KR100807494B1

KR100807494B1 - Radiation sensitive compositions for forming colored layers, color filters and color liquid crystal display panel

Info

Publication number: KR100807494B1
Application number: KR20050122956A
Authority: KR
Inventors: 다까요시 고야마; 다까히로 이이지마; 사또꼬 아비꼬; 스구루 하따노
Original assignee: 제이에스알 가부시끼가이샤
Priority date: 2004-12-15
Filing date: 2005-12-14
Publication date: 2008-02-25
Also published as: SG123721A1; CN1800885A; TW200639582A; KR20060067870A; JP2006195425A

Abstract

본 발명은 착색제, 알칼리 가용성 수지, 다관능성 단량체 또는 그것과 단관능성 단량체의 조합, 및 0-아실옥심형 광 라디칼 발생제를 함유하는 착색층 형성용 감방사선성 조성물에 관한 것이다. 이 조성물은 현상시에 미용해물이 잔존하거나, 패턴 단부에 스컴이 생기거나 하지 않고, 또한 저노광량에서도 패턴 단부의 결함 및 언더컷을 일으키지 않는 화소 및 블랙 매트릭스를 제공할 수 있다.The present invention relates to a radiation sensitive composition for forming a colored layer containing a colorant, an alkali-soluble resin, a polyfunctional monomer or a combination thereof and a monofunctional monomer, and a 0-acyl oxime photo radical generator. This composition can provide a pixel and a black matrix in which undissolved matters remain at the time of development, scum does not occur at the end of the pattern, and defects and undercuts of the end of the pattern are not caused even at a low exposure amount.

착색제, 알칼리 가용성 수지, 다관능성 단량체, 단관능성 단량체, 광 라디칼 발생제, 감방사선성 조성물 Colorants, alkali-soluble resins, polyfunctional monomers, monofunctional monomers, optical radical generators, radiation sensitive compositions

Description

Radiation-sensitive composition, color filter and color liquid crystal display panel for colored layer formation {RADIATION SENSITIVE COMPOSITIONS FOR FORMING COLORED LAYERS, COLOR FILTERS AND COLOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL}

본 발명은 착색층 형성용 감방사선성 조성물, 컬러 필터 및 컬러 액정 표시 패널에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 투과형 또는 반사형의 컬러 액정 표시 장치, 컬러 촬상관 소자 등에 사용되는 컬러 필터의 제조에 유용한 착색층(화소 및(또는) 블랙 매트릭스)의 형성에 사용되는 감방사선성 조성물, 해당 감방사선성 조성물로 형성된 착색층을 구비하는 컬러 필터, 및 해당 컬러 필터를 구비하는 컬러 액정 표시 패널에 관한 것이다.The present invention relates to a radiation sensitive composition for forming a colored layer, a color filter, and a color liquid crystal display panel. In more detail, the radiation sensitive composition used for formation of the colored layer (pixel and / or black matrix) useful for manufacture of the color filter used for a transmissive or reflective color liquid crystal display device, a color image tube element, etc., this sensitivity The color filter provided with the colored layer formed from the radioactive composition, and the color liquid crystal display panel provided with this color filter.

종래, 착색 감방사선성 조성물을 사용하여 컬러 필터를 제조함에 있어서는, 기판 상 또는 미리 원하는 패턴의 차광층을 형성한 기판 상에 착색 감방사선성 조성물을 도포하여 건조한 후, 건조 도막을 원하는 패턴 형상으로 방사선 조사(이하, 「노광」이라고 함)하고, 현상함으로써 각 색의 화소를 얻는 방법(일본 특허 공개 (평)2-144502호 공보 및 일본 특허 공개 (평)3-53201호 공보 참조)이 알려져 있다. Conventionally, in manufacturing a color filter using a colored radiation-sensitive composition, after applying a colored radiation-sensitive composition on a substrate or on a substrate on which a light shielding layer having a desired pattern is formed in advance, the dried coating film is formed into a desired pattern shape. A method of obtaining pixels of each color by irradiation with radiation (hereinafter referred to as "exposure") and developing them is known (see Japanese Patent Laid-Open No. Hei 2-144502 and Japanese Patent Laid-Open No. Hei 3-53201). have.

또한, 최근에는 컬러 필터의 기술 분야에 있어서, 노광량을 낮춤으로써 택트 타임을 단축하는 움직임이 주류가 되고 있지만, 종래의 착색 감방사선성 조성물로는 현상시에 패턴 단부의 결함이나 언더컷을 발생시키기 쉽기 때문에, 택트타임을 단축시키면서 양호한 패턴 형상의 화소 및 블랙 매트릭스를 얻는 것이 곤란하였다.In recent years, in the technical field of color filters, the movement of shortening the tact time by reducing the exposure amount has become mainstream. However, with conventional colored radiation-sensitive compositions, it is easy to generate defects or undercuts at the end of the pattern during development. Therefore, it was difficult to obtain a good patterned pixel and a black matrix while shortening the tact time.

본 발명의 목적은 우수한 현상성을 나타내는 착색층 형성용 감방사선성 조성물, 보다 구체적으로는 현상시에 미용해물이 잔존하거나, 패턴 단부에 스컴이 생기거나 하지 않고, 또한 저노광량에서도 패턴 단부의 결함 및 언더컷을 일으키지 않는 화소 및 블랙 매트릭스를 제공하는 신규한 착색층 형성용 감방사선성 조성물을 제공하는 데 있다.An object of the present invention is a radiation-sensitive composition for forming a colored layer which exhibits excellent developability, more specifically, undissolved matters remain during development, scum does not occur at the end of the pattern, and defects at the end of the pattern even at a low exposure amount. And a novel radiation-sensitive composition for forming a colored layer which provides a pixel and a black matrix which does not cause undercut.

본 발명의 다른 목적 및 이점은 이하의 설명으로부터 명백해질 것이다.Other objects and advantages of the present invention will become apparent from the following description.

본 발명에 따르면, 본 발명의 상기 목적 및 이점은 첫째로,According to the present invention, the above objects and advantages of the present invention are, firstly,

(A) 착색제, (B) 알칼리 가용성 수지, (C) 다관능성 단량체 또는 그것과 단관능성 단량체의 조합, 및 (D) 하기 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물을 포함하는 광 라디칼 발생제를 함유하는 것을 특징으로 하는 착색층 형성용 감방사선성 조성물에 의해 달성된다.(A) Coloring agent, (B) Alkali-soluble resin, (C) Polyfunctional monomer or combination of monofunctional monomer with it, and (D) Optical radical generating agent containing the compound represented by following formula (1) or (2) It is achieved by the radiation sensitive composition for colored layer formation characterized by the above-mentioned.

본 발명에서 말하는 「착색층」이란, 컬러 필터에 사용되는 화소 및(또는) 블랙 매트릭스를 포함하는 층을 의미한다. The term "colored layer" as used in the present invention means a layer containing a pixel and / or a black matrix used in the color filter.

화학식 1 또는 2에 있어서, R₁은 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 8의 시클로알킬기 또는 페닐기이고, R₂, R₃은 각각 수소 원자, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 8의 시클로알킬기, 페닐기(단, 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 탄소수 1 내지 6의 알콕시기, 페닐기 또는 할로겐 원자 1개 이상으로 치환될 수도 있음) 또는 탄소수 7 내지 20의 알리시클릭기(상기 시클로알킬기를 제외함)이며, R₄는 탄소수 4 내지 20의 산소 함유 복소환기, 탄소수 4 내지 20의 질소 함유 복소환기 또는 탄소수 4 내지 20의 황 함유 복소환기이고, R₅는 수소 원자, 탄소수 1 내지 12의 알킬기 또는 탄소수 1 내지 12의 알콕실기이며, n은 1 내지 5의 정수이고, m은 0 내지 5의 정수이며, n+m≤5이고, l은 0 내지 6의 정수이다. In Formula 1 or 2, R <_1> is a C1-C20 alkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, or a phenyl group, R <_2> , R <_3> is a hydrogen atom, a C1-C20 alkyl group, C3-C8 respectively A cycloalkyl group, a phenyl group (however, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group or a halogen atom may be substituted) or an alicyclic group having 7 to 20 carbon atoms (the cycloalkyl group described above). R ₄ is an oxygen containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, a nitrogen containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, or a sulfur containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, and R ₅ is a hydrogen atom having 1 to 12 carbon atoms. It is an alkyl group or a C1-C12 alkoxyl group, n is an integer of 1-5, m is an integer of 0-5, n + m <= 5, l is an integer of 0-6.

본 발명에 따르면, 본 발명의 상기 목적 및 이점은 둘째로,According to the present invention, the above objects and advantages of the present invention are second,

상기 착색층 형성용 감방사선성 조성물로 형성된 착색층을 구비하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터에 의해 달성된다.It is achieved by the color filter characterized by including the colored layer formed from the radiation sensitive composition for colored layer formation.

본 발명에 따르면, 본 발명의 상기 목적 및 이점은 세째로,According to the present invention, the above objects and advantages of the present invention are third,

상기 컬러 필터를 구비하여 이루어지는 컬러 액정 표시 패널에 의해 달성된다.It is achieved by the color liquid crystal display panel provided with the said color filter.

이하, 본 발명에 대하여 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail.

착색층Colored layer 형성용 Forming 감방사선성Radiation 조성물 Composition

-(A) 착색제--(A) colorant-

본 발명에서의 착색제는 색조가 특별히 한정되는 것은 아니며, 얻어지는 컬러 필터의 용도에 따라 적절하게 선정되고, 안료, 염료 또는 천연 색소 중 어느 하나일 수 있다.The coloring agent in this invention is not specifically limited in color tone, According to the use of the color filter obtained, it is suitably selected, It can be any of a pigment, dye, or a natural pigment.

컬러 필터에는 고정밀한 발색과 내열성이 요구되기 때문에, 본 발명에서의 착색제로서는 발색성이 높고, 내열성이 높은 착색제, 특히 내열 분해성이 높은 착색제가 바람직하다. 바람직하게는 안료가 사용되며, 특히 바람직하게는 유기 안료, 카본 블랙이 사용된다.Since high color development and heat resistance are required for a color filter, as a coloring agent in this invention, the coloring agent with high coloring property and high heat resistance, especially the coloring agent with high thermal decomposition resistance is preferable. Preferably pigments are used, particularly preferably organic pigments, carbon black.

상기 유기 안료로서는, 예를 들면 컬러 인덱스(C.I.; The Society of Dyers and Colourists사 발행)에 있어서 피그먼트(Pigment)로 분류되어 있는 화합물, 구 체적으로는 하기와 같은 컬러 인덱스(C.I.) 번호가 붙어 있는 것을 들 수 있다.Examples of the organic pigment include compounds classified as pigments in color indexes (issued by The Society of Dyers and Colorists, Inc.), and specifically, color index (CI) numbers as follows. I can hear that.

C.I.피그먼트 옐로우 1, C.I.피그먼트 옐로우 3, C.I.피그먼트 옐로우 12, C.I.피그먼트 옐로우 13, C.I.피그먼트 옐로우 14, C.I.피그먼트 옐로우 15, C.I.피그먼트 옐로우 16, C.I.피그먼트 옐로우 17, C.I.피그먼트 옐로우 20, C.I.피그먼트 옐로우 24, C.I.피그먼트 옐로우 31, C.I.피그먼트 옐로우 55, C.I.피그먼트 옐로우 60, C.I.피그먼트 옐로우 61, C.I.피그먼트 옐로우 65, C.I.피그먼트 옐로우 71, C.I.피그먼트 옐로우 73, C.I.피그먼트 옐로우 74, C.I.피그먼트 옐로우 81, C.I.피그먼트 옐로우 83, C.I.피그먼트 옐로우 93, C.I.피그먼트 옐로우 95, C.I.피그먼트 옐로우 97, C.I.피그먼트 옐로우 98, C.I.피그먼트 옐로우 100, C.I.피그먼트 옐로우 101, C.I.피그먼트 옐로우 104, C.I.피그먼트 옐로우 106, C.I.피그먼트 옐로우 108, C.I.피그먼트 옐로우 109, C.I.피그먼트 옐로우 110, C.I.피그먼트 옐로우 113, C.I.피그먼트 옐로우 114, C.I.피그먼트 옐로우 116, C.I.피그먼트 옐로우 117, C.I.피그먼트 옐로우 119, C.I.피그먼트 옐로우 120, C.I.피그먼트 옐로우 126, C.I.피그먼트 옐로우 127, C.I.피그먼트 옐로우 128, C.I.피그먼트 옐로우 129, C.I.피그먼트 옐로우 138, C.I.피그먼트 옐로우 139, C.I.피그먼트 옐로우 150, C.I.피그먼트 옐로우 151, C.I.피그먼트 옐로우 152, C.I.피그먼트 옐로우 153, C.I.피그먼트 옐로우 154, C.I.피그먼트 옐로우 155, C.I.피그먼트 옐로우 156, C.I.피그먼트 옐로우 166, C.I.피그먼트 옐로우 168, C.I.피그먼트 옐로우 175, C.I.피그먼트 옐로우 180, C.I.피그먼트 옐로우 185;CI Pigment Yellow 1, CI Pigment Yellow 3, CI Pigment Yellow 12, CI Pigment Yellow 13, CI Pigment Yellow 14, CI Pigment Yellow 15, CI Pigment Yellow 16, CI Pigment Yellow 17, CI Pigment CI Pigment Yellow 20, CI Pigment Yellow 24, CI Pigment Yellow 31, CI Pigment Yellow 55, CI Pigment Yellow 60, CI Pigment Yellow 61, CI Pigment Yellow 65, CI Pigment Yellow 71, CI Pigment Yellow 73, CI Pigment Yellow 74, CI Pigment Yellow 81, CI Pigment Yellow 83, CI Pigment Yellow 93, CI Pigment Yellow 95, CI Pigment Yellow 97, CI Pigment Yellow 98, CI Pigment Yellow 100, CI Pigment Yellow 101, CI Pigment Yellow 104, CI Pigment Yellow 106, CI Pigment Yellow 108, CI Pigment Yellow 109, CI Pigment Yellow 110, CI Pigment Yellow 113, C. I. Pigment Yellow 114, CI Pigment Yellow 116, CI Pigment Yellow 117, CI Pigment Yellow 119, CI Pigment Yellow 120, CI Pigment Yellow 126, CI Pigment Yellow 127, CI Pigment Yellow 128, CI Pigment Yellow 129, CI Pigment Yellow 138, CI Pigment Yellow 139, CI Pigment Yellow 150, CI Pigment Yellow 151, CI Pigment Yellow 152, CI Pigment Yellow 153, CI Pigment Yellow 154, CI Pigment Yellow 155, CI Pigment Yellow 156, CI Pigment Yellow 166, CI Pigment Yellow 168, CI Pigment Yellow 175, CI Pigment Yellow 180, CI Pigment Yellow 185;

C.I.피그먼트 오렌지 1, C.I.피그먼트 오렌지 5, C.I.피그먼트 오렌지 13, C.I.피그먼트 오렌지 14, C.I.피그먼트 오렌지 16, C.I.피그먼트 오렌지 17, C.I.피그먼트 오렌지 24, C.I.피그먼트 오렌지 34, C.I.피그먼트 오렌지 36, C.I.피그먼트 오렌지 38, C.I.피그먼트 오렌지 40, C.I.피그먼트 오렌지 43, C.I.피그먼트 오렌지 46, C.I.피그먼트 오렌지 49, C.I.피그먼트 오렌지 51, C.I.피그먼트 오렌지 61, C.I.피그먼트 오렌지 63, C.I.피그먼트 오렌지 64, C.I.피그먼트 오렌지 71, C.I.피그먼트 오렌지 73;CI Pigment Orange 1, CI Pigment Orange 5, CI Pigment Orange 13, CI Pigment Orange 14, CI Pigment Orange 16, CI Pigment Orange 17, CI Pigment Orange 24, CI Pigment Orange 34, CI Pigment CI Orange 36, CI Pigment Orange 38, CI Pigment Orange 40, CI Pigment Orange 43, CI Pigment Orange 46, CI Pigment Orange 49, CI Pigment Orange 51, CI Pigment Orange 61, CI Pigment Orange 63, CI pigment orange 64, CI pigment orange 71, CI pigment orange 73;

C.I.피그먼트 바이올렛 1, C.I.피그먼트 바이올렛 19, C.I.피그먼트 바이올렛 23, C.I.피그먼트 바이올렛 29, C.I.피그먼트 바이올렛 32, C.I.피그먼트 바이올렛 36, C.I.피그먼트 바이올렛 38; C.I. Pigment Violet 1, C.I.Pigment Violet 19, C.I.Pigment Violet 23, C.I.Pigment Violet 29, C.I.Pigment Violet 32, C.I.Pigment Violet 36, C.I.Pigment Violet 38;

C.I.피그먼트 레드 1, C.I.피그먼트 레드 2, C.I.피그먼트 레드 3, C.I.피그먼트 레드 4, C.I.피그먼트 레드 5, C.I.피그먼트 레드 6, C.I.피그먼트 레드 7, C.I.피그먼트 레드 8, C.I.피그먼트 레드 9, C.I.피그먼트 레드 10, C.I.피그먼트 레드 11, C.I.피그먼트 레드 12, C.I.피그먼트 레드 14, C.I.피그먼트 레드 15, C.I.피그먼트 레드 16, C.I.피그먼트 레드 17, C.I.피그먼트 레드 18, C.I.피그먼트 레드 19, C.I.피그먼트 레드 21, C.I.피그먼트 레드 22, C.I.피그먼트 레드 23, C.I.피그먼트 레드 30, C.I.피그먼트 레드 31, C.I.피그먼트 레드 32, C.I.피그먼트 레드 37, C.I.피그먼트 레드 38, C.I.피그먼트 레드 40, C.I.피그먼트 레드 41, C.I.피그먼트 레드 42, C.I.피그먼트 레드 48:1, C.I.피그먼트 레드 48:2, C.I.피그먼트 레드 48:3, C.I.피그먼트 레드 48:4, C.I.피그먼트 레드 49:1, C.I.피그먼트 레드 49:2, C.I.피그먼트 레드 50:1, C.I.피그먼트 레드 52:1, C.I.피그먼트 레 드 53:1, C.I.피그먼트 레드 57, C.I.피그먼트 레드 57:1, C.I.피그먼트 레드 57:2, C.I.피그먼트 레드 58:2, C.I.피그먼트 레드 58:4, C.I.피그먼트 레드 60:1, C.I.피그먼트 레드 63:1, C.I.피그먼트 레드 63:2, C.I.피그먼트 레드 64:1, C.I.피그먼트 레드 81:1, C.I.피그먼트 레드 83, C.I.피그먼트 레드 88, C.I.피그먼트 레드 90:1, C.I.피그먼트 레드 97,CI Pigment Red 1, CI Pigment Red 2, CI Pigment Red 3, CI Pigment Red 4, CI Pigment Red 5, CI Pigment Red 6, CI Pigment Red 7, CI Pigment Red 8, CI Pigment CI Pigment Red 9, CI Pigment Red 10, CI Pigment Red 11, CI Pigment Red 12, CI Pigment Red 14, CI Pigment Red 15, CI Pigment Red 16, CI Pigment Red 17, CI Pigment Red 18, CI Pigment Red 19, CI Pigment Red 21, CI Pigment Red 22, CI Pigment Red 23, CI Pigment Red 30, CI Pigment Red 31, CI Pigment Red 32, CI Pigment Red 37, CI Pigment Red 38, CI Pigment Red 40, CI Pigment Red 41, CI Pigment Red 42, CI Pigment Red 48: 1, CI Pigment Red 48: 2, CI Pigment Red 48: 3, CI Pigment CIment Red 48: 4, CI Pigment Red 49: 1, CI Pigment Red 49: 2, CI Pigment Red 50: 1, CI Pigment Red 52: 1, CI Pigment Red 53: 1, CI Pigment Red 57, CI Pigment Red 57: 1, CI Pigment Red 57: 2, CI Pigment Red 58: 2, CI Pigment Red 58: 4, CI Pigment Red 60: 1, CI Pigment Red 63: 1, CI Pigment Red 63: 2, CI Pigment Red 64: 1, CI Pigment Red 81: 1, CI Pigment Red 83, CI Pigment Red 88, CI Pigment Red 90: 1, CI Pigment Red 97,

C.I.피그먼트 레드 101, C.I.피그먼트 레드 102, C.I.피그먼트 레드 104, C.I.피그먼트 레드 105, C.I.피그먼트 레드 106, C.I.피그먼트 레드 108, C.I.피그먼트 레드 112, C.I.피그먼트 레드 113, C.I.피그먼트 레드 1l4, C.I.피그먼트 레드 122, C.I.피그먼트 레드 123, C.I. 피그먼트 레드 144, C.I.피그먼트 레드 146, C.I.피그먼트 레드 149, C.I.피그먼트 레드 150, C.I.피그먼트 레드 151, C.I.피그먼트 레드 166, C.I.피그먼트 레드 168, C.I.피그먼트 레드 170, C.I.피그먼트 레드 171, C.I.피그먼트 레드 172, C.I.피그먼트 레드 174, C.I.피그먼트 레드 175, C.I.피그먼트 레드 176, C.I.피그먼트 레드 177, C.I.피그먼트 레드 178, C.I.피그먼트 레드 179, C.I.피그먼트 레드 180, C.I.피그먼트 레드 185, C.I.피그먼트 레드 187, C.I.피그먼트 레드 188, C.I.피그먼트 레드 190, C.I.피그먼트 레드 193, C.I.피그먼트 레드 194, C.I.피그먼트 레드 202, C.I.피그먼트 레드 206, C.I.피그먼트 레드 207, C.I.피그먼트 레드 208, C.I.피그먼트 레드 209, C.I.피그먼트 레드 215, C.I.피그먼트 레드 216, C.I.피그먼트 레드 220, C.I.피그먼트 레드 224, C.I.피그먼트 레드 226, C.I.피그먼트 레드 242, C.I.피그먼트 레드 243, C.I.피그먼트 레드 245, C.I.피그먼트 레드 254, C.I.피그먼트 레드 255, C.I.피그먼트 레 드 264, C.I.피그먼트 레드 265;CI Pigment Red 101, CI Pigment Red 102, CI Pigment Red 104, CI Pigment Red 105, CI Pigment Red 106, CI Pigment Red 108, CI Pigment Red 112, CI Pigment Red 113, CI Pigment Pigment Red 1l4, CI Pigment Red 122, CI Pigment Red 123, CI Pigment Red 144, CI Pigment Red 146, CI Pigment Red 149, CI Pigment Red 150, CI Pigment Red 151, CI Pigment Red 166, CI Pigment Red 168, CI Pigment Red 170, CI Pigment Red 171, CI Pigment Red 172, CI Pigment Red 174, CI Pigment Red 175, CI Pigment Red 176, CI Pigment Red 177, CI Pigment Red 178, CI Pigment Red 179, CI Pigment Red 180 CI Pigment Red 185, CI Pigment Red 187, CI Pigment Red 188, CI Pigment Red 190, CI Pigment Red 193, CI Pigment Red 194, CI Pigment Red 202, CI Pigment Red 206, CI Pigment Red 207, CI Pigment Red 208, CI Pigment Red 209, CI Pigment Red 215, CI Pigment Red 216, CI Pigment Red 220, CI Pigment Red 224, CI Pigment Red 226, CI Pigment Red 242, CI pigment DE 243, C.I. Pigment Red 245, C.I. Pigment Red 254, C.I. Pigment Red 255, C.I. Pigment DE LES 264, C.I. Pigment Red 265;

C.I.피그먼트 블루 15, C.I.피그먼트 블루 15:3, C.I.피그먼트 블루 15:4, C.I.피그먼트 블루 15:6, C.I.피그먼트 블루 60;C.I. Pigment Blue 15, C.I. Pigment Blue 15: 3, C.I. Pigment Blue 15: 4, C.I. Pigment Blue 15: 6, C.I.Pigment Blue 60;

C.I.피그먼트 그린 7, C.I.피그먼트 그린 36;C.I. Pigment Green 7, C.I.Pigment Green 36;

C.I.피그먼트 브라운 23, C.I.피그먼트 브라운 25; C.I. Pigment Brown 23, C.I.Pigment Brown 25;

C.I.피그먼트 블랙 1, C.I.피그먼트 블랙 7.C.I. Pigment Black 1, C.I.Pigment Black 7.

이들 유기 안료는, 예를 들면 황산 재결정법, 용제 세정법 또는 이들의 조합 등에 의해 정제하여 사용할 수 있다.These organic pigments can be used, for example, by refining the sulfuric acid recrystallization method, solvent washing method or a combination thereof.

또한, 무기 안료로서는, 예를 들면 산화티탄, 황산바륨, 탄산칼슘, 아연화, 황산납, 황색납, 아연황, 철단(적색 산화철(III)), 카드뮴적, 군청, 감청, 산화크롬녹, 코발트녹, 엄버, 티탄 블랙, 합성철흑, 카본 블랙 등을 들 수 있다. In addition, examples of the inorganic pigments include titanium oxide, barium sulfate, calcium carbonate, zincated, lead sulfate, yellow lead, zinc sulfur, iron group (red iron oxide (III)), cadmium, ultramarine blue, blue, chromium oxide, and cobalt. Rust, umber, titanium black, synthetic iron black, carbon black, etc. are mentioned.

본 발명에 있어서, 상기 유기 안료 및 무기 안료는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있으며, 유기 안료와 무기 안료를 병용할 수 있다. 화소를 형성할 때에는 바람직하게는 1종 이상의 유기 안료가 사용되며, 블랙 매트릭스를 형성할 때에는 바람직하게는 2종 이상의 유기 안료 및(또는) 카본 블랙이 사용된다.In this invention, the said organic pigment and an inorganic pigment can be used individually or in mixture of 2 or more types, respectively, and can use an organic pigment and an inorganic pigment together. At least one organic pigment is preferably used when forming a pixel, and at least two organic pigments and / or carbon black are preferably used when forming a black matrix.

본 발명에 있어서, 상기 각 안료는 목적에 따라 그 입자 표면을 중합체로 개질하여 사용할 수 있다. 안료의 입자 표면을 개질하는 중합체로서는, 예를 들면 일본 특허 공개 (평)8-259876호 공보 등에 기재된 중합체나, 시판 중인 각종 안료 분산용 중합체 또는 올리고머 등을 들 수 있다.In the present invention, each of the pigments can be used by modifying the particle surface of the polymer according to the purpose. As a polymer which modifies the particle surface of a pigment, the polymer of Unexamined-Japanese-Patent No. 8-259876, etc., the polymer for various pigment dispersions, or oligomer etc. which are commercially available are mentioned, for example.

또한, 본 발명에 있어서, 착색제는 목적에 따라 분산제와 함께 사용할 수 있다. 상기 분산제로서는, 예를 들면 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양쪽성계, 실리콘계, 불소계 등의 계면 활성제를 들 수 있다.In addition, in this invention, a coloring agent can be used with a dispersing agent according to the objective. As said dispersing agent, surfactant, such as a cationic type, an anionic type, a nonionic type, an amphoteric type, a silicone type, a fluorine type, is mentioned, for example.

상기 계면 활성제로서는, 예를 들면, 폴리옥시에틸렌 라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌 스테아릴에테르, 폴리옥시에틸렌 올레일에테르와 같은 폴리옥시에틸렌 알킬에테르; 폴리옥시에틸렌 n-옥틸페닐에테르, 폴리옥시에틸렌 n-노닐페닐에테르와 같은 폴리옥시에틸렌 알킬페닐에테르; 폴리에틸렌글리콜 디라우레이트, 폴리에틸렌글리콜 디스테아레이트와 같은 폴리에틸렌글리콜 디에스테르; 소르비탄 지방산 에스테르; 지방산 변성 폴리에스테르; 3급 아민 변성 폴리우레탄; 폴리에틸렌이민류 등 외에, 이하 상품명으로 KP(신에츠 가가꾸 고교(주) 제조), 폴리플로우(교에샤 가가꾸(주) 제조), 에프톱(토켐 프로덕츠사 제조), 메가팩(다이닛본 잉크 가가꾸 고교(주) 제조), 플로우라이드(스미또모 쓰리엠(주) 제조), 아사히가드, 서플론(이상, 아사히 글래스(주) 제조), Disperbyk(빅케미ㆍ재팬(주) 제조), 솔슈퍼스(세네카(주) 제조) 등을 들 수 있다. As said surfactant, For example, Polyoxyethylene alkyl ether, such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether; Polyoxyethylene alkylphenyl ethers such as polyoxyethylene n-octylphenyl ether and polyoxyethylene n-nonylphenyl ether; Polyethylene glycol diesters such as polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate; Sorbitan fatty acid esters; Fatty acid modified polyesters; Tertiary amine modified polyurethanes; In addition to polyethyleneimines, KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), polyflow (manufactured by Kyoesha Chemical Co., Ltd.), F-Top (manufactured by Tochem Products Co., Ltd.), and MegaPak (Daintbone Ink) Kagaku Kogyo Co., Ltd., Flowride (Sumitomo 3M Co., Ltd.), Asahi Guard, Suflon (above, Asahi Glass Co., Ltd.), Disperbyk (Bikkemi Japan Co., Ltd.), Sol Supers (made by Seneca Co., Ltd.) etc. are mentioned.

이들 계면 활성제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.These surfactant can be used individually or in mixture of 2 or more types.

계면 활성제의 사용량은, 착색제 100 중량부에 대하여 바람직하게는 50 중량부 이하, 보다 바람직하게는 0 내지 30 중량부이다.The amount of the surfactant used is preferably 50 parts by weight or less, more preferably 0 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the colorant.

-(B) 알칼리 가용성 수지--(B) alkali-soluble resin-

본 발명에서의 알칼리 가용성 수지로서는, (A) 착색제에 대하여 결합제로서 작용하고, 컬러 필터를 제조할 때, 그 현상 처리 공정에서 사용되는 현상액, 특히 바람직하게는 알칼리 현상액에 대하여 가용성을 갖는 것이라면 특별히 한정되지 않는다. 그 중에서도 카르복실기를 갖는 알칼리 가용성 수지가 바람직하며, 특히 1개 이상의 카르복실기를 갖는 에틸렌성 불포화 단량체(이하, 「카르복실기 함유 불포화 단량체」라고 함)와 다른 공중합 가능한 에틸렌성 불포화 단량체(이하, 「공중합성 불포화 단량체」라고 함)의 공중합체(이하, 「카르복실기 함유 공중합체」라고 함)가 바람직하다.As alkali-soluble resin in this invention, when it acts as a binder with respect to (A) coloring agent, and produces a color filter, it will specifically limit if it has solubility with respect to the developing solution used by the developing process, especially preferably alkaline developing solution. It doesn't work. Especially, alkali-soluble resin which has a carboxyl group is preferable, and ethylenically unsaturated monomer which can copolymerize another ethylenically unsaturated monomer (henceforth "carboxyl group-containing unsaturated monomer") which has one or more carboxyl groups (henceforth "copolymerizable unsaturated" A copolymer (hereinafter referred to as "carboxyl group-containing copolymer") is preferred.

카르복실기 함유 불포화 단량체로서는, 예를 들면 (메트)아크릴산, 크로톤산, α-클로로아크릴산, 신남산과 같은 불포화 모노카르복실산; As a carboxyl group-containing unsaturated monomer, For example, unsaturated monocarboxylic acid, such as (meth) acrylic acid, crotonic acid, (alpha)-chloroacrylic acid, cinnamic acid;

말레산, 무수 말레산, 푸마르산, 이타콘산, 무수 이타콘산, 시트라콘산, 무수 시트라콘산, 메사콘산과 같은 불포화 디카르복실산 또는 그의 무수물;Unsaturated dicarboxylic acids or anhydrides thereof such as maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, mesaconic acid;

3가 이상의 불포화 다가 카르복실산 또는 그의 무수물;Trivalent or higher unsaturated polyvalent carboxylic acid or anhydrides thereof;

숙신산 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸], 프탈산 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에테르]와 같은 2가 이상의 다가 카르복실산의 모노[(메트)아크릴로일옥시알킬]에스테르;Mono [(meth) acryloyloxyalkyl] of a divalent or higher polyhydric carboxylic acid such as succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] and phthalic acid mono [2- (meth) acryloyloxyether] ester;

ω-카르복시폴리카프로락톤 모노(메트)아크릴레이트와 같은 양쪽 말단에 카르복시기와 수산기를 갖는 중합체의 모노(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. and mono (meth) acrylates of polymers having a carboxyl group and a hydroxyl group at both ends, such as? -carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate.

이들 카르복실기 함유 불포화 단량체 중, 숙신산 모노(2-아크릴로일옥시에틸) 및 프탈산 모노(2-아크릴로일옥시에틸)은 각각 M-5300 및 M-5400(도아 고세이(주) 제조)의 상품명으로 시판되고 있다. Among these carboxyl group-containing unsaturated monomers, succinic acid mono (2-acryloyloxyethyl) and phthalic acid mono (2-acryloyloxyethyl) are trademarks of M-5300 and M-5400 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), respectively. It is commercially available.

상기 카르복실기 함유 불포화 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The said carboxyl group-containing unsaturated monomer can be used individually or in mixture of 2 or more types.

또한, 공중합성 불포화 단량체로서는, 예를 들면As the copolymerizable unsaturated monomer, for example,

스티렌, α-메틸스티렌, o-비닐톨루엔, m-비닐톨루엔, p-비닐톨루엔, p-클로로스티렌, o-메톡시스티렌, m-메톡시스티렌, p-메톡시스티렌, o-비닐벤질메틸에테르, m-비닐벤질메틸에테르, p-비닐벤질메틸에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르와 같은 방향족 비닐 화합물;Styrene, α-methylstyrene, o-vinyltoluene, m-vinyltoluene, p-vinyltoluene, p-chlorostyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxystyrene, o-vinylbenzylmethyl Aromatic vinyl compounds such as ether, m-vinyl benzyl methyl ether, p-vinyl benzyl methyl ether, o-vinyl benzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether, and p-vinyl benzyl glycidyl ether;

인덴, 1-메틸인덴과 같은 인덴;Indene, such as indene, 1-methylindene;

메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-프로필(메트)아크릴레이트, i-프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, i-부틸(메트)아크릴레이트, sec-부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 3-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 3-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 알릴(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 메톡시디에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 메톡시디프로필렌글리콜(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타디에닐(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필(메트)아크릴레이트, 글리세롤 모노(메트)아크릴레이트와 같은 불포화 카르복실산 에스테르;Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, i-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate , 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (Meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (Meth) acrylate, methoxy propylene glycol (meth) acrylate, Toxydipropylene glycol (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentadienyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, glycerol mono (meth Unsaturated carboxylic acid esters such as acrylate;

2-아미노에틸(메트)아크릴레이트, 2-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 2-아미노프로필(메트)아크릴레이트, 2-디메틸아미노프로필(메트)아크릴레이트, 3-아미노프로필(메트)아크릴레이트, 3-디메틸아미노프로필(메트)아크릴레이트와 같은 불포화 카르복실산 아미노알킬에스테르;2-aminoethyl (meth) acrylate, 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-aminopropyl (meth) acrylate, 2-dimethylaminopropyl (meth) acrylate, 3-aminopropyl (meth) acrylic Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl esters such as latex and 3-dimethylaminopropyl (meth) acrylate;

글리시딜(메트)아크릴레이트와 같은 불포화 카르복실산 글리시딜 에스테르;Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl (meth) acrylate;

(메트)아크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴, 시안화 비닐리덴과 같은 시안화 비닐 화합물;Vinyl cyanide compounds such as (meth) acrylonitrile, α-chloroacrylonitrile and vinylidene cyanide;

(메트)아크릴아미드, α-클로로아크릴아미드, N-2-히드록시에틸(메트)아크릴아미드와 같은 불포화 아미드;Unsaturated amides such as (meth) acrylamide, α-chloroacrylamide, N-2-hydroxyethyl (meth) acrylamide;

말레이미드, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드와 같은 불포화 이미드;Unsaturated imides such as maleimide, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide;

아세트산 비닐, 프로피온산 비닐, 부티르산 비닐, 벤조산 비닐과 같은 카르복실산 비닐에스테르;Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate and vinyl benzoate;

비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, 알릴글리시딜에테르와 같은 불포화 에테르;Unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether and allyl glycidyl ether;

1,3-부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌과 같은 지방족 공액 디엔;Aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene;

폴리스티렌, 폴리메틸(메트)아크릴레이트, 폴리-n-부틸(메트)아크릴레이트, 폴리실록산과 같은 중합체 분자쇄 말단에 모노(메트)아크릴로일기를 갖는 거대단량체 등을 들 수 있다. Macromonomers having a mono (meth) acryloyl group at the ends of polymer molecular chains such as polystyrene, polymethyl (meth) acrylate, poly-n-butyl (meth) acrylate, and polysiloxane.

이들 공중합성 불포화 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. These copolymerizable unsaturated monomers can be used individually or in mixture of 2 or more types.

본 발명에서의 카르복실기 함유 공중합체로서는 (메트)아크릴산을 필수 성분으로 하고, 경우에 따라 숙신산 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸] 및 ω-카르복시폴리카프로락톤 모노(메트)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 더 함유하는 카르복실기 함유 불포화 단량체 성분과, 스티렌, 메틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 알릴(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 글리세롤 모노(메트)아크릴레이트, N-페닐말레이미드, 폴리스티렌 거대단량체 및 폴리메틸메타크릴레이트 거대단량체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상과의 공중합체(이하, 「카르복실기 함유 공중합체 (B1)」이라고 함)가 바람직하다. As the carboxyl group-containing copolymer in the present invention, (meth) acrylic acid is an essential component, and optionally succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] and ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate. A carboxyl group-containing unsaturated monomer component which further contains at least 1 sort (s) of compound chosen from the group which consists of styrene, methyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, and benzyl (meth) ) A copolymer with one or more selected from the group consisting of acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, N-phenylmaleimide, polystyrene macromonomer, and polymethylmethacrylate macromonomer (hereinafter, "carboxyl group-containing copolymer (B1) ").

카르복실기 함유 공중합체 (B1)의 구체예로서는,As a specific example of a carboxyl group-containing copolymer (B1),

(메트)아크릴산/메틸(메트)아크릴레이트 공중합체, (Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate copolymer,

(메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트 공중합체, (Meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate copolymers,

(메트)아크릴산/2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트 공중합체,(Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate copolymer,

(메트)아크릴산/메틸(메트)아크릴레이트/폴리스티렌 거대단량체 공중합체, (Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메트)아크릴산/메틸(메트)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 거대단량체 공중합체,(Meth) acrylic acid / methyl (meth) acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer,

(메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트/폴리스티렌 거대단량체 공중합체,(Meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 거대단량체 공중합체, (Meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer,

(메트)아크릴산/2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트/폴리스티렌 거대단량체 공중합체,(Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer copolymer,

(메트)아크릴산/2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트/폴리메틸메타크릴레이트 거대단량체 공중합체,(Meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / polymethylmethacrylate macromonomer copolymer,

메타크릴산/스티렌/벤질(메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체,Methacrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer,

(메트)아크릴산/숙신산 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]/스티렌/벤질(메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체,(Meth) acrylic acid / succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer,

(메트)아크릴산/숙신산 모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]/스티렌/알릴(메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체,(Meth) acrylic acid / succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] / styrene / allyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer,

(메트)아크릴산/스티렌/벤질(메트)아크릴레이트/글리세롤 모노(메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체,(Meth) acrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer,

(메트)아크릴산/ω-카르복시폴리카프로락톤 모노(메트)아크릴레이트/스티렌/벤질(메트)아크릴레이트/글리세롤 모노(메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체 등을 들 수 있다. (Meth) acrylic acid / ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate / styrene / benzyl (meth) acrylate / glycerol mono (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer and the like.

카르복실기 함유 공중합체에서의 카르복실기 함유 불포화 단량체의 공중합 비율은 바람직하게는 5 내지 50 중량％, 보다 바람직하게는 10 내지 40 중량％이다. 이 공중합 비율이 5 중량％ 미만에서는 얻어지는 감방사선성 조성물의 알칼리 현상액에 대한 용해성이 저하하는 경향이 있고, 한편 50 중량％를 초과하면 알칼리 현상액에 대한 용해성이 과대해져, 알칼리 현상액에 의해 현상할 때 착색층의 기판 으로부터의 탈락이나 착색층 표면의 막 거침을 초래하기 쉬워지는 경향이 있다. The copolymerization ratio of the carboxyl group-containing unsaturated monomer in the carboxyl group-containing copolymer is preferably 5 to 50% by weight, more preferably 10 to 40% by weight. When this copolymerization ratio is less than 5 weight%, the solubility with respect to the alkaline developing solution of the radiation sensitive composition obtained tends to fall, and when it exceeds 50 weight%, the solubility with respect to an alkaline developing solution will become excessive, and it develops by alkaline developing solution. There exists a tendency which becomes easy to cause the fall of the colored layer from the board | substrate, and the film roughness of the colored layer surface.

본 발명에서의 알칼리 가용성 수지의 겔 투과 크로마토그래피(GPC, 용출 용매: 테트라히드로푸란)로 측정한 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량(이하, 「Mw」라고 함)은 바람직하게는 3,000 내지 300,000, 보다 바람직하게는 5,000 내지 100,000이다.The polystyrene reduced weight average molecular weight (hereinafter referred to as "Mw") measured by gel permeation chromatography (GPC, elution solvent: tetrahydrofuran) of the alkali-soluble resin in the present invention is preferably 3,000 to 300,000, more preferably Is 5,000 to 100,000.

또한, 본 발명에서의 알칼리 가용성 수지의 겔 투과 크로마토그래피(GPC, 용출 용매: 테트라히드로푸란)로 측정한 폴리스티렌 환산 수 평균 분자량(이하, 「Mn」이라고 함)은 바람직하게는 3,000 내지 60,000, 보다 바람직하게는 5,000 내지 25,000이다.The polystyrene reduced number average molecular weight (hereinafter referred to as "Mn") measured by gel permeation chromatography (GPC, elution solvent: tetrahydrofuran) of the alkali-soluble resin in the present invention is preferably 3,000 to 60,000, and more. Preferably 5,000 to 25,000.

본 발명에 있어서는, 이러한 특정한 Mw 및 Mn을 갖는 알칼리 가용성 수지를 사용함으로써 현상성이 우수한 감방사선성 조성물을 얻을 수 있고, 그에 따라 날카로운 패턴 단부를 갖는 화소 및 블랙 매트릭스를 형성할 수 있음과 동시에, 현상시에 미노광부의 기판 상 및 차광층 상에 잔사, 바탕 오염, 막 잔여 등이 발생하지 않게 된다.In the present invention, by using an alkali-soluble resin having such specific Mw and Mn, a radiation-sensitive composition excellent in developability can be obtained, whereby a pixel and a black matrix having sharp pattern ends can be formed, At the time of development, no residue, ground contamination, film residue, etc., occur on the substrate and the light shielding layer of the unexposed part.

또한, 본 발명에서의 알칼리 가용성 수지의 Mw와 Mn의 비(Mw/Mn)는 바람직하게는 1 내지 5, 더욱 바람직하게는 1 내지 4이다.Moreover, ratio (Mw / Mn) of Mw and Mn of alkali-soluble resin in this invention becomes like this. Preferably it is 1-5, More preferably, it is 1-4.

본 발명에 있어서, 알칼리 가용성 수지는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.In this invention, alkali-soluble resin can be used individually or in mixture of 2 or more types.

본 발명에서의 알칼리 가용성 수지의 사용량은, (A) 착색제 100 중량부에 대하여, 바람직하게는 10 내지 1,000 중량부, 보다 바람직하게는 20 내지 500 중량부 이다. 이 경우, 알칼리 가용성 수지의 사용량이 10 중량부 미만에서는, 예를 들면 알칼리 현상성이 저하하거나, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에 바탕 오염이나 막 잔여가 발생할 우려가 있고, 한편 1,000 중량부를 초과하면 상대적으로 착색제 농도가 저하되기 때문에, 박막으로서 목적하는 색 농도를 달성하는 것이 곤란해질 우려가 있다.The use amount of alkali-soluble resin in this invention is 10-1,000 weight part with respect to 100 weight part of (A) coloring agents, Preferably it is 20-500 weight part. In this case, when the usage-amount of alkali-soluble resin is less than 10 weight part, alkali developability may fall, for example, there exists a possibility that ground contamination and film | membrane residue may arise on the board | substrate or light-shielding layer of an unexposed part, and 1,000 weight part When exceeding, since a coloring agent density falls relatively, there exists a possibility that it may become difficult to achieve a target color density as a thin film.

-(C) 다관능성 단량체--(C) polyfunctional monomer-

본 발명에서의 다관능성 단량체는 2개 이상의 중합성 불포화 결합을 갖는 단량체를 포함한다.Multifunctional monomers in the present invention include monomers having two or more polymerizable unsaturated bonds.

다관능성 단량체로서는, 예를 들면As a polyfunctional monomer, for example

에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜과 같은 알킬렌글리콜의 디(메트)아크릴레이트;Di (meth) acrylates of alkylene glycols such as ethylene glycol and propylene glycol;

폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜과 같은 폴리알킬렌글리콜의 디(메트)아크릴레이트;Di (meth) acrylates of polyalkylene glycols such as polyethylene glycol and polypropylene glycol;

글리세린, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨과 같은 3가 이상의 다가 알코올의 폴리(메트)아크릴레이트 및 이들의 디카르복실산 변성물;Poly (meth) acrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols such as glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, and dicarboxylic acid modifications thereof;

폴리에스테르, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 실리콘 수지, 스피란 수지와 같은 올리고(메트)아크릴레이트; Oligo (meth) acrylates such as polyesters, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, silicone resins, and spiran resins;

양쪽 말단 히드록시 폴리-1,3-부타디엔, 양쪽 말단 히드록시 폴리이소프렌, 양쪽 말단 히드록시 폴리카프로락톤과 같은 양쪽 말단 히드록실화 중합체의 디(메트)아크릴레이트, 및 트리스[2-(메트)아크릴로일옥시에틸]포스페이트 등을 들 수 있다. Di (meth) acrylates of both terminal hydroxylated polymers such as both terminal hydroxy poly-1,3-butadiene, both terminal hydroxy polyisoprene, both terminal hydroxy polycaprolactone, and tris [2- (meth) Acryloyloxyethyl] phosphate etc. are mentioned.

이들 다관능성 단량체 중 3가 이상의 다가 알코올의 폴리(메트)아크릴레이트 및 이들의 디카르복실산 변성물, 구체적으로는 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사메타크릴레이트, 화학식

(3)으로 표시되는 화합물, 화학식

(4)로 표시되는 화합물 등이 바람직하며, 특히 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트 및 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트가, 착색층의 강도가 높고, 착색층의 표면 평활성이 우수하며, 미노광부의 기판 상 및 차광층 상에 바탕 오염, 막 잔여 등이 발생하지 않는다는 점에서 바람직하다.Of these polyfunctional monomers, poly (meth) acrylates of trivalent or higher polyhydric alcohols and their dicarboxylic acid modifications, specifically trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacryl Late, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, Dipentaerythritol hexamethacrylate, chemical formula

Compound represented by (3), chemical formula

Compounds represented by (4) are preferable, and trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate are particularly high in the strength of the colored layer and excellent in the surface smoothness of the colored layer. In addition, it is preferable at the point that no background contamination, film residue, etc. generate | occur | produce on the board | substrate and the light shielding layer of an unexposed part.

상기 다관능성 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. The said polyfunctional monomer can be used individually or in mixture of 2 or more types.

본 발명에서의 다관능성 단량체의 사용량은, (B) 알칼리 가용성 수지 100 중량부에 대하여, 바람직하게는 5 내지 500 중량부, 보다 바람직하게는 20 내지 300 중량부이다. 다관능성 단량체의 사용량이 5 중량부 미만이면, 착색층의 강도나 표면 평활성이 저하되는 경향이 있고, 한편 500 중량부를 초과하면, 예를 들어 알칼리 현상성이 저하되거나, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에 바탕 오염, 막 잔여 등이 발생하기 쉬워지는 경향이 있다.The usage-amount of the polyfunctional monomer in this invention becomes like this. Preferably it is 5-500 weight part, More preferably, it is 20-300 weight part with respect to 100 weight part of (B) alkali-soluble resin. If the amount of the polyfunctional monomer is less than 5 parts by weight, the strength and surface smoothness of the colored layer tends to be lowered. On the other hand, if it exceeds 500 parts by weight, for example, alkali developability is lowered, or the substrate or light-shielding of the unexposed part is performed. Background contamination, film residues, etc. tend to occur on the layer.

또한, 본 발명에 있어서는, 다관능성 단량체와 함께 중합성 불포화 결합을 1개 갖는 단관능성 단량체를 함께 사용할 수도 있다.Moreover, in this invention, the monofunctional monomer which has one polymerizable unsaturated bond with a polyfunctional monomer can also be used together.

상기 단관능성 단량체로서는, 예를 들면 (B) 알칼리 가용성 수지에 대하여 예시한 상기 카르복실기 함유 불포화 단량체나 공중합성 불포화 단량체와 동일한 화합물이나, N-(메트)아크릴로일 모르폴린, N-비닐피롤리돈, N-비닐-ε-카프로락탐 외에, 시판품으로서 M-5600(상품명, 도아 고세이(주) 제조) 등을 들 수 있다.As said monofunctional monomer, the compound similar to the said carboxyl group-containing unsaturated monomer and copolymerizable unsaturated monomer which were illustrated, for example with respect to (B) alkali-soluble resin, N- (meth) acryloyl morpholine, N-vinylpyrroli In addition to To, N-vinyl-ε-caprolactam, M-5600 (brand name, Toagosei Co., Ltd.) etc. are mentioned as a commercial item.

이들 단관능성 단량체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 단관능성 단량체의 사용 비율은, 다관능성 단량체와 단관능성 단량체의 합계에 대하여, 바람직하게는 90 중량％ 이하, 보다 바람직하게는 50 중량％ 이하이다. 이 경우, 단관능성 단량체의 사용 비율이 90 중량％를 초과하면, 얻어지는 착색층의 강도나 표면 평활성이 불충분해질 우려가 있다.These monofunctional monomers can be used individually or in mixture of 2 or more types. The use ratio of a monofunctional monomer becomes like this. Preferably it is 90 weight% or less, More preferably, it is 50 weight% or less with respect to the sum total of a polyfunctional monomer and a monofunctional monomer. In this case, when the use ratio of a monofunctional monomer exceeds 90 weight%, there exists a possibility that the intensity | strength and surface smoothness of the colored layer obtained may become inadequate.

본 발명에서의 다관능성 단량체의 사용량 또는 그의 단관능성 단량체와의 조합에서의 합계 사용량은, (B) 알칼리 가용성 수지 100 중량부에 대하여, 바람직하게는 5 내지 500 중량부, 보다 바람직하게는 20 내지 300 중량부이다. 상기 합계 사용량이 5 중량부 미만이면, 착색층의 강도나 표면 평활성이 저하되는 경향이 있고, 한편 500 중량부를 초과하면, 예를 들어 알칼리 현상성이 저하되거나, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에 바탕 오염, 막 잔여 등이 발생하기 쉬워지는 경향이 있다.The total amount of the polyfunctional monomer used in the present invention or the total amount thereof in combination with the monofunctional monomer is preferably 5 to 500 parts by weight, more preferably 20 to 20 parts by weight of (B) 100 parts by weight of the alkali-soluble resin. 300 parts by weight. When the total amount of use is less than 5 parts by weight, the strength and surface smoothness of the colored layer tends to be lowered. On the other hand, when the total amount exceeds 500 parts by weight, for example, alkali developability is lowered, or on the substrate or light shielding layer of the unexposed part. There is a tendency for background contamination, film residue, etc. to occur easily.

-(D) 광 라디칼 발생제--(D) photo radical generator-

본 발명에서의 광 라디칼 발생제는 0-아실옥심형 광 중합 개시제를 포함하고, 특히 상기 화학식 1 또는 2로 표시되는 화합물(이하, 「광 라디칼 발생제 [D1]」이라고 함)을 필수 성분으로 하며, 가시광선, 자외선, 원자외선, 하전 입자선, X선 등의 방사선에 의한 노광에 의해, (C) 다관능성 단량체 및 경우에 따라 사용되는 단관능성 단량체의 중합을 개시할 수 있는 라디칼을 발생시키는 성분을 포함한다.The optical radical generator in the present invention contains a 0-acyl oxime type photopolymerization initiator, and in particular, the compound represented by the formula (1) or (2) (hereinafter referred to as "photo radical generator [D1]") as an essential component. And (C) generating radicals capable of initiating polymerization of the (C) polyfunctional monomer and, optionally, the monofunctional monomer, by exposure to radiation such as visible light, ultraviolet ray, far ultraviolet ray, charged particle beam, or X-ray. Contains ingredients to make.

상기 화학식 1 또는 2로 표시되는「광 라디칼 발생제 (D1)」에 있어서, R₁은 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 8의 시클로알킬기 또는 페닐기이다. R₂, R₃은 각각 수소 원자, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 8의 시클로알킬기, 페닐기(단, 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 탄소수 1 내지 6의 알콕시기, 페닐기 또는 할로겐 원자 1개 이상으로 치환될 수도 있음) 또는 탄소수 7 내지 20의 알리시클릭기(상기 시클로알킬기를 제외함)이다. R₄는 탄소수 4 내지 20의 산소 함유 복소환기, 탄소수 4 내지 20의 질소 함유 복소환기 또는 탄소수 4 내지 20의 황 함유 복소환기이다. R₅는 수소 원자, 탄소수 1 내지 12의 알킬기 또는 탄소수 1 내지 12의 알콕실기이다. n은 1 내지 5의 정수이고, m은 0 내지 5의 정수이며, n+m≤5이고, l은 0 내지 6의 정수이다.In "photo radical generator (D1)" represented by the said Formula (1) or (2), R <_1> is a C1-C20 alkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, or a phenyl group. R ₂ and R ₃ each represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, a phenyl group (however, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group or a halogen atom) Or an alicyclic group having 7 to 20 carbon atoms (excluding the cycloalkyl group). R ₄ is an oxygen containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, a nitrogen containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, or a sulfur containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms. R ₅ is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxyl group having 1 to 12 carbon atoms. n is an integer of 1-5, m is an integer of 0-5, n + m <= 5, and l is an integer of 0-6.

화학식 1 또는 2에서의 R₁의 탄소수 1 내지 20의 알킬기는 직쇄상 또는 분지상의 알킬기일 수 있으며, 그 구체예로서는 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기, n-운데실기, n-도데실기를 들 수 있다. 탄소수 3 내지 8의 시클로알킬기로서는, 예를 들면 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다. The alkyl group having 1 to 20 carbon atoms of R ₁ in the general formula (1) or (2) may be a linear or branched alkyl group, and specific examples thereof include methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl Group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodec Practical skills can be mentioned. As a C3-C8 cycloalkyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, etc. are mentioned, for example.

또한, R₂, R₃의 탄소수 1 내지 20의 알킬기는 직쇄상 또는 분지상일 수 있으며, 그 구체예로서는 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기, n-운데실기, n-도데실기를 들 수 있다. 탄소수 3 내지 8의 시클로알킬기로서는, 예를 들면 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다.In addition, the alkyl group of 1 to 20 carbon atoms of R ₂ , R ₃ may be linear or branched, and specific examples thereof include methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, sec- Butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group have. As a C3-C8 cycloalkyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, etc. are mentioned, for example.

R₂, R₃의 페닐기에 대한 치환기인 탄소수 1 내지 6의 알킬기는 직쇄상, 분지상, 환상의 알킬기일 수 있으며, 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다.The alkyl group having 1 to 6 carbon atoms as a substituent to the phenyl group of R ₂ and R ₃ may be a linear, branched or cyclic alkyl group, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n- A butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc. are mentioned.

또한, 탄소수 1 내지 6의 알콕시기는 직쇄상, 분지상, 환상의 알콕시기일 수 있으며, 예를 들면 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, i-프로폭시기, n-부톡시기, t-부톡시기 등을 들 수 있다. 할로겐 원자로서는, 예를 들면 불소 원자, 염소 원자 등을 들 수 있다.In addition, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms may be a linear, branched or cyclic alkoxy group, for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, i-propoxy group, n-butoxy group, t- Butoxy group etc. are mentioned. As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, etc. are mentioned, for example.

탄소수 7 내지 20의 알리시클릭기(상기 시클로알킬기를 제외함)로서는, 예를 들면 비시클로알킬기, 트리시클로알킬기, 스피로알킬기, ter-시클로알킬기, 테르펜 골격 함유기, 아다만틸 골격 함유기 등을 들 수 있다. Examples of the alicyclic group having 7 to 20 carbon atoms (excluding the cycloalkyl group) include a bicycloalkyl group, a tricycloalkyl group, a spiroalkyl group, a ter-cycloalkyl group, a terpene skeleton-containing group, an adamantyl skeleton-containing group, and the like. Can be mentioned.

R₄의 탄소수 4 내지 20의 질소 함유 복소환기, 탄소수 4 내지 20의 산소 함유 복소환기, 탄소수 4 내지 20의 황 함유 복소환기로서는, 예를 들면 티오라닐기, 아제피닐기, 디히드로아제피닐기, 디옥솔라닐기, 트리아지닐기, 옥사티아닐기, 티아졸릴기, 옥사디아지닐기, 디옥사인다니일기, 디티아나프탈레닐기, 푸라닐기, 티오페닐기, 피롤릴기, 옥사졸릴기, 이소옥사졸릴기, 티아졸릴기, 이소티아졸릴기, 피라졸릴기, 푸라자닐기, 피라닐기, 피리디닐기, 피리다지닐기, 피리미딜기, 피라지닐기, 피롤리닐기, 모르포닐기, 피페라지닐기, 퀴누클리디닐기, 인돌릴기, 이소인돌릴기, 벤조푸라닐기, 벤조티오페닐기, 인돌리디닐기, 크로메닐기, 퀴놀리닐기, 이소퀴놀리닐기, 프리닐기, 퀴나졸리닐기, 신놀리닐기, 프탈라지닐기, 프테릴디닐기, 카르바졸릴기, 아크리디닐기, 페난트리지닐기, 티옥산테닐기, 페나디닐기, 페노티아지닐기, 페녹사티이닐기, 페녹사디이닐기, 티안트레닐기, 테트라히드로푸라닐기, 테트라히드로피라닐기 등을 들 수 있다. 이들 중에서, 특히 테트라히드로푸라닐기, 테트라히드로피라닐기 등이 바람직하다. Examples of the nitrogen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms for R ₄ , the oxygen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, and the sulfur-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms include, for example, a thioranyl group, an azepinyl group, a dihydroazinyl group, Dioxolanyl group, triazinyl group, oxatinyl group, thiazolyl group, oxadiazinyl group, dioxaindaniyl group, dithianaphthalenyl group, furanyl group, thiophenyl group, pyrrolyl group, oxazolyl group, isoxazolyl Group, thiazolyl group, isothiazolyl group, pyrazolyl group, furazanyl group, pyranyl group, pyridinyl group, pyridazinyl group, pyrimidyl group, pyrazinyl group, pyrrolinyl group, morphonyl group, piperazinyl Group, quinuclininyl group, indolyl group, isoindolyl group, benzofuranyl group, benzothiophenyl group, indolidinyl group, chromenyl group, quinolinyl group, isoquinolinyl group, prinyl group, quinazolinyl group, cinnaolinyl group , Phthalazinyl group, pteryldinyl group, carbazolyl group, acry A dinyl group, a phenanthriginyl group, a thioxanthenyl group, a phenadidinyl group, a phenothiazinyl group, a phenoxatinyyl group, a phenoxadiinyl group, a thianthrenyl group, a tetrahydrofuranyl group, tetrahydropyranyl group, etc. are mentioned. . Among these, tetrahydrofuranyl group, tetrahydropyranyl group, etc. are especially preferable.

R₅의 탄소수 1 내지 12의 알킬기는 직쇄상, 분지상 또는 환상의 알킬기일 수 있으며, 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, n -헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기, n-운데실기, n-도데실기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기 등을 들 수 있다.The alkyl group having 1 to 12 carbon atoms of R ₅ may be a linear, branched or cyclic alkyl group, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, cyclopentyl group, cyclo Hexyl group etc. are mentioned.

또한, 탄소수 1 내지 12의 알콕시기는 직쇄상, 분지상 또는 환상의 알콕시기일 수 있으며, 예를 들면 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, i-프로폭시기, n-부톡시기, t-부톡시기, n-펜틸옥시기 등을 들 수 있다.In addition, the alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms may be a linear, branched or cyclic alkoxy group, for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, i-propoxy group, n-butoxy group, t- Butoxy group, n-pentyloxy group, etc. are mentioned.

이들 중에서 특히, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, i-프로필기, n-부틸기, 메톡시기, 에톡시기가 바람직하다.Among these, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, methoxy group and ethoxy group are preferable.

n은 1 내지 5의 정수이며, 1인 것이 바람직하다. m은 0 내지 5의 정수이며, 0, 1, 2 중 어느 하나인 것이 바람직하고, 1인 것이 특히 바람직하다. 또한, l은 0 내지 6의 정수이며, 0, 1, 2 중 어느 하나인 것이 바람직하고, 1인 것이 특히 바람직하다. n is an integer of 1-5, and it is preferable that it is 1. m is an integer of 0-5, It is preferable that it is any of 0, 1, 2, and it is especially preferable that it is 1. In addition, l is an integer of 0-6, It is preferable that it is any of 0, 1, 2, and it is especially preferable that it is 1.

이러한 화합물 (D1)의 구체예로서는,As a specific example of such a compound (D1),

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-2-테트라히드로푸라닐옥시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심), Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-2-tetrahydrofuranyloxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime),

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-2-테트라히드로피라닐옥시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심), Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-2-tetrahydropyranyloxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime),

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-2-테트라히드로푸라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심), Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-2-tetrahydrofuranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime),

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-2-테트라히드로피라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르 바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심),Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-2-tetrahydropyranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime),

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-3-테트라히드로푸라닐옥시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심),Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-3-tetrahydrofuranyloxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime),

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-3-테트라히드로피라닐옥시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심),Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-3-tetrahydropyranyloxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime),

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-3-테트라히드로푸라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심),Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-3-tetrahydrofuranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime),

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-3-테트라히드로피라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심),Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-3-tetrahydropyranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime),

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라히드로푸라닐옥시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심), Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydrofuranyloxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime),

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라히드로피라닐옥시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심), Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydropyranyloxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime),

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라히드로푸라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심), Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydrofuranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime),

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라히드로피라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심), Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydropyranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime),

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-5-테트라히드로푸라닐옥시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심),Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydrofuranyloxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime),

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-5-테트라히드로피라닐옥시벤조일)-9.H.-카르바 졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심), Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydropyranyloxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime) ,

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-5-테트라히드로푸라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심),Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydrofuranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime),

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-5-테트라히드로피라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심),Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydropyranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime),

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-2-테트라히드로푸라닐옥시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-벤조일아세틸옥심), Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-2-tetrahydrofuranyloxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-benzoylacetyloxime) ,

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-2-테트라히드로피라닐옥시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-벤조일아세틸옥심),Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-2-tetrahydropyranyloxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-benzoylacetyloxime) ,

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-2-테트라히드로푸라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-벤조일아세틸옥심), Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-2-tetrahydrofuranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-benzoylacetyloxime) ,

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-2-테트라히드로피라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-벤조일아세틸옥심),Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-2-tetrahydropyranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-benzoylacetyloxime) ,

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-3-테트라히드로푸라닐옥시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-벤조일아세틸옥심),Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-3-tetrahydrofuranyloxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-benzoylacetyloxime) ,

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-3-테트라히드로피라닐옥시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-벤조일아세틸옥심), Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-3-tetrahydropyranyloxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-benzoylacetyloxime) ,

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-3-테트라히드로푸라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-벤조일아세틸옥심), Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-3-tetrahydrofuranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-benzoylacetyloxime) ,

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-3-테트라히드로피라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르 바졸-3-일]-, 1-(O-벤조일아세틸옥심), Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-3-tetrahydropyranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-benzoylacetyloxime) ,

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라히드로푸라닐옥시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-벤조일아세틸옥심),Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydrofuranyloxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-benzoylacetyloxime) ,

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라히드로피라닐옥시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-벤조일아세틸옥심), Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydropyranyloxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-benzoylacetyloxime) ,

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라히드로푸라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-벤조일아세틸옥심),Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydrofuranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-benzoylacetyloxime) ,

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라히드로피라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-벤조일아세틸옥심),Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydropyranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-benzoylacetyloxime) ,

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-5-테트라히드로푸라닐옥시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-벤조일아세틸옥심),Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydrofuranyloxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-benzoylacetyloxime) ,

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-5-테트라히드로피라닐옥시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-벤조일아세틸옥심), Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydropyranyloxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-benzoylacetyloxime) ,

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-5-테트라히드로푸라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-벤조일아세틸옥심), Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydrofuranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-benzoylacetyloxime) ,

에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-5-테트라히드로피라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-벤조일아세틸옥심), Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydropyranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-benzoylacetyloxime) ,

에타논, 1-[9-에틸-6-[2-메틸-4-(2,2-디메틸-1,3-디옥솔라닐)메톡시벤조일]-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(0-아세틸옥심) 등을 들 수 있다.Ethanone, 1- [9-ethyl-6- [2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl) methoxybenzoyl] -9.H.-carbazol-3-yl ], 1- (0-acetyl oxime), etc. are mentioned.

이들 중에서 특히, 에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라히드로푸라닐메톡 시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심); 에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라히드로피라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심); 에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-5-테트라히드로푸라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심); 에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-5-테트라히드로피라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심); 및 에타논, 1-[9-에틸-6-[2-메틸-4-(2,2-디메틸-1,3-디옥솔라닐)메톡시벤조일]-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심)이 바람직하다.Among these, ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydrofuranylmethoxy cybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O Acetyl oxime); Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydropyranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime); Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydrofuranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime); Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydropyranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime); And ethanone, 1- [9-ethyl-6- [2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl) methoxybenzoyl] -9.H.-carbazole-3- General]-, 1- (O-acetyloxime) is preferred.

이들 광 라디칼 발생제 (D1)은 2종 이상을 함께 사용할 수도 있다. These photo radical generating agents (D1) can also use 2 or more types together.

광 라디칼 발생제 (D)로서, 상기 화학식 1 또는 2 이외의 O-아실옥심형 광 라디칼 발생제(이하, 「광 라디칼 발생제 (D2)」라고 함)를 병용할 수 있다.As an optical radical generating agent (D), O-acyl oxime type optical radical generating agents (henceforth "photo radical generating agent (D2)") other than the said General formula (1) or 2 can be used together.

이들 광 라디칼 발생제 (D2)의 구체예로서는, 1,2-옥타디온-1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-벤조일옥심); 1,2-부탄디온-1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-벤조일옥심); 1,2-부탄디온-1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-아세틸옥심); 1,2-옥타디온-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-(O-벤조일옥심); 및 1,2-옥타디온-1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-(4-메틸벤조일옥심)) 등을 들 수 있다. 이들 중에서, 특히 1,2-옥타디온-1-[4-(페닐티오)페닐]-2-(O-벤조일옥심)이 바람직하다.As a specific example of these optical radical generating agents (D2), 1,2-octadione-1- [4- (phenylthio) phenyl] -2- (O-benzoyl oxime); 1,2-butanedione-1- [4- (phenylthio) phenyl] -2- (O-benzoyloxime); 1,2-butanedione-1- [4- (phenylthio) phenyl] -2- (O-acetyloxime); 1,2-octadione-1- [4- (methylthio) phenyl] -2- (O-benzoyloxime); And 1,2-octadione-1- [4- (phenylthio) phenyl] -2- (O- (4-methylbenzoyloxime)) and the like. Among them, 1,2-octadione-1- [4- (phenylthio) phenyl] -2- (O-benzoyloxime) is particularly preferable.

또한, 본 발명에 있어서는, O-아실옥심형 광 라디칼 발생제와 함께, 다른 광 라디칼 발생제를 병용할 수도 있다.In addition, in this invention, another optical radical generator can also be used together with an O-acyl oxime-type radical generator.

상기 다른 광 라디칼 발생제로서는, 예를 들면 하기 화학식 5a, 5b 또는 5c로 표시되는 주요 골격을 1종 이상 갖는 비이미다졸계 화합물, 벤조인계 화합물, 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, α-디케톤계 화합물, 다핵 퀴논계 화합물, 크산톤계 화합물, 포스핀계 화합물, 트리아진계 화합물 등을 들 수 있다.As said other photo radical generating agent, the biimidazole type compound, benzoin type compound, acetophenone type compound, benzophenone type compound, (alpha)-which has 1 or more types of main skeleton represented by following General formula (5a), 5b or 5c, for example, Diketone compounds, polynuclear quinone compounds, xanthone compounds, phosphine compounds, triazine compounds and the like.

상기 비이미다졸계 화합물로서는, 예를 들면As said biimidazole type compound, it is, for example

2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸,2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole,

2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라키스(4-에톡시카르보닐페닐)-1,2'-비이미다졸,2,2'-bis (2-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2'-biimidazole,

2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸,2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole,

2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole,

2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole,

2,2'-비스(2-브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸,2,2'-bis (2-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole,

2,2'-비스(2,4-디브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸,2,2'-bis (2,4-dibromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole,

2,2'-비스(2,4,6-트리브로모페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 등을 들 수 있다. 2,2'-bis (2,4,6-tribromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole etc. are mentioned.

이들 비이미다졸계 화합물 중 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸, 2,2'-비스(2,4-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 및 2,2'-비스(2,4,6-트리클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸이 바람직하고, 특히 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸이 바람직하다.Among these biimidazole compounds, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (2 , 4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole and 2,2'-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole is preferred, in particular 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenyl-1 , 2'-biimidazole is preferred.

상기 비이미다졸계 화합물은 용제에 대한 용해성이 우수하고, 미용해물, 석출물 등의 이물질이 생기지 않으며, 감도가 높고, 적은 에너지량의 노광에 의해 경화 반응을 충분히 진행시킴과 동시에, 콘트라스트가 높고, 미노광부에서 경화 반응이 발생하지 않기 때문에, 노광 후의 도막은 현상액에 대하여 불용성의 경화 부분과, 현상액에 대하여 높은 용해성을 갖는 미경화 부분으로 명확하게 구분되며, 이에 따라 언더컷이 없는 화소 패턴 및 블랙 매트릭스 패턴이 소정의 배열에 따라 배치된 고정밀한 패턴 어레이를 형성할 수 있다.The biimidazole-based compound is excellent in solubility in a solvent, does not generate foreign matters such as undissolved products, precipitates, etc., has high sensitivity, sufficiently proceeds the curing reaction by exposure of a small amount of energy, and has a high contrast. Since no curing reaction occurs in the unexposed part, the coated film after exposure is clearly divided into an insoluble hardened part for the developer and an uncured part having high solubility for the developer, thereby eliminating the undercut pixel pattern and the black matrix. It is possible to form a highly precise pattern array in which patterns are arranged in accordance with a predetermined arrangement.

-수소 공여체-Hydrogen donor

또한, 본 발명에 있어서, 광 라디칼 발생제로서 비이미다졸계 화합물을 병용하는 경우, 하기의 수소 공여체를 병용하는 것이 감도를 더 개량할 수 있다는 점에 서 바람직하다. In addition, in this invention, when using a biimidazole type compound together as an optical radical generating agent, using the following hydrogen donor together is preferable at the point which can improve a sensitivity further.

여기서 말하는 「수소 공여체」란, 노광에 의해 비이미다졸계 화합물로부터 발생한 라디칼에 대하여 수소 원자를 공여할 수 있는 화합물을 의미한다. The "hydrogen donor" here means a compound which can donate a hydrogen atom with respect to the radical which generate | occur | produced from the biimidazole type compound by exposure.

이러한 수소 공여체로서는, 하기에 정의하는 머캅탄계 화합물, 하기에 정의하는 아민계 화합물 등이 바람직하다. As such a hydrogen donor, the mercaptan type compound defined below, the amine compound defined below, etc. are preferable.

상기 머캅탄계 화합물은 벤젠환 또는 복소환을 모핵으로 하고, 이 모핵에 직접 결합한 머캅토기를 1개 이상, 바람직하게는 1 내지 3개, 더욱 바람직하게는 1 내지 2개 갖는 화합물(이하, 「머캅탄계 수소 공여체」라고 함)을 포함한다.The mercaptan compound is a compound having a benzene ring or a heterocycle as a mother nucleus, and having one or more, preferably one to three, more preferably one to two mercapto groups directly bonded to the mother nucleus (hereinafter, "mercap" Carbon-based hydrogen donor ".

또한, 상기 아민계 화합물은 벤젠환 또는 복소환을 모핵으로 하고, 이 모핵에 직접 결합한 아미노기를 1개 이상, 바람직하게는 1 내지 3개, 더욱 바람직하게는 1 내지 2개 갖는 화합물(이하, 「아민계 수소 공여체」라고 함)을 포함한다.In addition, the amine compound is a compound having a benzene ring or a heterocycle as a mother nucleus, and having at least one, preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2 amino groups directly bonded to the mother nucleus (hereinafter, " Amine-based hydrogen donor ").

또한, 이들 수소 공여체는 머캅토기와 아미노기를 동시에 가질 수도 있다.These hydrogen donors may also have a mercapto group and an amino group at the same time.

이하, 수소 공여체에 대하여, 보다 구체적으로 설명한다.The hydrogen donor will be described in more detail below.

머캅탄계 수소 공여체는 벤젠환 또는 복소환을 각각 1개 이상 가질 수 있으며, 또한 벤젠환과 복소환 두가지를 가질 수 있다. 이들 환을 2개 이상 갖는 경우, 축합환을 형성할 수도 있고, 형성하지 않을 수도 있다.The mercaptan-based hydrogen donor may have one or more benzene rings or heterocycles, and may also have two benzene rings and heterocycles. In the case of having two or more of these rings, a condensed ring may or may not be formed.

또한, 머캅탄계 수소 공여체는 머캅토기를 2개 이상 갖는 경우, 적어도 1개의 유리 머캅토기가 잔존하는 한도에서는, 나머지 머캅토기 중 1개 이상이 알킬, 아랄킬 또는 아릴기로 치환될 수도 있다. 또한, 적어도 1개의 유리 머캅토기가 잔존하는 한도에서는, 2개의 황 원자가 알킬렌기 등의 2가의 유기기를 개재하고 결합 된 구조 단위, 또는 2개의 황 원자가 디술피드의 형태로 결합된 구조 단위를 가질 수 있다.In addition, when the mercaptan-based hydrogen donor has two or more mercapto groups, as long as at least one free mercapto group remains, one or more of the remaining mercapto groups may be substituted with an alkyl, aralkyl or aryl group. In addition, as long as at least one free mercapto group remains, two sulfur atoms may have a structural unit bonded via a divalent organic group such as an alkylene group, or two sulfur atoms in the form of disulfide. have.

또한, 머캅탄계 수소 공여체는 머캅토기 이외의 부분에서 카르복실기, 치환 또는 비치환의 알콕시카르보닐기, 치환 또는 비치환의 페녹시카르보닐기, 니트릴기 등에 의해 치환될 수도 있다.In addition, the mercaptan-based hydrogen donor may be substituted by a carboxyl group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, a substituted or unsubstituted phenoxycarbonyl group, a nitrile group, or the like in a portion other than the mercapto group.

이러한 머캅탄계 수소 공여체의 구체예로서는 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤조옥사졸, 2-머캅토벤조이미다졸, 2,5-디머캅토-1,3,4-티아디아졸, 2-머캅토-2,5-디메틸아미노피리딘 등을 들 수 있다.Specific examples of such mercaptan-based hydrogen donors include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoimidazole, 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole, 2 Mercapto-2,5-dimethylaminopyridine and the like.

이들 머캅탄계 수소 공여체 중 2-머캅토벤조티아졸, 2-머캅토벤조옥사졸이 바람직하고, 특히 2-머캅토벤조티아졸이 바람직하다.Among these mercaptan-based hydrogen donors, 2-mercaptobenzothiazole and 2-mercaptobenzooxazole are preferable, and 2-mercaptobenzothiazole is particularly preferable.

이어서, 아민계 수소 공여체는 벤젠환 또는 복소환을 각각 1개 이상 가질 수 있으며, 또한 벤젠환과 복소환 모두를 가질 수 있다. 이들 환을 2개 이상 갖는 경우, 축합환을 형성할 수도 있고, 형성하지 않을 수도 있다.Subsequently, the amine hydrogen donor may have one or more benzene rings or heterocycles, and may also have both benzene rings and heterocycles. In the case of having two or more of these rings, a condensed ring may or may not be formed.

또한, 아민계 수소 공여체는 아미노기 중 1개 이상이 알킬기 또는 치환 알킬기로 치환될 수도 있으며, 아미노기 이외의 부분에서 카르복실기, 치환 또는 비치환의 알콕시카르보닐기, 치환 또는 비치환의 페녹시카르보닐기, 니트릴기 등에 의해 치환될 수도 있다.In addition, at least one amino group may be substituted with an alkyl group or a substituted alkyl group in the amine-based hydrogen donor, and substituted with a carboxyl group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, a substituted or unsubstituted phenoxycarbonyl group, a nitrile group, or the like in a portion other than the amino group. May be

이러한 아민계 수소 공여체의 구체예로서는 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4-디에틸아미노아세토페논, 4-디메틸아미노프로피오페논, 4-디메틸아미노벤조산 에틸, 4-디메틸아미노벤조산 i-아밀, 4-디메 틸아미노벤조산, 4-디메틸아미노벤조니트릴 등을 들 수 있다.Specific examples of such amine hydrogen donors include 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 4-diethylaminoacetophenone, and 4-dimethylaminopropiophenone. , 4-dimethylaminobenzoic acid ethyl, 4-dimethylaminobenzoic acid i-amyl, 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-dimethylaminobenzonitrile and the like.

이들 아민계 수소 공여체 중 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하고, 특히 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하다. 또한, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논이나 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논은 비이미다졸계 화합물이 존재하지 않는 경우라도, 그 단독으로 광 라디칼 개시제로서 작용할 수 있는 것이다.Among these amine-based hydrogen donors, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone are preferable, and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone is particularly preferred. This is preferred. In addition, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone can act as an optical radical initiator by itself even if a biimidazole type compound does not exist. It is.

본 발명에 있어서, 수소 공여체는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있지만, 1종 이상의 머캅탄계 수소 공여체와 1종 이상의 아민계 수소 공여체를 조합하여 사용하는 것이, 형성된 착색층이 현상시에 기판으로부터 탈락하기 어렵고, 착색층의 강도 및 감도도 높다는 점에서 바람직하다.In the present invention, the hydrogen donor may be used alone or in combination of two or more thereof, but the combination of one or more mercaptan-based hydrogen donors and one or more amine-based hydrogen donors may be used at the time of development of the colored layer formed. It is hard to drop off from a board | substrate, and it is preferable at the point that the intensity | strength and sensitivity of a colored layer are also high.

머캅탄계 수소 공여체와 아민계 수소 공여체의 바람직한 조합의 구체예로서는 2-머캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 2-머캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-머캅토벤조옥사졸/4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 2-머캅토벤조옥사졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있으며, 보다 바람직한 조합은 2-머캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2-머캅토벤조옥사졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이고, 특히 바람직한 조합은 2-머캅토벤조티아졸/4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이다. Specific examples of preferred combinations of mercaptan-based hydrogen donors and amine-based hydrogen donors include 2-mercaptobenzothiazole / 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone and 2-mercaptobenzothiazole / 4,4'-bis (Diethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzooxazole / 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzooxazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone Etc., and a more preferable combination is 2-mercaptobenzothiazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzooxazole / 4,4'-bis (diethylamino ) Benzophenone, a particularly preferred combination is 2-mercaptobenzothiazole / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone.

머캅탄계 수소 공여체와 아민계 수소 공여체의 조합에서의 머캅탄계 수소 공여체와 아민계 수소 공여체의 중량비는, 바람직하게는 1:1 내지 1:4, 보다 바람직하게는 1:1 내지 1:3이다.The weight ratio of the mercaptan-based hydrogen donor and the amine-based hydrogen donor in the combination of the mercaptan-based hydrogen donor and the amine-based hydrogen donor is preferably 1: 1 to 1: 4, more preferably 1: 1 to 1: 3.

또한, 상기 벤조인계 화합물로서는, 예를 들면 벤조인, 벤조인 메틸에테르, 벤조인 에틸에테르, 벤조인 이소프로필에테르, 벤조인 이소부틸에테르, 2-벤조일 벤조산 메틸 등을 들 수 있다.Moreover, as said benzoin type compound, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, methyl 2-benzoyl benzoate etc. are mentioned, for example.

또한, 상기 아세토페논계 화합물로서는, 예를 들면 2,2-디메톡시아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-(4-i-프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-메틸-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노-1-프로판-1-온, 4-(2-히드록시에톡시)페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온 등을 들 수 있다.As the acetophenone-based compound, for example, 2,2-dimethoxyacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and 2-hydroxy-2- Methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-i-propylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-methyl- (4-methylthiophenyl) -2- Morpholino-1-propane-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4- Morpholinophenyl) butan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, and the like.

또한, 상기 벤조페논계 화합물로서는, 예를 들면 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있다.Moreover, as said benzophenone type compound, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, etc. are mentioned, for example.

또한, 상기 α-디케톤계 화합물로서는, 예를 들면 디아세틸, 디벤조일, 메틸벤조일포르메이트 등을 들 수 있다.Moreover, as said (alpha)-diketone type compound, diacetyl, dibenzoyl, methyl benzoyl formate, etc. are mentioned, for example.

또한, 상기 다핵 퀴논계 화합물로서는, 예를 들면 안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-t-부틸안트라퀴논, 1,4-나프토퀴논 등을 들 수 있다.Moreover, as said multinuclear quinone type compound, anthraquinone, 2-ethyl anthraquinone, 2-t- butyl anthraquinone, 1, 4- naphthoquinone etc. are mentioned, for example.

또한, 상기 크산톤계 화합물로서는, 예를 들면 크산톤, 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 등을 들 수 있다.Moreover, as said xanthone type compound, xanthone, thioxanthone, 2-chloro thioxanthone, etc. are mentioned, for example.

또한, 상기 포스핀계 화합물로서는, 예를 들면 비스(2,4,6-트리메틸벤조일) 페닐포스핀옥시드, 2,4,6-트리메틸벤조일 디페닐포스핀옥시드 등을 들 수 있다.Moreover, as said phosphine type compound, bis (2, 4, 6- trimethyl benzoyl) phenyl phosphine oxide, 2, 4, 6- trimethyl benzoyl diphenyl phosphine oxide, etc. are mentioned, for example.

또한, 상기 트리아진계 화합물로서는, 예를 들면 2,4,6-트리스(트리클로로메 틸)-s-트리아진, 2-메틸-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-n-부톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물, 하기 화학식 7로 표시되는 화합물 등의 할로메틸기를 갖는 화합물 등을 들 수 있다.Moreover, as said triazine type compound, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2, for example -[2- (furan-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl]- 4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-tri Azine, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6- Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-n-butoxyphenyl) And compounds having halomethyl groups, such as -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, a compound represented by the following formula (6), and a compound represented by the following formula (7).

상기 다른 광 라디칼 발생제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. The said other photo radical generating agent can be used individually or in mixture of 2 or more types.

다른 광 라디칼 발생제의 사용 비율은, 0-아실옥심형 광 라디칼 발생제 (D1) 과 다른 광 라디칼 발생제의 합계에 대하여, 바람직하게는 50 중량％ 이하, 더욱 바람직하게는 1 내지 30 중량％이다. 이 경우, 다른 광 라디칼 발생제의 사용 비율이 50 중량％를 초과하면, 본 발명의 소기의 효과가 손상될 우려가 있다.The use ratio of the other optical radical generator is preferably 50% by weight or less, more preferably 1 to 30% by weight, based on the total of the 0-acyl oxime type photoradical generator (D1) and the other optical radical generator. to be. In this case, when the use ratio of another optical radical generating agent exceeds 50 weight%, the desired effect of this invention may be impaired.

본 발명에서의 광 라디칼 발생제의 합계 사용량은, (C) 다관능성 단량체 100 중량부 또는 그와 함께 사용되는 단관능성 단량체와의 합계 100 중량부에 대하여, 바람직하게는 0.01 내지 200 중량부, 보다 바람직하게는 1 내지 120 중량부, 특히 바람직하게는 1 내지 100 중량부이다. 광 라디칼 발생제의 합계 사용량이 0.01 중량부 미만이면, 노광에 의한 경화가 불충분해지고, 화소 패턴 또는 블랙 매트릭스 패턴이 소정의 배열에 따라 배치된 패턴 어레이를 얻는 것이 곤란해질 우려가 있고, 한편 200 중량부를 초과하면, 형성된 착색층이 현상시에 기판으로부터 탈락하기 쉬워지고, 또한 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에 바탕 오염, 막 잔여 등이 발생하기 쉬워진다.The total amount of the photoradical generator used in the present invention is preferably 0.01 to 200 parts by weight, based on 100 parts by weight of (C) 100 parts by weight of the polyfunctional monomer or 100 parts by weight in total with the monofunctional monomer used therewith. It is preferably 1 to 120 parts by weight, particularly preferably 1 to 100 parts by weight. If the total amount of the photoradical generating agent is less than 0.01 part by weight, curing due to exposure may be insufficient, and it may be difficult to obtain a pattern array in which the pixel pattern or the black matrix pattern is arranged in accordance with a predetermined arrangement, and on the other hand, 200 weight parts. When the portion is exceeded, the formed colored layer easily falls off from the substrate at the time of development, and further, background contamination, film residue, and the like tend to occur on the substrate or the light shielding layer of the unexposed portion.

또한, 본 발명에 있어서는, 상기 광 라디칼 발생제와 함께, 필요에 따라 증감제, 경화 촉진제 또는 고분자 광 가교ㆍ증감제 중 1종 이상을 병용할 수도 있다.Moreover, in this invention, 1 or more types of a sensitizer, a hardening accelerator, or a polymer photocrosslinking / sensitizer can also be used together with the said optical radical generator as needed.

-첨가제--additive-

본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물은, 필요에 따라 여러가지 첨가제를 함유할 수도 있다.The radiation sensitive composition for colored layer formation of this invention may contain various additives as needed.

상기 첨가제로서는, 감방사선성 조성물의 알칼리 현상액에 대한 용해 특성을보다 개선하고, 현상 후의 미용해물의 잔존을 보다 억제하는 작용 등을 나타내는 유기산 또는 유기 아미노 화합물(단, 상기 수소 공여체를 제외함) 등을 들 수 있 다.As said additive, the organic acid or organic amino compound (except the said hydrogen donor) etc. which show the effect which further improves the dissolution characteristic with respect to the alkaline developing solution of a radiation sensitive composition, and further suppresses the remainder of the undissolved matter after image development, etc. For example.

상기 유기산으로서는 분자 중에 1개 이상의 카르복실기를 갖는 지방족 카르복실산 또는 페닐기 함유 카르복실산이 바람직하다.As said organic acid, the aliphatic carboxylic acid or phenyl group containing carboxylic acid which has 1 or more carboxyl group in a molecule | numerator is preferable.

상기 지방족 카르복실산으로서는, 예를 들면As the aliphatic carboxylic acid, for example

포름산, 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 발레르산, 피발산, 카프로산, 디에틸아세트산, 에난트산, 카프릴산과 같은 모노카르복실산;Monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, diethylacetic acid, enanthic acid, caprylic acid;

옥살산, 말론산, 숙신산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 아젤라산, 세박산, 브라실산, 메틸말론산, 에틸말론산, 디메틸말론산, 메틸숙신산, 테트라메틸숙신산, 시클로헥산디카르복실산, 이타콘산, 시트라콘산, 말레산, 푸마르산, 메사콘산과 같은 디카르복실산; Oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, brasilic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methylsuccinic acid, tetramethylsuccinic acid, Dicarboxylic acids such as cyclohexanedicarboxylic acid, itaconic acid, citraconic acid, maleic acid, fumaric acid, mesaconic acid;

트리카르발릴산, 아코니트산, 캄포론산과 같은 트리카르복실산 등을 들 수 있다.Tricarboxylic acids, such as tricarvalic acid, aconitic acid, and camphoronic acid, etc. are mentioned.

또한, 상기 페닐기 함유 카르복실산으로서는, 예를 들면 카르복실기가 직접페닐기에 결합한 화합물, 카르복실기가 탄소쇄를 통해 페닐기에 결합한 카르복실산 등을 들 수 있다.Moreover, as said phenyl group containing carboxylic acid, the compound which the carboxyl group couple | bonded with the direct phenyl group, the carboxylic acid which the carboxyl group couple | bonded with the phenyl group through a carbon chain, etc. are mentioned, for example.

페닐기 함유 카르복실산으로서는, 예를 들면As the phenyl group-containing carboxylic acid, for example

벤조산, 톨루일산, 쿠민산, 헤멜리트산, 메시틸렌산과 같은 방향족 모노카르복실산;Aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cuminic acid, hemelic acid, mesitylene acid;

프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산과 같은 방향족 디카르복실산;Aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid;

트리멜리트산, 트리메신산, 멜로판산, 피로멜리트산과 같은 3가 이상의 방향 족 폴리카르복실산, 및 Trivalent or higher aromatic polycarboxylic acids such as trimellitic acid, trimesic acid, melanoic acid, pyromellitic acid, and

페닐아세트산, 히드로아트로파산, 히드로신남산, 만델산, 페닐숙신산, 아트로파산, 신남산, 신나밀리덴산, 쿠말산, 움벨산 등을 들 수 있다.And phenylacetic acid, hydroatroic acid, hydrocinnamic acid, mandelic acid, phenylsuccinic acid, atropaic acid, cinnamic acid, cinnamiledic acid, cumalic acid, and umbelic acid.

이들 유기산 중 알칼리 용해성, 후술하는 용매에 대한 용해성, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에서의 바탕 오염이나 막 잔여 방지 등의 관점에서, 지방족 카르복실산으로서는 지방족 디카르복실산이 바람직하며, 특히 말론산, 아디프산, 이타콘산, 시트라콘산, 푸마르산, 메사콘산 등이 바람직하다. 또한, 페닐기 함유 카르복실산으로서는 방향족 디카르복실산이 바람직하며, 특히 프탈산이 바람직하다.In view of alkali solubility in these organic acids, solubility in a solvent to be described later, prevention of background contamination on the substrate or light shielding layer of the unexposed portion, and prevention of film residue, as the aliphatic carboxylic acid, an aliphatic dicarboxylic acid is preferable, and in particular, malonic acid. , Adipic acid, itaconic acid, citraconic acid, fumaric acid, mesaconic acid and the like are preferable. Moreover, as phenyl group containing carboxylic acid, aromatic dicarboxylic acid is preferable and phthalic acid is especially preferable.

상기 유기산은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The said organic acid can be used individually or in mixture of 2 or more types.

유기산의 사용량은 감방사선성 조성물 전체에 대하여, 바람직하게는 15 중량％ 이하, 보다 바람직하게는 10 중량％ 이하이다. 이 경우, 유기산의 사용량이 15 중량％를 초과하면, 형성된 착색층의 기판에 대한 밀착성이 저하되는 경향이 있다.The amount of the organic acid used is preferably 15% by weight or less, and more preferably 10% by weight or less based on the whole radiation-sensitive composition. In this case, when the usage-amount of an organic acid exceeds 15 weight%, there exists a tendency for adhesiveness with respect to the board | substrate of the formed colored layer to fall.

또한, 상기 유기 아미노 화합물로서는 분자 중에 1개 이상의 아미노기를 갖는 지방족 아민 또는 페닐기 함유 아민이 바람직하다.Moreover, as said organic amino compound, the aliphatic amine or phenyl group containing amine which has 1 or more amino group in a molecule | numerator is preferable.

상기 지방족 아민으로서는, 예를 들면As the aliphatic amine, for example

n-프로필아민, i-프로필아민, n-부틸아민, i-부틸아민, sec-부틸아민, t-부틸아민, n-펜틸아민, n-헥실아민, n-헵틸아민, n-옥틸아민, n-노닐아민, n-데실아민, n-운데실아민, n-도데실아민, 시클로헥실아민, 2-메틸시클로헥실아민, 3-메틸시클로헥실아민, 4-메틸시클로헥실아민, 2-에틸시클로헥실아민, 3-에틸시클로헥실 아민, 4-에틸시클로헥실아민과 같은 모노(시클로)알킬아민;n-propylamine, i-propylamine, n-butylamine, i-butylamine, sec-butylamine, t-butylamine, n-pentylamine, n-hexylamine, n-heptylamine, n-octylamine, n-nonylamine, n-decylamine, n-undecylamine, n-dodecylamine, cyclohexylamine, 2-methylcyclohexylamine, 3-methylcyclohexylamine, 4-methylcyclohexylamine, 2-ethyl Mono (cyclo) alkylamines such as cyclohexylamine, 3-ethylcyclohexyl amine, 4-ethylcyclohexylamine;

메틸에틸아민, 디에틸아민, 메틸 n-프로필아민, 에틸 n-프로필아민, 디-n-프로필아민, 디-i-프로필아민, 디-n-부틸아민, 디-i-부틸아민, 디-sec-부틸아민, 디-t-부틸아민, 디-n-펜틸아민, 디-n-헥실아민, 메틸시클로헥실아민, 에틸시클로헥실아민, 디시클로헥실아민과 같은 디(시클로)알킬아민;Methylethylamine, diethylamine, methyl n-propylamine, ethyl n-propylamine, di-n-propylamine, di-i-propylamine, di-n-butylamine, di-i-butylamine, di- di (cyclo) alkylamines such as sec-butylamine, di-t-butylamine, di-n-pentylamine, di-n-hexylamine, methylcyclohexylamine, ethylcyclohexylamine, dicyclohexylamine;

디메틸에틸아민, 메틸디에틸아민, 트리에틸아민, 디메틸 n-프로필아민, 디에틸 n-프로필아민, 메틸 디-n-프로필아민, 에틸 디-n-프로필아민, 트리-n-프로필아민, 트리-i-프로필아민, 트리-n-부틸아민, 트리-i-부틸아민, 트리-sec-부틸아민, 트리-t-부틸아민, 트리-n-펜틸아민, 트리-n-헥실아민, 디메틸시클로헥실아민, 디에틸시클로헥실아민, 메틸디시클로헥실아민, 에틸디시클로헥실아민, 트리시클로헥실아민과 같은 트리(시클로)알킬아민; Dimethylethylamine, methyldiethylamine, triethylamine, dimethyl n-propylamine, diethyl n-propylamine, methyl di-n-propylamine, ethyl di-n-propylamine, tri-n-propylamine, tri -i-propylamine, tri-n-butylamine, tri-i-butylamine, tri-sec-butylamine, tri-t-butylamine, tri-n-pentylamine, tri-n-hexylamine, dimethylcyclo Tri (cyclo) alkylamines such as hexylamine, diethylcyclohexylamine, methyldicyclohexylamine, ethyldicyclohexylamine, tricyclohexylamine;

2-아미노에탄올, 3-아미노-1-프로판올, 1-아미노-2-프로판올, 4-아미노-1-부탄올, 5-아미노-1-펜탄올, 6-아미노-1-헥산올, 4-아미노-1-시클로헥산올과 같은 모노(시클로)알칸올아민;2-aminoethanol, 3-amino-1-propanol, 1-amino-2-propanol, 4-amino-1-butanol, 5-amino-1-pentanol, 6-amino-1-hexanol, 4-amino Mono (cyclo) alkanolamines such as -1-cyclohexanol;

디에탄올아민, 디-n-프로판올아민, 디-i-프로판올아민, 디-n-부탄올아민, 디-i-부탄올아민, 디-n-펜탄올아민, 디-n-헥산올아민, 디(4-시클로헥산올)아민과 같은 디(시클로)알칸올아민;Diethanolamine, di-n-propanolamine, di-i-propanolamine, di-n-butanolamine, di-i-butanolamine, di-n-pentanolamine, di-n-hexanolamine, di ( Di (cyclo) alkanolamines such as 4-cyclohexanol) amine;

트리에탄올아민, 트리-n-프로판올아민, 트리-i-프로판올아민, 트리-n-부탄올아민, 트리-i-부탄올아민, 트리-n-펜탄올아민, 트리-n-헥산올아민, 트리(4-시클로헥산올)아민과 같은 트리(시클로)알칸올아민;Triethanolamine, tri-n-propanolamine, tri-i-propanolamine, tri-n-butanolamine, tri-i-butanolamine, tri-n-pentanolamine, tri-n-hexanolamine, tri (4 Tri (cyclo) alkanolamines such as -cyclohexanol) amine;

3-아미노-1,2-프로판디올, 2-아미노-1,3-프로판디올, 4-아미노-1,2-부탄디올, 4-아미노-1,3-부탄디올, 4-아미노-1,2-시클로헥산디올, 4-아미노-1,3-시클로헥산디올, 3-디메틸아미노-1,2-프로판디올, 3-디에틸아미노-1,2-프로판디올, 2-디메틸아미노-1,3-프로판디올, 2-디에틸아미노-1,3-프로판디올과 같은 아미노(시클로)알칸디올; 3-amino-1,2-propanediol, 2-amino-1,3-propanediol, 4-amino-1,2-butanediol, 4-amino-1,3-butanediol, 4-amino-1,2- Cyclohexanediol, 4-amino-1,3-cyclohexanediol, 3-dimethylamino-1,2-propanediol, 3-diethylamino-1,2-propanediol, 2-dimethylamino-1,3- Amino (cyclo) alkanediols such as propanediol, 2-diethylamino-1,3-propanediol;

1-아미노시클로펜탄메탄올, 4-아미노시클로펜탄메탄올, 1-아미노시클로헥산메탄올, 4-아미노시클로헥산메탄올, 4-디메틸아미노시클로펜탄메탄올, 4-디에틸아미노시클로펜탄메탄올, 4-디메틸아미노시클로헥산메탄올, 4-디에틸아미노시클로헥산메탄올과 같은 아미노기 함유 시클로알칸메탄올;1-aminocyclopentanmethanol, 4-aminocyclopentanmethanol, 1-aminocyclohexanemethanol, 4-aminocyclohexanemethanol, 4-dimethylaminocyclopentanmethanol, 4-diethylaminocyclopentanmethanol, 4-dimethylaminocyclo Amino group-containing cycloalkanethanols such as hexanemethanol and 4-diethylaminocyclohexanemethanol;

β-알라닌, 2-아미노부티르산, 3-아미노부티르산, 4-아미노부티르산, 2-아미노이소부티르산, 3-아미노이소부티르산, 2-아미노발레르산, 5-아미노발레르산, 6-아미노카프로산, 1-아미노시클로프로판카르복실산, 1-아미노시클로헥산카르복실산, 4-아미노시클로헥산카르복실산과 같은 아미노카르복실산 등을 들 수 있다. β-alanine, 2-aminobutyric acid, 3-aminobutyric acid, 4-aminobutyric acid, 2-aminoisobutyric acid, 3-aminoisobutyric acid, 2-aminovaleric acid, 5-aminovaleric acid, 6-aminocaproic acid, 1 And aminocarboxylic acids such as aminocyclopropanecarboxylic acid, 1-aminocyclohexanecarboxylic acid, and 4-aminocyclohexanecarboxylic acid.

또한, 상기 페닐기 함유 아민으로서는, 예를 들면 아미노기가 직접 페닐기에 결합한 화합물, 아미노기가 탄소쇄를 통해 페닐기에 결합한 화합물 등을 들 수 있다.Moreover, as said phenyl group containing amine, the compound etc. which the amino group couple | bonded with the phenyl group directly, the compound which the amino group couple | bonded with the phenyl group through the carbon chain, etc. are mentioned, for example.

페닐기 함유 아민으로서는, 예를 들면As the phenyl group-containing amine, for example

아닐린, 2-메틸아닐린, 3-메틸아닐린, 4-메틸아닐린, 4-에틸아닐린, 4-n-프로필아닐린, 4-i-프로필아닐린, 4-n-부틸아닐린, 4-t-부틸아닐린, 1-나프틸아민, 2-나프틸아민, N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, 4-메틸-N,N-디메틸아닐린과 같은 방향족 아민;Aniline, 2-methylaniline, 3-methylaniline, 4-methylaniline, 4-ethylaniline, 4-n-propylaniline, 4-i-propylaniline, 4-n-butylaniline, 4-t-butylaniline, Aromatic amines such as 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, 4-methyl-N, N-dimethylaniline;

2-아미노벤질알코올, 3-아미노벤질알코올, 4-아미노벤질알코올, 4-디메틸아미노벤질알코올, 4-디에틸아미노벤질알코올과 같은 아미노벤질알코올;Aminobenzyl alcohols such as 2-aminobenzyl alcohol, 3-aminobenzyl alcohol, 4-aminobenzyl alcohol, 4-dimethylaminobenzyl alcohol, 4-diethylaminobenzyl alcohol;

2-아미노페놀, 3-아미노페놀, 4-아미노페놀, 4-디메틸아미노페놀, 4-디에틸아미노페놀과 같은 아미노페놀 등을 들 수 있다.And aminophenols such as 2-aminophenol, 3-aminophenol, 4-aminophenol, 4-dimethylaminophenol, and 4-diethylaminophenol.

이들 유기 아미노 화합물 중 후술하는 용매에 대한 용해성, 미노광부의 기판 상 또는 차광층 상에서의 바탕 오염이나 막 잔여 방지 등의 관점에서, 지방족 아민으로서는 모노(시클로)알칸올아민, 아미노(시클로)알칸디올이 바람직하며, 특히 2-아미노에탄올, 3-아미노-1-프로판올, 5-아미노-1-펜탄올, 3-아미노-1,2-프로판디올, 2-아미노-1,3-프로판디올, 4-아미노-1,2-부탄디올 등이 바람직하다. 또한, 페닐기 함유 아민으로서는 아미노페놀류가 바람직하며, 특히 2-아미노페놀, 3-아미노페놀, 4-아미노페놀 등이 바람직하다. Among these organic amino compounds, mono (cyclo) alkanolamines and amino (cyclo) alkanediols are used as aliphatic amines from the viewpoints of solubility in a solvent to be described later, prevention of background contamination on the substrate or the light shielding layer of the unexposed portion, and film residue. Preferred, in particular 2-aminoethanol, 3-amino-1-propanol, 5-amino-1-pentanol, 3-amino-1,2-propanediol, 2-amino-1,3-propanediol, 4 -Amino-1,2-butanediol and the like are preferable. Moreover, as a phenyl group containing amine, aminophenols are preferable and 2-aminophenol, 3-aminophenol, 4-aminophenol etc. are especially preferable.

상기 유기 아미노 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The said organic amino compound can be used individually or in mixture of 2 or more types.

유기 아미노 화합물의 사용량은, 감방사선성 조성물 전체에 대하여, 바람직하게는 15 중량％ 이하, 보다 바람직하게는 10 중량％ 이하이다. 유기 아미노 화합물의 사용량이 15 중량％를 초과하면, 형성된 착색층의 기판에 대한 밀착성이 저하되는 경향이 있다. The usage-amount of an organic amino compound becomes like this. Preferably it is 15 weight% or less with respect to the whole radiation sensitive composition, More preferably, it is 10 weight% or less. When the usage-amount of an organic amino compound exceeds 15 weight%, there exists a tendency for adhesiveness with respect to the board | substrate of the formed colored layer to fall.

또한, 상기 유기산 및 유기 아미노 화합물 이외의 첨가제로서는, 예를 들면 구리 프탈로시아닌 유도체 등의 청색 안료 유도체나 황색 안료 유도체 등의 분산 보조제; Moreover, as additives other than the said organic acid and organic amino compound, For example, Dispersion adjuvant, such as blue pigment derivatives, such as a copper phthalocyanine derivative, and a yellow pigment derivative;

유리, 알루미나 등의 충전제; Fillers such as glass and alumina;

폴리비닐알코올, 폴리에틸렌글리콜 모노알킬에테르류, 폴리(플루오로알킬아크릴레이트)류 등의 고분자 화합물;Polymer compounds such as polyvinyl alcohol, polyethylene glycol monoalkyl ethers, and poly (fluoroalkyl acrylates);

비이온계, 양이온계, 음이온계 등의 계면 활성제;Surfactants such as nonionic, cationic and anionic systems;

비닐 트리메톡시실란, 비닐 트리에톡시실란, 비닐 트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸 디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필 트리메톡시실란, 3-아미노프로필 트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필 트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸 디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸 트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸 디메톡시실란, 3-클로로프로필 트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필 트리메톡시실란, 3-머캅토프로필 트리메톡시실란 등의 밀착 촉진제;Vinyl trimethoxysilane, vinyl triethoxysilane, vinyl tris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyl dimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-Aminopropyl trimethoxysilane, 3-aminopropyl triethoxysilane, 3-glycidoxypropyl trimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyl dimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclo Adhesion promoters such as hexyl) ethyl trimethoxysilane, 3-chloropropylmethyl dimethoxysilane, 3-chloropropyl trimethoxysilane, 3-methacryloxypropyl trimethoxysilane, and 3-mercaptopropyl trimethoxysilane ;

2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸페놀 등의 산화 방지제;Antioxidants such as 2,2'-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol) and 2,6-di-t-butylphenol;

2-(3-t-부틸-5-메틸-2-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 알콕시벤조페논류 등의 자외선 흡수제;Ultraviolet absorbers such as 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole and alkoxybenzophenones;

폴리아크릴산 나트륨 등의 응집 방지제;Aggregation inhibitors such as sodium polyacrylate;

1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 2-페닐아조-4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴 등의 열 라디칼 발생제 등을 들 수 있다. And thermal radical generators such as 1,1'-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) and 2-phenylazo-4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile.

용매menstruum

본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물은, 상기 (A) 내지 (D) 성분을 필수 성분으로 하고, 필요에 따라 상기 첨가제 성분을 함유하지만, 바람직하게는 용매를 배합하여 액상 조성물로서 제조된다.Although the radiation sensitive composition for colored layer formation of this invention makes the said (A)-(D) component an essential component, and contains the said additive component as needed, Preferably it mixes a solvent and is manufactured as a liquid composition. .

상기 용매로서는 감방사선성 조성물을 구성하는 (A) 내지 (D) 성분이나 첨가제 성분을 분산 또는 용해하고, 또한 이들 성분과 반응하지 않으며, 적당한 휘발성을 갖는 것인 한 적당하게 선택하여 사용할 수 있다.The solvent may be appropriately selected and used as long as it disperses or dissolves the components (A) to (D) and the additive components constituting the radiation-sensitive composition and does not react with these components and has appropriate volatility.

이러한 용매로서는, 예를 들면As such a solvent, for example

에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 디에틸렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 프로필렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜 모노-n-프로필에테르, 디프로필렌글리콜 모노-n-부틸에테르, 트리프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜 모노에틸에테르와 같은 (폴리)알킬렌글리콜 모노알킬에테르;Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n -Propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene Glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tri (Poly) alkylene glycol monoal such as propylene glycol monoethyl ether Ether;

에틸렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트와 같은 (폴리)알킬렌글리콜 모노알킬에테르아세테이트;(Poly) alkylenes such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate Glycol monoalkyl ether acetates;

디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜 디에틸에테르, 테트라히드로푸란과 같은 다른 에테르;Other ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methylethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran;

메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논과 같은 케톤;Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone;

락트산 메틸, 락트산 에틸과 같은 락트산 알킬에스테르;Lactic acid alkyl esters such as methyl lactate and ethyl lactate;

2-히드록시-2-메틸프로피온산 에틸, 3-메톡시프로피온산 메틸, 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 에톡시아세트산 에틸, 히드록시아세트산 에틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산 메틸, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산 에틸, 아세트산 n-프로필, 아세트산 i-프로필, 아세트산 n-부틸, 아세트산 i-부틸, 포름산 n-아밀, 아세트산 i-아밀, 프로피온산 n-부틸, 부티르산 에틸, 부티르산 n-프로필, 부티르산 i-프로필, 부티르산 n-부틸, 피루브산 메틸, 피루브산 에틸, 피루브산 n-프로필, 아세토아세트산 메틸, 아세토아세트산 에틸, 2-옥소부탄산 에틸과 같은 그 밖의 에스테르;Ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, 2 Methyl hydroxy-3-methylbutanoate, 3-methyl-3-methoxybutylacetate, 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, i-propyl acetate, acetic acid n -Butyl, i-butyl acetate, n-amyl formate, i-amyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-pyruvate Other esters such as propyl, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, ethyl 2-oxobutanoate;

톨루엔, 크실렌과 같은 방향족 탄화수소;Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene;

N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈과 같은 아미드 또는 락탐 등을 들 수 있다. Amide or lactams such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like.

이들 용매 중 용해성, 안료 분산성, 도포성 등의 관점에서 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜 디메틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에틸에테르, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타 논, 락트산 에틸, 3-메톡시프로피온산 에틸, 3-에톡시프로피온산 메틸, 3-에톡시프로피온산 에틸, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 아세트산 n-부틸, 아세트산 i-부틸, 포름산 n-아밀, 아세트산 i-아밀, 프로피온산 n-부틸, 부티르산 에틸, 부티르산 i-프로필, 부티르산 n-부틸, 피루브산 에틸 등이 바람직하다. Among these solvents, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, and diethylene from the viewpoint of solubility, pigment dispersibility, and coating properties. Glycol methylethyl ether, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, ethyl lactate, 3-methoxypropionate ethyl, 3-ethoxypropionate methyl, 3-ethoxypropionate ethyl, 3-methyl-3-meth Preferred are oxybutyl propionate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, n-amyl formate, i-amyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, ethyl butyrate i-propyl, n-butyl butyrate, ethyl pyruvate and the like. .

상기 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. The said solvent can be used individually or in mixture of 2 or more types.

또한, 상기 용매와 함께 벤질에틸에테르, 디-n-헥실에테르, 아세토닐아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 아세트산 벤질, 벤조산 에틸, 옥살산 디에틸, 말레산 디에틸, γ-부티로락톤, 탄산에틸렌, 탄산프로필렌, 에틸렌글리콜 모노페닐에테르아세테이트 등의 고비점 용매를 병용할 수도 있다.In addition, benzyl ethyl ether, di-n-hexyl ether, acetonyl acetone, isophorone, capronic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, ethyl benzoate, together with the solvent High boiling point solvents, such as diethyl oxalate, diethyl maleate, gamma -butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, and ethylene glycol monophenyl ether acetate, can also be used together.

이들 고비점 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.These high boiling point solvents can be used individually or in mixture of 2 or more types.

용매의 사용량은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 얻어지는 감방사선성 조성물의 도포성, 안정성 등의 관점에서, 해당 조성물의 용매를 제외한 각 성분의 합계농도가 바람직하게는 5 내지 50 중량％, 보다 바람직하게는 10 내지 40 중량％가 되는 양이 바람직하다.Although the usage-amount of a solvent is not specifically limited, From a viewpoint of the applicability | paintability, stability, etc. of the radiation sensitive composition obtained, the total concentration of each component except the solvent of the said composition becomes like this. Preferably it is 5-50 weight%, More preferably, It is preferable that the amount is 10 to 40% by weight.

컬러 필터Color filter

본 발명의 컬러 필터는, 본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물로부터 형성된 착색층을 구비하는 것이다.The color filter of this invention is equipped with the colored layer formed from the radiation sensitive composition for colored layer formation of this invention.

이하, 본 발명의 컬러 필터를 형성하는 방법에 대하여 설명한다.Hereinafter, the method of forming the color filter of this invention is demonstrated.

우선, 기판의 표면 상에 필요에 따라 화소를 형성하는 부분을 구획하도록 차 광층을 형성하고, 이 기판 상에, 예를 들면 적색의 안료가 분산된 감방사선성 조성물의 액상 조성물을 도포한 후, 예비소성을 행하여 용제를 증발시켜 도막을 형성한다. 이어서, 이 도막에 포토 마스크를 통해 노광한 후, 알칼리 현상액을 이용해서 현상하여 도막의 미노광부를 용해 제거하고, 그 후 후노광을 행함으로써 적색의 화소 패턴이 소정의 배열로 배치된 화소 어레이를 형성한다.First, a light shielding layer is formed on the surface of a substrate so as to partition a portion forming a pixel as necessary, and then, for example, a liquid composition of a radiation-sensitive composition in which a red pigment is dispersed is applied onto the substrate, Prefiring is performed to evaporate the solvent to form a coating film. Subsequently, after exposing through a photomask to this coating film, it develops using alkaline developing solution, melt | dissolves and removes the unexposed part of a coating film, and post-exposure is performed after that, and the pixel array in which the red pixel pattern was arrange | positioned in the predetermined | prescribed array is obtained. Form.

그 후, 녹색 또는 청색의 안료가 분산된 각 감방사선성 조성물의 액상 조성물을 사용하여, 상기와 동일하게 각 액상 조성물의 도포, 예비소성, 노광, 현상 및 후소성을 행하여, 녹색의 화소 어레이 및 청색의 화소 어레이를 동일한 기판 상에 차례로 형성함으로써, 적색, 녹색 및 청색의 3원색의 화소 어레이가 기판 상에 배치된 컬러 필터를 얻는다. 단, 본 발명에 있어서, 각 색의 화소를 형성하는 순서가 상기한 것으로 한정되지 않는다.Thereafter, using the liquid composition of each radiation-sensitive composition in which a green or blue pigment is dispersed, coating, prefiring, exposure, developing and post-firing of each liquid composition are performed in the same manner as above, and the green pixel array and By sequentially forming a blue pixel array on the same substrate, a color filter in which pixel arrays of three primary colors of red, green and blue are arranged on the substrate is obtained. However, in the present invention, the order of forming the pixels of each color is not limited to the above.

또한, 블랙 매트릭스는 본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물을 사용하여, 상기 화소를 형성하는 경우와 동일하게 형성할 수 있다.In addition, a black matrix can be formed similarly to the case where the said pixel is formed using the radiation sensitive composition for colored layer formation of this invention.

화소 및(또는) 블랙 매트릭스를 형성할 때 사용되는 기판으로서는, 예를 들면 유리, 실리콘, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 방향족 폴리아미드, 폴리아미드이미드, 폴리이미드 등을 들 수 있다.As a board | substrate used when forming a pixel and / or a black matrix, glass, silicone, a polycarbonate, polyester, aromatic polyamide, polyamideimide, polyimide, etc. are mentioned, for example.

또한, 이들 기판에는 목적에 따라 실란 커플링제 등에 의한 약품 처리, 플라즈마 처리, 이온 플레이팅, 스퍼터링, 기상 반응법, 진공 증착 등의 적절한 전처리를 실시해 둘 수도 있다.In addition, these substrates may be subjected to appropriate pretreatment such as chemical treatment with a silane coupling agent or the like, plasma treatment, ion plating, sputtering, vapor phase reaction, or vacuum deposition.

감방사선성 조성물의 액상 조성물을 기판에 도포할 때에는 분무법, 롤 코팅 법, 회전 도포법(스핀 코팅법), 슬릿 다이 도포법, 바 도포법, 잉크젯법 등의 적절한 도포법을 채용할 수 있다. 특히, 스핀 코팅법, 슬릿 다이 도포법이 바람직하다. When apply | coating the liquid composition of a radiation sensitive composition to a board | substrate, the appropriate coating methods, such as the spraying method, the roll coating method, the spin coating method (spin coating method), the slit die coating method, the bar coating method, the inkjet method, can be employ | adopted. In particular, the spin coating method and the slit die coating method are preferable.

도포 두께는 건조 후의 막 두께로서 바람직하게는 0.1 내지 10 ㎛, 보다 바람직하게는 0.2 내지 8.0 ㎛, 특히 바람직하게는 0.2 내지 6.0 ㎛이다.The coating thickness is preferably 0.1 to 10 µm, more preferably 0.2 to 8.0 µm, and particularly preferably 0.2 to 6.0 µm as the film thickness after drying.

화소 및(또는) 블랙 매트릭스를 형성할 때 사용되는 방사선으로서는, 예를 들면 가시광선, 자외선, 원자외선, 전자선, X선 등을 들 수 있다. 파장이 190 내지 450 nm의 범위에 있는 방사선이 바람직하다. As radiation used when forming a pixel and / or a black matrix, visible light, an ultraviolet-ray, an ultraviolet-ray, an electron beam, an X-ray, etc. are mentioned, for example. Preference is given to radiation in which the wavelength is in the range of 190 to 450 nm.

방사선의 노광량은 바람직하게는 10 내지 10,000 J/m²이다.The exposure dose of radiation is preferably 10 to 10,000 J / m ² .

또한, 상기 알칼리 현상액으로서는, 예를 들면 탄산나트륨, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 테트라메틸암모늄히드록시드, 콜린, 1,8-디아자비시클로-[5.4.0]-7-운데센, 1,5-디아자비시클로-[4.3.0]-5-노넨 등의 수용액이 바람직하다.As the alkaline developer, for example, sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, choline, 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene, 1,5- Aqueous solutions, such as diazabicyclo- [4.3.0] -5-nonene, are preferable.

상기 알칼리 현상액에는, 예를 들면 메탄올, 에탄올 등의 수용성 유기 용제나 계면 활성제 등을 적량 첨가할 수도 있다. 또한, 알칼리 현상 후에는, 통상 수세한다.A suitable amount of water-soluble organic solvents, such as methanol and ethanol, surfactant, etc. can also be added to the said alkaline developing solution. In addition, after alkali image development, water washing is normally performed.

현상 처리법으로서는 샤워 현상법, 분무 현상법, 딥(침지) 현상법, 퍼들(액 담굼) 현상법 등을 적용할 수 있다. 현상 조건은 상온에서 5 내지 300 초가 바람직하다.As the developing treatment method, a shower developing method, a spray developing method, a dip (immersion) developing method, a puddle (liquid dipping) developing method, and the like can be applied. As for image development conditions, 5 to 300 second is preferable at normal temperature.

이와 같이 하여 얻어지는 본 발명의 컬러 필터는, 예를 들면 투과형 또는 반 사형 컬러 액정 표시 장치, 컬러 촬상관 소자, 컬러 센서 등에 매우 유용하다.The color filter of the present invention thus obtained is very useful, for example, in a transmissive or semi-reflective color liquid crystal display device, a color imaging tube element, a color sensor, or the like.

컬러 액정 표시 패널Color liquid crystal display panel

본 발명의 컬러 액정 표시 패널은, 본 발명의 컬러 필터를 구비하는 것이다.The color liquid crystal display panel of this invention is equipped with the color filter of this invention.

또한, 본 발명의 컬러 액정 표시 패널의 하나의 실시 형태로서, 본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물을 사용하여 박막 트랜지스터 기판 어레이 상에 상술한 바와 같이 화소 및(또는) 블랙 매트릭스를 형성함으로써, 특히 우수한 특성을 갖는 컬러 액정 표시 패널을 제조할 수 있다.Further, as one embodiment of the color liquid crystal display panel of the present invention, the pixel and / or black matrix are formed on the thin film transistor substrate array as described above by using the radiation-sensitive composition for forming a colored layer of the present invention. In particular, a color liquid crystal display panel having excellent characteristics can be produced.

본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물은, 상기 (A) 내지 (D) 성분을 필수 성분으로서 함유하는 것인데, 특히 바람직한 조성물을 구체적으로 예시하면 하기 (가) 내지 (라)와 같다.Although the radiation sensitive composition for colored layer formation of this invention contains the said (A)-(D) component as an essential component, when a particularly preferable composition is concretely illustrated, it is as follows (a)-(d).

(가) (B) 알칼리 가용성 수지가 카르복실기 함유 공중합체 (B1)을 포함하는 착색층 형성용 감방사선성 조성물.(A) The radiation sensitive composition for colored layer formation in which (B) alkali-soluble resin contains a carboxyl group-containing copolymer (B1).

(나) (C) 다관능성 단량체가 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트 및 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 상기 (가)의 착색층 형성용 감방사선성 조성물.(B) The colored layer of the above-mentioned (A) containing (C) the polyfunctional monomer containing 1 or more types chosen from the group which consists of a trimethylolpropane triacrylate, a pentaerythritol triacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate. Radiation-sensitive composition for formation.

(다) O-아실옥심형 광 라디칼 발생제 (D1)이 에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라히드로푸라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심); 에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라히드로피라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심); 에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-5-테트라히드로푸라닐메톡 시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심), 에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-5-테트라히드로피라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심); 및 에타논, 1-[9-에틸-6-[2-메틸-4-(2,2-디메틸-1,3-디옥솔라닐)메톡시벤조일]-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심)으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 상기 (나)의 착색층 형성용 감방사선성 조성물.(C) O-acyl oxime photo radical generator (D1) is ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydrofuranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazole -3-yl]-, 1- (O-acetyloxime); Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydropyranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime); Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydrofuranylmethoxy cybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime) , Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydropyranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime) ; And ethanone, 1- [9-ethyl-6- [2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl) methoxybenzoyl] -9.H.-carbazole-3- The radiation sensitive composition for colored layer formation of said (b) containing 1 or more types chosen from the group which consists of a general group], and 1- (O-acetyl oxime).

(라) (A) 착색제가 유기 안료 및(또는) 카본 블랙을 포함하는 상기 (가), (나) 또는 (다)의 착색층 형성용 감방사선성 조성물.(D) The radiation sensitive composition for forming a colored layer of said (A), (B) or (C) in which (A) coloring agent contains an organic pigment and / or carbon black.

또한, 본 발명의 바람직한 컬러 필터는,In addition, the preferred color filter of the present invention,

(마) 상기 (가), (나), (다) 또는 (라)의 착색층 형성용 감방사선성 조성물로 형성된 화소 및(또는) 블랙 매트릭스를 구비하고 있다. (E) The pixel and / or black matrix formed from the radiation sensitive composition for colored layer formation of said (a), (b), (c) or (d) are provided.

또한, 본 발명의 바람직한 컬러 액정 표시 패널은,Moreover, the preferable color liquid crystal display panel of this invention is

(바) 상기 (마)의 컬러 필터를 구비하며,(F) comprising the color filter of (e) above,

본 발명의 더욱 바람직한 컬러 액정 표시 패널은,Further preferred color liquid crystal display panel of the present invention,

(사) 박막 트랜지스터 기판 어레이 상에, 상기 (가), (나), (다) 또는 (라)의 착색층 형성용 감방사선성 조성물로 형성된 화소 및(또는) 블랙 매트릭스를 구비하고 있다.(G) On the thin film transistor substrate array, a pixel and / or a black matrix formed of the radiation-sensitive composition for forming the colored layer of (a), (b), (c) or (d) are provided.

이상과 같이, 본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물은 방사선에 대한 감도가 높은 O-아실옥심형 광 라디칼 발생제 (D1)을 포함하는 광 라디칼 발생제를 사용함으로써, 안료를 고농도로 포함하는 경우에 있어서도 현상시에 미노광부의 기판 상 및 차광층 상에 미용해물이 잔존하거나, 화소 패턴 및 블랙 매트릭스 패턴의 단부에 스컴이 생기거나 하지 않고, 또한 저노광량에서도 패턴 단부의 결함 및 언더컷이 없는 양호한 화소 패턴 및 블랙 매트릭스 패턴을 형성할 수 있다.As described above, the radiation-sensitive composition for forming a colored layer of the present invention contains a pigment at a high concentration by using an optical radical generator including an O-acyl oxime type photoradical generator (D1) having high sensitivity to radiation. In this case, undissolved matters remain on the substrate and the light shielding layer of the unexposed part during development, scums do not occur at the end portions of the pixel pattern and the black matrix pattern, and defects and undercuts at the end portions of the pattern are prevented even at a low exposure amount. Good pixel pattern and black matrix pattern can be formed.

또한, 본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물을 사용하여 형성된 화소 및 블랙 매트릭스는 표면 평활성이 높고, 기판과의 밀착성도 우수하다.Moreover, the pixel and black matrix formed using the radiation sensitive composition for colored layer formation of this invention have high surface smoothness, and are excellent also in adhesiveness with a board | substrate.

따라서, 본 발명의 착색층 형성용 감방사선성 조성물은 전자 공업 분야에서의 컬러 액정 표시 패널용 컬러 필터를 비롯한 각종 컬러 필터의 제조에 매우 바람직하게 사용할 수 있다. Therefore, the radiation sensitive composition for colored layer formation of this invention can be used very favorably for manufacture of various color filters including the color filter for color liquid crystal display panels in the electronic industry.

<실시예><Example>

이하, 실시예를 들어 본 발명의 실시 형태를 더욱 구체적으로 설명한다. 단, 본 발명은 하기 실시예로 한정되는 것이 아니다. Hereinafter, an Example is given and embodiment of this invention is described further more concretely. However, the present invention is not limited to the following examples.

여기서, 부 및 ％는 중량 기준이다.Where parts and% are based on weight.

<(B) 알칼리 가용성 수지의 제조><(B) Production of Alkali Soluble Resin>

<합성예 1>Synthesis Example 1

냉각관 및 교반기를 구비한 플라스크에, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 1 부 및 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 200 부를 넣고, 이어서 메타크릴산 15 부, 스티렌 15 부, 벤질 메타크릴레이트 35 부, 글리세롤 모노메타크릴레이트 10 부, N-페닐말레이미드 25 부 및 연쇄 이동제 α-메틸스티렌 다이머 2.5 부를 넣어 질소 치환한 후, 천천히 교반하여 반응 용액을 80 ℃로 승온하고, 이 온도를 유지하여 3 시간 중합하였다. 그 후, 반응 용액을 100 ℃로 승온하여 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 0.5 부를 첨가하고, 추가로 1 시간 중합함 으로써 수지 용액(고형분 농도= 33.0 ％)을 얻었다.In a flask equipped with a cooling tube and a stirrer, 1 part of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) and 200 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate were added, followed by 15 parts of methacrylic acid and 15 parts of styrene. , 35 parts of benzyl methacrylate, 10 parts of glycerol monomethacrylate, 25 parts of N-phenylmaleimide, and 2.5 parts of chain transfer agent α-methylstyrene dimer were added thereto, followed by nitrogen substitution, followed by slow stirring to raise the reaction solution to 80 ° C. The polymerization was carried out for 3 hours while maintaining this temperature. Thereafter, the reaction solution was heated to 100 ° C, 0.5 part of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) was added, and the resin solution (solid content concentration = 33.0%) was further polymerized for 1 hour. Got it.

얻어진 수지는 Mw=17,000, Mn=8,000이었다. 이 수지를 「수지 (B-1)」로 한다.Obtained resin was Mw = 17,000 and Mn = 8,000. This resin is referred to as "resin (B-1)".

<합성예 2>Synthesis Example 2

냉각관 및 교반기를 구비한 플라스크에, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 1 부 및 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 200 부를 넣고, 이어서 메타크릴산 15 부, 스티렌 15 부, 벤질 메타크릴레이트 30 부, 글리세롤 모노메타크릴레이트 15 부, N-페닐말레이미드 25 부 및 연쇄 이동제 α-메틸스티렌 다이머 2.5 부를 넣어 질소 치환한 후, 천천히 교반하여 반응 용액을 80 ℃로 승온하고, 이 온도를 유지하여 3 시간 중합하였다. 그 후, 반응 용액을 100 ℃로 승온하여 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 0.5 부를 첨가하고, 추가로 1 시간 중합함으로써 수지 용액(고형분 농도=32.9 ％)을 얻었다.In a flask equipped with a cooling tube and a stirrer, 1 part of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) and 200 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate were added, followed by 15 parts of methacrylic acid and 15 parts of styrene. , 30 parts of benzyl methacrylate, 15 parts of glycerol monomethacrylate, 25 parts of N-phenylmaleimide, and 2.5 parts of chain transfer agent α-methylstyrene dimer were added thereto, followed by nitrogen substitution, followed by slow stirring to raise the reaction solution to 80 ° C. The polymerization was carried out for 3 hours while maintaining this temperature. Thereafter, the reaction solution was heated to 100 ° C, 0.5 part of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) was added, and the resin solution (solid content concentration = 32.9%) was obtained by further polymerizing for 1 hour. .

얻어진 수지는 Mw=19,000, Mn=9,000이었다. 이 수지를 「수지 (B-2)」로 한다.Obtained resin was Mw = 19,000 and Mn = 9,000. This resin is referred to as "resin (B-2)".

<합성예 3>Synthesis Example 3

냉각관 및 교반기를 구비한 플라스크에, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 1 부 및 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 200 부를 넣고, 이어서 메타크릴산 15 부, 스티렌 15 부, 벤질 메타크릴레이트 30 부, 글리세롤 모노메타크릴레이트 10 부, N-페닐말레이미드 30 부 및 연쇄 이동제 α-메틸스티렌 다이머 2.5 부를 넣어 질소 치환한 후, 천천히 교반하여 반응 용액을 80 ℃로 승온하고, 이 온도를 유지하여 3 시간 중합하였다. 그 후, 반응 용액을 100 ℃로 승온하여 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 0.5 부를 첨가하고, 추가로 1 시간 중합함으로써 수지 용액(고형분 농도=33.2 ％)을 얻었다. In a flask equipped with a cooling tube and a stirrer, 1 part of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) and 200 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate were added, followed by 15 parts of methacrylic acid and 15 parts of styrene. , 30 parts of benzyl methacrylate, 10 parts of glycerol monomethacrylate, 30 parts of N-phenylmaleimide, and 2.5 parts of chain transfer agent α-methylstyrene dimer were added thereto, followed by nitrogen substitution, followed by slow stirring to raise the reaction solution to 80 ° C. The polymerization was carried out for 3 hours while maintaining this temperature. Thereafter, the reaction solution was heated to 100 ° C, 0.5 part of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) was added, and the resin solution (solid content concentration = 33.2%) was obtained by further polymerizing for 1 hour. .

얻어진 수지는 Mw=15,000, Mn=7,000이었다. 이 수지를 「수지 (B-3)」으로 한다. Obtained resin was Mw = 15,000 and Mn = 7,000. This resin is referred to as "resin (B-3)".

<합성예 4>Synthesis Example 4

냉각관 및 교반기를 구비한 플라스크에, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 3 부 및 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트 200 부를 넣고, 이어서 메타크릴산 15 부, 아세나프틸렌 30 부, 벤질 메타크릴레이트 35 부, 2-히드록시에틸메타크릴레이트 10 부, ω-카르복시폴리카프로락톤 모노아크릴레이트 10 부 및 연쇄 이동제 α-메틸스티렌 다이머 5 부를 넣어 질소 치환한 후, 천천히 교반하여 반응 용액을 80 ℃로 승온하고, 이 온도를 유지하여 3 시간 중합하였다. 그 후, 반응 용액을 100 ℃로 승온하여 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 0.5 부를 첨가하고, 추가로 1 시간 중합함으로써 수지 용액(고형분 농도=31.0 ％)을 얻었다. To a flask equipped with a cooling tube and a stirrer, 3 parts of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) and 200 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate were added, followed by 15 parts of methacrylic acid and acenaphthylene. 30 parts, 35 parts of benzyl methacrylate, 10 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate, 10 parts of ω-carboxypolycaprolactone monoacrylate and 5 parts of a chain transfer agent α-methylstyrene dimer were added to replace with nitrogen, and then slowly stirred. The reaction solution was heated to 80 ° C., maintained at this temperature and polymerized for 3 hours. Thereafter, the reaction solution was heated to 100 ° C, 0.5 part of 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) was added, and the resin solution (solid content concentration = 31.0%) was obtained by further polymerizing for 1 hour. .

얻어진 수지는 Mw=10,000, Mn=6,000이었다. 이 수지를 「수지 (B-4)」로 한다. Obtained resin was Mw = 10,000 and Mn = 6,000. This resin is referred to as "resin (B-4)".

<실시예 1><Example 1>

<액상 조성물의 제조><Production of Liquid Composition>

(A) 착색제로서 C.I.피그먼트 레드 254와 C.I.피그먼트 레드 177의 80/20( 중량비) 혼합물 85 부, (B) 알칼리 가용성 수지로서 수지 (B-1) 80 부, (C) 다관능 성 단량체로서 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 80 부, (D) 광 라디칼 발생제로서 에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라히드로피라닐옥시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심) 10 부, 및 용매로서 3-에톡시프로피온산 에틸과 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트의 70/30(중량비) 혼합물 1,000 부를 혼합하여 감방사선성 조성물의 액상 조성물 (R1)을 제조하였다.(A) 85 parts of 80/20 (weight ratio) mixture of CI Pigment Red 254 and CI Pigment Red 177 as colorant, (B) 80 parts of resin (B-1) as alkali-soluble resin, (C) Polyfunctional monomer 80 parts of dipentaerythritol hexaacrylate as (D) ethanone as photo radical generator, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydropyranyloxybenzoyl) -9.H. -Carbazol-3-yl]-, 10 parts of 1- (O-acetyloxime), and 1,000 parts of a 70/30 (weight ratio) mixture of ethyl 3-ethoxypropionate and propylene glycol monomethyl ether acetate as solvent A liquid composition (R1) of the radioactive composition was prepared.

<착색층의 형성><Formation of Colored Layer>

액상 조성물 (R1)을 표면에 나트륨 이온의 용출을 방지하는 SiO₂막이 형성된 소다 유리 기판에 스핀 코팅기를 이용하여 도포한 후, 90 ℃의 핫 플레이트 상에서 2 분간 예비소성하여 막 두께 1.7 ㎛의 도막을 형성하였다.The liquid composition (R1) was applied to a soda glass substrate having a SiO ₂ film formed thereon to prevent elution of sodium ions on its surface using a spin coater, followed by prefiring for 2 minutes on a hot plate at 90 ° C. to form a coating film having a thickness of 1.7 μm. Formed.

이어서, 기판을 실온으로 냉각한 후, 고압 수은 램프를 사용하여 포토마스크(슬릿 폭 30 ㎛)를 통해 도막에 365 nm, 405 nm 및 436 nm의 각 파장을 포함하는 자외선을 노광하였다. 이 때의 노광량은 400 J/m²였다. 그 후, 기판을 23 ℃의 0.04 ％ 수산화칼륨 수용액에 1 분간 침지하여 현상한 후, 초순수로 세정하여 풍건하였다. 그 후, 220 ℃의 클린 오븐 내에서 30 분간 후소성을 행하여 기판 상에 적색의 스트라이프상 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다.Subsequently, after cooling the substrate to room temperature, an ultraviolet light containing each wavelength of 365 nm, 405 nm and 436 nm was exposed to the coating film through a photomask (slit width 30 m) using a high pressure mercury lamp. The exposure amount at this time was 400 J / m ² . Then, the board | substrate was immersed in 23 degreeC 0.04% potassium hydroxide aqueous solution for 1 minute, and developed, and it washed with ultrapure water and air-dried. Thereafter, post-firing was performed in a clean oven at 220 ° C. for 30 minutes to form a pixel array in which red stripe-like pixel patterns were arranged on a substrate.

<평가><Evaluation>

기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여는 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 단부에 스컴 및 결함은 확인되지 않았다.As a result of observing the pixel array on the substrate with an optical microscope, development residual was not confirmed on the substrate of the unexposed portion, and scum and defects were not confirmed at the end of the pixel pattern.

또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더컷은 확인되지 않았다. 형성 가능한 패턴의 선폭은 10 ㎛였다. Moreover, as a result of observing the cross section of a pixel pattern with the scanning electron microscope (SEM), undercut was not confirmed. The line width of the pattern which can be formed was 10 micrometers.

<비교예 1>Comparative Example 1

<액상 조성물의 제조 및 착색층의 형성><Production of Liquid Composition and Formation of Colored Layer>

(D) 성분을 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논 30 부로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 감방사선성 조성물 (r1)을 제조하였다.A radiation sensitive composition (r1) was produced in the same manner as in Example 1 except that the component (D) was changed to 30 parts of 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone. It was.

이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (r1)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 적색의 스트라이프상 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다.Subsequently, except for using the liquid composition (r1) instead of the liquid composition (R1), in the same manner as in Example 1, a pixel array in which red striped pixel patterns were arranged on a substrate was formed.

<평가><Evaluation>

기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여는 확인되지 않았지만, 화소 패턴의 단부에 결함이 확인되었다.As a result of observing the pixel array on the substrate with an optical microscope, development residual was not confirmed on the substrate of the unexposed portion, but a defect was confirmed at the end of the pixel pattern.

또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더컷이 확인되었다. 형성 가능한 패턴의 선폭은 15 ㎛였다.Moreover, as a result of observing the cross section of the pixel pattern with the scanning electron microscope (SEM), the undercut was confirmed. The line width of the pattern which can be formed was 15 micrometers.

<실시예 2> <Example 2>

(A) 착색제로서 C.I.피그먼트 그린 36과 C.I.피그먼트 옐로우 150의 60/40(중량비) 혼합물 95 부, (B) 알칼리 가용성 수지로서 수지 (B-2) 70 부, (C) 다관능성 단량체로서 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 80 부, (D) 광 라디칼 발생제로 서 에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-5-테트라히드로피라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심) 12 부, 첨가제로서 말론산 1 부 및 용매로서 3-메톡시부틸아세테이트와 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트의 50/50(중량비) 혼합물 900 부를 혼합하여 감방사선성 조성물의 액상 조성물 (G1)을 제조하였다.(A) 95 parts of 60/40 (weight ratio) mixture of CI pigment green 36 and CI pigment yellow 150 as a coloring agent, (B) 70 parts of resin (B-2) as alkali-soluble resin, (C) as a polyfunctional monomer 80 parts of dipentaerythritol hexaacrylate, (D) ethanone as photo radical generator, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydropyranylmethoxybenzoyl) -9.H.- Carbazol-3-yl]-, 1- (O-acetyloxime) 12 parts, 1 part malonic acid as additive and 50/50 (weight ratio) mixture of 3-methoxybutyl acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate as solvent 900 parts were mixed to prepare a liquid composition (G1) of the radiation sensitive composition.

이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (G1)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 녹색의 스트라이프상 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다.Next, except having used liquid composition (G1) instead of liquid composition (R1), it carried out similarly to Example 1, and formed the pixel array in which the green stripe pixel pattern was arranged on the board | substrate.

<평가><Evaluation>

<실시예 3><Example 3>

(A) 착색제로서 C.I.피그먼트 블루 15:6과 C.I.피그먼트 바이올렛 23의 95/5 (중량비) 혼합물 70 부, (B) 알칼리 가용성 수지로서 수지 (B-3) 60 부, (C) 다관능성 단량체로서 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 90 부, (D) 광 라디칼 발생제로서 에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-5-테트라히드로푸라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심) 20 부, 첨가제로서 A-60(상품명, 가오(주) 제조, 비이온계 계면 활성제) 5 부 및 용매로서 3-에톡시프로피온산 에틸과 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트의 60/40(중량비) 혼합물 900 중량부를 혼합하여 감방사선성 조성물의 액상 조성물 (B1)을 제조하였다.(A) 70 parts of 95/5 (weight ratio) mixture of CI pigment blue 15: 6 and CI pigment violet 23 as a coloring agent, (B) 60 parts of resin (B-3) as alkali-soluble resin, (C) polyfunctionality 90 parts of dipentaerythritol hexaacrylate as monomer, (D) ethanone as photo radical generator, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydrofuranylmethoxybenzoyl) -9.H .-Carbazol-3-yl]-, 20 parts of 1- (O-acetyloxime), 5 parts of A-60 (trade name, manufactured by Gao Co., Ltd., nonionic surfactant) as an additive and 3-in as a solvent. 900 parts by weight of a 60/40 (weight ratio) mixture of ethyl oxypropionate and propylene glycol monomethyl ether acetate was mixed to prepare a liquid composition (B1) of the radiation sensitive composition.

이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (B1)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 청색의 스트라이프상 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다. Next, except having used the liquid composition (B1) instead of the liquid composition (R1), it carried out similarly to Example 1, and formed the pixel array in which the blue stripe pixel pattern was arranged on the board | substrate.

<평가><Evaluation>

기판 상의 화소 어레이를 광학 현미경으로 관찰한 결과, 미노광부의 기판 상에 현상 잔여는 확인되지 않았고, 또한 화소 패턴의 단부에 스컴 및 결함은 확인되지 않았다. As a result of observing the pixel array on the substrate with an optical microscope, development residual was not confirmed on the substrate of the unexposed portion, and scum and defects were not confirmed at the end of the pixel pattern.

<실시예 4><Example 4>

(A) 착색제로서 카본 블랙(미꾸니 시끼소(주) 제조) 250 부, (B) 알칼리 가용성 수지로서 수지 (B-4) 75 부, (C) 다관능성 단량체로서 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 75 부, (D) 광 라디칼 발생제로서 에타논, 1-[9-에틸-6-(2-메틸-4-테트라히드로푸라닐메톡시벤조일)-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심) 10 부 및 용매로서 프로필렌글리콜 모노메틸에테르아세테이트와 시클로헥사논의 50/50(중량비) 혼합물 1,000 부를 혼합하여 감방사선성 조성물의 액상 조성물 (BK1)을 제조하 였다.(A) 250 parts of carbon black (manufactured by Mikushikiso Co., Ltd.) as a coloring agent, (B) 75 parts of resin (B-4) as alkali-soluble resin, (C) dipentaerythritol hexaacrylate as a polyfunctional monomer 75 parts, (D) ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydrofuranylmethoxybenzoyl) -9.H.-carbazol-3-yl] as an optical radical generator -, 10 parts of 1- (O-acetyloxime) and 1,000 parts of a 50/50 (weight ratio) mixture of propylene glycol monomethyl ether acetate and cyclohexanone as a solvent were mixed to prepare a liquid composition (BK1) of the radiation-sensitive composition. .

이어서, 액상 조성물 (R1) 대신에 액상 조성물 (BK1)을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 기판 상에 흑색의 스트라이프상 화소 패턴이 배열된 화소 어레이를 형성하였다. Subsequently, except having used the liquid composition (BK1) instead of the liquid composition (R1), it carried out similarly to Example 1, and formed the pixel array in which the black stripe pixel pattern was arranged on the board | substrate.

<평가><Evaluation>

<실시예 5>Example 5

(D) 광 라디칼 발생제로서 에타논, 1-[9-에틸-6-[2-메틸-4-(2,2-디메틸-1,3-디옥솔라닐)메톡시벤조일]-9.H.-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심)을 사용한 것 이외에는, 실시예 4와 동일하게 하여 감방사선성 조성물의 액상 조성물 (BK2)를 제조하였다. (D) ethanone, 1- [9-ethyl-6- [2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl) methoxybenzoyl] -9.H as an optical radical generator A liquid composition (BK2) of the radiation sensitive composition was prepared in the same manner as in Example 4 except that .-carbazol-3-yl]-and 1- (O-acetyloxime) were used.

<평가><Evaluation>

또한, 화소 패턴의 단면을 주사형 전자 현미경(SEM)으로 관찰한 결과, 언더컷은 확인되지 않았다. 형성 가능한 패턴의 선폭은 9 ㎛였다. Moreover, as a result of observing the cross section of a pixel pattern with the scanning electron microscope (SEM), undercut was not confirmed. The line width of the pattern which can be formed was 9 micrometers.

본 발명에 따르면, 우수한 현상성을 나타내는 착색층 형성용 감방사선성 조성물, 보다 구체적으로는 현상시에 미용해물이 잔존하거나, 패턴 단부에 스컴이 생기거나 하지 않고, 또한 저노광량에서도 패턴 단부의 결함 및 언더컷을 일으키지 않는 화소 및 블랙 매트릭스를 제공하는 신규한 착색층 형성용 감방사선성 조성물을 제공할 수 있다.According to the present invention, the radiation-sensitive composition for forming a colored layer exhibiting excellent developability, more specifically, undissolved matters remain at the time of development, scum does not occur at the end of the pattern, and defects at the end of the pattern even at a low exposure amount. And a novel radiation-sensitive composition for forming a colored layer that provides a pixel and a black matrix that does not cause undercut.

Claims

An optical radical generator comprising (A) a colorant, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer or a combination thereof and a monofunctional monomer, and (D) a compound represented by the following formula (1) or (2) as an essential component: The radiation sensitive composition for colored layer formation characterized by containing.

In formula, R <_1> is a C1-C20 alkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, or a phenyl group, R <_2> , R <_3> is a hydrogen atom, a C1-C20 alkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a phenyl group, respectively (It may be substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group or one or more halogen atoms) or an alicyclic group having 7 to 20 carbon atoms (excluding the cycloalkyl group). R ₄ is an oxygen containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, a nitrogen containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, or a sulfur containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, and R ₅ is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or 1 carbon atom It is an alkoxyl group of 12-12, n is an integer of 1-5, m is an integer of 0-5, n + m <= 5, l is an integer of 0-6.

The colored filter formed from the radiation sensitive composition for colored layer formation of Claim 1 is provided, The color filter characterized by the above-mentioned.

The color liquid crystal display panel provided with the color filter of Claim 2.