterocyclic group or a sulfur containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, and another one of R 1 and R 2 is an alkyl group having 13 to 20 carbon atoms, an alicyclic group having 7 to 20 carbon atoms (excluding the cycloalkyl group), and 4 carbon atoms An oxygen-containing heterocyclic group having from 20 to 20 carbon atoms, a nitrogen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, or a sulfur-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, and R 3 is a hydrogen atom or a straight chain having 1 to 12 carbon atoms; , Branched or cyclic alkyl group, and R 4 , R 5 and R 6 independently represent a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

둘째, 본 발명에 따르면 본 발명의 상기 목적 및 이점은 본 발명의 상기 착색층 형성용 감방사선성 조성물로부터 형성된 착색층을 구비하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터에 의해 달성된다. Secondly, according to the present invention, the above objects and advantages of the present invention are achieved by a color filter comprising a colored layer formed from the radiation-sensitive composition for forming a colored layer of the present invention.

마지막으로, 본 발명에 따르면 본 발명의 상기 목적 및 이점은 본 발명의 상기 컬러 필터를 구비하여 이루어지는 컬러 액정 표시 패널에 의해 달성된다. Finally, according to the present invention, the above objects and advantages of the present invention are achieved by a color liquid crystal display panel comprising the color filter of the present invention.

<발명의 바람직한 실시 형태>Preferred Embodiments of the Invention

이하, 본 발명에 대해 상세하게 설명한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail.

착색층 형성용 감방사선성 조성물Radiation-sensitive composition for colored layer formation

-(A) 착색제- -(A) colorant-

본 발명의 착색제는 색조가 특별히 한정되는 것은 아니고, 얻어지는 컬러 필터의 용도에 따라 적절하게 선정되며, 안료, 염료 또는 천연 색소 중 어떤 것일 수도 있다. The coloring agent of this invention is not specifically limited in color tone, It selects suitably according to the use of the color filter obtained, It may be any of a pigment, dye, or a natural pigment.

컬러 필터에는 고정밀한 발색과 내열성이 요구된다는 점에서, 본 발명의 착색제로서는 발색성이 높고, 또한 내열성이 높은 착색제, 특히 내열 분해성이 높은 착색제가 바람직하고, 통상 안료가 사용되며, 특히 바람직하게는 유기 안료, 카본 블랙이 사용된다. Since the color filter requires high color development and heat resistance, as the colorant of the present invention, a colorant having high color development and high heat resistance, in particular, a colorant having high thermal decomposition resistance, is preferably used, and pigments are usually used, particularly preferably organic. Pigments, carbon blacks are used.

상기 유기 안료로서는, 예를 들면 컬러 인덱스(C.I.; The Society of Dyers and Colourists사 발행)에 있어서 피그먼트(Pigment)로 분류되어 있는 화합물, 구체적으로는 하기와 같은 컬러 인덱스(C.I.) 번호가 부여된 것을 들 수 있다. As the organic pigment, for example, a compound which is classified as a pigment in the color index (CI; issued by The Society of Dyers and Colorists, Inc.), specifically the following color index (CI) number is given. It can be mentioned.

C.I.피그먼트 옐로우 1, C.I.피그먼트 옐로우 3, C.I.피그먼트 옐로우 12, C.I.피그먼트 옐로우 13, C.I.피그먼트 옐로우 14, C.I.피그먼트 옐로우 15, C.I.피그먼트 옐로우 16, C.I.피그먼트 옐로우 17, C.I.피그먼트 옐로우 20, C.I.피그먼트 옐로우 24, C.I.피그먼트 옐로우 31, C.I.피그먼트 옐로우 55, C.I.피그먼트옐로우 60, C.I.피그먼트 옐로우 61, C.I.피그먼트 옐로우 65, C.I.피그먼트 옐로우 71, C.I.피그먼트 옐로우 73, C.I.피그먼트 옐로우 74, C.I.피그먼트 옐로우 81, C.I.피그먼트 옐로우 83, C.I.피그먼트 옐로우 93, C.I.피그먼트 옐로우 95, C.I.피그먼트 옐로우 97, C.I.피그먼트 옐로우 98, C.I.피그먼트 옐로우 100, C.I.피그먼트 옐로우 101, C.I.피그먼트 옐로우 1O4, C.I.피그먼트 옐로우 106, C.I.피그먼트 옐로우 108, C.I.피그먼트 옐로우 109, C.I.피그먼트 옐로우 110, C.I.피그먼트 옐로우 113, C.I.피그먼트 옐로우 114, C.I.피그먼트 옐로우 116, C.I.피그먼트 옐로우 117, C.I.피그먼트 옐로우 119, C.I.피그먼트옐로우 120, C.I.피그먼트 옐로우 126, C.I.피그먼트 옐로우 127, C.I.피그먼트 옐로우 128, C.I.피그먼트 옐로우 129, C.I.피그먼트 옐로우 138, C.I.피그먼트 옐로우 139, C.I.피그먼트 옐로우 150, C.I.피그먼트 옐로우 151, C.I.피그먼트 옐로우 152, C.I.피그먼트 옐로우 153, C.I.피그먼트 옐로우 154, C.I.피그먼트 옐로우 155, C.I.피그먼트 옐로우 156, C.I.피그먼트 옐로우 166, C.I.피그먼트 옐로우 168, C.I.피그먼트 옐로우 175, C.I.피그먼트 옐로우 180, C.I.피그먼트 옐로우 185; CI Pigment Yellow 1, CI Pigment Yellow 3, CI Pigment Yellow 12, CI Pigment Yellow 13, CI Pigment Yellow 14, CI Pigment Yellow 15, CI Pigment Yellow 16, CI Pigment Yellow 17, CI Pigment CI Pigment Yellow 20, CI Pigment Yellow 24, CI Pigment Yellow 31, CI Pigment Yellow 55, CI Pigment Yellow 60, CI Pigment Yellow 61, CI Pigment Yellow 65, CI Pigment Yellow 71, CI Pigment Yellow 73, CI Pigment Yellow 74, CI Pigment Yellow 81, CI Pigment Yellow 83, CI Pigment Yellow 93, CI Pigment Yellow 95, CI Pigment Yellow 97, CI Pigment Yellow 98, CI Pigment Yellow 100, CI Pigment Yellow 101, CI Pigment Yellow 1O4, CI Pigment Yellow 106, CI Pigment Yellow 108, CI Pigment Yellow 109, CI Pigment Yellow 110, CI Pigment Yellow 113, CI Pigment Yellow 114, CI Pigment Yellow 116, CI Pigment Yellow 117, CI Pigment Yellow 119, CI Pigment Yellow 120, CI Pigment Yellow 126, CI Pigment Yellow 127, CI Pigment Yellow 128, CI Pigment CI Pigment Yellow 129, CI Pigment Yellow 138, CI Pigment Yellow 139, CI Pigment Yellow 150, CI Pigment Yellow 151, CI Pigment Yellow 152, CI Pigment Yellow 153, CI Pigment Yellow 154, CI Pigment Yellow 155, CI Pigment Yellow 156, CI Pigment Yellow 166, CI Pigment Yellow 168, CI Pigment Yellow 175, CI Pigment Yellow 180, CI Pigment Yellow 185;

C.I.피그먼트 오렌지 1, C.I.피그먼트 오렌지 5, C.I.피그먼트 오렌지 13, C.I.피그먼트 오렌지 14, C.I.피그먼트 오렌지 16, C.I.피그먼트 오렌지 17, C.I.피그먼트 오렌지 24, C.I.피그먼트 오렌지 34, C.I.피그먼트오렌지 36, C.I.피그먼트 오렌지 38, C.I.피그먼트 오렌지 40, C.I.피그먼트 오렌지 43, C.I.피그먼트 오렌지 46, C.I.피그먼트 오렌지 49, C.I.피그먼트 오렌지 51, C.I.피그먼트 오렌지 61, C.I.피그먼트 오렌지 63, C.I.피그먼트 오렌지 64, C.I.피그먼트 오렌지 71, C.I.피그먼트 오렌지 73; CI Pigment Orange 1, CI Pigment Orange 5, CI Pigment Orange 13, CI Pigment Orange 14, CI Pigment Orange 16, CI Pigment Orange 17, CI Pigment Orange 24, CI Pigment Orange 34, CI Pigment CI Orange 36, CI Pigment Orange 38, CI Pigment Orange 40, CI Pigment Orange 43, CI Pigment Orange 46, CI Pigment Orange 49, CI Pigment Orange 51, CI Pigment Orange 61, CI Pigment Orange 63, CI pigment orange 64, CI pigment orange 71, CI pigment orange 73;

C.I.피그먼트 바이올렛 1, C.I.피그먼트 바이올렛 19, C.I.피그먼트 바이올렛 23, C.I.피그먼트 바이올렛 29, C.I.피그먼트 바이올렛 32, C.I.피그먼트 바이올렛 36, C.I.피그먼트 바이올렛 38; C.I. Pigment Violet 1, C.I.Pigment Violet 19, C.I.Pigment Violet 23, C.I.Pigment Violet 29, C.I.Pigment Violet 32, C.I.Pigment Violet 36, C.I.Pigment Violet 38;

C.I.피그먼트 레드 1, C.I.피그먼트 레드 2, C.I.피그먼트 레드 3, C.I.피그먼트 레드 4, C.I.피그먼트 레드 5, C.I.피그먼트 레드 6, C.I.피그먼트 레드 7, C.I.피그먼트 레드 8, C.I.피그먼트 레드 9, C.I.피그먼트 레드 10, C.I.피그먼트 레드 11, C.I.피그먼트 레드 12, C.I.피그멘트 레드 14, C.I.피그먼트 레드 15, C.I.피그먼트 레드 16, C.I.피그먼트 레드 17, C.I.피그먼트 레드 18, C.I.피그먼트 레드 19, C.I.피그먼트 레드 21, C.I.피그먼트 레드 22, C.I.피그먼트 레드 23, C.I.피그먼트 레드 30, C.I.피그먼트 레드 31, C.I.피그먼트 레드 32, C.I.피그먼트 레드 37, C.I.피그먼트 레드 38, C.I.피그먼트 레드 40, C.I.피그먼트 레드 41, C.I.피그먼트 레드 42, C.I.피그먼트 레드 48:1, C.I.피그먼트 레드 48:2, C.I.피그먼트 레드 48:3, C.I.피그먼트 레드 48:4, C.I.피그먼트 레드 49:1, C.I.피그먼 트 레드 49:2, C.I.피그먼트 레드 50:1, C.I.피그먼트 레드 52:1, C.I.피그먼트 레드 53:1, C.I.피그먼트 레드 57, C.I.피그먼트 레드 57:1, C.I.피그먼트 레드 57:2, C.I.피그먼트 레드 58:2, C.I.피그먼트 레드 58:4, C.I.피그먼트 레드 60:1, C.I.피그먼트 레드 63:1, C.I.피그먼트 레드 63:2, C.I.피그먼트 레드 64:1, C.I.피그먼트 레드 81:1, C.I.피그먼트 레드 83, C.I.피그먼트 레드 88, C.I.피그먼트 레드 90:1, C.I.피그먼트 레드 97, CI Pigment Red 1, CI Pigment Red 2, CI Pigment Red 3, CI Pigment Red 4, CI Pigment Red 5, CI Pigment Red 6, CI Pigment Red 7, CI Pigment Red 8, CI Pigment CI Pigment Red 9, CI Pigment Red 10, CI Pigment Red 11, CI Pigment Red 12, CI Pigment Red 14, CI Pigment Red 15, CI Pigment Red 16, CI Pigment Red 17, CI Pigment Red 18, CI Pigment Red 19, CI Pigment Red 21, CI Pigment Red 22, CI Pigment Red 23, CI Pigment Red 30, CI Pigment Red 31, CI Pigment Red 32, CI Pigment Red 37, CI Pigment Red 38, CI Pigment Red 40, CI Pigment Red 41, CI Pigment Red 42, CI Pigment Red 48: 1, CI Pigment Red 48: 2, CI Pigment Red 48: 3, CI Pigment CIment Red 48: 4, CI Pigment Red 49: 1, CI Pigment Red 49: 2, CI Pigment Red 50: 1, CI Pigment Red 52: 1, CI Pigment Red 53: 1, CI Pigment Red 57, CI Pigment Red 57: 1, CI Pigment Red 57: 2, CI Pigment Red 58: 2 , CI Pigment Red 58: 4, CI Pigment Red 60: 1, CI Pigment Red 63: 1, CI Pigment Red 63: 2, CI Pigment Red 64: 1, CI Pigment Red 81: 1, CI Pigment Red 83, CI Pigment Red 88, CI Pigment Red 90: 1, CI Pigment Red 97,

C.I.피그먼트 레드 101, C.I.피그먼트 레드 102, C.I.피그먼트 레드 104, C.I.피그먼트 레드 105, C.I.피그먼트 레드 106, C.I.피그먼트 레드 108, C.I.피그먼트 레드 112, C.I.피그먼트 레드 113, C.I.피그먼트 레드 114, C.I.피그먼트 레드 122, C.I.피그먼트 레드 123, C.I.피그먼트 레드 144, C.I.피그먼트 레드 146, C.I.피그먼트 레드 149, C.I.피그먼트 레드 150, C.I.피그먼트 레드 151, C.I.피그먼트 레드 166, C.I.피그먼트 레드 168, C.I.피그먼트 레드 170, C.I.피그먼트 레드 171, C.I.피그먼트 레드 172, C.I.피그먼트 레드 174, C.I.피그먼트 레드 175, C.I.피그먼트 레드 176, C.I.피그먼트 레드 177, C.I.피그먼트 레드 178, C.I.피그먼트 레드 179, C.I.피그먼트 레드 180, C.I.피그먼트 레드 185, C.I.피그먼트 레드 187, C.I.피그먼트 레드 188, C.I.피그먼트 레드 190, C.I.피그먼트 레드 193, C.I.피그먼트 레드 194, C.I.피그먼트 레드 202, C.I.피그먼트 레드 206, C.I.피그먼트 레드 207, C.I.피그먼트 레드 208, C.I.피그먼트 레드 209, C.I.피그먼트 레드 215, C.I.피그먼트 레드 216, C.I.피그먼트 레드 220, C.I.피그먼트 레드 224, C.I.피그먼트 레드 226, C.I.피그먼트 레드 242, C.I.피그먼트 레드 243, C.I.피그 먼트 레드 245, C.I.피그먼트 레드 254, C.I.피그먼트 레드 255, C.I.피그먼트 레드 264, C.I.피그먼트 레드 265; CI Pigment Red 101, CI Pigment Red 102, CI Pigment Red 104, CI Pigment Red 105, CI Pigment Red 106, CI Pigment Red 108, CI Pigment Red 112, CI Pigment Red 113, CI Pigment CI Pigment Red 114, CI Pigment Red 122, CI Pigment Red 123, CI Pigment Red 144, CI Pigment Red 146, CI Pigment Red 149, CI Pigment Red 150, CI Pigment Red 151, CI Pigment Red 166, CI Pigment Red 168, CI Pigment Red 170, CI Pigment Red 171, CI Pigment Red 172, CI Pigment Red 174, CI Pigment Red 175, CI Pigment Red 176, CI Pigment Red 177, CI Pigment Red 178, CI Pigment Red 179, CI Pigment Red 180, CI Pigment Red 185, CI Pigment Red 187, CI Pigment Red 188, CI Pigment Red 190, CI Pigment Red 193, CI Pigment Red 194, CI Pigman Red 202, CI Pigment Red 206, CI Pigment Red 207, CI Pigment Red 208, CI Pigment Red 209, CI Pigment Red 215, CI Pigment Red 216, CI Pigment Red 220, CI Pigment Red 224 CI Pigment Red 226, CI Pigment Red 242, CI Pigment Red 243, CI Pigment Red 245, CI Pigment Red 254, CI Pigment Red 255, CI Pigment Red 264, CI Pigment Red 265;

C.I.피그먼트 블루 15, C.I.피그먼트 블루 15:3, C.I.피그먼트 블루 15:4, C.I.피그먼트 블루 15:6, C.I.피그먼트 블루 60; C.I. Pigment Blue 15, C.I. Pigment Blue 15: 3, C.I. Pigment Blue 15: 4, C.I. Pigment Blue 15: 6, C.I.Pigment Blue 60;

C.I.피그먼트 그린 7, C.I.피그먼트 그린 36,C.I. pigment green 7, C.I. pigment green 36,

C.I.피그먼트 브라운 23, C.I.피그먼트 브라운 25;C.I. Pigment Brown 23, C.I.Pigment Brown 25;

C.I.피그먼트 블랙 1, C.I.피그먼트 블랙 7. C.I. Pigment Black 1, C.I.Pigment Black 7.

이들 유기 안료는, 예를 들면 황산 재결정법, 용매 세정법이나 이들 조합 등에 의해 정제하여 사용할 수 있다. These organic pigments can be used, for example, by refining the sulfuric acid recrystallization method, solvent washing method or a combination thereof.

또한, 무기 안료로서는, 예를 들면 산화티탄, 황산 바륨, 탄산 칼슘, 아연화, 황산납, 황색납, 아연황, 철단(적색 산화철 (III)), 카드뮴 적(赤), 군청, 감청, 산화크롬 녹(綠), 코발트 녹(綠), 호박, 티탄 블랙, 합성 철흑, 카본 블랙 등을 들 수 있다. In addition, examples of the inorganic pigment include titanium oxide, barium sulfate, calcium carbonate, zincated, lead sulfate, yellow lead, zinc sulfur, iron group (red iron oxide (III)), cadmium red, ultramarine blue, blue blue, and chromium oxide. Rust, cobalt rust, amber, titanium black, synthetic iron black, carbon black, etc. are mentioned.

블랙 매트릭스의 형성에 사용되는 카본 블랙으로서는, 예를 들면 SAF, SAF-HS, ISAF, ISAF-LS, ISAF-HS, HAF, HAF-LS, HAF-HS, NAF, FEF, FEF-HS, SRF, SRF-LM, SRF-LS, GPF, ECF, N-339, N-351 등과 같은 퍼니스 블랙; FT, MT 등과 같은 서멀 블랙; 아세틸렌 블랙 등을 들 수 있다. As carbon black used for formation of a black matrix, for example, SAF, SAF-HS, ISAF, ISAF-LS, ISAF-HS, HAF, HAF-LS, HAF-HS, NAF, FEF, FEF-HS, SRF, Furnace blacks such as SRF-LM, SRF-LS, GPF, ECF, N-339, N-351 and the like; Thermal blacks such as FT, MT and the like; Acetylene black and the like.

본 발명에 있어서, 상기 유기 안료 및 무기 안료는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있고, 또한 유기 안료와 무기 안료를 병용할 수 있다. 화소를 형성할 때에는 1종 이상의 유기 안료가 사용되는 것이 바람직하고, 블랙 매 트릭스를 형성할 때에는 2종 이상의 유기 안료 및(또는) 카본 블랙을 사용하는 것이 바람직하다. In this invention, the said organic pigment and an inorganic pigment can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively, and can also use an organic pigment and an inorganic pigment together. It is preferable to use one or more organic pigments when forming a pixel, and it is preferable to use two or more organic pigments and / or carbon black when forming a black matrix.

본 발명에서의 상기 각 안료는 목적에 따라 그 입자 표면을 중합체로 개질하여 사용할 수 있다. 안료의 입자 표면을 개질하는 중합체로서는, 예를 들면 일본 특허 공개 (평)8-259876호 공보 등에 기재된 중합체나, 시판되는 각종 안료 분산용의 중합체 또는 올리고머 등을 들 수 있다. Each pigment in the present invention can be used by modifying its particle surface with a polymer according to the purpose. As a polymer which modifies the particle surface of a pigment, the polymer of Unexamined-Japanese-Patent No. 8-259876, etc., the polymer for various pigment dispersions, or oligomer etc. which are commercially available are mentioned, for example.

또한, 본 발명에서의 착색제는 목적에 따라 분산제와 함께 사용할 수 있다. In addition, the coloring agent in this invention can be used with a dispersing agent according to the objective.

상기 분산제로서는, 예를 들면 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양쪽성, 실리콘계, 불소계 등과 같은 계면활성제를 들 수 있다. Examples of the dispersant include surfactants such as cationic, anionic, nonionic, amphoteric, silicone, fluorine and the like.

상기 계면활성제로서는, 예를 들면 폴리옥시에틸렌라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌스테아릴에테르, 폴리옥시에틸렌올레일에테르와 같은 폴리옥시에틸렌알킬에테르; 폴리옥시에틸렌 n-옥틸페닐에테르, 폴리옥시에틸렌 n-노닐페닐에테르와 같은 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르; 폴리에틸렌글리콜디라우레이트, 폴리에틸렌글리콜디스테아레이트와 같은 폴리에틸렌글리콜디에스테르; 소르비탄 지방산 에스테르; 지방산 변성 폴리에스테르; 3급 아민 변성 폴리우레탄; 폴리에틸렌이민류 등 외, 이하 상품명으로 KP(신에츠 가가꾸 고교(주) 제조), 폴리플로우(교에이샤 가가꾸(주) 제조), 에프톱(토켐 프로덕츠사 제조), 메가팩(다이닛본 잉크 가가꾸 고교(주) 제조), 플로우라이드(스미또모 쓰리엠(주) 제조), 아사히가드, 서프론(이상, 아사히 가라스(주) 제조), 디스퍼비크(Disperbyk)-101, -103, -107, -110, -111, -115, -130, -160, -161, -162, -163, -164, -165, -166, -170, -180, -182, -2000, -2001(이상, 빅케미ㆍ재팬(주) 제조), 솔스파스S5000, -S12000, -S13240, -S13940, -S17000, -S20000, -S22000, -S24000, -S24000GR, -S26000, -S27000, -S28000(이상, 아베시아(주) 제조), EFKA46, -47, -48, -745, -4540, -4550, -6750, EFKA LP4008, -4009, -4010, -4015, -4050, -4055, -4560, -4800, EFKA 폴리머400, -401, -402, -403, -450, -451, -453(이상, 에프카 케미칼즈(주) 제조) 등을 들 수 있다.As said surfactant, For example, polyoxyethylene alkyl ether, such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether; Polyoxyethylene alkyl phenyl ethers such as polyoxyethylene n-octylphenyl ether and polyoxyethylene n-nonylphenyl ether; Polyethylene glycol diesters such as polyethylene glycol dilaurate and polyethylene glycol distearate; Sorbitan fatty acid esters; Fatty acid modified polyesters; Tertiary amine modified polyurethanes; In addition to polyethyleneimine, KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), polyflow (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), F-Top (manufactured by Tochem Products Co., Ltd.), and Mega Pack (Dain Nippon Ink) Kagaku Kogyo Co., Ltd.), Flowride (Sumitomo 3M Co., Ltd.), Asahi Guard, Supron (above, Asahi Glass Co., Ltd.), Disperbyk-101, -103, -107, -110, -111, -115, -130, -160, -161, -162, -163, -164, -165, -166, -170, -180, -182, -2000, -2001 (Above, Big Chemi Japan Co., Ltd.), Sol Spas S5000, -S12000, -S13240, -S13940, -S17000, -S20000, -S22000, -S24000, -S24000GR, -S26000, -S27000, -S28000 (Above, Avecia Co., Ltd.), EFKA46, -47, -48, -745, -4540, -4550, -6750, EFKA LP4008, -4009, -4010, -4015, -4050, -4055,- 4560, -4800, EFKA polymer 400, -401, -402, -403, -450, -451, -453 (above, Efka Chemicals Corporation make), etc. are mentioned.

이들 계면활성제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. These surfactant can be used individually or in mixture of 2 or more types.

계면활성제의 사용량은 착색제 100 중량부에 대해 바람직하게는 50 중량부 이하, 보다 바람직하게는 0 내지 30 중량부이다. The amount of the surfactant used is preferably 50 parts by weight or less, more preferably 0 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the colorant.

-(B) 알칼리 가용성 수지--(B) alkali-soluble resin-

본 발명에서의 알칼리 가용성 수지로는 (A) 착색제에 대해 결합제로서 작용하고, 또한 컬러 필터를 제조할 때 그 현상 처리 공정에서 사용되는 현상액, 바람직하게는 알칼리 현상액에 대해 가용성을 갖는 것이면 특별히 한정되는 것은 아니다. 그 중에서도 카르복실기를 갖는 알칼리 가용성 수지가 바람직하고, 특히 1개 이상의 카르복실기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체(이하, "카르복실기 함유 불포화 단량체"라고 함)와 다른 공중합 가능한 에틸렌성 불포화 단량체(이하, "공중합성 불포화 단량체"라고 함)와의 공중합체(이하, "카르복실기 함유 공중합체"라고 함)가 바람직하다. As alkali-soluble resin in this invention, if it acts as a binder with respect to (A) coloring agent, and when it has solubility with respect to the developing solution used for the developing process, Preferably an alkaline developing solution, when manufacturing a color filter, it will be specifically limited. It is not. Among them, alkali-soluble resins having a carboxyl group are preferred, and ethylenically unsaturated monomers (hereinafter, "copolymerizable unsaturated") copolymerizable with other ethylenically unsaturated monomers having one or more carboxyl groups (hereinafter referred to as "carboxyl group-containing unsaturated monomers") in particular Preferred are copolymers (hereinafter referred to as "carboxyl group-containing copolymers") with &quot; monomers &quot;.

카르복실기 함유 불포화 단량체로서는, 예를 들면 As a carboxyl group-containing unsaturated monomer, for example

(메트)아크릴산, 크로톤산, α-클로로아크릴산, 신남산과 같은 불포화 모노 카르복실산; Unsaturated mono carboxylic acids such as (meth) acrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid and cinnamic acid;

말레산, 말레산 무수물, 푸마르산, 이타콘산, 이타콘산 무수물, 시트라콘산, 시트라콘산 무수물, 메사콘산과 같은 불포화 디카르복실산 또는 그의 무수물; Unsaturated dicarboxylic acids or anhydrides thereof such as maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, mesaconic acid;

3가 이상의 불포화 다가 카르복실산 또는 그의 무수물; Trivalent or higher unsaturated polyvalent carboxylic acid or anhydrides thereof;

숙신산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸], 프탈산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]과 같은 2가 이상의 다가 카르복실산의 모노[(메트)아크릴로일옥시알킬]에스테르; Mono [(meth) acryloyloxyalkyl] of a divalent or higher polyhydric carboxylic acid such as monosuccinic acid [2- (meth) acryloyloxyethyl] and phthalic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] ester;

ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메트)아크릴레이트와 같은 양쪽 말단에 카르복시기와 수산기를 갖는 중합체의 모노(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. and mono (meth) acrylates of polymers having a carboxyl group and a hydroxyl group at both ends, such as? -carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate.

이들 카르복실기 함유 불포화 단량체 중, 숙신산모노(2-아크릴로일옥시에틸) 및 프탈산모노(2-아크릴로일옥시에틸)은 각각 M-5300 및 M-5400(도아 고세이(주)제조)의 상품명으로 시판되고 있다. Among these carboxyl group-containing unsaturated monomers, mono succinate (2-acryloyloxyethyl) and mono phthalate (2-acryloyloxyethyl) are trademarks of M-5300 and M-5400 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), respectively. It is commercially available.

상기 카르복실기 함유 불포화 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. The said carboxyl group-containing unsaturated monomer can be used individually or in mixture of 2 or more types.

또한, 공중합성 불포화 단량체로서는 예를 들면 Moreover, as a copolymerizable unsaturated monomer, for example

스티렌, α-메틸스티렌, o-비닐톨루엔, m-비닐톨루엔, p-비닐톨루엔, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르와 같은 방향족 비닐 화합물; Styrene, α-methylstyrene, o-vinyltoluene, m-vinyltoluene, p-vinyltoluene, p-chlorostyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxystyrene, o-vinylbenzylmethyl Aromatic vinyl compounds such as ether, m-vinyl benzyl methyl ether, p-vinyl benzyl methyl ether, o-vinyl benzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether, and p-vinyl benzyl glycidyl ether;

인덴, 1-메틸인덴과 같은 인덴; Indene, such as indene, 1-methylindene;

메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-프로필(메트)아크릴레이트, i-프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, i-부틸(메트)아크릴레이트, sec-부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 3-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 3-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 알릴(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타디에닐(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 글리세롤모노(메트)아크릴레이트와 같은 불포화 카르복실산에스테르; Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, i-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate , 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (Meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (Meth) acrylate, methoxy propylene glycol (meth) acrylate, Toxydipropylene glycol (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentadienyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, glycerol mono (meth Unsaturated carboxylic acid esters such as acrylate;

2-아미노에틸(메트)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 2-아미노프로필(메트)아크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필(메트)아크릴레이트, 3-아미노프로필(메트)아크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필(메트)아크릴레이트와 같은 불포화 카르복실산아미노알킬에스테르; 2-aminoethyl (meth) acrylate, 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-aminopropyl (meth) acrylate, 2-dimethylaminopropyl (meth) acrylate, 3-aminopropyl (meth) acrylic Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl esters such as latex and 3-dimethylaminopropyl (meth) acrylate;

글리시딜(메트)아크릴레이트와 같은 불포화 카르복실산글리시딜에스테르; Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl (meth) acrylate;

(메트)아크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴, 시안화비닐리덴과 같은 시안화비닐 화합물; Vinyl cyanide compounds such as (meth) acrylonitrile, α-chloroacrylonitrile and vinylidene cyanide;

(메트)아크릴아미드, α-클로로아크릴아미드, N-2-히드록시에틸(메트)아크릴아미드와 같은 불포화 아미드; Unsaturated amides such as (meth) acrylamide, α-chloroacrylamide, N-2-hydroxyethyl (meth) acrylamide;

말레이미드, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드와 같은 불포화 이미드; Unsaturated imides such as maleimide, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide;

아세트산비닐, 프로피온산비닐, 부티르산비닐, 벤조산비닐과 같은 카르복실산비닐에스테르; Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate and vinyl benzoate;

비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, 알릴글리시딜에테르와 같은 불포화 에테르; Unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether and allyl glycidyl ether;

1,3-부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌과 같은 지방족 공액 디엔; Aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene;

폴리스티렌, 폴리메틸(메트)아크릴레이트, 폴리-n-부틸(메트)아크릴레이트, 폴리실록산과 같은 중합체 분자쇄의 말단에 모노(메트)아크릴로일기를 갖는 거대 단량체 등을 들 수 있다. And macromonomers having a mono (meth) acryloyl group at the ends of polymer molecular chains such as polystyrene, polymethyl (meth) acrylate, poly-n-butyl (meth) acrylate, and polysiloxane.

이들 공중합성 불포화 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. These copolymerizable unsaturated monomers can be used individually or in mixture of 2 or more types.

본 발명의 카르복실기 함유 공중합체로서는 (메트)아크릴산을 필수 성분으로 하고, 경우에 따라 숙신산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸] 및 ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메트)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 더 함유하는 카르복실기 함유 불포화 단량체 성분과, 스티렌, 메틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 알릴(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 글리세롤모노(메트)아크릴레이트, N-페닐말레이미드, 폴리스티렌 거대 단량체 및 폴리메틸메타크릴레이트 거대 단량체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상과의 공중합체(이하, "카르복실기 함유 공중합체 (B1)"이라고 함)가 바람직하다. As a carboxyl group-containing copolymer of this invention, (meth) acrylic acid is an essential component, and it consists of monosuccinate mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] and (omega) -carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate as the case may be. Carboxyl group-containing unsaturated monomer component further containing at least one compound selected from the group, styrene, methyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, benzyl (meth) Copolymers with one or more selected from the group consisting of acrylates, glycerol mono (meth) acrylates, N-phenylmaleimide, polystyrene macromonomers and polymethylmethacrylate macromonomers (hereinafter, "carboxyl group-containing copolymers ( B1) ").

카르복실기 함유 공중합체 (B1)의 구체적인 예로서는, As a specific example of a carboxyl group-containing copolymer (B1),

(메트)아크릴산/메틸(메트)아크릴레이트 공중합체, (Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate copolymer,

(메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트 공중합체, (Meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate copolymers,

(메트)아크릴산/2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트 공중합체, (Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer,

(메트)아크릴산/메틸(메트)아크릴레이트/폴리스티렌 거대 단량체 공중합체, (Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메트)아크릴산/메틸(메트)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 거대 단량체 공중합체, (Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer,

(메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트/폴리스티렌 거대 단량체 공중합체,(Meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 거대 단량체 공중합체, (Meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer,

(메트)아크릴산/2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트/폴리스티렌 거대 단량체 공중합체, (Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메트)아크릴산/2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 거대 단량체 공중합체, (Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer,

메타크릴산/스티렌/벤질(메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체, Methacrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer,

(메트)아크릴산/숙신산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]/스티렌/벤질(메트) 아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체, (Meth) acrylic acid / mono succinate mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer,

(메트)아크릴산/숙신산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]/스티렌/알릴(메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체, (Meth) acrylic acid / mono succinate mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / styrene / allyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer,

(메트)아크릴산/스티렌/벤질(메트)아크릴레이트/글리세롤모노(메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체, (Meth) acrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer,

(메트)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메트)아크릴레이트/스티렌/벤질(메트)아크릴레이트/글리세롤모노(메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체 등을 들 수 있다. (Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / styrene / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer and the like.

카르복실기 함유 공중합체에 있어서의 카르복실기 함유 불포화 단량체의 공중합 비율은 5 내지 50 중량%가 바람직하고, 10 내지 40 중량%가 보다 바람직하다. 이 경우, 상기 공중합 비율이 5 중량% 미만이면 얻어지는 감방사선성 조성물의 알칼리 현상액에 대한 용해성이 저하되는 경향이 있고, 한편 50 중량%를 초과하면 알칼리 현상액에 대한 용해성이 너무 커지고, 알칼리 현상액으로 현상할 때, 착색층의 기판으로부터의 탈락이나 착색층 표면의 막 거칠어짐을 초래하기 쉬워지는 경향이 있다. 5-50 weight% is preferable and, as for the copolymerization ratio of the carboxyl group-containing unsaturated monomer in a carboxyl group-containing copolymer, 10-40 weight% is more preferable. In this case, when the said copolymerization ratio is less than 5 weight%, the solubility with respect to the alkaline developing solution of the radiation sensitive composition obtained tends to fall, while when it exceeds 50 weight%, the solubility with respect to an alkaline developing solution will become large too much, and it develops with alkaline developing solution. When it does, there exists a tendency which becomes easy to cause the fall of the colored layer from the board | substrate and the film | membrane roughness of the colored layer surface.

본 발명에서의 알칼리 가용성 수지의 겔 투과 크로마토그래피(GPC, 용출 용매: 테트라히드로푸란)로 측정한 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량(이하, "Mw"라고 함)은 3,000 내지 300,000이 바람직하고, 5,000 내지 100,000이 보다 바람직하다. As for the polystyrene conversion weight average molecular weight (henceforth "Mw") measured by the gel permeation chromatography (GPC, elution solvent: tetrahydrofuran) of alkali-soluble resin in this invention, 3,000-300,000 are preferable, 5,000-100,000 This is more preferable.

또한, 본 발명에서의 알칼리 가용성 수지의 겔 투과 크로마토그래피(GPC, 용 출 용매: 테트라히드로푸란)로 측정한 폴리스티렌 환산 수평균 분자량(이하, "Mn"이라고 함)은 3,000 내지 60,000이 바람직하고, 5,000 내지 25,000이 보다 바람직하다. In addition, as for polystyrene conversion number average molecular weight (henceforth "Mn") measured by the gel permeation chromatography (GPC, elution solvent: tetrahydrofuran) of alkali-soluble resin in this invention, 3,000-60,000 are preferable, 5,000-25,000 are more preferable.

본 발명에서는 이러한 특정한 Mw 및 Mn을 갖는 알칼리 가용성 수지를 사용함으로써, 현상성이 우수한 감방사선성 조성물이 얻어지고, 그에 따라 뚜렷한 패턴 엣지를 갖는 화소 및 블랙 매트릭스를 형성할 수 있음과 동시에, 현상시에 미노광부의 기판 상 및 차광층 상에 잔사, 바탕 오염, 막 잔여물 등이 발생하기 어렵다. In the present invention, by using an alkali-soluble resin having such specific Mw and Mn, a radiation-sensitive composition excellent in developability is obtained, whereby a pixel and a black matrix having a distinct pattern edge can be formed, and at the same time Residues, ground contamination, film residues, etc., are hardly generated on the substrate and the light shielding layer of the unexposed portion.

또한, 본 발명에서의 알칼리 가용성 수지의 Mw와 Mn의 비 (Mw/Mn)는 1 내지 5가 바람직하고, 1 내지 4가 특히 바람직하다. Moreover, 1-5 are preferable and, as for ratio (Mw / Mn) of Mw of alkali-soluble resin in this invention, 1-4 are especially preferable.

본 발명에 있어서, 알칼리 가용성 수지는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. In this invention, alkali-soluble resin can be used individually or in mixture of 2 or more types.

본 발명에서의 알칼리 가용성 수지의 사용량은 (A) 착색제 100 중량부에 대해 바람직하게는 10 내지 1,000 중량부, 보다 바람직하게는 20 내지 500 중량부이다. 이 경우, 알칼리 가용성 수지의 사용량이 10 중량부 미만이면, 예를 들면 알칼리 현상성이 저하되거나, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에 바탕 오염이나 막 잔여물이 발생할 우려가 있고, 한편 1,O00 중량부를 초과하면 상대적으로 착색제 농도가 저하되기 때문에, 박막으로서 목적하는 농도를 달성하는 것이 곤란해질 우려가 있다. The usage-amount of alkali-soluble resin in this invention becomes like this. Preferably it is 10-1,000 weight part, More preferably, it is 20-500 weight part with respect to 100 weight part of (A) coloring agents. In this case, when the usage-amount of alkali-soluble resin is less than 10 weight part, alkali developability may fall, for example, there exists a possibility that a ground contamination or a film residue may arise on the board | substrate or the light shielding layer of an unexposed part, When the amount exceeds 00 parts by weight, the colorant concentration is relatively lowered, so that there is a fear that it is difficult to achieve the desired concentration as the thin film.

-(C) 다관능성 단량체- -(C) polyfunctional monomer-

본 발명의 다관능성 단량체는 2개 이상의 중합성 불포화 결합을 갖는 단량체 를 포함한다. The multifunctional monomer of the present invention includes a monomer having two or more polymerizable unsaturated bonds.

다관능성 단량체로서는, 예를 들면 As a polyfunctional monomer, for example

에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜과 같은 알킬렌글리콜의 디(메트)아크릴레이트; Di (meth) acrylates of alkylene glycols such as ethylene glycol and propylene glycol;

폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜과 같은 폴리알킬렌글리콜의 디(메트)아크릴레이트; Di (meth) acrylates of polyalkylene glycols such as polyethylene glycol and polypropylene glycol;

글리세린, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨과 같은 3가 이상의 다가 알코올의 폴리(메트)아크릴레이트나 이들의 디카르복실산 변성물; Poly (meth) acrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols such as glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, or modified dicarboxylic acids thereof;

폴리에스테르, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 실리콘 수지, 스피란 수지 등과 같은 올리고(메트)아크릴레이트; Oligo (meth) acrylates such as polyesters, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, silicone resins, spiran resins and the like;

양쪽 말단 히드록시폴리-1,3-부타디엔, 양쪽 말단 히드록시폴리이소프렌, 양쪽 말단 히드록시폴리카프로락톤 등과 같은 양쪽 말단 히드록실화 중합체의 디(메트)아크릴레이트나, Di (meth) acrylates of both terminal hydroxylated polymers such as both terminal hydroxypoly-1,3-butadiene, both terminal hydroxypolyisoprene, both terminal hydroxypolycaprolactone, and the like,

트리스[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]포스페이트 등을 들 수 있다. Tris [2- (meth) acryloyloxyethyl] phosphate etc. are mentioned.

이들 다관능성 단량체 중, 3가 이상의 다가 알코올의 폴리(메트)아크릴레이트나 이들의 디카르복실산 변성물, 구체적으로는 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사메타 크릴레이트, Of these polyfunctional monomers, poly (meth) acrylates of trivalent or higher polyhydric alcohols and their dicarboxylic acid modified substances, specifically trimethylolpropanetriacrylate, trimethylolpropanetrimethacrylate, pentaerythritol tree Acrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate , Dipentaerythritol hexamethacrylate,

하기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되는 화합물 등이 바람직하다. 특히, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트 및 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트가, 착색층의 강도가 높고, 착색층의 표면 평활성이 우수하고, 또한 미노광부의 기판 상 및 차광층 상에 바탕 오염, 막 잔여물 등을 생성하기 어렵다는 점에서 바람직하다.The compound represented by following formula (2) or (3) is preferable. In particular, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate have high strength of the colored layer, excellent surface smoothness of the colored layer, and further, on the substrate and the light shielding layer of the unexposed part. It is preferable in that it is difficult to produce background contamination, film residue, and the like.

Figure 112005039864380-pat00002
Figure 112005039864380-pat00002

Figure 112005039864380-pat00003
Figure 112005039864380-pat00003

상기 다관능성 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. The said polyfunctional monomer can be used individually or in mixture of 2 or more types.

본 발명의 다관능성 단량체의 사용량은 (B) 알칼리 가용성 수지 100 중량부에 대해 바람직하게는 5 내지 500 중량부, 보다 바람직하게는 20 내지 300 중량부이다. 이 경우, 다관능성 단량체의 사용량이 5 중량부 미만이면, 착색층의 강도나 표면 평활성이 저하되는 경향이 있고, 한편 500 중량부를 초과하면, 예를 들면 알 칼리 현상성이 저하되거나 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에 바탕 오염, 막 잔여물 등이 발생하기 쉬운 경향이 있다. The use amount of the multifunctional monomer of the present invention is preferably 5 to 500 parts by weight, more preferably 20 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the (B) alkali-soluble resin. In this case, when the usage-amount of a polyfunctional monomer is less than 5 weight part, there exists a tendency for the intensity | strength and surface smoothness of a colored layer to fall, and when it exceeds 500 weight part, for example, alkali developability falls or the board | substrate of an unexposed part exists. Background contamination, film residues, etc., tend to occur on the phase or the light shielding layer.

또한, 본 발명에서는 다관능성 단량체와 함께 중합성 불포화 결합을 1개 갖는 단관능성 단량체를 병용할 수 있다. Moreover, in this invention, the monofunctional monomer which has one polymerizable unsaturated bond can be used together with a polyfunctional monomer.

상기 단관능성 단량체로서는, 예를 들면 상기 (B) 알칼리 가용성 수지에 대해 예시한 상기 카르복실기 함유 불포화 단량체나 공중합성 불포화 단량체와 동일한 화합물 이외에, N-(메트)아크릴로일모르폴린, N-비닐피롤리돈, N-비닐-ε-카프로락탐 이외에, 시판품으로서 M-5600(상품명, 도아 고세이(주) 제조) 등을 들 수 있다. As said monofunctional monomer, N- (meth) acryloyl morpholine and N-vinyl-pipi other than the same compound as the said carboxyl group-containing unsaturated monomer and copolymerizable unsaturated monomer which were illustrated, for example for said (B) alkali-soluble resin M-5600 (a brand name, Toagosei Co., Ltd.) etc. are mentioned as a commercial item other than a ralidone and N-vinyl- epsilon caprolactam.

이들 단관능성 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 단관능성 단량체의 사용 비율은 다관능성 단량체와 단관능성 단량체의 합계에 대해 바람직하게는 90 중량% 이하, 보다 바람직하게는 50 중량% 이하이다. 이 경우, 단관능성 단량체의 사용 비율이 90 중량%를 초과하면 얻어지는 착색층의 강도나 표면 평활성이 불충분해질 우려가 있다. These monofunctional monomers can be used individually or in mixture of 2 or more types. The use ratio of the monofunctional monomer is preferably 90% by weight or less, and more preferably 50% by weight or less based on the total of the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer. In this case, when the use ratio of monofunctional monomer exceeds 90 weight%, there exists a possibility that the intensity | strength and surface smoothness of the colored layer obtained may become inadequate.

본 발명의 다관능성 단량체와 단관능성 단량체와의 합계 사용량은 (B) 알칼리 가용성 수지 100 중량부에 대해 바람직하게는 5 내지 500 중량부, 보다 바람직하게는 20 내지 300 중량부이다. 이 경우, 상기 합계 사용량이 5 중량부 미만이면 착색층의 강도나 표면 평활성이 저하되는 경향이 있고, 한편 500 중량부를 초과하면, 예를 들면 알칼리 현상성이 저하하되나, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에 바탕 오염이나 막 잔여물 등이 발생되기 쉬울 우려가 있다. The total amount of the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer of the present invention is preferably 5 to 500 parts by weight, more preferably 20 to 300 parts by weight based on 100 parts by weight of the (B) alkali-soluble resin. In this case, when the total amount used is less than 5 parts by weight, the strength and surface smoothness of the colored layer tends to be lowered. On the other hand, when the total amount exceeds 500 parts by weight, for example, alkali developability is lowered. Background contamination or film residues are likely to occur on the light shielding layer.

-(D) 광라디칼 발생제- (D) photo-radical generator-

본 발명의 (D) 성분은 O-아실옥심형 광라디칼 발생제, 특히 상기 화학식 1로 표시되는 화합물(이하, "광라디칼 발생제 (D1)"이라고 함)을 필수 성분으로 하고, 가시광선, 자외선, 원자외선, 하전 입자선, X선 등과 같은 방사선에 의한 노광에 의해, (C) 다관능성 단량체 및 경우에 따라 사용되는 단관능성 단량체의 중합을 개시할 수 있는 라디칼을 발생하는 성분을 포함한다. Component (D) of the present invention is an essential component of an O-acyl oxime optical radical generator, in particular, a compound represented by Chemical Formula 1 (hereinafter referred to as an "photo radical generator (D1)"), And (C) a component that generates radicals capable of initiating the polymerization of (C) the polyfunctional monomer and optionally the monofunctional monomer used by exposure to radiation such as ultraviolet rays, far ultraviolet rays, charged particle beams, X-rays, or the like. .

화학식 1에 있어서, R1 및 R2 중 하나는 수소 원자, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 8의 시클로알킬기, 페닐기(이 페닐기는 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 탄소수 1 내지 6의 알콕시기, 페닐기 및 할로겐 원자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 치환기로 치환될 수도 있음), 탄소수 7 내지 20의 지환족기(상기 시클로알킬기를 제외함), 탄소수 4 내지 20의 산소 함유 복소환기, 탄소수 4 내지 20의 질소 함유 복소환기, 또는 탄소수 4 내지 20의 황 함유 복소환기이고, 또한 R1 및 R2 중 다른 하나는 탄소수 13 내지 20의 알킬기, 탄소수 7 내지 20의 지환족기(상기 시클로알킬기를 제외함), 탄소수 4 내지 20의 산소 함유 복소환기, 탄소수 4 내지 20의 질소 함유 복소환기 또는 탄소수 4 내지 20의 황 함유 복소환기이며, R3은 수소 원자, 또는 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기를 나타내고, R4, R5 및 R6은 서로 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기를 나타낸다. In formula (1), one of R 1 and R 2 is a hydrogen atom, an alkyl group of 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group of 3 to 8 carbon atoms, a phenyl group (this phenyl group is an alkyl group of 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group of 1 to 6 carbon atoms) , May be substituted with at least one substituent selected from the group consisting of a phenyl group and a halogen atom), an alicyclic group having 7 to 20 carbon atoms (excluding the cycloalkyl group), an oxygen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, 4 to A nitrogen-containing heterocyclic group of 20 or a sulfur-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, and another one of R 1 and R 2 is an alkyl group having 13 to 20 carbon atoms and an alicyclic group having 7 to 20 carbon atoms (excluding the cycloalkyl group) ), An oxygen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, a nitrogen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, or a sulfur-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, and R 3 is a hydrogen atom or 1 carbon atom Branched, straight, branched or cyclic alkyl group, and R 4 , R 5 and R 6 independently represent a hydrogen atom or a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

탄소수 7 내지 20의 지환족기(상기 시클로알킬기를 제외함)로서는, 예를 들면 비시클로알킬기, 트리시클로알킬기, 스피로알킬기, ter-시클로알킬기, 테르펜 골격 함유기, 아다만틸 골격 함유기 등을 들 수 있다. As a C7-20 alicyclic group (except the said cycloalkyl group), a bicycloalkyl group, a tricycloalkyl group, a spiroalkyl group, a ter-cycloalkyl group, a terpene skeleton containing group, an adamantyl skeleton containing group, etc. are mentioned, for example. Can be.

탄소수 4 내지 20의 질소 함유 복소환기, 탄소수 4 내지 20의 산소 함유 복소환기, 탄소수 4 내지 20의 황 함유 복소환기로서는, 예를 들면 티오라닐, 아제피닐, 디히드로아제피닐, 디옥소라닐, 트리아지닐, 옥사티아닐, 티아졸릴, 옥사디아졸릴, 디옥사인다닐, 디히아나프탈레닐, 푸라닐, 티오페닐, 피롤릴, 옥사졸릴, 이소옥사졸릴, 티아졸릴, 이소티아졸릴, 피라졸릴, 푸라지닐, 피라닐, 피리디닐, 피리다지닐, 피리미딜, 피라지닐, 피롤리닐, 모르포닐, 피페라지닐, 퀴누클리디닐, 인돌릴, 이소인돌릴, 벤조푸라닐, 벤조티오페닐, 인돌리디닐, 크로메닐, 퀴놀리닐, 이소퀴놀리닐, 푸리닐, 퀴나졸리닐, 신놀리닐, 프탈라지닐, 프테리디닐, 카르바졸릴, 아크리디닐, 페난트리디닐, 티옥산테닐, 페나디닐, 페노시아디닐, 페녹사티이닐, 페녹사디닐, 티안트레닐 등을 들 수 있다. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, the oxygen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, and the sulfur-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms include, for example, thioranyl, azepinyl, dihydroazinyl, and dioxolanyl. , Triazinyl, oxathinyl, thiazolyl, oxadiazolyl, dioxadinyl, dihyaphthalenyl, furanyl, thiophenyl, pyrrolyl, oxazolyl, isoxazolyl, thiazolyl, isothiazolyl, pyra Zolyl, furazinyl, pyranyl, pyridinyl, pyridazinyl, pyrimidyl, pyrazinyl, pyrrolinyl, morphonyl, piperazinyl, quinuclidinyl, indolyl, isoindoleyl, benzofuranyl, benzothio Phenyl, indolidinyl, chromenyl, quinolinyl, isoquinolinyl, furinyl, quinazolinyl, cinnolinyl, phthalazinyl, pterridinyl, carbazolyl, acridinyl, phenantridinyl, thi Oxanthenyl, phenadidinyl, phenocyanidinyl, phenoxatiinyl, phenoxadidinyl, thianthrenyl, etc. The can.

화학식 1에 있어서, R3의 탄소수 1 내지 12의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기, n-운데실기, n-도데실기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다. In general formula (1), as a C1-C12 linear, branched or cyclic alkyl group of R <3> , For example, a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, cyclopentyl group, cyclo Hexyl group etc. are mentioned.

또한, R4, R5 및 R6의 탄소수 1 내지 6의 직쇄상, 분지상 또는 환상 알킬기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다. Moreover, as a C1-C6 linear, branched or cyclic alkyl group of R <4> , R <5> and R <6> , it is a methyl group, an ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, sec-, for example. A butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc. are mentioned.

이들 화합물 (D)의 구체적인 예로서는, As a specific example of these compounds (D),

1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-비시클로헵틸메탄-1-온옥심-O-벤조에이트, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -bicycloheptylmethane-1-one oxime-O-benzoate,

1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-비시클로헵틸-1-온옥심-O-아세테이트, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -bicycloheptyl-1-one oxime-O-acetate,

1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-아다만틸메탄-1-온옥심-O-벤조에이트, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -adamantylmethane-1-one oxime-O-benzoate,

1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-아다만틸메탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -adamantylmethane-1-one oxime-O-acetate,

1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-테트라히드로푸라닐메탄-1-온옥심-O-벤조에이트, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -tetrahydrofuranylmethane-1-one oxime-O-benzoate,

1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-테트라히드로푸라닐메탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -tetrahydrofuranylmethane-1-one oxime-O-acetate,

1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-티오페닐메탄-1-온옥심-O-벤조에이트, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -thiophenylmethane-1-one oxime-O-benzoate,

1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-티오페닐메탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -thiophenylmethane-1-one oxime-O-acetate,

1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-모르포닐메탄-1-온옥심-O-벤조에이트, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -morphonylmethane-1-one oxime-O-benzoate,

1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-모르포닐메탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -morphonylmethane-1-one oxime-O-acetate,

1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-비시클로헵탄카르복실레이트, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -ethane-1-onoxime-O-bicycloheptancarboxylate,

1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-트리시클로데칸카르복실레이트, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-tricyclodecanecarboxylate,

1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-아다만탄카르복실레이트 등을 들 수 있다. 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-adamantanecarboxylate and the like.

이들 (D) 광라디칼 발생제는 동시에 2종 이상을 사용할 수도 있다. These (D) optical radical generating agents can also use 2 or more types simultaneously.

(D) 광라디칼 발생제로서 상기 화학식 1 이외에 O-아실옥심형 광라디칼 발생제(이하, "광라디칼 발생제 (D2)"라고 함)도 병용할 수 있다. (D) As an optical radical generating agent, O-acyl oxime type optical radical generating agent (henceforth "photo radical generating agent (D2)") other than the said General formula (1) can also be used together.

이들 광라디칼 발생제 (D2)의 구체적인 예로서는 1,2-옥타디온-1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-벤조일옥심), 1,2-부탄디온-1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-벤조일옥심), 1,2-부탄디온-1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-아세틸옥심), 1,2-옥타디온-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-(O-벤조일옥심), 1,2-옥타디온-1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-(4-메틸벤조일옥심)) 등을 들 수 있다. 이들 중에서, 특히 1,2-옥타디온-1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-벤조일옥심)이 바람직하다. Specific examples of these photoradical generators (D2) include 1,2-octadione-1- [4- (phenylthio) phenyl] -2- (O-benzoyloxime) and 1,2-butanedione-1- [4 -(Phenylthio) phenyl] -2- (O-benzoyloxime), 1,2-butanedione-1- [4- (phenylthio) phenyl] -2- (O-acetyloxime), 1,2-octa Dione-1- [4- (methylthio) phenyl] -2- (O-benzoyloxime), 1,2-octadione-1- [4- (phenylthio) phenyl] -2- (O- (4- Methyl benzoyl oxime)) etc. are mentioned. Among them, 1,2-octadione-1- [4- (phenylthio) phenyl] -2- (O-benzoyloxime) is particularly preferable.

또한, 본 발명에서는 O-아실옥심형 광라디칼 발생제와 함께 다른 광라디칼 발생제를 병용할 수도 있다. Moreover, in this invention, another optical radical generating agent can also be used together with an O-acyl oxime optical radical generating agent.

상기 다른 광라디칼 발생제로서는, 예를 들면 하기 화학식 4a, 4b 또는 4c로 표시되는 주요 골격을 1종 이상 갖는 비이미다졸계 화합물, 벤조인계 화합물, 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, α-디케톤계 화합물, 다핵 퀴논계 화합물, 크산톤계 화합물, 포스핀계 화합물, 트리아진계 화합물 등을 들 수 있다. As said other radical photo-radical generating agent, the biimidazole type compound, benzoin type compound, acetophenone type compound, benzophenone type compound, (alpha)-which has 1 or more types of main skeleton represented by following General formula (4a), (4b) or (4c), Diketone compounds, polynuclear quinone compounds, xanthone compounds, phosphine compounds, triazine compounds and the like.

Figure 112005039864380-pat00004
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Figure 112005039864380-pat00005
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Figure 112005039864380-pat00006
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상기 비이미다졸계 화합물로서는, 예를 들면 As said biimidazole type compound, it is, for example

2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole,

2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸, 2,2'-bis (2-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole,

2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole,

2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole,

2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole,

2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-bis (2-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole,

2,2'-비스(2,4-디브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-bis (2,4-dibromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole,

2,2'-비스(2,4,6-트리브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 등을 들 수 있다. 2,2'-bis (2,4,6-tribromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole etc. are mentioned.

이들 비이미다졸계 화합물 중, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 및 2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸이 바람직하고, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸이 특히 바람직하다. Among these biimidazole compounds, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis ( 2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole and 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4, 4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole is preferred, and 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenyl-1 , 2'-biimidazole is particularly preferred.

상기 비이미다졸계 화합물은 용매에 대한 용해성이 우수하고, 미용해물, 석출물 등과 같은 이물을 발생시키는 일이 없고, 게다가 감도가 높으며, 적은 에너지량의 노광으로 경화 반응을 충분히 진행시킴과 동시에, 콘트라스트가 높고, 미노광부에서 경화 반응을 발생시키는 일이 없기 때문에, 노광 후의 도막은 현상액에 대해 불용성인 경화 부분과, 현상액에 대해 높은 용해성을 갖는 미경화 부분으로 명확하게 구분되고, 이에 따라 언더 컷트가 없는 화소 패턴 및 블랙 매트릭스 패턴이 소정의 서열에 따라 배치된 고정밀한 패턴 어레이를 형성할 수 있다. The biimidazole-based compound is excellent in solubility in a solvent, does not generate foreign matters such as undissolved products, precipitates, and the like, and is also highly sensitive and sufficiently proceeds the curing reaction by exposure of a small amount of energy, and at the same time, contrast. Is high and does not cause a curing reaction in the unexposed portion, the coating film after exposure is clearly divided into a hardened portion insoluble in the developer and an uncured portion having high solubility in the developer, whereby the undercut The pixel pattern and the black matrix pattern which are absent can form a highly precise pattern array arranged according to a predetermined sequence.

-수소 공여체-Hydrogen donor

또한, 본 발명에서는 광라디칼 발생제로서 비이미다졸계 화합물을 병용하는 경우, 하기하는 수소 공여체를 병용하는 것이 감도를 더 개량할 수 있다는 점에서 바람직하다. Moreover, in this invention, when using a biimidazole type compound together as an optical radical generating agent, using the hydrogen donor mentioned below together is preferable at the point which can improve a sensitivity further.

여기서 말하는 "수소 공여체"란, 노광으로 인해 비이미다졸계 화합물로부터 발생한 라디칼에 대해 수소 원자를 공여할 수 있는 화합물을 의미한다. The term "hydrogen donor" as used herein means a compound capable of donating a hydrogen atom to radicals generated from a biimidazole compound due to exposure.

이러한 수소 공여체로서는 하기에서 정의하는 머캅탄계 화합물, 아민계 화합물 등이 바람직하다. As such a hydrogen donor, a mercaptan compound, an amine compound, etc. which are defined below are preferable.

상기 머캅탄계 화합물은 벤젠환 또는 복소환을 모핵으로 하고, 상기 모핵에 직접 결합된 머캅토기를 1개 이상, 바람직하게는 1 내지 3개, 더욱 바람직하게는 1 내지 2개 갖는 화합물(이하, "머캅탄계 수소 공여체"라고 함)을 포함한다. The mercaptan compound is a compound having a benzene ring or a heterocycle as a mother nucleus, and having at least one mercapto group directly bonded to the mother nucleus, preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2 (hereinafter, " Mercaptan-based hydrogen donors ".

또한, 상기 아민계 화합물은 벤젠환 또는 복소환을 모핵으로 하고, 상기 모핵에 직접 결합된 아미노기를 1개 이상, 바람직하게는 1 내지 3개, 더욱 바람직하게는 1 내지 2개 갖는 화합물(이하, "아민계 수소 공여체"라고 함)을 포함한다. In addition, the amine compound is a compound having a benzene ring or a heterocycle as a mother nucleus and having at least one, preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2 amino groups directly bonded to the mother nucleus (hereinafter, &Quot; amine-based hydrogen donors ").

또한, 이들 수소 공여체는 머캅토기와 아미노기를 동시에 가질 수도 있다.These hydrogen donors may also have a mercapto group and an amino group at the same time.

이하, 수소 공여체에 대해 보다 구체적으로 설명한다. The hydrogen donor will be described in more detail below.

머캅탄계 수소 공여체는 벤젠환 또는 복소환을 각각 1개 이상 가질 수 있고, 또한 벤젠환과 복소환 모두를 가질 수도 있다. 이들 환을 2개 이상 갖는 경우, 축합환을 형성하거나 형성하지 않을 수도 있다. The mercaptan-based hydrogen donor may have one or more benzene rings or heterocycles, and may also have both benzene rings and heterocycles. In the case of having two or more of these rings, a condensed ring may or may not be formed.

또한, 머캅탄계 수소 공여체는 머캅토기를 2개 이상 갖는 경우, 1개 이상의 유리(遊離) 머캅토기가 잔존하는 한, 나머지 머캅토기의 1개 이상이 알킬, 아랄킬 또는 아릴기로 치환되어 있을 수도 있고, 또한 1개 이상의 유리 머캅토기가 잔존하는 한, 2개의 황 원자가 알킬렌기 등의 2가의 유기기를 개재하여 결합한 구조 단위, 또는 2개의 황 원자가 디술피드의 형태로 결합한 구조 단위를 가질 수 있다. In addition, when the mercaptan-based hydrogen donor has two or more mercapto groups, as long as one or more free mercapto groups remain, one or more of the remaining mercapto groups may be substituted with alkyl, aralkyl or aryl groups. In addition, as long as at least one free mercapto group remains, it may have a structural unit in which two sulfur atoms are bonded via a divalent organic group such as an alkylene group, or a structural unit in which two sulfur atoms are bound in the form of disulfide.

또한, 머캅탄계 수소 공여체는 머캅토기 이외의 부분에서 카르복실기, 치환 또는 비치환의 알콕시카르보닐기, 치환 또는 비치환의 페녹시카르보닐기, 니트릴기 등에 의해 치환될 수도 있다. In addition, the mercaptan-based hydrogen donor may be substituted by a carboxyl group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, a substituted or unsubstituted phenoxycarbonyl group, a nitrile group, or the like in a portion other than the mercapto group.

이러한 머캅탄계 수소 공여체의 구체적인 예로서는 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤조옥사졸, 2-머캅토벤조이미다졸, 2,5-디머캅토-1,3,4-티아디아졸, 2-머캅토-2,5-디메틸아미노피리딘 등을 들 수 있다. Specific examples of such mercaptan-based hydrogen donors include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoimidazole, 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole, 2 Mercapto-2,5-dimethylaminopyridine and the like.

이들 머캅탄계 수소 공여체 중, 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤조옥사졸이 바람직하고, 2-머캅토벤조티아졸이 특히 바람직하다. Among these mercaptan-based hydrogen donors, 2-mercaptobenzothiazole and 2-mercaptobenzoxazole are preferable, and 2-mercaptobenzothiazole is particularly preferable.

이어서, 아민계 수소 공여체는 벤젠환 또는 복소환을 각각 1개 이상 가질 수 있고, 또한 벤젠환과 복소환 모두를 가질 수도 있으며, 이들 환을 2개 이상 갖는 경우, 축합환을 형성하거나 형성하지 않을 수도 있다. Subsequently, the amine-based hydrogen donor may have one or more benzene rings or heterocycles, and may have both benzene rings and heterocycles, and in the case of having two or more rings, it may or may not form a condensed ring. have.

또한, 아민계 수소 공여체는 아미노기 1개 이상이 알킬기 또는 치환 알킬기로 치환될 수도 있고, 또한 아미노기 이외의 부분에서 카르복실기, 치환 또는 비치환의 알콕시카르보닐기, 치환 또는 비치환의 페녹시카르보닐기, 니트릴기 등에 의해 치환될 수도 있다. In addition, the amine-based hydrogen donor may be substituted with one or more amino groups by an alkyl group or a substituted alkyl group, and further substituted by a carboxyl group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, a substituted or unsubstituted phenoxycarbonyl group, a nitrile group, or the like in a portion other than the amino group. May be

이러한 아민계 수소 공여체의 구체적인 예로서는 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4-디에틸아미노아세토페논, 4-디메틸아 미노프로피오페논, 4-디메틸아미노벤조산염에틸, 4-디메틸아미노벤조산i-아밀, 4-디메틸아미노벤조산, 4-디메틸아미노벤조니트릴 등을 들 수 있다. Specific examples of such amine-based hydrogen donors include 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 4-diethylaminoacetophenone, and 4-dimethylaminoaminopropiope. Non-methyl, 4-dimethylaminobenzoate ethyl, 4-dimethylaminobenzoic acid i-amyl, 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-dimethylaminobenzonitrile, and the like.

이들 아민계 수소 공여체 중, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하고, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 특히 바람직하다. 또한, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논이나 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논은 비이미다졸계 화합물이 존재하지 않는 경우에도 단독으로 광라디칼 개시제로서 작용할 수 있다. Among these amine-based hydrogen donors, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone are preferable, and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone This is particularly preferred. In addition, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone can act independently as a radical photoinitiator even when a biimidazole type compound does not exist.

본 발명에서의 수소 공여체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 1종 이상의 머캅탄계 수소 공여체와 1종 이상의 아민계 수소 공여체를 조합하여 사용하는 것이, 형성된 착색층이 현상시에 기판으로부터 탈락하기 어렵고, 또한 착색층의 강도 및 감도도 높다는 점에서 바람직하다. The hydrogen donor in this invention can be used individually or in mixture of 2 or more types. It is preferable to use a combination of one or more mercaptan-based hydrogen donors and one or more amine-based hydrogen donors in that the formed colored layer is hardly eliminated from the substrate at the time of development, and the strength and sensitivity of the colored layer are also high.

머캅탄계 수소 공여체와 아민계 수소 공여체와의 바람직한 조합의 구체적인 예로서는 2-머캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 2-머캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-머캅토벤조옥사졸/4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 2-머캅토벤조옥사졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있고, 보다 바람직한 조합은 2-머캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-머캅토벤조옥사졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이며, 특히 바람직한 조합은 2-머캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이다. Specific examples of preferred combinations of mercaptan-based hydrogen donors with amine-based hydrogen donors include 2-mercaptobenzothiazole / 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone and 2-mercaptobenzothiazole / 4,4'- Bis (diethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzooxazole / 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzooxazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzo Phenone etc. are mentioned, A more preferable combination is 2-mercaptobenzothiazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzoxazole / 4,4'-bis (diethyl Amino) benzophenone and a particularly preferred combination is 2-mercaptobenzothiazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone.

머캅탄계 수소 공여체와 아민계 수소 공여체와의 조합에서의 머캅탄계 수소 공여체와 아민계 수소 공여체와의 중량비는 1:1 내지 1:4가 바람직하고, 1:1 내지 1:3이 보다 바람직하다. The weight ratio of the mercaptan-based hydrogen donor to the amine-based hydrogen donor in the combination of the mercaptan-based hydrogen donor and the amine-based hydrogen donor is preferably 1: 1 to 1: 4, more preferably 1: 1 to 1: 3.

또한, 상기 벤조인계 화합물로서는, 예를 들면 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 2-벤조일벤조산메틸 등을 들 수 있다. Moreover, as said benzoin type compound, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, methyl 2-benzoyl benzoate etc. are mentioned, for example.

또한, 상기 아세토페논계 화합물로서는, 예를 들면 2,2-디메톡시아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-(4-i-프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-메틸-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노-1-프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 등을 들 수 있다. As the acetophenone-based compound, for example, 2,2-dimethoxyacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and 2-hydroxy-2- Methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-i-propylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-methyl- (4-methylthiophenyl) -2- Morpholino-1-propane-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4- Morpholinophenyl) butan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, and the like.

또한, 상기 벤조페논계 화합물로서는, 예를 들면 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있다. Moreover, as said benzophenone type compound, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, etc. are mentioned, for example.

또한, 상기 α-디케톤계 화합물로서는, 예를 들면 디아세틸, 디벤조일, 메틸벤조일포르메이트 등을 들 수 있다. Moreover, as said (alpha)-diketone type compound, diacetyl, dibenzoyl, methyl benzoyl formate, etc. are mentioned, for example.

또한, 상기 다핵 퀴논계 화합물로서는, 예를 들면 안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 1,4-나프토퀴논 등을 들 수 있다. Moreover, as said multinuclear quinone type compound, anthraquinone, 2-ethyl anthraquinone, 2-t- butyl anthraquinone, 1, 4- naphthoquinone etc. are mentioned, for example.

또한, 상기 크산톤계 화합물로서는, 예를 들면 크산톤, 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등을 들 수 있다. Moreover, as said xanthone type compound, xanthone, thioxanthone, 2-chloro thioxanthone, etc. are mentioned, for example.

또한, 상기 포스핀계 화합물로서는, 예를 들면 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥시드, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드 등을 들 수 있다. Moreover, as said phosphine type compound, bis (2, 4, 6- trimethyl benzoyl) phenyl phosphine oxide, 2, 4, 6- trimethyl benzoyl diphenyl phosphine oxide, etc. are mentioned, for example.

또한, 상기 트리아진계 화합물로서는, 예를 들면 2,4,6-트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-메틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-n-부톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, Moreover, as said triazine type compound, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2, for example -[2- (furan-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl]- 4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-tri Azine, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6- Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-n-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine,

하기 화학식 5 및 6으로 표시되는 화합물 등과 같은 할로메틸기를 갖는 화합물 등을 들 수 있다. The compound etc. which have halomethyl group, such as the compound represented by following formula (5) and (6), are mentioned.

Figure 112005039864380-pat00007
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Figure 112005039864380-pat00008
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상기 다른 광라디칼 발생제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. The other photoradical generators may be used alone or in combination of two or more thereof.

다른 광라디칼 발생제의 사용 비율은 O-아실옥심형 광라디칼 발생제 (D1)와 다른 광라디칼 발생제와의 합계에 대해 바람직하게는 50 중량% 이하, 더욱 바람직하게는 1 내지 30 중량%이다. 이 경우, 다른 광라디칼 발생제의 사용 비율이 50 중량%을 초과하면, 본 발명의 소기의 효과가 손상될 우려가 있다. The use ratio of the other optical radical generator is preferably 50% by weight or less, and more preferably 1 to 30% by weight, based on the sum of the O-acyl oxime type optical radical generator (D1) and the other optical radical generator. . In this case, when the use ratio of another optical radical generating agent exceeds 50 weight%, the desired effect of this invention may be impaired.

본 발명에서의 광라디칼 발생제의 합계 사용량은, (C) 다관능성 단량체와 경우에 따라 사용되는 단관능성 단량체와의 합계 100 중량부에 대해 바람직하게는 0.01 내지 200 중량부, 보다 바람직하게는 1 내지 120 중량부, 특히 바람직하게는 1 내지 100 중량부이다. 이 경우, 광라디칼 발생제의 합계 사용량이 O.01 중량부 미만이면 노광에 의한 경화가 불충분해지며, 화소 패턴 또는 블랙 매트릭스 패턴이 소정의 서열에 따라 배치된 패턴 어레이를 얻는 것이 곤란해질 우려가 있고, 한편 200 중량부를 초과하면 형성된 착색층이 현상시에 기판으로부터 탈락되기 쉽고, 또한 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에 바탕 오염이나 막 잔여물 등을 생성하기 쉬워진다. The total amount of optical radical generating agent used in the present invention is preferably 0.01 to 200 parts by weight, more preferably 1, based on 100 parts by weight in total of (C) the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer used in some cases. To 120 parts by weight, particularly preferably 1 to 100 parts by weight. In this case, when the total amount of the optical radical generating agent is less than 0.01 part by weight, curing due to exposure is insufficient, and it may be difficult to obtain a pattern array in which the pixel pattern or the black matrix pattern is arranged in accordance with a predetermined sequence. On the other hand, if it exceeds 200 parts by weight, the formed colored layer is likely to fall off from the substrate during development, and it is easy to generate background contamination, film residue, etc. on the substrate or the light shielding layer of the unexposed part.

또한, 본 발명에서는 상기 광라디칼 발생제와 함께 필요에 따라 증감제, 경화 촉진제 또는 고분자 광가교·증감제를 1종 이상 병용할 수도 있다. In the present invention, one or more kinds of a sensitizer, a curing accelerator, or a polymer photocrosslinker and a sensitizer may be used in combination with the optical radical generator.

-첨가제- -additive-

본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물은 필요에 따라 여러가지 첨가제를 함유할 수도 있다. The radiation sensitive composition for colored layer formation of this invention may contain various additives as needed.

상기 첨가제로서는 감방사선성 조성물의 알칼리 현상액에 대한 용해 특성을 보다 개선하고, 또한 현상 후의 미용해물의 잔존을 보다 억제하는 작용 등을 나타내는 유기산 또는 유기 아미노 화합물(단, 상기 수소 공여체를 제외함) 등을 들 수 있다. As said additive, the organic acid or organic amino compound (except the said hydrogen donor) etc. which show the effect which further improves the dissolution characteristic with respect to the alkaline developing solution of a radiation sensitive composition, and further suppresses the remainder of the undissolved matter after image development, etc. Can be mentioned.

상기 유기산으로서는 분자 중에 1개 이상의 카르복실기를 갖는 지방족 카르복실산 또는 페닐기 함유 카르복실산이 바람직하다. As said organic acid, the aliphatic carboxylic acid or phenyl group containing carboxylic acid which has 1 or more carboxyl group in a molecule | numerator is preferable.

상기 지방족 카르복실산으로서는, 예를 들면 As the aliphatic carboxylic acid, for example

포름산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 발레르산, 피발산, 카프로산, 디에틸아세트산, 에난트산, 카프릴산과 같은 모노카르복실산; Monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, diethylacetic acid, enanthic acid, caprylic acid;

옥살산, 말론산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 피메린산, 스페린산, 아젤라산, 세박산, 브라실산, 메틸말론산, 에틸말론산, 디메틸말론산, 메틸숙신산, 테트라메틸숙신산, 시클로헥산디카르복실산, 이타콘산, 시트라콘산, 말레산, 푸마르산, 메사콘산과 같은 디카르복실산; Oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimeric acid, sperinic acid, azelaic acid, sebacic acid, brassylic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methylsuccinic acid, tetramethylsuccinic acid, Dicarboxylic acids such as cyclohexanedicarboxylic acid, itaconic acid, citraconic acid, maleic acid, fumaric acid, mesaconic acid;

트리카르바릴산, 아코니트산, 캄포론산과 같은 트리카르복실산 등을 들 수 있다. And tricarboxylic acids such as tricarbaric acid, aconitic acid and camphoronic acid.

또한, 상기 페닐기 함유 카르복실산으로서는, 예를 들면 카르복실기가 직접페닐기에 결합된 화합물, 카르복실기가 탄소쇄를 통해 페닐기에 결합된 카르복실산 등을 들 수 있다. Moreover, as said phenyl group containing carboxylic acid, the compound which the carboxyl group couple | bonded with the direct phenyl group, the carboxylic acid whose carboxyl group was couple | bonded with the phenyl group via a carbon chain, etc. are mentioned, for example.

페닐기 함유 카르복실산의 예로서는, As an example of a phenyl group containing carboxylic acid,

벤조산, 톨루일산, 쿠민산, 헤메리트산, 메시틸렌산과 같은 방향족 모노 카르복실산; Aromatic mono carboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cumic acid, hemeric acid, mesitylene acid;

프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산과 같은 방향족 디카르복실산; Aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid;

트리멜리트산, 트리메신산, 멜로판산, 피로멜리트산과 같은 3가 이상의 방향족 폴리카르복실산이나, Trivalent or higher aromatic polycarboxylic acids such as trimellitic acid, trimesic acid, melanoic acid, pyromellitic acid,

페닐아세트산, 히드로아트로프산, 히드로신남산, 만델산, 페닐숙신산, 아트로프산, 신남산, 신나밀리덴산, 쿠말산, 움벨산 등을 들 수 있다. And phenylacetic acid, hydroatroic acid, hydrocinnamic acid, mandelic acid, phenylsuccinic acid, atroic acid, cinnamic acid, cinnamiledic acid, cumalic acid, and umbelic acid.

이들 유기산 중, 알칼리 용해성, 후술하는 용매에 대한 용해성, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에서의 바탕 오염이나 막 잔여물의 방지 등과 같은 관점에서, 지방족 카르복실산으로서는 지방족 디카르복실산이 바람직하고, 특히 말론산, 아디프산, 이타콘산, 시트라콘산, 푸마르산, 메사콘산 등이 특히 바람직하다. 또한, 페닐기 함유 카르복실산으로서는 방향족 디카르복실산이 바람직하고, 그 중에서도 프탈산이 특히 바람직하다. Among these organic acids, aliphatic dicarboxylic acids are preferable as the aliphatic carboxylic acid from the viewpoint of alkali solubility, solubility in a solvent to be described later, prevention of background contamination on the substrate or the light shielding layer of the unexposed portion, and film residue. Malonic acid, adipic acid, itaconic acid, citraconic acid, fumaric acid, mesaconic acid and the like are particularly preferable. Moreover, as phenyl group containing carboxylic acid, aromatic dicarboxylic acid is preferable and phthalic acid is especially preferable.

상기 유기산은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. The said organic acid can be used individually or in mixture of 2 or more types.

유기산의 사용량은 감방사선성 조성물 전체에 대해 바람직하게는 15 중량% 이하, 보다 바람직하게는 10 중량% 이하이다. 이 경우, 유기산의 사용량이 15 중량%를 초과하면 형성된 착색층의 기판에 대한 밀착성이 저하되는 경향이 있다. The amount of the organic acid to be used is preferably 15% by weight or less, more preferably 10% by weight or less based on the whole radiation-sensitive composition. In this case, when the usage-amount of an organic acid exceeds 15 weight%, there exists a tendency for adhesiveness with respect to the board | substrate of the formed colored layer to fall.

또한, 상기 유기 아미노 화합물로서는 분자 중에 1개 이상의 아미노기를 갖는 지방족 아민 또는 페닐기 함유 아민이 바람직하다. Moreover, as said organic amino compound, the aliphatic amine or phenyl group containing amine which has 1 or more amino group in a molecule | numerator is preferable.

상기 지방족 아민의 예로서는, As an example of the said aliphatic amine,

n-프로필아민, i-프로필아민, n-부틸아민, i-부틸아민, sec-부틸아민, t-부틸아민, n-펜틸아민, n-헥실아민, n-헵틸아민, n-옥틸아민, n-노닐아민, n-데실아 민, n-운데실아민, n-도데실아민, 시클로헥실아민, 2-메틸시클로헥실아민, 3-메틸시클로헥실아민, 4-메틸시클로헥실아민, 2-에틸시클로헥실아민, 3-에틸시클로헥실아민, 4-에틸시클로헥실아민과 같은 모노(시클로)알킬아민; n-propylamine, i-propylamine, n-butylamine, i-butylamine, sec-butylamine, t-butylamine, n-pentylamine, n-hexylamine, n-heptylamine, n-octylamine, n-nonylamine, n-decylamine, n-undecylamine, n-dodecylamine, cyclohexylamine, 2-methylcyclohexylamine, 3-methylcyclohexylamine, 4-methylcyclohexylamine, 2- Mono (cyclo) alkylamines such as ethylcyclohexylamine, 3-ethylcyclohexylamine, 4-ethylcyclohexylamine;

메틸에틸아민, 디에틸아민, 메틸n-프로필아민, 에틸n-프로필아민, 디-n-프로필아민, 디-i-프로필아민, 디-n-부틸아민, 디-i-부틸아민, 디-sec-부틸아민, 디-t-부틸아민, 디-n-펜틸아민, 디-n-헥실아민, 메틸시클로헥실아민, 에틸시클로헥실아민, 디시클로헥실아민와 같은 디(시클로)알킬아민; Methylethylamine, diethylamine, methyl n-propylamine, ethyl n-propylamine, di-n-propylamine, di-i-propylamine, di-n-butylamine, di-i-butylamine, di- di (cyclo) alkylamines such as sec-butylamine, di-t-butylamine, di-n-pentylamine, di-n-hexylamine, methylcyclohexylamine, ethylcyclohexylamine, dicyclohexylamine;

디메틸에틸아민, 메틸디에틸아민, 트리에틸아민, 디메틸n-프로필아민, 디에틸n-프로필아민, 메틸디-n-프로필아민, 에틸디-n-프로필아민, 트리-n-프로필아민, 트리-i-프로필아민, 트리-n-부틸아민, 트리-i-부틸아민, 트리-sec-부틸아민, 트리-t-부틸아민, 트리-n-펜틸아민, 트리-n-헥실아민, 디메틸시클로헥실아민, 디에틸시클로헥실아민, 메틸디시클로헥실아민, 에틸디시클로헥실아민, 트리시클로헥실아민과 같은 트리(시클로)알킬아민; Dimethylethylamine, methyldiethylamine, triethylamine, dimethyl n-propylamine, diethyl n-propylamine, methyldi-n-propylamine, ethyldi-n-propylamine, tri-n-propylamine, tri -i-propylamine, tri-n-butylamine, tri-i-butylamine, tri-sec-butylamine, tri-t-butylamine, tri-n-pentylamine, tri-n-hexylamine, dimethylcyclo Tri (cyclo) alkylamines such as hexylamine, diethylcyclohexylamine, methyldicyclohexylamine, ethyldicyclohexylamine, tricyclohexylamine;

2-아미노에탄올, 3-아미노-1-프로판올, 1-아미노-2-프로판올, 4-아미노-1-부탄올, 5-아미노-1-펜탄올, 6-아미노-1-헥산올, 4-아미노-1-시클로헥산올과 같은 모노(시클로)알칸올아민; 2-aminoethanol, 3-amino-1-propanol, 1-amino-2-propanol, 4-amino-1-butanol, 5-amino-1-pentanol, 6-amino-1-hexanol, 4-amino Mono (cyclo) alkanolamines such as -1-cyclohexanol;

디에탄올아민, 디-n-프로판올아민, 디-i-프로판올아민, 디-n-부탄올아민, 디-i-부탄올아민, 디-n-펜탄올아민, 디-n-헥산올아민, 디(4-시클로헥산올)아민과 같은 디(시클로)알칸올아민; Diethanolamine, di-n-propanolamine, di-i-propanolamine, di-n-butanolamine, di-i-butanolamine, di-n-pentanolamine, di-n-hexanolamine, di ( Di (cyclo) alkanolamines such as 4-cyclohexanol) amine;

트리에탄올아민, 트리-n-프로판올아민, 트리-i-프로판올아민, 트리-n-부탄올 아민, 트리-i-부탄올아민, 트리-n-펜탄올아민, 트리-n-헥산올아민, 트리(4-시클로헥산올)아민과 같은 트리(시클로)알칸올아민; Triethanolamine, tri-n-propanolamine, tri-i-propanolamine, tri-n-butanol amine, tri-i-butanolamine, tri-n-pentanolamine, tri-n-hexanolamine, tri (4 Tri (cyclo) alkanolamines such as -cyclohexanol) amine;

3-아미노-1,2-프로판디올, 2-아미노-1,3-프로판디올, 4-아미노-1,2-부탄디올, 4-아미노-1,3-부탄디올, 4-아미노-1,2-시클로헥산디올, 4-아미노-1,3-시클로헥산디올, 3-디메틸아미노-1,2-프로판디올, 3-디에틸아미노-1,2-프로판디올, 2-디메틸아미노-1,3-프로판디올, 2-디에틸아미노-1,3-프로판디올과 같은 아미노(시클로)알칸디올; 3-amino-1,2-propanediol, 2-amino-1,3-propanediol, 4-amino-1,2-butanediol, 4-amino-1,3-butanediol, 4-amino-1,2- Cyclohexanediol, 4-amino-1,3-cyclohexanediol, 3-dimethylamino-1,2-propanediol, 3-diethylamino-1,2-propanediol, 2-dimethylamino-1,3- Amino (cyclo) alkanediols such as propanediol, 2-diethylamino-1,3-propanediol;

1-아미노시클로펜탄메탄올, 4-아미노시클로펜탄메탄올, 1-아미노시클로헥산메탄올, 4-아미노시클로헥산메탄올, 4-디메틸아미노시클로펜탄메탄올, 4-디에틸아미노시클로펜탄메탄올, 4-디메틸아미노시클로헥산메탄올, 4-디에틸아미노시클로헥산메탄올과 같은 아미노기 함유 시클로알칸메탄올; 1-aminocyclopentanmethanol, 4-aminocyclopentanmethanol, 1-aminocyclohexanemethanol, 4-aminocyclohexanemethanol, 4-dimethylaminocyclopentanmethanol, 4-diethylaminocyclopentanmethanol, 4-dimethylaminocyclo Amino group-containing cycloalkanethanols such as hexanemethanol and 4-diethylaminocyclohexanemethanol;

β-알라닌, 2-아미노부티르산, 3-아미노부티르산, 4-아미노부티르산, 2-아미노이소부티르산, 3-아미노이소부티르산, 2-아미노발레르산, 5-아미노발레르산, 6-아미노카프로산, 1-아미노시클로프로판카르복실산, 1-아미노시클로헥산카르복실산, 4-아미노시클로헥산카르복실산과 같은 아미노카르복실산 등을 들 수 있다. β-alanine, 2-aminobutyric acid, 3-aminobutyric acid, 4-aminobutyric acid, 2-aminoisobutyric acid, 3-aminoisobutyric acid, 2-aminovaleric acid, 5-aminovaleric acid, 6-aminocaproic acid, 1 And aminocarboxylic acids such as aminocyclopropanecarboxylic acid, 1-aminocyclohexanecarboxylic acid, and 4-aminocyclohexanecarboxylic acid.

또한, 상기 페닐기 함유 아민으로서는, 예를 들면 아미노기가 직접 페닐기에 결합한 화합물, 아미노기가 탄소쇄를 통해 페닐기에 결합한 화합물 등을 들 수 있다. Moreover, as said phenyl group containing amine, the compound etc. which the amino group couple | bonded with the phenyl group directly, the compound which the amino group couple | bonded with the phenyl group through the carbon chain, etc. are mentioned, for example.

페닐기 함유 아민의 예로서는, As an example of a phenyl group containing amine,

아닐린, 2-메틸아닐린, 3-메틸아닐린, 4-메틸아닐린, 4-에틸아닐린, 4-n-프 로필아닐린, 4-i-프로필아닐린, 4-n-부틸아닐린, 4-t-부틸아닐린, 1-나프틸아민, 2-나프틸아민, N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, 4-메틸-N,N-디메틸아닐린과 같은 방향족 아민; Aniline, 2-methylaniline, 3-methylaniline, 4-methylaniline, 4-ethylaniline, 4-n-propaniline, 4-i-propylaniline, 4-n-butylaniline, 4-t-butylaniline Aromatic amines such as 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, 4-methyl-N, N-dimethylaniline;

2-아미노벤질알코올, 3-아미노벤질알코올, 4-아미노벤질알코올, 4-디메틸아미노벤질알코올, 4-디에틸아미노벤질알코올과 같은 아미노벤질알코올류; Aminobenzyl alcohols such as 2-aminobenzyl alcohol, 3-aminobenzyl alcohol, 4-aminobenzyl alcohol, 4-dimethylaminobenzyl alcohol and 4-diethylaminobenzyl alcohol;

2-아미노페놀, 3-아미노페놀, 4-아미노페놀, 4-디메틸아미노페놀, 4-디에틸아미노페놀과 같은 아미노페놀류 등을 들 수 있다. And aminophenols such as 2-aminophenol, 3-aminophenol, 4-aminophenol, 4-dimethylaminophenol, and 4-diethylaminophenol.

이들 유기 아미노 화합물 중, 후술하는 용매에 대한 용해성, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에서의 바탕 오염이나 막 잔여물의 방지 등의 관점에서, 지방족 아민으로서는 모노(시클로)알칸올아민류 및 아미노(시클로)알칸디올이 바람직하고, 특히 2-아미노에탄올, 3-아미노-1-프로판올, 5-아미노-1-펜탄올, 3-아미노-1,2-프로판디올, 2-아미노-1,3-프로판디올, 4-아미노-1,2-부탄디올 등이 특히 바람직하다. 또한, 페닐기 함유 아민으로서는 아미노페놀류가 바람직하고, 특히 2-아미노페놀, 3-아미노페놀, 4-아미노페놀 등이 특히 바람직하다. Among these organic amino compounds, mono (cyclo) alkanolamines and amino (cyclo) s are used as aliphatic amines from the viewpoints of solubility in a solvent to be described later, prevention of background contamination on the substrate or the light shielding layer of the unexposed portion, and film residues. Alkanediols are preferred, in particular 2-aminoethanol, 3-amino-1-propanol, 5-amino-1-pentanol, 3-amino-1,2-propanediol, 2-amino-1,3-propanediol , 4-amino-1,2-butanediol and the like are particularly preferred. Moreover, as a phenyl group containing amine, aminophenols are preferable and 2-aminophenol, 3-aminophenol, 4-aminophenol etc. are especially preferable.

상기 유기 아미노 화합물은 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. The said organic amino compound can be used individually or in mixture of 2 or more types.

유기 아미노 화합물의 사용량은 감방사선성 조성물 전체에 대해 바람직하게는 15 중량% 이하, 보다 바람직하게는 10 중량% 이하이다. 이 경우, 유기 아미노 화합물의 사용량이 15 중량%를 초과하면 형성된 착색층의 기판에 대한 밀착성이 저하되는 경향이 있다. The usage-amount of an organic amino compound becomes like this. Preferably it is 15 weight% or less, More preferably, it is 10 weight% or less with respect to the whole radiation sensitive composition. In this case, when the usage-amount of an organic amino compound exceeds 15 weight%, there exists a tendency for adhesiveness with respect to the board | substrate of the formed colored layer to fall.

또한, 상기 유기산 및 유기 아미노 화합물 이외의 첨가제로서는, 예를 들면 구리프탈로시아닌 유도체 등과 같은 청색 안료 유도체나 황색 안료 유도체 등과 같은 분산 보조제; 유리, 알루미나 등과 같은 충전제; Moreover, as additives other than the said organic acid and an organic amino compound, For example, Dispersion adjuvant, such as a blue pigment derivative, such as a copper phthalocyanine derivative, a yellow pigment derivative, etc .; Fillers such as glass, alumina and the like;

폴리비닐알코올, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리(플루오로알킬아크릴레이트) 등의 고분자 화합물; Polymer compounds such as polyvinyl alcohol, polyethylene glycol monoalkyl ether, and poly (fluoroalkyl acrylate);

비이온계, 양이온계, 음이온계 등과 같은 계면활성제; Surfactants such as nonionic, cationic, anionic and the like;

비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란 등과 같은 밀착 촉진제; Vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclo Adhesion promoters such as hexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, and the like ;

2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸페놀 등과 같은 산화 방지제; Antioxidants such as 2,2'-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,6-di-t-butylphenol and the like;

2-(3-t-부틸-5-메틸-2-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 알콕시벤조페논류 등과 같은 자외선 흡수제; Ultraviolet absorbers such as 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenones;

폴리아크릴산나트륨 등과 같은 응집 방지제; Anti-aggregation agents such as sodium polyacrylate;

1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 2-페닐아조-4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴 등과 같은 열라디칼 발생제 등을 들 수 있다. And thermal radical generators such as 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), 2-phenylazo-4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile and the like.

용매menstruum

본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물은 상기 (A) 내지 (D) 성분을 필수 성분으로 하며, 경우에 따라 상기 첨가제 성분을 함유하지만, 통상 용매를 배합하여 액상 조성물로서 제조된다. The radiation sensitive composition for forming a colored layer of the present invention contains the above components (A) to (D) as essential components and optionally contains the additive component, but is usually prepared as a liquid composition by blending a solvent.

상기 용매로서는 감방사선성 조성물을 구성하는 (A) 내지 (D) 성분이나 첨가제 성분을 분산 또는 용해시키고, 또한 이들 성분과 반응하지 않고 적합한 휘발성을 갖는 것이면 적당히 선택하여 사용할 수 있다. The solvent may be appropriately selected and used as long as it disperses or dissolves the components (A) to (D) and the additive components constituting the radiation-sensitive composition and does not react with these components and has suitable volatility.

이러한 용매로서는 예를 들면 As such a solvent, for example

에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르, 프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노에틸에테르와 같은 (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르; Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n -Propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene Glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tri (Poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as propylene glycol monoethyl ether;

에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테 르아세테이트와 같은 (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르아세테이트; (Poly) such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate Alkylene glycol monoalkyl ether acetates;

디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 테트라히드로푸란과 같은 다른 에테르; Other ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methylethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran;

메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논과 같은 케톤; Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone;

락트산메틸, 락트산에틸과 같은 락트산알킬에스테르; Lactic acid alkyl esters such as methyl lactate and ethyl lactate;

2-히드록시-2-메틸프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 에톡시아세트산에틸, 히드록시아세트산에틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산메틸, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산에틸, 아세트산n-프로필, 아세트산i-프로필, 아세트산n-부틸, 아세트산i-부틸, 포름산n-아밀, 아세트산i-아밀, 프로피온산n-부틸, 부티르산에틸, 부티르산n-프로필, 부티르산i-프로필, 부티르산 n-부틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 피루브산n-프로필, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 2-옥소부탄산에틸과 같은 다른 에스테르;Ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, 2 Methyl hydroxy-3-methylbutyrate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, i-propyl acetate, n acetate Butyl, i-butyl acetate, n-amyl formate, i-amyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-pyruvate Other esters such as propyl, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, and ethyl 2-oxobutyrate;

톨루엔, 크실렌과 같은 방향족 탄화수소; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene;

N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세토아미드, N-메틸피롤리돈과 같은 아미드 등을 들 수 있다. And amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetoamide, and N-methylpyrrolidone.

이들 용매 중, 용해성, 안료 분산성, 도포성 등의 관점에서 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논, 락 트산에틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산n-부틸, 아세트산i-부틸, 포름산n-펜틸, 아세트산i-펜틸, 프로피온산n-부틸, 부티르산에틸, 부티르산i-프로필, 부티르산n-부틸, 피루브산에틸 등이 바람직하다. Among these solvents, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, di, etc. from the viewpoint of solubility, pigment dispersibility, coating properties, and the like. Ethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, ethyl lactate, 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, 3-ethoxypropionate, 3-methyl-3 Methoxybutyl propionate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, n-pentyl formate, i-pentyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate and ethyl pyruvate desirable.

상기 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. The said solvent can be used individually or in mixture of 2 or more types.

또한, 상기 용매와 함께, 벤질에틸에테르, 디-n-헥실에테르, 아세토닐아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 아세트산벤질, 벤조산에틸, 옥살산디에틸, 말레산디에틸, γ-부티로락톤, 탄산에틸렌, 탄산프로필렌, 에틸렌글리콜모노페닐에테르아세테이트 등과 같은 고비점 용매를 병용할 수 있다. In addition, benzyl ethyl ether, di-n-hexyl ether, acetonyl acetone, isophorone, capronic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate and ethyl benzoate together with the solvent And high boiling point solvents such as diethyl oxalate, diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, ethylene glycol monophenyl ether acetate, and the like.

이들 고비점 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. These high boiling point solvents can be used individually or in mixture of 2 or more types.

용매의 사용량은 특별히 한정되는 것이 아니지만 얻어지는 감방사선성 조성물의 도포성, 안정성 등의 관점에서 해당 조성물의 용매를 제외한 각 성분의 합계 농도가 바람직하게는 5 내지 50 중량%, 더욱 바람직하게는 10 내지 40 중량%가 되는 양이 바람직하다. Although the usage-amount of a solvent is not specifically limited, From the viewpoint of the applicability | paintability, stability, etc. of the radiation sensitive composition obtained, the total concentration of each component except the solvent of the said composition becomes like this. Preferably it is 5-50 weight%, More preferably, it is 10-10. The amount which becomes 40 weight% is preferable.

컬러 필터Color filter

본 발명의 컬러 필터는 본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물로부터 형성된 착색층을 구비하는 것이다. The color filter of this invention is equipped with the colored layer formed from the radiation sensitive composition for colored layer formation of this invention.

이하에 본 발명의 컬러 필터를 형성하는 방법에 대해 설명한다. The method of forming the color filter of this invention is demonstrated below.

우선, 필요에 따라, 기판의 표면 상에 필요에 따라 화소를 형성하는 부분을 구획하도록 차광층을 형성하고, 이 기판 상에, 예를 들면 적색의 안료가 분산된 감방사선성 조성물의 액상 조성물을 도포한 후, 예비 소성을 행하여 용매를 증발시켜 도막을 형성한다. 이어서, 이 도막에 포토마스크를 통해 노광한 후, 알칼리 현상액을 사용하여 현상하고, 도막의 미노광부를 용해 제거하고, 그 후 후소성함으로써 적색의 화소 패턴이 소정의 서열로 배치된 화소 어레이를 형성한다. First, if necessary, a light shielding layer is formed on the surface of the substrate so as to partition a portion forming a pixel as necessary, and a liquid composition of the radiation-sensitive composition in which, for example, a red pigment is dispersed, is provided on the substrate. After coating, prebaking is carried out to evaporate the solvent to form a coating film. Subsequently, after exposing through a photomask to this coating film, it develops using alkaline developing solution, dissolves and removes the unexposed part of a coating film, and then post-fires to form the pixel array in which the red pixel pattern was arrange | positioned at the predetermined sequence. do.

그 후, 녹색 또는 청색의 안료가 분산된 각 감방사선성 조성물의 액상 조성물을 사용하여 상기와 같이 하고, 각 액상 조성물의 도포, 예비 소성, 노광, 현상 및 후소성를 행하여, 녹색의 화소 어레이 및 청색의 화소 어레이를 동일 기판 상에 차례로 형성함으로써, 적색, 녹색 및 청색의 3 원색의 화소 어레이가 기판 상에 배치된 컬러 필터를 얻을 수 있다. 단, 본 발명에서는 각 색의 화소 어레이를 형성하는 순서는 상기 것에 한정되지 않는다. Thereafter, using the liquid composition of each radiation-sensitive composition in which a green or blue pigment is dispersed, it is carried out as described above, and the coating, preliminary firing, exposure, development and post-firing of each liquid composition are carried out to produce a green pixel array and a blue color. By sequentially forming pixel arrays on the same substrate, it is possible to obtain a color filter in which pixel arrays of three primary colors of red, green, and blue are arranged on a substrate. However, in the present invention, the order of forming the pixel array of each color is not limited to the above.

또한, 블랙 매트릭스는 본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물을 사용하여 상기 화소 형성의 경우와 동일하게 하여 형성할 수 있다. In addition, the black matrix can be formed in the same manner as in the case of the pixel formation using the radiation-sensitive composition for forming a colored layer of the present invention.

화소 및(또는) 블랙 매트릭스를 형성할 때에 사용되는 기판으로서는, 예를 들면 유리, 실리콘, 폴리카르보네이트, 폴리에스테르, 방향족 폴리아미드, 폴리아미드이미드, 폴리이미드 등을 들 수 있다. As a board | substrate used when forming a pixel and / or a black matrix, glass, silicone, polycarbonate, polyester, aromatic polyamide, polyamideimide, polyimide, etc. are mentioned, for example.

또한, 이들 기판에는 목적에 따라 실란 커플링제 등에 의한 약품 처리, 플라즈마 처리, 이온 플레이팅, 스퍼터링, 기상 반응법, 진공 증착 등과 같은 적절한 전처리를 실시할 수 있다. In addition, these substrates can be subjected to appropriate pretreatment such as chemical treatment with a silane coupling agent or the like, plasma treatment, ion plating, sputtering, vapor phase reaction, vacuum deposition, or the like according to the purpose.

감방사선성 조성물의 액상 조성물을 기판에 도포할 때에는 분무법, 롤 코팅 법, 회전 도포법(스핀 코팅법), 슬릿 다이 도포법, 바 도포법, 잉크 젯트법 등과 같은 적절한 도포법을 이용할 수 있지만, 이 중 스핀 코팅법, 슬릿 다이 도포법이 특히 바람직하다. When applying the liquid composition of the radiation-sensitive composition to the substrate, an appropriate coating method such as spraying, roll coating, spin coating (spin coating), slit die coating, bar coating, ink jet, or the like can be used. Among these, the spin coating method and the slit die coating method are particularly preferable.

도포 두께는 건조 후의 막 두께로서 바람직하게는 O.1 내지 1O ㎛, 보다 바람직하게는 0.2 내지 8.0 ㎛, 특히 바람직하게는 0.2 내지 6.0 ㎛이다. The coating thickness is preferably 0.1 to 10 µm, more preferably 0.2 to 8.0 µm, and particularly preferably 0.2 to 6.0 µm as the film thickness after drying.

화소 및(또는) 블랙 매트릭스를 형성할 때에 사용되는 방사선으로서는, 예를 들면 가시광선, 자외선, 원자외선, 전자선, X선 등을 사용할 수 있지만, 파장이 190 내지 450 nm의 범위에 있는 방사선이 바람직하다. As radiation used for forming the pixel and / or black matrix, for example, visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, X-ray, etc. may be used, but radiation having a wavelength in the range of 190 to 450 nm is preferable. Do.

방사선의 노광량은 10 내지 10,000 J/㎡가 바람직하다. The exposure dose of radiation is preferably 10 to 10,000 J / m 2.

또한, 상기 알칼리 현상액으로서는, 예를 들면 탄산나트륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 테트라메틸암모늄히드록시드, 콜린, 1,8-디아자비시클로-[5.4.0]-7-운데센, 1,5-디아자비시클로-[4.3.0]-5-노넨 등과 같은 수용액이 바람직하다. As the alkaline developer, for example, sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, choline, 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene, 1,5- Aqueous solutions such as diazabicyclo- [4.3.0] -5-nonene and the like are preferred.

상기 알칼리 현상액에는, 예를 들면 메탄올, 에탄올 등과 같은 수용성 유기 용매나 계면활성제 등을 적당량 첨가할 수도 있다. 또한, 알칼리 현상 후에는 통상 수세한다. An appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol, a surfactant, or the like may be added to the alkaline developer, for example. In addition, after alkali development, water washing is normally performed.

현상 처리법으로서는 샤워 현상법, 분무 현상법, 딥(침지) 현상법, 패들 현상법 등을 적용할 수 있다. 현상 조건은 상온에서 5 내지 300 초가 바람직하다. As the developing treatment method, a shower developing method, a spray developing method, a dip (immersion) developing method, a paddle developing method and the like can be applied. As for image development conditions, 5 to 300 second is preferable at normal temperature.

이와 같이 하여 얻어지는 본 발명의 컬러 필터는, 예를 들면 투과형 또는 반사형의 컬러 액정 표시 장치, 컬러 촬상관 소자, 컬러 센서 등에 매우 유용하다. The color filter of the present invention thus obtained is very useful, for example, in a transmissive or reflective color liquid crystal display device, a color image sensor element, a color sensor, or the like.

컬러 액정 표시 패널Color liquid crystal display panel

본 발명의 컬러 액정 표시 패널은 본 발명의 컬러 필터를 구비한 것이다. The color liquid crystal display panel of this invention is equipped with the color filter of this invention.

또한, 본 발명의 컬러 액정 표시 패널의 1개의 실시 형태로서, 본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물을 사용하고, 박막 트랜지스터 기판 어레이 상에 상술한 바와 같이 하여 화소 및(또는) 블랙 매트릭스를 형성함으로써, 특히 우수한 특성을 갖는 컬러 액정 표시 패널을 제조할 수 있다. Further, as one embodiment of the color liquid crystal display panel of the present invention, the pixel and / or the black matrix are formed on the thin film transistor substrate array as described above on the thin film transistor substrate array, using the radiation-sensitive composition for forming the colored layer of the present invention. By forming, the color liquid crystal display panel which has especially the outstanding characteristic can be manufactured.

본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물은 상기 (A) 내지 (D) 성분을 필수 성분으로서 함유하는 것이고, 특히 바람직한 조성물을 보다 구체적으로 예시하면 하기 (가) 내지 (라)와 같다. The radiation sensitive composition for colored layer formation of this invention contains the said (A)-(D) component as an essential component, and especially a preferable composition is as follows (a)-(d).

(가) (B) 알칼리 가용성 수지가 카르복실기 함유 공중합체 (B1)을 포함하는 착색층 형성용 감방사선성 조성물. (A) The radiation sensitive composition for colored layer formation in which (B) alkali-soluble resin contains a carboxyl group-containing copolymer (B1).

(나) (C) 다관능성 단량체가 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트 및 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 상기 (가)의 착색층 형성용 감방사선성 조성물. (B) The colored layer of the above-mentioned (A) containing (C) the polyfunctional monomer containing 1 or more types chosen from the group which consists of a trimethylol propane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate. Radiation-sensitive composition for formation.

(다) O-아실옥심형 광라디칼 발생제 (D1)이 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-비시클로헵틸메탄-1-온옥심-O-벤조에이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-비시클로헵틸-1-온옥심-O-아세테이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-아다만틸메탄-1-온옥심-O-벤조에이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-아다만틸메탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-테트라히드로푸라닐메탄-1- 온옥심-O-벤조에이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-테트라히드로푸라닐메탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-티오페닐메탄-1-온옥심-O-벤조에이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-티오페닐메탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-모르포닐메탄-1-온옥심-O-벤조에이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-모르포닐메탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-비시클로헵탄카르복실레이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-트리시클로데칸카르복실레이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-아다만탄카르복실레이트의 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 상기 (나)의 착색층 형성용 감방사선성 조성물. (C) O-acyl oxime type photoradical generator (D1) is 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -bicycloheptylmethane- 1-onoxime-O-benzoate, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -bicycloheptyl-1-onoxime-O- Acetate, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -adamantylmethane-1-one oxime-O-benzoate, 1- [9 -Ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -adamantylmethane-1-one oxime-O-acetate, 1- [9-ethyl-6- (2 -Methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -tetrahydrofuranylmethane-1-onoxime-O-benzoate, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl)- 9.H.-Carbazol-3-yl] -tetrahydrofuranylmethane-1-one oxime-O-acetate, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carr Bazol-3-yl] -thiophenylmethane-1-one oxime-O-benzoate, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]- Thiophenylmethane-1-one oxime-O-acetate, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9. H.-carbazol-3-yl] -morphonylmethane-1-one oxime-O-benzoate, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazole- 3-yl] -morphonylmethane-1-one oxime-O-acetate, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -ethane- 1-onoxime-O-bicycloheptancarboxylate, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -ethane-1-onoxime- O-tricyclodecanecarboxylate, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-adamantane The radiation sensitive composition for colored layer formation of said (b) containing 1 or more types chosen from the group of carboxylates.

(라) (A) 착색제가 유기 안료 및(또는) 카본 블랙을 포함하는 상기 (가), (나) 또는 (다)의 착색층 형성용 감방사선성 조성물. (D) The radiation sensitive composition for forming a colored layer of said (A), (B) or (C) in which (A) coloring agent contains an organic pigment and / or carbon black.

또한, 본 발명의 바람직한 컬러 필터는 In addition, the preferred color filter of the present invention

(마) 상기 (가), (나), (다) 또는 (라)의 착색층 형성용 감방사선성 조성물로부터 형성된 화소 및(또는) 블랙 매트릭스를 구비하고 있다. (E) The pixel and / or black matrix formed from the radiation sensitive composition for colored layer formation of said (a), (b), (c) or (d) are provided.

또한, 본 발명의 바람직한 컬러 액정 표시 패널은 In addition, the preferred color liquid crystal display panel of the present invention

(바) 상기 (마)의 컬러 필터를 구비하고, (F) comprising the color filter of (e) above,

본 발명의 보다 바람직한 컬러 액정 표시 패널은 More preferred color liquid crystal display panel of the present invention

(사) 박막 트랜지스터 기판 어레이 상에, 상기 (가), (나), (다) 또는 (라) 의 착색층 형성용 감방사선성 조성물로부터 형성된 화소 및(또는) 블랙 매트릭스를 구비하고 있다. (G) The thin film transistor substrate array is provided with the pixel and / or black matrix formed from the radiation sensitive composition for colored layer formation of said (A), (B), (C) or (D).

본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물은 상기한 바와 같이, 방사선에 대한 감도가 높은 O-아실옥심형 광라디칼 발생제 (D1)을 필수 성분으로 하는 광라디칼 발생제를 사용함으로써, 안료를 고농도로 포함하는 경우에도 현상시에 미노광부의 기판 상 및 차광층 상에 미용해물이 잔존하거나 화소 패턴 및 블랙 매트릭스 패턴의 엣지에 이물을 발생시키지 않으며, 게다가 저노광량에서도 패턴 엣지의 깨짐이나 언더 컷트가 없는 양호한 화소 패턴 및 블랙 매트릭스 패턴을 형성할 수 있다. As described above, the radiation-sensitive composition for forming a colored layer of the present invention uses a photoradical generator having an O-acyl oxime type optical radical generator (D1) having high sensitivity to radiation as an essential component, thereby providing a pigment. Even when it is included in high concentration, undissolved matters remain on the substrate and the light shielding layer of the unexposed part at the time of development, and foreign matter does not occur at the edges of the pixel pattern and the black matrix pattern, and at the low exposure dose, the pattern edge is broken or undercut. It is possible to form a good pixel pattern and a black matrix pattern without.

또한, 본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물을 사용하여 형성된 화소 및 블랙 매트릭스는 표면 평활성이 높고, 기판과의 밀착성도 우수하다. Moreover, the pixel and black matrix formed using the radiation sensitive composition for colored layer formation of this invention have high surface smoothness, and are excellent also in adhesiveness with a board | substrate.

따라서, 본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물은 전자 공업 분야에서의 컬러 액정 표시 패널용 컬러 필터를 비롯한 각종 컬러 필터의 제조에 매우 바람직하게 사용할 수 있다. Therefore, the radiation sensitive composition for colored layer formation of this invention can be used very favorably for manufacture of various color filters including the color filter for color liquid crystal display panels in the electronic industry.

<실시예> <Example>

이하, 실시예를 들어 본 발명의 실시 형태를 더욱 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명이 하기 실시예로 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, an Example is given and embodiment of this invention is described further more concretely. However, the present invention is not limited to the following examples.

여기서, 부 및 %는 중량 기준이다. Where parts and% are based on weight.

<(B) 알칼리 가용성 수지의 제조> <(B) Production of Alkali Soluble Resin>

<합성예 1>Synthesis Example 1

냉각관 및 교반기를 구비한 플라스크에 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 1 부 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 200 부를 넣고, 이어서 메타크릴산 15 부, 스티렌 15 부, 벤질메타크릴레이트 35 부, 글리세롤모노메타크릴레이트 10 부, N-페닐말레이미드 25 부 및 연쇄 이동제 α-메틸스티렌다이머 2.5 부를 넣어 질소 치환한 후, 서서히 교반하여 반응 용액을 80 ℃로 승온시키고, 이 온도를 유지하여 3 시간 중합하였다. 그 후, 반응 용액을 100 ℃로 승온시켜서 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 0.5 부를 첨가하고, 1 시간 더 중합함으로써 수지 용액(고형분 농도=33.0 %)을 얻었다. In a flask equipped with a cooling tube and a stirrer, 1 part of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) and 200 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate were added, followed by 15 parts of methacrylic acid and 15 parts of styrene, 35 parts of benzyl methacrylate, 10 parts of glycerol monomethacrylate, 25 parts of N-phenylmaleimide, and 2.5 parts of chain transfer agent α-methylstyrene dimer were added thereto, followed by nitrogen substitution, followed by gradually stirring to raise the reaction solution to 80 ° C. The polymerization was carried out for 3 hours while maintaining this temperature. Then, the reaction solution was heated up at 100 degreeC, 0.5 part of 2,2'- azobis (2, 4- dimethylvaleronitrile) was added, and it further superposed | polymerized for 1 hour, and obtained the resin solution (solid content concentration = 33.0%).

얻어진 수지는 Mw=17,000, Mn=8,000이었다. 이 수지를 "수지 (B-1)"이라고 하였다. Obtained resin was Mw = 17,000 and Mn = 8,000. This resin was referred to as "resin (B-1)".

<합성예 2>Synthesis Example 2

냉각관 및 교반기를 구비한 플라스크에 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 1 부 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 200 부를 넣고, 이어서 메타크릴산 15 부, 스티렌 15 부, 벤질메타크릴레이트 30 부, 글리세롤모노메타크릴레이트 15 부, N-페닐말레이미드 25 부 및 연쇄 이동제 α-메틸스티렌다이머 2.5 부를 넣어 질소 치환한 후, 서서히 교반하여 반응 용액을 80 ℃로 승온시키고, 이 온도를 유지하여 3 시간 중합하였다. 그 후, 반응 용액을 100 ℃로 승온시켜서 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴)을 0.5 부 첨가하고, 1 시간 더 중합함으로써 수지 용액(고형분 농도=32.9 %)을 얻었다. In a flask equipped with a cooling tube and a stirrer, 1 part of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) and 200 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate were added, followed by 15 parts of methacrylic acid and 15 parts of styrene, 30 parts of benzyl methacrylate, 15 parts of glycerol monomethacrylate, 25 parts of N-phenylmaleimide, and 2.5 parts of chain transfer agent α-methylstyrene dimer were added thereto, followed by nitrogen substitution, followed by gradually stirring to raise the reaction solution to 80 ° C. The polymerization was carried out for 3 hours while maintaining this temperature. Thereafter, the reaction solution was heated to 100 ° C, 0.5 part of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) was added, and the polymerization was further carried out for 1 hour to obtain a resin solution (solid content concentration = 32.9%). .

얻어진 수지는 Mw=19,000, Mn=9,000이었다. 이 수지를 "수지 (B-2)"라고 하 였다. Obtained resin was Mw = 19,000 and Mn = 9,000. This resin was referred to as "resin (B-2)".

<합성예 3>Synthesis Example 3

냉각관 및 교반기를 구비한 플라스크에 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 1 부 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 200 부를 넣고, 이어서 메타크릴산 15 부, 스티렌 15 부, 벤질메타크릴레이트 30 부, 글리세롤모노메타크릴레이트 10 부, N-페닐말레이미드 30 부 및 연쇄 이동제 α-메틸스티렌다이머 2.5 부를 넣어 질소 치환한 후, 서서히 교반하여 반응 용액을 80 ℃로 승온시키고, 이 온도를 유지하여 3 시간 중합하였다. 그 후, 반응 용액을 100 ℃로 승온시켜서 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴)을 0.5 부 첨가하고, 1 시간 더 중합함으로써 수지 용액(고형분 농도=33.2 %)을 얻었다. In a flask equipped with a cooling tube and a stirrer, 1 part of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) and 200 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate were added, followed by 15 parts of methacrylic acid and 15 parts of styrene, 30 parts of benzyl methacrylate, 10 parts of glycerol monomethacrylate, 30 parts of N-phenylmaleimide, and 2.5 parts of chain transfer agent α-methylstyrene dimer were added thereto, followed by nitrogen substitution, followed by gradually stirring to raise the reaction solution to 80 ° C. The polymerization was carried out for 3 hours while maintaining this temperature. Thereafter, the reaction solution was heated to 100 ° C, 0.5 part of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) was added, and the resin solution (solid content concentration = 33.2%) was obtained by further polymerizing for 1 hour. .

얻어진 수지는 Mw=15,000, Mn=7,000이었다. 이 수지를 "수지 (B-3)"이라고 하였다. Obtained resin was Mw = 15,000 and Mn = 7,000. This resin was referred to as "resin (B-3)".

<합성예 4>Synthesis Example 4

냉각관 및 교반기를 구비한 플라스크에 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 3 부 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 200 부를 넣고, 이어서 메타크릴산 15 부, 아세나프틸렌 30 부, 벤질메타크릴레이트 35 부, 2-히드록시에틸메타크릴레이트 10 부, ω-카르복시폴리카프로락톤모노아크릴레이트 10 부 및 연쇄 이동제 α-메틸스티렌다이머 5 부를 넣어 질소 치환한 후, 서서히 교반하여 반응 용액을 80 ℃로 승온시키고, 이 온도를 유지하여 3 시간 중합하였다. 그 후, 반응 용액을 100 ℃로 승온시켜서 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴)을 0.5 부 첨 가하고, 1 시간 더 중합함으로써 수지 용액(고형분 농도=31.0 %)을 얻었다. To a flask equipped with a cooling tube and a stirrer, 3 parts of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) and 200 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate were added, followed by 15 parts of methacrylic acid and acenaphthylene 30 Part, 35 parts of benzyl methacrylate, 10 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate, 10 parts of ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate and 5 parts of a chain transfer agent α-methylstyrene dimer were substituted with nitrogen, and then stirred slowly. The reaction solution was heated to 80 ° C. and maintained at this temperature for polymerization for 3 hours. Thereafter, the reaction solution was heated to 100 ° C, 0.5 parts of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) was added, and further polymerized for 1 hour to obtain a resin solution (solid content concentration = 31.0%). .

얻어진 수지는 Mw=10,000, Mn=6,000이었다. 이 수지를 "수지 (B-4)"라고 하였다. Obtained resin was Mw = 10,000 and Mn = 6,000. This resin was referred to as "resin (B-4)".

<실시예 1><Example 1>

<액상 조성물의 제조><Production of Liquid Composition>

(A) 착색제로서 C.I.피그먼트 레드 254와 C.I.피그먼트 레드 177과의 80/20(중량비) 혼합물 85 부, (B) 알칼리 가용성 수지로서 수지 (B-1) 80 부, (C) 다관능성 단량체로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 80 부, (D) 광라디칼 발생제로서 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-비시클로헵틸-1-온옥심-O-아세테이트 10 부, 및 용매로서 3-에톡시프로피온산에틸과 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트와의 70/30(중량비) 혼합물 1,000 부를 혼합하여, 감방사선성 조성물의 액상 조성물 (R1)을 제조하였다. (A) 85 parts of 80/20 (weight ratio) mixture of CI pigment red 254 and CI pigment red 177 as a coloring agent, (B) 80 parts of resin (B-1) as alkali-soluble resin, (C) polyfunctional monomer Dipentaerythritol hexaacrylate as 80 parts, (D) 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -bicyclo as photoradical generator 10 parts of heptyl-1-onoxime-O-acetate and 1,000 parts of a 70/30 (weight ratio) mixture of ethyl 3-ethoxypropionate and propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent are mixed to form a liquid composition of a radiation-sensitive composition (R1) was prepared.

또한, 액상 조성물 (R1)은 하기와 같은 순서로 제조하였다. In addition, the liquid composition (R1) was prepared in the following order.

우선, (A) 착색제로서 C.I.피그먼트 레드 254/C.I.피그먼트 레드 177=80/20(중량비) 혼합물 15 중량부, 분산제로서 디스퍼비크-2001을 4 중량부(고형분 환산), (B) 알칼리 가용성 수지로서 (B-1) 6 중량부 및 (E) 용매로서 3-에톡시프로피온산에틸 75 중량부를 비즈 밀로 처리하여, 예비 분산액 (R1-1)을 제조하였다. First, (A) 15 parts by weight of the CI Pigment Red 254 / CI Pigment Red 177 = 80/20 (weight ratio) mixture as the colorant, 4 parts by weight of Disperbik-2001 as the dispersant (solid content conversion), (B) alkali 6 parts by weight of (B-1) as the soluble resin and 75 parts by weight of ethyl 3-ethoxypropionate as the solvent (E) were treated with a beads mill to prepare a preliminary dispersion (R1-1).

이어서, 예비 분산액 (R1-1) 567 중량부, (B) 알칼리 가용성 수지로서 수지 (B-1) 46 중량부, (C) 다관능성 단량체로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 80 중량부, (D) 광라디칼 발생제로서 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3- 일]-비시클로헵틸-1-온옥심-O-아세테이트 10 중량부, 및 (E) 용매로서 3-에톡시프로피온산에틸 275 중량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 300 중량부를 혼합하여, 액상 조성물 (R1)을 제조하였다. Then, 567 parts by weight of the preliminary dispersion (R1-1), (B) 46 parts by weight of the resin (B-1) as the alkali-soluble resin, (C) 80 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate as the polyfunctional monomer, (D 10 parts by weight of 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -bicycloheptyl-1-one oxime-O-acetate as a photoradical generator And (E) 275 parts by weight of ethyl 3-ethoxypropionate and 300 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent to prepare a liquid composition (R1).

<착색층의 형성><Formation of Colored Layer>

액상 조성물 (R1)을, 표면에 나트륨 이온의 용출을 방지하는 SiO2막이 형성된 소다 유리 기판에 스핀 코팅을 이용하여 도포한 후, 90 ℃의 핫 플레이트 상에서 2 분간 예비 소성을 행하여, 막 두께 1.7 ㎛의 도막을 형성하였다. The liquid composition (R1) a, was applied using a spin coating on a soda glass substrate formed film is SiO 2 for preventing the elution of sodium ions on the surface, is performed for 2 minutes prebaked on a hot plate at 90 ℃, thickness 1.7 ㎛ The coating film of was formed.

이어서, 기판을 실온으로 냉각한 후, 고압 수은 램프를 이용하여 포토마스크(슬릿 폭 30 ㎛)를 통해, 도막에 365 nm, 405 nm 및 436 nm의 각 파장을 포함하는 자외선을 노광하였다. 이 때의 노광량은 400 J/㎡였다. 그 후, 기판을 23 ℃의 0.04 % 수산화칼륨 수용액에 1 분간 침지하여 현상한 후, 초순수로 세정하여 통풍 건조하였다. 그 후, 220 ℃의 청정 오븐 내에서 30 분간 후소성을 행하여, 기판 상에 적색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다. Subsequently, after cooling the substrate to room temperature, an ultraviolet light containing each wavelength of 365 nm, 405 nm and 436 nm was exposed to the coating film through a photomask (slit width 30 m) using a high pressure mercury lamp. The exposure amount at this time was 400 J / m <2>. Then, the board | substrate was immersed in 23 degreeC 0.04% potassium hydroxide aqueous solution for 1 minute, and developed, and it wash | cleaned with ultrapure water and air-dried. Subsequently, post-firing was performed for 30 minutes in a 220 degreeC clean oven, and the pixel array in which the red striped pixel pattern was arranged on the board | substrate was formed.

<평가> <Evaluation>

기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 엣지에서 이물 및 깨짐은 확인되지 않았다.As a result of observing the pixel array on the substrate with an optical microscope, no developing residue was observed on the substrate of the unexposed portion, and no foreign matter and cracks were observed at the edge of the pixel pattern.

또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트는 확인되지 않았다.Moreover, as a result of observing the cross section of a pixel pattern with the scanning electron microscope (SEM), undercut was not confirmed.

<비교예 1>Comparative Example 1

<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성><Production of Liquid Composition and Formation of Colored Layer>

(D) 성분을 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논 30 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 감방사선성 조성물 (r1)을 제조하였다. A radiation sensitive composition (r1) was produced in the same manner as in Example 1 except that the component (D) was changed to 30 parts of 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone. It was.

이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (r1)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 적색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다. Subsequently, except for using the liquid composition (r1) instead of the liquid composition (R1), a pixel array in which red striped pixel patterns were arranged on a substrate was formed in the same manner as in Example 1.

<평가> <Evaluation>

기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았지만, 화소 패턴의 엣지의 깨짐이 확인되었다. As a result of observing the pixel array on the substrate with an optical microscope, no development residue was observed on the substrate of the unexposed portion, but cracking of the edge of the pixel pattern was confirmed.

또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트가 확인되었다. Moreover, the undercut was confirmed as a result of observing the cross section of a pixel pattern with a scanning electron microscope (SEM).

<실시예 2><Example 2>

<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성><Production of Liquid Composition and Formation of Colored Layer>

(A) 착색제로서 C.I.피그먼트 그린 36과 C.I.피그먼트 옐로우 150과의 60/40(중량비) 혼합물 95 부, (B) 알칼리 가용성 수지로서 수지 (B-2) 70 부, (C) 다관능성 단량체로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 80 부, (D) 광라디칼 발생제로서 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-테트라히드로푸라닐메탄-1-온옥심-O-아세테이트 12 부, 첨가제로서 말론산 1 부, 및 용매로서 3-메톡시부틸 아세테이트와 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트와의 50/50(중량비) 혼합물900 부를 혼합하여 감방사선성 조성물의 액상 조성물 (G1)을 제조하였다. (A) 95 parts of 60/40 (weight ratio) mixture of CI pigment green 36 and CI pigment yellow 150 as a coloring agent, (B) 70 parts of resin (B-2) as alkali-soluble resin, (C) polyfunctional monomer Dipentaerythritol hexaacrylate as 80 parts, (D) 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -tetrahydro as an optical radical generating agent 12 parts of furanylmethane-1-one oxime-O-acetate, 1 part of malonic acid as an additive, and 900 parts of a 50/50 (weight ratio) mixture of 3-methoxybutyl acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent To prepare a liquid composition (G1) of the radiation-sensitive composition.

이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (G1)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 녹색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다. Subsequently, except for using the liquid composition (G1) instead of the liquid composition (R1), in the same manner as in Example 1, a pixel array in which green stripe pixel patterns were arranged on a substrate was formed.

<평가> <Evaluation>

기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 엣지에서 이물 및 깨짐은 확인되지 않았다.As a result of observing the pixel array on the substrate with an optical microscope, no developing residue was observed on the substrate of the unexposed portion, and no foreign matter and cracks were observed at the edge of the pixel pattern.

또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트는 확인되지 않았다.Moreover, as a result of observing the cross section of a pixel pattern with the scanning electron microscope (SEM), undercut was not confirmed.

<실시예 3><Example 3>

<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성><Production of Liquid Composition and Formation of Colored Layer>

(A) 착색제로서 C.I.피그먼트 블루 15:6과 C.I.피그먼트 바이올렛 23과의 95/5(중량비) 혼합물 70 부, (B) 알칼리 가용성 수지로서 수지 (B-3) 60 부, (C) 다관능성 단량체로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 90 부, (D) 광라디칼 발생제로서 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-비시클로헵탄카르복실레이트 20 부, 첨가제로서 A-60(상품명, 카오(주) 제조의 비이온계 계면활성제) 5 부, 및 용매로서 3-에톡시프로피온산에틸과 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트와의 60/40(중량비) 혼합물 900 중량부를 혼합하여 감방사선성 조 성물의 액상 조성물 (B1)을 제조하였다. (A) 70 parts of 95/5 (weight ratio) mixture of CI pigment blue 15: 6 and CI pigment violet 23 as a coloring agent, (B) 60 parts of resin (B-3) as alkali-soluble resin, (C) polytube 90 parts of dipentaerythritol hexaacrylate as the functional monomer, (D) 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-as an optical radical generator 20 parts of ethane-1-one oxime-O-bicycloheptancarboxylate, 5 parts of A-60 (trade name, nonionic surfactant manufactured by KAO Co., Ltd.) as an additive, and ethyl 3-ethoxypropionate as a solvent 900 parts by weight of a 60/40 (weight ratio) mixture with propylene glycol monomethyl ether acetate was mixed to prepare a liquid composition (B1) of the radiation-sensitive composition.

이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (B1)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 청색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다. Subsequently, except for using the liquid composition (B1) instead of the liquid composition (R1), in the same manner as in Example 1, a pixel array in which blue striped pixel patterns were arranged on a substrate was formed.

<평가> <Evaluation>

기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 엣지에서 이물 및 깨짐은 확인되지 않았다.As a result of observing the pixel array on the substrate with an optical microscope, no developing residue was observed on the substrate of the unexposed portion, and no foreign matter and cracks were observed at the edge of the pixel pattern.

또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트는 확인되지 않았다.Moreover, as a result of observing the cross section of a pixel pattern with the scanning electron microscope (SEM), undercut was not confirmed.

<실시예 4><Example 4>

<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성><Production of Liquid Composition and Formation of Colored Layer>

(A) 착색제로서 카본 블랙(미꾸니 세끼소(주) 제조) 250 부, (B) 알칼리 가용성 수지로서 수지 (B-4) 75 부, (C) 다관능성 단량체로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 75 부, (D) 광라디칼 발생제로서 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-비시클로헵틸-1-온옥심-O-아세테이트 10 부, 및 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트와 시클로헥사논과의 50/50(중량비) 혼합물 1,000 부를 혼합하여 감방사선성 조성물의 액상 조성물 (BK1)을 제조하였다. (A) 250 parts of carbon black (made by Mikuni Sekiso Co., Ltd.) as a coloring agent, (B) 75 parts of resin (B-4) as alkali-soluble resin, (C) dipentaerythritol hexaacrylate as a polyfunctional monomer 75 parts, (D) 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -bicycloheptyl-1-one oxime-O as photoradical generator 10 parts of acetate and 1,000 parts of a 50/50 (weight ratio) mixture of propylene glycol monomethyl ether acetate and cyclohexanone as a solvent were mixed to prepare a liquid composition (BK1) of the radiation sensitive composition.

이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (BK1)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 흑색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화 소 어레이를 형성하였다. Subsequently, except for using the liquid composition (BK1) instead of the liquid composition (R1), in the same manner as in Example 1, a pixel array in which black stripe pixel patterns were arranged on a substrate was formed.

<평가> <Evaluation>

기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 엣지에서 이물 및 깨짐은 확인되지 않았다.As a result of observing the pixel array on the substrate with an optical microscope, no developing residue was observed on the substrate of the unexposed portion, and no foreign matter and cracks were observed at the edge of the pixel pattern.

또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트는 확인되지 않았다.Moreover, as a result of observing the cross section of a pixel pattern with the scanning electron microscope (SEM), undercut was not confirmed.

<실시예 5><Example 5>

<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성><Production of Liquid Composition and Formation of Colored Layer>

(D) 성분을 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-테트라히드로푸라닐메탄-1-온옥심-O-아세테이트 10 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여 감방사선성 조성물 (BK2)를 제조하였다. (D) component to 10 parts of 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -tetrahydrofuranylmethane-1-onoxime-O-acetate A radiation sensitive composition (BK2) was produced in the same manner as in Example 4 except for the change.

이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (BK2)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 흑색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다. Subsequently, except for using the liquid composition (BK2) instead of the liquid composition (R1), in the same manner as in Example 1, a pixel array in which black striped pixel patterns were arranged on a substrate was formed.

<평가> <Evaluation>

기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 엣지에서 이물 및 깨짐은 확인되지 않았다.As a result of observing the pixel array on the substrate with an optical microscope, no developing residue was observed on the substrate of the unexposed portion, and no foreign matter and cracks were observed at the edge of the pixel pattern.

또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트는 확인되지 않았다.Moreover, as a result of observing the cross section of a pixel pattern with the scanning electron microscope (SEM), undercut was not confirmed.

<실시예 6><Example 6>

<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성><Production of Liquid Composition and Formation of Colored Layer>

(D) 성분을 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-비시클로헵탄카르복시레이트 10 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여 감방사선성 조성물 (BK3)을 제조하였다. (D) component to 10 parts of 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-bicycloheptancarboxylate A radiation sensitive composition (BK3) was produced in the same manner as in Example 4 except for the change.

이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (BK3)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 흑색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다. Subsequently, except for using the liquid composition (BK3) instead of the liquid composition (R1), in the same manner as in Example 1, a pixel array in which black striped pixel patterns were arranged on a substrate was formed.

<평가> <Evaluation>

기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 엣지에서 이물 및 깨짐은 확인되지 않았다.As a result of observing the pixel array on the substrate with an optical microscope, no developing residue was observed on the substrate of the unexposed portion, and no foreign matter and cracks were observed at the edge of the pixel pattern.

또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트는 확인되지 않았다.Moreover, as a result of observing the cross section of a pixel pattern with the scanning electron microscope (SEM), undercut was not confirmed.

<실시예 7><Example 7>

<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성><Production of Liquid Composition and Formation of Colored Layer>

(D) 성분을 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-트리시클로데칸카르복실레이트 10 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여 감방사선성 조성물 (BK4)를 제조하였다. (D) component 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-tricyclodecanecarboxylate 10 A radiation sensitive composition (BK4) was produced in the same manner as in Example 4 except for changing to negative.

이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (BK4)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 흑색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다. Subsequently, except for using the liquid composition (BK4) instead of the liquid composition (R1), in the same manner as in Example 1, a pixel array in which black striped pixel patterns were arranged on a substrate was formed.

<평가> <Evaluation>

기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 엣지에서 이물 및 깨짐은 확인되지 않았다.As a result of observing the pixel array on the substrate with an optical microscope, no developing residue was observed on the substrate of the unexposed portion, and no foreign matter and cracks were observed at the edge of the pixel pattern.

또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트는 확인되지 않았다.Moreover, as a result of observing the cross section of a pixel pattern with the scanning electron microscope (SEM), undercut was not confirmed.

<실시예 8><Example 8>

<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성><Production of Liquid Composition and Formation of Colored Layer>

(D) 성분을 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-아다만탄카르복실레이트 10 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여 감방사선성 조성물 (BK5)를 제조하였다. (D) component 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-adamantanecarboxylate 10 A radiation sensitive composition (BK5) was produced in the same manner as in Example 4 except for changing to negative.

이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (BK5)를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 흑색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다. Subsequently, except for using the liquid composition (BK5) instead of the liquid composition (R1), in the same manner as in Example 1, a pixel array in which black striped pixel patterns were arranged on a substrate was formed.

<평가> <Evaluation>

기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 엣지에서 이물 및 깨짐은 확 인되지 않았다.As a result of observing the pixel array on the substrate with an optical microscope, no developing residue was observed on the substrate of the unexposed portion, and no foreign matter and cracks were observed at the edge of the pixel pattern.

또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트는 확인되지 않았다.Moreover, as a result of observing the cross section of a pixel pattern with the scanning electron microscope (SEM), undercut was not confirmed.

<실시예 9>Example 9

<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성><Production of Liquid Composition and Formation of Colored Layer>

(D) 성분을 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-테트라히드로푸라닐메탄-1-온옥심-O-비시클로헵탄카르복실레이트 10 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여 감방사선성 조성물 (BK6)을 제조하였다. (D) component 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -tetrahydrofuranylmethane-1-one oxime-O-bicycloheptane Except having changed into 10 parts of carboxylates, it carried out similarly to Example 4, and manufactured the radiation sensitive composition (BK6).

이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (BK6)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 흑색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다. Subsequently, except for using the liquid composition (BK6) instead of the liquid composition (R1), in the same manner as in Example 1, a pixel array in which black striped pixel patterns were arranged on a substrate was formed.

<평가> <Evaluation>

기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 엣지에서 이물 및 깨짐은 확인되지 않았다.As a result of observing the pixel array on the substrate with an optical microscope, no developing residue was observed on the substrate of the unexposed portion, and no foreign matter and cracks were observed at the edge of the pixel pattern.

또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트는 확인되지 않았다.Moreover, as a result of observing the cross section of a pixel pattern with the scanning electron microscope (SEM), undercut was not confirmed.

<실시예 10><Example 10>

<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성><Production of Liquid Composition and Formation of Colored Layer>

용매로서 3-에톡시프로피온산에틸과 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이 트와의 70/30(중량비) 혼합물 1,500 중량부를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 감방사선성 조성물 (R2)를 제조하였다. A radiation sensitive composition (R2) was prepared in the same manner as in Example 1 except that 1,500 parts by weight of a 70/30 (weight ratio) mixture of ethyl 3-ethoxypropionate and propylene glycol monomethyl ether acetate was used as a solvent. .

이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (R2)를 사용하고, 스핀 코팅 대신에 슬릿 다이 코터를 사용하여 도포한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 적색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다. Subsequently, except that the liquid composition (R2) was used instead of the liquid composition (R1) and applied using a slit die coater instead of spin coating, a red striped pixel pattern was formed on the substrate in the same manner as in Example 1. An array of pixel arrays was formed.

<평가> <Evaluation>

기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 엣지에서 이물 및 깨짐은 확인되지 않았다. As a result of observing the pixel array on the substrate with an optical microscope, no developing residue was observed on the substrate of the unexposed portion, and no foreign matter and cracks were observed at the edge of the pixel pattern.

또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더 컷트는 확인되지 않았다.Moreover, as a result of observing the cross section of a pixel pattern with the scanning electron microscope (SEM), undercut was not confirmed.

<실시예 11><Example 11>

<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성><Production of Liquid Composition and Formation of Colored Layer>

(A) 착색제로서 티탄 블랙(질화티탄)((주)잼코 제조) 600 부, (B) 알칼리 가용성 수지로서 수지 (B-4) 75 부, (C) 다관능성 단량체로서 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 75 부, (D) 광라디칼 발생제로서 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.일카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-아다만탄카르복실레이트 10 부, 및 용매로서 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트와 시클로헥사논과의 50/50(중량비) 혼합물 1,000 부를 혼합하여 감방사선성 조성물의 액상 조성물 (BK7)을 제조하였다. (A) 600 parts of titanium black (titanium nitride) (made by JAMCO) as a coloring agent, (B) 75 parts of resin (B-4) as alkali-soluble resin, (C) dipentaerythritol hexaacryl as a polyfunctional monomer Rate 75 parts, (D) 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.ylcarbazol-3-yl] -ethane-1-onoxime-O- as an optical radical generator Ten parts of adamantane carboxylate and 1,000 parts of a 50/50 (weight ratio) mixture of propylene glycol monomethyl ether acetate and cyclohexanone as a solvent were mixed to prepare a liquid composition (BK7) of a radiation sensitive composition.

이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (BK7)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 흑색의 스트라이프형 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다. Subsequently, except for using the liquid composition (BK7) instead of the liquid composition (R1), in the same manner as in Example 1, a pixel array in which black striped pixel patterns were arranged on a substrate was formed.

<평가> <Evaluation>

기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여물이 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 엣지에서 이물 및 깨짐은 확인되지 않았다. As a result of observing the pixel array on the substrate with an optical microscope, no developing residue was observed on the substrate of the unexposed portion, and no foreign matter and cracks were observed at the edge of the pixel pattern.

또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더컷트는 확인되지 않았다. In addition, when the cross section of the pixel pattern was observed with the scanning electron microscope (SEM), the undercut was not confirmed.

본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물은 안료를 고농도로 포함하는 경우에도 현상시에 미노광부의 기판 상 및 차광층 상에 미용해물이 잔존하거나 화소 패턴 및 블랙 매트릭스 패턴의 엣지에 이물을 발생시키지 않으며, 게다가 저노광량에서도 패턴 엣지의 깨짐이나 언더 컷트가 없는 양호한 화소 패턴 및 블랙 매트릭스 패턴을 형성할 수 있다. In the radiation-sensitive composition for forming a colored layer of the present invention, even when a pigment is contained at a high concentration, undissolved matters remain on the substrate and the light shielding layer of the unexposed part during development, or foreign matters are generated at the edges of the pixel pattern and the black matrix pattern. In addition, it is possible to form a good pixel pattern and a black matrix pattern without cracks or undercuts of the pattern edge even at a low exposure amount.

또한, 본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물을 사용하여 형성된 화소 및 블랙 매트릭스는 표면 평활성이 높고, 기판과의 밀착성도 우수하다. Moreover, the pixel and black matrix formed using the radiation sensitive composition for colored layer formation of this invention have high surface smoothness, and are excellent also in adhesiveness with a board | substrate.

따라서, 본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물은 전자 공업 분야에서의 컬러 액정 표시 패널용 컬러 필터를 비롯한 각종 컬러 필터의 제조에 매우 바람직하게 사용할 수 있다. Therefore, the radiation sensitive composition for colored layer formation of this invention can be used very favorably for manufacture of various color filters including the color filter for color liquid crystal display panels in the electronic industry.

Claims (3)

(A) 착색제, (B) 알칼리 가용성 수지, (C) 다관능성 단량체 및 (D) 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-비시클로헵틸-1-온옥심-O-아세테이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-테트라히드로푸라닐메탄-1-온옥심-O-아세테이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-비시클로헵탄카르복실레이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-트리시클로데칸카르복실레이트, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-에탄-1-온옥심-O-아다만탄카르복실레이트 및 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-테트라히드로푸라닐메탄-1-온옥심-O-비시클로헵탄카르복실레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 광라디칼 발생제를 함유하는 것을 특징으로 하는 착색층 형성용 감방사선성 조성물. (A) colorant, (B) alkali-soluble resin, (C) polyfunctional monomer and (D) 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -Bicycloheptyl-1-one oxime-O-acetate, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -tetrahydrofuranylmethane-1 -Onoxime-O-acetate, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -ethane-1-onoxime-O-bicycloheptancar Voxylate, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-tricyclodecanecarboxylate, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -ethane-1-onoxime-O-adamantanecarboxylate and 1- [9-ethyl- 6- (2-methylbenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] -tetrahydrofuranylmethane-1-one oxime-O-bicycloheptancarboxylate at least one selected from the group consisting of An optical radiation generating agent, The radiation sensitive composition for colored layer formation characterized by the above-mentioned. 제1항에 따른 착색층 형성용 감방사선성 조성물로부터 형성된 착색층을 구비한 것을 특징으로 하는 컬러 필터. The color filter provided with the colored layer formed from the radiation sensitive composition for colored layer formation of Claim 1. 제2항에 따른 컬러 필터를 구비하여 이루어진 컬러 액정 표시 패널. A color liquid crystal display panel comprising the color filter according to claim 2.
KR1020050066584A 2004-07-26 2005-07-22 Radiation Sensitive Composition for Forming a Colored Layer, Color Filter and Color Liquid Crystal Display Panel KR100850170B1 (en)

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