JP5003200B2 - Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element - Google Patents

Radiation-sensitive composition for forming colored layer, color filter, and color liquid crystal display element Download PDF

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JP5003200B2 JP2007044889A JP2007044889A JP5003200B2 JP 5003200 B2 JP5003200 B2 JP 5003200B2 JP 2007044889 A JP2007044889 A JP 2007044889A JP 2007044889 A JP2007044889 A JP 2007044889A JP 5003200 B2 JP5003200 B2 JP 5003200B2
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation and the like which generate neither development residue nor scum on a pattern edge in development, cause neither chipping of a pattern edge nor undercut even with a low exposure amount, and can give a fine pattern. <P>SOLUTION: The radiation-sensitive composition for colored layer formation comprises (A) a colorant, (B) an alkali-soluble resin comprising a polyester having an aromatic cyclic hydrocarbon skeleton in a main chain and a polymerizable unsaturated bond in a side chain, (C) a polyfunctional monomer and (D) a photoradical generator. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子に関わり、より詳しくは、透過型あるいは反射型のカラー液晶表示装置、カラー撮像管素子等に用いられるカラーフィルタの製造に有用な着色層の形成に用いられる感放射線性組成物、当該感放射線性組成物を用いて形成された着色層を有するカラーフィルタ、並びに当該カラーフィルタを具備するカラー液晶表示素子に関する。   The present invention relates to a radiation-sensitive composition for forming a colored layer, a color filter, and a color liquid crystal display element. More specifically, the present invention relates to a color filter used for a transmissive or reflective color liquid crystal display device, a color imaging tube element, and the like. The present invention relates to a radiation-sensitive composition used for forming a colored layer useful for production, a color filter having a colored layer formed using the radiation-sensitive composition, and a color liquid crystal display device including the color filter.

従来、着色感放射線性組成物を用いてカラーフィルタを製造するに当たっては、基板上あるいは予め所望のパターンの遮光層を形成した基板上に、着色感放射線性組成物を塗布して乾燥したのち、乾燥塗膜を所望のパターン形状に放射線を照射(以下、「露光」という。)し、現像することにより、各色の画素を得る方法(例えば、特許文献1、特許文献2参照。)が知られている。
そして近年では、カラーフィルタの技術分野においては、露光量を下げることによりタクトタイムを短縮する動きが主流となっており、また液晶表示素子の高精細化を反映して、より微細なパターンの形成も強く求められているが、従来の着色感放射線性組成物では、現像時にパターンエッジの欠けやアンダーカットを生じやすいため、タクトタイムを短縮しつつ、良好なパターン形状の画素およびブラックマトリックスを得ることが困難であり、また高精細なパターンを形成する点でも必ずしも十分とはいえなかった。
Conventionally, in producing a color filter using a colored radiation-sensitive composition, after applying the colored radiation-sensitive composition on a substrate or a substrate on which a light-shielding layer having a desired pattern has been formed and drying, A method of obtaining pixels of each color by irradiating a dry coating film with a desired pattern shape (hereinafter referred to as “exposure”) and developing it is known (see, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2). ing.
In recent years, in the technical field of color filters, the trend to shorten the tact time by lowering the exposure amount has become the mainstream, and the formation of finer patterns reflecting the higher definition of liquid crystal display elements. However, with conventional colored radiation-sensitive compositions, pattern edges are easily chipped and undercut during development, so that pixels with a good pattern shape and a black matrix are obtained while shortening the tact time. However, it was not always sufficient in terms of forming a high-definition pattern.

特開平2−144502号公報JP-A-2-144502 特開平3−53201号公報JP-A-3-53201

本発明の課題は、優れた現像性を示す着色層形成用感放射線性組成物、より具体的には、現像時に未溶解物が残存したり、パターンエッジにスカムを生じたりすることがなく、かつ低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがなく、しかも微細な画素パターンおよびブラックマトリックスパターンを与える着色層形成用感放射線性組成物等を提供することにある。   The problem of the present invention is that the radiation-sensitive composition for forming a colored layer exhibiting excellent developability, more specifically, no undissolved material remains during development or scum is generated at the pattern edge, Another object of the present invention is to provide a radiation-sensitive composition for forming a colored layer that does not cause chipping or undercut of pattern edges even at a low exposure amount, and gives a fine pixel pattern and black matrix pattern.

本発明は、第一に、
(A)着色剤、(B)アルカリ可溶性樹脂、(C)多官能性単量体、並びに(D)光ラジカル発生剤を含有する感放射線性組成物であって、(B)アルカリ可溶性樹脂が、主鎖に芳香環がナフタレン環、2,2’−ビナフチル環、ビフェニレン環、アセナフチレン環、アセナフテン環、フェナントレン環、アントラセン環またはペリレン環の群から選ばれる芳香環式炭化水素骨格を有し、かつ側鎖に重合性不飽和結合を有するポリエステルを含むことを特徴とする着色層形成用感放射線性組成物、からなる。
本発明でいう「芳香環式炭化水素骨格」は、芳香環を構成しない炭素原子のみからなる環構造を有する炭化水素骨格を含まない。
また、本発明でいう「着色層」とは、カラーフィルタに用いられる画素および/またはブラックマトリックスからなる層を意味する。
The present invention, first,
A radiation-sensitive composition comprising (A) a colorant, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer, and (D) a photoradical generator, wherein (B) the alkali-soluble resin The aromatic ring in the main chain has an aromatic hydrocarbon skeleton selected from the group of naphthalene ring, 2,2′-binaphthyl ring, biphenylene ring, acenaphthylene ring, acenaphthene ring, phenanthrene ring, anthracene ring or perylene ring , And a radiation-sensitive composition for forming a colored layer, comprising a polyester having a polymerizable unsaturated bond in the side chain.
The “aromatic hydrocarbon skeleton” as used in the present invention does not include a hydrocarbon skeleton having a ring structure composed only of carbon atoms that do not constitute an aromatic ring.
The “colored layer” in the present invention means a layer composed of pixels and / or a black matrix used for a color filter.

本発明は、第二に、
前記着色層形成用感放射線性組成物を用いて形成された着色層を有するカラーフィルタ、からなる。
The present invention secondly,
The color filter which has a colored layer formed using the said radiation sensitive composition for colored layer formation.

本発明は、第三に、
前記カラーフィルタを具備してなるカラー液晶表示素子、からなる。
Third, the present invention
A color liquid crystal display device comprising the color filter;

以下、本発明について詳細に説明する。
着色層形成用感放射線性組成物
−(A)成分−
本発明における(A)成分である着色剤の色調は特に限定されるものではなく、得られるカラーフィルタの用途に応じて適宜選定され、顔料、染料あるいは天然色素の何れでもよい。
カラーフィルタには高精細な発色と耐熱性が求められることから、本発明における着色剤としては、発色性が高く、かつ耐熱性の高い着色剤、特に耐熱分解性の高い着色剤が好ましく、通常、有機顔料あるいは無機顔料が用いられ、特に好ましくは、有機顔料、カーボンブラックが用いられる。
前記有機顔料としては、例えば、カラーインデックス(C.I.;The Society of Dyers
and Colourists社発行) においてピグメント(Pigment)に分類されている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデックス(C.I.)番号が付されているものを挙げることができる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
Radiation-sensitive composition for forming colored layer- component (A)-
The color tone of the colorant, which is the component (A) in the present invention, is not particularly limited, and is appropriately selected according to the use of the obtained color filter, and may be any of a pigment, a dye, or a natural pigment.
Since the color filter is required to have high-definition color development and heat resistance, the colorant in the present invention is preferably a colorant having high color developability and high heat resistance, in particular, a colorant having high heat decomposition resistance. Organic pigments or inorganic pigments are used, and organic pigments and carbon black are particularly preferably used.
Examples of the organic pigment include a color index (CI; The Society of Dyers).
and Colourists, Inc.), and compounds having a color index (CI) number as shown below can be mentioned.

C.I.ピグメントイエロー1、C.I.ピグメントイエロー3、C.I.ピグメントイエロー12、C.I.ピグメントイエロー13、C.I.ピグメントイエロー14、C.I.ピグメントイエロー15、C.I.ピグメントイエロー16、C.I.ピグメントイエロー17、C.I.ピグメントイエロー20、C.I.ピグメントイエロー24、C.I.ピグメントイエロー31、C.I.ピグメントイエロー55、C.I.ピグメントイエロー60、C.I.ピグメントイエロー61、C.I.ピグメントイエロー65、C.I.ピグメントイエロー71、C.I.ピグメントイエロー73、C.I.ピグメントイエロー74、C.I.ピグメントイエロー81、C.I.ピグメントイエロー83、C.I.ピグメントイエロー93、C.I.ピグメントイエロー95、C.I.ピグメントイエロー97、C.I.ピグメントイエロー98、C.I.ピグメントイエロー100、C.I.ピグメントイエロー101、C.I.ピグメントイエロー104、C.I.ピグメントイエロー106、C.I.ピグメントイエロー108、C.I.ピグメントイエロー109、C.I.ピグメントイエロー110、C.I.ピグメントイエロー113、C.I.ピグメントイエロー114、C.I.ピグメントイエロー116、C.I.ピグメントイエロー117、C.I.ピグメントイエロー119、C.I.ピグメントイエロー120、C.I.ピグメントイエロー126、C.I.ピグメントイエロー127、C.I.ピグメントイエロー128、C.I.ピグメントイエロー129、C.I.ピグメントイエロー138、C.I.ピグメントイエロー139、C.I.ピグメントイエロー150、C.I.ピグメントイエロー151、C.I.ピグメントイエロー152、C.I.ピグメントイエロー153、C.I.ピグメントイエロー154、C.I.ピグメントイエロー155、C.I.ピグメントイエロー156、C.I.ピグメントイエロー166、C.I.ピグメントイエロー168、C.I.ピグメントイエロー175、C.I.ピグメントイエロー180、C.I.ピグメントイエロー185; CI Pigment Yellow 1, CI Pigment Yellow 3, CI Pigment Yellow 12, CI Pigment Yellow 13, CI Pigment Yellow 14, CI Pigment Yellow 15, CI Pigment Yellow 16, CI Pigment Yellow 17, CI Pigment Yellow 20, CI Pigment Yellow 24, CI Pigment Yellow 31, CI Pigment Yellow 55, CI Pigment Yellow 60, CI Pigment Yellow 61, CI Pigment Yellow 65, CI Pigment Yellow 71, CI Pigment Yellow 73, CI Pigment Yellow 74, CI Pigment Yellow 81, CI Pigment Yellow 83, CI Pigment Yellow 93, CI Pigment Yellow 95, CI Pigment Yellow 97, CI Pigment Yellow 98, CI Pigment Yellow 100, CI CI Pigment Yellow 101, CI Pigment Yellow 104, CI Pigment Yellow 106, CI Pigment Yellow 108, CI Pigment Yellow 109, CI Pigment Yellow 110, CI Pigment Yellow 113, CI Pigment Yellow 114, CI Pigment Yellow 116, CI Pigment Yellow 117, CI Pigment Yellow 119, CI Pigment Yellow 120, CI Pigment Yellow 126, CI Pigment Yellow 127, CI Pigment Yellow 128, CI Pigment Yellow 129, CI Pigment Yellow 138, CI Pigment Yellow 139, CI Pigment Yellow 150, CI Pigment Yellow 151, CI Pigment Yellow 152, CI Pigment Yellow 153, CI Pigment Yellow 154, CI Pigment ...... DOO Yellow 155, C.I Pigment Yellow 156, C.I Pigment Yellow 166, C.I Pigment Yellow 168, C.I Pigment Yellow 175, C.I Pigment Yellow 180, C.I Pigment Yellow 185;

C.I.ピグメントオレンジ1、C.I.ピグメントオレンジ5、C.I.ピグメントオレンジ13、C.I.ピグメントオレンジ14、C.I.ピグメントオレンジ16、C.I.ピグメントオレンジ17、C.I.ピグメントオレンジ24、C.I.ピグメントオレンジ34、C.I.ピグメントオレンジ36、C.I.ピグメントオレンジ38、C.I.ピグメントオレンジ40、C.I.ピグメントオレンジ43、C.I.ピグメントオレンジ46、C.I.ピグメントオレンジ49、C.I.ピグメントオレンジ51、C.I.ピグメントオレンジ61、C.I.ピグメントオレンジ63、C.I.ピグメントオレンジ64、C.I.ピグメントオレンジ71、C.I.ピグメントオレンジ73;
C.I.ピグメントバイオレット1、C.I.ピグメントバイオレット19、C.I.ピグメントバイオレット23、C.I.ピグメントバイオレット29、C.I.ピグメントバイオレット32、C.I.ピグメントバイオレット36、C.I.ピグメントバイオレット38;
CI Pigment Orange 1, CI Pigment Orange 5, CI Pigment Orange 13, CI Pigment Orange 14, CI Pigment Orange 16, CI Pigment Orange 17, CI Pigment Orange 24, CI Pigment Orange 34, CI Pigment Orange 36, CI Pigment Orange 38, CI Pigment Orange 40, CI Pigment Orange 43, CI Pigment Orange 46, CI Pigment Orange 49, CI Pigment Orange 51, CI Pigment Orange 61, CI Pigment Orange 63, CI Pigment Orange 64, CI Pigment Orange 71, CI Pigment Orange 73;
CI Pigment Violet 1, CI Pigment Violet 19, CI Pigment Violet 23, CI Pigment Violet 29, CI Pigment Violet 32, CI Pigment Violet 36, CI Pigment Violet 38;

C.I.ピグメントレッド1、C.I.ピグメントレッド2、C.I.ピグメントレッド3、C.I.ピグメントレッド4、C.I.ピグメントレッド5、C.I.ピグメントレッド6、C.I.ピグメントレッド7、C.I.ピグメントレッド8、C.I.ピグメントレッド9、C.I.ピグメントレッド10、C.I.ピグメントレッド11、C.I.ピグメントレッド12、C.I.ピグメントレッド14、C.I.ピグメントレッド15、C.I.ピグメントレッド16、C.I.ピグメントレッド17、C.I.ピグメントレッド18、C.I.ピグメントレッド19、C.I.ピグメントレッド21、C.I.ピグメントレッド22、C.I.ピグメントレッド23、C.I.ピグメントレッド30、C.I.ピグメントレッド31、C.I.ピグメントレッド32、C.I.ピグメントレッド37、C.I.ピグメントレッド38、C.I.ピグメントレッド40、C.I.ピグメントレッド41、C.I.ピグメントレッド42、C.I.ピグメントレッド48:1、C.I.ピグメントレッド48:2、C.I.ピグメントレッド48:3、C.I.ピグメントレッド48:4、C.I.ピグメントレッド49:1、C.I.ピグメントレッド49:2、C.I.ピグメントレッド50:1、C.I.ピグメントレッド52:1、C.I.ピグメントレッド53:1、C.I.ピグメントレッド57、C.I.ピグメントレッド57:1、C.I.ピグメントレッド57:2、C.I.ピグメントレッド58:2、C.I.ピグメントレッド58:4、C.I.ピグメントレッド60:1、C.I.ピグメントレッド63:1、C.I.ピグメントレッド63:2、C.I.ピグメントレッド64:1、C.I.ピグメントレッド81:1、C.I.ピグメントレッド83、C.I.ピグメントレッド88、C.I.ピグメントレッド90:1、C.I.ピグメントレッド97、 CI Pigment Red 1, CI Pigment Red 2, CI Pigment Red 3, CI Pigment Red 4, CI Pigment Red 5, CI Pigment Red 6, CI Pigment Red 7, CI Pigment Red 8, CI Pigment Red 9, CI Pigment Red 10, CI Pigment Red 11, CI Pigment Red 12, CI Pigment Red 14, CI Pigment Red 15, CI Pigment Red 16, CI Pigment Red 17, CI Pigment Red 18, CI Pigment Red 19, CI Pigment Red 21, CI Pigment Red 22, CI Pigment Red 23, CI Pigment Red 30, CI Pigment Red 31, CI Pigment Red 32, CI Pigment Red 37, CI Pigment Red 38, CI Pigment Red 40, CI Pigment Red 41, CI Pigment Red 42, CI Pigment Red 48: 1, CI Pigment Red 48: 2, CI Pigment Red 48: 3, CI Pigment Red 48: 4, CI Pigment Red 49: 1, CI Pigment Red 49: 2, CI CI Pigment Red 50: 1, CI Pigment Red 52: 1, CI Pigment Red 53: 1, CI Pigment Red 57, CI Pigment Red 57: 1, CI Pigment Red 57: 2, CI Pigment Red 58: 2, CI Pigment Red 58 : 4, CI Pigment Red 60: 1, CI Pigment Red 63: 1, CI Pigment Red 63: 2, CI Pigment Red 64: 1, CI Pigment Red 81: 1, CI Pigment Red 83, CI Pigment Red 88, CI Pigment Red 90: 1, CI pigmentless 97,

C.I.ピグメントレッド101、C.I.ピグメントレッド102、C.I.ピグメントレッド104、C.I.ピグメントレッド105、C.I.ピグメントレッド106、C.I.ピグメントレッド108、C.I.ピグメントレッド112、C.I.ピグメントレッド113、C.I.ピグメントレッド114、C.I.ピグメントレッド122、C.I.ピグメントレッド123、C.I.ピグメントレッド144、C.I.ピグメントレッド146、C.I.ピグメントレッド149、C.I.ピグメントレッド150、C.I.ピグメントレッド151、C.I.ピグメントレッド166、C.I.ピグメントレッド168、C.I.ピグメントレッド170、C.I.ピグメントレッド171、C.I.ピグメントレッド172、C.I.ピグメントレッド174、C.I.ピグメントレッド175、C.I.ピグメントレッド176、C.I.ピグメントレッド177、C.I.ピグメントレッド178、C.I.ピグメントレッド179、C.I.ピグメントレッド180、C.I.ピグメントレッド185、C.I.ピグメントレッド187、C.I.ピグメントレッド188、C.I.ピグメントレッド190、C.I.ピグメントレッド193、C.I.ピグメントレッド194、C.I.ピグメントレッド202、C.I.ピグメントレッド206、C.I.ピグメントレッド207、C.I.ピグメントレッド208、C.I.ピグメントレッド209、C.I.ピグメントレッド215、C.I.ピグメントレッド216、C.I.ピグメントレッド220、C.I.ピグメントレッド224、C.I.ピグメントレッド226、C.I.ピグメントレッド242、C.I.ピグメントレッド243、C.I.ピグメントレッド245、C.I.ピグメントレッド254、C.I.ピグメントレッド255、C.I.ピグメントレッド264、C.I.ピグメントレッド265; CI Pigment Red 101, CI Pigment Red 102, CI Pigment Red 104, CI Pigment Red 105, CI Pigment Red 106, CI Pigment Red 108, CI Pigment Red 112, CI Pigment Red 113, CI Pigment Red 114, CI Pigment Red 122, CI Pigment Red 123, CI Pigment Red 144, CI Pigment Red 146, CI Pigment Red 149, CI Pigment Red 150, CI Pigment Red 151, CI Pigment Red 166, CI Pigment Red 168, CI Pigment Red 170, CI Pigment Red 171, CI Pigment Red 172, CI Pigment Red 174, CI Pigment Red 175, CI Pigment Red 176, CI Pigment Red 177, CI Pigment Red 178, CI Pigment Red 179, CI Pigment Red 180, CI Pigment Red 185, CI Pigment Red 187, CI Pigment Red 188, CI Pigment Red 190, CI Pigment Red 193, CI Pigment Red 194, CI Pigment Red 202, CI Pigment Red 206, CI Pigment Red 207, CI Pigment Red 208, CI Pigment Red 209, CI Pigment Red 215, CI Pigment Red 216, CI Pigment Red 220, CI Pigment Red 224, CI Pigment Red 226, CI Pigment Red 242, CI Pigment Red 243, CI Pigment Red 245, CI Pigment Red 254, CI Pigment Red 255, CI Pigment Red 264, C.I. Pigment Red 265;

C.I.ピグメントブルー15、C.I.ピグメントブルー15:3、C.I.ピグメントブルー15:4、C.I.ピグメントブルー15:6、C.I.ピグメントブルー60;
C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36;
C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメントブラウン25;
C.I.ピグメントブラック1、C.I.ピグメントブラック7。
前記有機顔料は、例えば、硫酸再結晶法、溶剤洗浄法や、これらの組み合わせ等により精製して使用することができる。
CI Pigment Blue 15, CI Pigment Blue 15: 3, CI Pigment Blue 15: 4, CI Pigment Blue 15: 6, CI Pigment Blue 60;
CI Pigment Green 7, CI Pigment Green 36;
CI Pigment Brown 23, CI Pigment Brown 25;
CI Pigment Black 1, CI Pigment Black 7.
The organic pigment can be used after being purified by, for example, a sulfuric acid recrystallization method, a solvent washing method, or a combination thereof.

また、前記無機顔料としては、例えば、酸化チタン、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、亜鉛華、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら(赤色酸化鉄(III))、カドミウム赤、群青、紺青、酸化クロム緑、コバルト緑、アンバー、チタンブラック、合成鉄黒、カーボンブラック等を挙げることができる。   Examples of the inorganic pigment include titanium oxide, barium sulfate, calcium carbonate, zinc white, lead sulfate, yellow lead, zinc yellow, red bean curd (red iron oxide (III)), cadmium red, ultramarine blue, bitumen, and chromium oxide. Examples include green, cobalt green, amber, titanium black, synthetic iron black, and carbon black.

本発明において、前記顔料は単独でまたは2種以上を混合して使用することができ、また有機顔料と無機顔料とを併用することができるが、画素を形成する際には、好ましくは1種以上の有機顔料が使用され、またブラックマトリックスを形成する際には、好ましくは2種以上の有機顔料および/またはカーボンブラックが使用される。   In the present invention, the pigments can be used alone or in admixture of two or more, and an organic pigment and an inorganic pigment can be used in combination. The above organic pigments are used, and when forming a black matrix, two or more organic pigments and / or carbon black are preferably used.

本発明においては、前記顔料は、所望により、その粒子表面をポリマーで改質して使用することができる。顔料の粒子表面を改質するポリマーとしては、例えば、特許文献3等に記載されたポリマーや、市販の各種の顔料分散用のポリマーまたはオリゴマー等を挙げることができる。
特開平8−259876号公報
In the present invention, the pigment surface can be used by modifying the particle surface with a polymer, if desired. Examples of the polymer that modifies the pigment particle surface include the polymers described in Patent Document 3 and the like, and various commercially available polymers or oligomers for dispersing pigments.
JP-A-8-259876

また、本発明において、着色剤は、所望により、分散剤と共に使用することができる。 前記分散剤としては、例えば、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性、シリコーン系、フッ素系等の界面活性剤を挙げることができる。
前記界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類;ポリオキシエチレン n−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン n−ノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類;ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のポリエチレングリコールジエステル類;ソルビタン脂肪酸エステル類;脂肪酸変性ポリエステル類;3級アミン変性ポリウレタン類;ポリエチレンイミン類等のほか、以下商品名で、KP(信越化学工業(株)製)、ポリフロー(共栄社化学(株)製)、エフトップ(トーケムプロダクツ社製)、メガファック(大日本インキ化学工業(株)製)、フロラード(住友スリーエム(株)製)、アサヒガード、サーフロン(以上、旭硝子(株)製)、BYK、Disperbyk(以上、ビックケミー・ジャパン(株)製)、ソルスパース(セネカ(株)製)、EFKA(エフカー・ケミカルズ・ビーブイ社製)等を挙げることができる。
これらの界面活性剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
界面活性剤の使用量は、着色剤100重量部に対して、通常、50重量部以下、好ましくは0〜30重量部である。
Moreover, in this invention, a coloring agent can be used with a dispersing agent depending on necessity. Examples of the dispersant include cationic, anionic, nonionic, amphoteric, silicone, and fluorine surfactants.
Examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether; polyoxyethylene n-octylphenyl ether, polyoxyethylene n-nonyl. Polyoxyethylene alkyl phenyl ethers such as phenyl ether; polyethylene glycol diesters such as polyethylene glycol dilaurate and polyethylene glycol distearate; sorbitan fatty acid esters; fatty acid-modified polyesters; tertiary amine-modified polyurethanes; polyethyleneimines In addition, the following trade names are KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Polyflow (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), and F-Top (manufactured by Tochem Products). MegaFuck (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.), Florard (Sumitomo 3M Co., Ltd.), Asahi Guard, Surflon (above Asahi Glass Co., Ltd.), BYK, Disperbyk (above, Big Chemie Japan Co., Ltd.) Product), Solsperse (manufactured by Seneca Co., Ltd.), EFKA (manufactured by EFKA Chemicals Beebuy Co., Ltd.), and the like.
These surfactants can be used alone or in admixture of two or more.
The usage-amount of surfactant is 50 parts weight or less normally with respect to 100 weight part of coloring agents, Preferably it is 0-30 weight part.

本発明において、感放射線性樹脂組成物は、適宜の方法により調製することができるが、着色剤として顔料を用いる場合、該顔料を溶媒中、分散剤の存在下で、場合により後述する(B)アルカリ可溶性樹脂と共に、例えばビーズミル、ロールミル等を用いて、粉砕しつつ混合・分散して顔料分散液とし、これを、後述する(B)〜(D)成分等と混合することにより調製することが好ましい。   In the present invention, the radiation-sensitive resin composition can be prepared by an appropriate method. However, when a pigment is used as a colorant, the pigment is used in a solvent in the presence of a dispersant, as will be described later (B ) Along with alkali-soluble resin, for example, using a bead mill, roll mill, etc., mixing and dispersing while pulverizing to prepare a pigment dispersion, which is prepared by mixing with components (B) to (D) described later Is preferred.

顔料分散液を調製する際の分散剤の使用量は、顔料100重量部に対して、通常、100重量部以下、好ましくは0.5〜100重量部、さらに好ましくは1〜70重量部、特に好ましくは10〜50重量部である。この場合、分散剤の使用量が100重量部を超えると、現像性等が損なわれるおそれがある。
また、顔料分散液を調製する際に使用される溶媒としては、例えば、後述する感放射線性樹脂組成物の液状組成物について例示する溶媒と同様のものを挙げることができる。
顔料分散液を調製する際の溶媒の使用量は、顔料100重量部に対して、通常、200〜1,200重量部、好ましくは300〜1000重量部である。
The amount of the dispersant used in preparing the pigment dispersion is usually 100 parts by weight or less, preferably 0.5 to 100 parts by weight, more preferably 1 to 70 parts by weight, particularly 100 parts by weight of the pigment. Preferably it is 10-50 weight part. In this case, if the amount of the dispersant used exceeds 100 parts by weight, developability and the like may be impaired.
Moreover, as a solvent used when preparing a pigment dispersion liquid, the thing similar to the solvent illustrated about the liquid composition of the radiation sensitive resin composition mentioned later can be mentioned, for example.
The amount of the solvent used in preparing the pigment dispersion is usually 200 to 1,200 parts by weight, preferably 300 to 1000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the pigment.

顔料分散液の調製に際し、ビーズミルを用いて調製する際には、例えば、直径0.5〜10mm程度のガラスビーズやチタニアビーズ等を使用し、顔料、溶媒および分散剤からなる顔料混合液を、好ましくは冷却水等で冷却しながら混合・分散することにより実施することができる。
この場合、ビーズの充填率は、通常、ミル容量の50〜80%であり、顔料混合液の注入量は、通常、ミル容量の20〜50%程度である。また処理時間は、通常、2〜50時間、好ましくは2〜25時間である。
また、ロールミルを用いて調製する際には、例えば、3本ロールミルや2本ロールミル等を使用し、顔料混合液を、好ましくは冷却水等で冷却しながら処理することにより実施することができる。
この場合、ロール間隔は10μm以下であることが好ましく、剪断力は、通常、108 dyn/秒程度である。また処理時間は、通常、2〜50時間、好ましくは2〜25時間である。
When preparing a pigment dispersion using a bead mill, for example, glass beads or titania beads having a diameter of about 0.5 to 10 mm are used, and a pigment mixture composed of a pigment, a solvent and a dispersant is used. Preferably, it can be carried out by mixing and dispersing while cooling with cooling water or the like.
In this case, the filling rate of the beads is usually 50 to 80% of the mill capacity, and the injection amount of the pigment mixed solution is usually about 20 to 50% of the mill capacity. The treatment time is usually 2 to 50 hours, preferably 2 to 25 hours.
Moreover, when preparing using a roll mill, it can carry out by processing, for example, using a 3 roll mill, a 2 roll mill, etc., preferably cooling a pigment liquid mixture with cooling water etc.
In this case, the roll interval is preferably 10 μm or less, and the shearing force is usually about 10 8 dyn / sec. The treatment time is usually 2 to 50 hours, preferably 2 to 25 hours.

−(B)成分−
本発明における(B)成分は、主鎖に芳香環がナフタレン環、2,2’−ビナフチル環、ビフェニレン環、アセナフチレン環、アセナフテン環、フェナントレン環、アントラセン環またはペリレン環の群から選ばれる芳香環式炭化水素骨格を有し、かつ側鎖に重合性不飽和結合を有するポリエステル(以下、「側鎖不飽和芳香環式ポリエステル」という。)を含むアルカリ可溶性樹脂(以下、「(B)アルカリ可溶性樹脂」という。)であり、(A)着色剤に対してバインダーとして作用し、かつカラーフィルタを製造する際に、その現像処理工程において用いられるアルカリ現像液に対して可溶性を有する樹脂である。
-(B) component-
The component (B) in the present invention is an aromatic ring in which the aromatic ring is selected from the group consisting of naphthalene ring, 2,2′-binaphthyl ring, biphenylene ring, acenaphthylene ring, acenaphthene ring, phenanthrene ring, anthracene ring or perylene ring in the main chain. An alkali-soluble resin (hereinafter referred to as “(B) alkali-soluble”) having a polyester having a hydrocarbon skeleton and having a polymerizable unsaturated bond in the side chain (hereinafter referred to as “side-chain unsaturated aromatic cyclic polyester”). (A) a resin that acts as a binder for the colorant and is soluble in an alkaline developer used in the development processing step when producing a color filter.

側鎖不飽和芳香環式ポリエステルにおける主鎖をなす芳香環式炭化水素骨格における芳香環としては、特に、2,2’−ビナフチル環、フェナントレン環、アントラセン環等が好ましい。
側鎖不飽和脂環式ポリエステルにおいて、芳香環式炭化水素骨格を有する構造部分は、通常、2つの結合手により連結して主鎖を構成するが、該2つの結合手は芳香環式炭化水素骨格を有する構造部分中の適宜の位置に存在することができる。
As the aromatic ring in the aromatic hydrocarbon skeleton constituting the main chain in the side chain unsaturated aromatic cyclic polyester, a 2,2′-binaphthyl ring, a phenanthrene ring, an anthracene ring and the like are particularly preferable.
In the side chain unsaturated alicyclic polyester, the structural part having an aromatic hydrocarbon skeleton is usually connected by two bonds to form a main chain, and the two bonds are aromatic hydrocarbons. It can exist in an appropriate position in the structural part having a skeleton.

芳香環式炭化水素骨格における芳香環は、例えば、ハロゲン原子、炭素数1〜20の1価の炭化水素基等の置換基を1個以上あるいは1種以上有することもできる。
前記置換基をなすハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等を挙げることができる。
また、前記置換基をなす炭素数1〜20の1価の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基等の脂肪族炭化水素基;シクロペンチル基、シクロオクチル基等脂環式炭化水素基;フェニル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基、ベンジル基等の芳香環式炭化水素基等を挙げることができる。
The aromatic ring in the aromatic cyclic hydrocarbon skeleton can have one or more substituents such as a halogen atom and a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, for example.
As a halogen atom which makes the said substituent, a fluorine atom, a chlorine atom, etc. can be mentioned, for example.
Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms forming the substituent include, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, a t-butyl group, Aliphatic hydrocarbon groups such as n-hexyl group and n-octyl group; cycloaliphatic hydrocarbon groups such as cyclopentyl group and cyclooctyl group; phenyl group, o-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, benzyl And aromatic cyclic hydrocarbon groups such as groups.

側鎖不飽和脂環式ポリエステルにおける側鎖の重合性不飽和結合は、着色層形成用感放射線性組成物としたときに、後述する(C)多官能性単量体や場合により使用される単官能性単量体と共重合することができる限り特に限定されるものでないが、側鎖不飽和脂環式ポリエステルの合成容易性、共重合性等の観点から、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等に由来する不飽和結合が好ましく、特に、(メタ)アクリル酸に由来する不飽和結合が好ましい。   The polymerizable unsaturated bond of the side chain in the side chain unsaturated alicyclic polyester is used as a later-described (C) polyfunctional monomer or in some cases when the radiation-sensitive composition for forming a colored layer is used. Although it is not particularly limited as long as it can be copolymerized with a monofunctional monomer, it is, for example, (meth) acrylic acid from the viewpoint of ease of synthesis and copolymerization of the side chain unsaturated alicyclic polyester. An unsaturated bond derived from crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid and the like is preferable, and an unsaturated bond derived from (meth) acrylic acid is particularly preferable.

本発明における側鎖不飽和芳香環式ポリエステルとしては、特に、下記式(1)で表されるポリエステル(以下、「ポリエステル(1)」という。)が好ましい。   The side chain unsaturated aromatic cyclic polyester in the present invention is particularly preferably a polyester represented by the following formula (1) (hereinafter referred to as “polyester (1)”).

Figure 0005003200
Figure 0005003200

〔式(1)において、各Xは相互に独立に下記式(3)、式(4)または式(5)で表される2価の基を示し、各Yは相互に独立にカルボキシル基を4個有する有機化合物のカルボキシル基を除いた残基を示し、各R1 は相互に独立に水素原子またはメチル基を示し、各R2 は相互に独立に水素原子またはカルボキシル基封鎖剤残基を示し、nは1〜40の整数である。但し、式中の*印を付した2つの結合手は相互に直接結合している。 [In the formula (1), each X independently represents a divalent group represented by the following formula (3), formula (4) or formula (5), and each Y independently represents a carboxyl group. 4 represents a residue excluding a carboxyl group of an organic compound having four, each R 1 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and each R 2 independently represents a hydrogen atom or a carboxyl group blocking agent residue. N is an integer of 1-40. However, the two bonds marked with * in the formula are directly connected to each other.

Figure 0005003200
(但し、R3 およびR4 は相互に独立に炭素数1〜20の1価の炭化水素基を示し、複数存在するR3 およびR4 はそれぞれ相互に同一でも異なってもよく、pは0〜4の整数であり、qは0〜4の整数である。)
Figure 0005003200
(However, R 3 and R 4 each independently represent a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a plurality of R 3 and R 4 may be the same or different from each other, and p is 0 -4 is an integer, and q is an integer of 0-4.)

Figure 0005003200
(但し、R3 およびR4 は相互に独立に炭素数1〜20の1価の炭化水素基を示し、複数存在するR3 およびR4 はそれぞれ相互に同一でも異なってもよく、pは0〜4の整数であり、qは0〜4の整数である。)
Figure 0005003200
(However, R 3 and R 4 each independently represent a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a plurality of R 3 and R 4 may be the same or different from each other, and p is 0 -4 is an integer, and q is an integer of 0-4.)

Figure 0005003200
(但し、R3 およびR4 は相互に独立に炭素数1〜20の1価の炭化水素基を示し、複数存在するR3 およびR4 はそれぞれ相互に同一でも異なってもよく、rは0〜6の整数であり、sは0〜6の整数である。)〕
Figure 0005003200
(However, R 3 and R 4 each independently represent a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a plurality of R 3 and R 4 may be the same or different from each other, and r is 0 ) Is an integer of -6, and s is an integer of 0-6.)]

側鎖不飽和芳香環式ポリエステルは、例えば、主鎖に芳香環式炭化水素骨格を有し、かつ側鎖に重合性不飽和結合を有するジオール化合物を合成しておき、該ジオール化合物と、2価以上、好ましくは2〜4価、特に好ましくは4価の多価カルボン酸の酸無水物とのエステル化反応により製造することができる。   The side chain unsaturated aromatic cyclic polyester is prepared, for example, by synthesizing a diol compound having an aromatic hydrocarbon skeleton in the main chain and a polymerizable unsaturated bond in the side chain. It can be produced by an esterification reaction with an acid anhydride of a polyvalent carboxylic acid having a valence of at least 2, preferably 2 to 4, and particularly preferably a tetravalent carboxylic acid.

また、ポリエステル(1)は、好ましくは、下記式(9)、式(10)または式(11)で表されるジ(メタ)アクリロイル基含有ジオール化合物と、下記式(12)で表される四塩基酸二無水物(以下、「四塩基酸二無水物(12)」という。)とのエステル化反応により製造することができる。   The polyester (1) is preferably represented by the di (meth) acryloyl group-containing diol compound represented by the following formula (9), formula (10) or formula (11), and the following formula (12). It can be produced by an esterification reaction with a tetrabasic acid dianhydride (hereinafter referred to as “tetrabasic acid dianhydride (12)”).

Figure 0005003200
〔式(9)において、R1 、R3 、R4 、pおよびqは式(1)におけるそれぞれR1 、R3 、R4 、pおよびqと同義である。〕
Figure 0005003200
In [Equation (9), R 1, R 3, R 4, p and q have the same meanings as respectively R 1, R 3, R 4 , p and q in the formula (1). ]

Figure 0005003200
〔式(10)において、R1 、R3 、R4 、pおよびqは式(1)におけるそれぞれR1 、R3 、R4 、pおよびqと同義である。〕
Figure 0005003200
In [Equation (10), R 1, R 3, R 4, p and q have the same meanings as respectively R 1, R 3, R 4 , p and q in the formula (1). ]

Figure 0005003200
〔式(11)において、R1 、R3 、R4 、pおよびqは式(1)におけるそれぞれR1 、R3 、R4 、rおよびsと同義である。〕
Figure 0005003200
[In the formula (11), R 1 , R 3 , R 4 , p and q are the same as R 1 , R 3 , R 4 , r and s in the formula (1), respectively. ]

Figure 0005003200
〔式(12)において、Yは式(1)におけるYと同義である。〕
Figure 0005003200
[In Formula (12), Y is synonymous with Y in Formula (1). ]

以下で、側鎖不飽和芳香環式ポリエステルの製造方法について、ポリエステル(1)の場合を中心として説明する。
先ず、ジ(メタ)アクリロイル基含有ジオール化合物は、例えば、前記式(、式(4)または式(5)で表されるXに対応するジフェノール化合物を用い、これをジグリシジルエーテル化してジグリシジルエーテル化物を合成したのち、該ジグリシジルエーテル化物の両末端のエポキシ基にアクリル酸および/またはメタクリル酸を付加反応させることにより合成することができる。
Below, the manufacturing method of side chain unsaturated aromatic cyclic polyester is demonstrated centering on the case of polyester (1).
First, as the di (meth) acryloyl group-containing diol compound, for example, a diphenol compound corresponding to X represented by the formula ( 3 ) , formula (4) or formula (5) is used, and this is converted to diglycidyl ether. The diglycidyl etherified product can be synthesized by adding acrylic acid and / or methacrylic acid to the epoxy groups at both ends of the diglycidyl etherified product.

(メタ)アクリロイル基含有ジオール化合物を合成する際に、ジフェノール化合物は単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
このようにして得られるジ(メタ)アクリロイル基含有ジオール化合物は、酸価が10mgKOH/g未満であり、エポキシ当量が10,000〜20,000の範囲にあることが好ましい。
When synthesizing the (meth) acryloyl group-containing diol compound, the diphenol compounds can be used alone or in admixture of two or more.
The di (meth) acryloyl group-containing diol compound thus obtained preferably has an acid value of less than 10 mgKOH / g and an epoxy equivalent in the range of 10,000 to 20,000.

ジ(メタ)アクリロイル基含有ジオール化合物を合成する際のジフェノール化合物のジグリシジルエーテル化反応は、一般のエポキシ樹脂の合成法に準じて実施することができ、例えば、ジフェノール化合物に塩基性触媒の存在下でエピクロロヒドリンを反応させることにより合成することができる。
このようにして得られるジグリシジルエーテル化物は、エポキシ当量が260〜300の範囲にあることが好ましい。
The diglycidyl etherification reaction of a diphenol compound when synthesizing a di (meth) acryloyl group-containing diol compound can be carried out according to a general epoxy resin synthesis method. For example, a basic catalyst for a diphenol compound can be used. Can be synthesized by reacting epichlorohydrin in the presence of.
The diglycidyl etherified product thus obtained preferably has an epoxy equivalent in the range of 260 to 300.

また、四塩基酸二無水物(12)としては、特に限定されるものではないが、好ましくは、下記式(12−1)で表される化合物、式(12−2)で表される化合物、式(12−3)で表される化合物等を挙げることができる。   Further, the tetrabasic acid dianhydride (12) is not particularly limited, but is preferably a compound represented by the following formula (12-1) or a compound represented by the formula (12-2). And compounds represented by formula (12-3).

Figure 0005003200
Figure 0005003200

ポリエステル(1)を製造する際のジ(メタ)アクリロイル基含有ジオール化合物と四塩基酸二無水物(12)とのエステル化反応を実施する方法は、特に限定されるものではなく、例えば、ジ(メタ)アクリロイル基含有ジオール化合物を加熱下で有機溶剤に溶解し、これに四塩基酸二無水物(12)を添加して撹拌しつつ反応させることにより、ポリエステル(1)を製造することができる。   The method for carrying out the esterification reaction between the di (meth) acryloyl group-containing diol compound and the tetrabasic acid dianhydride (12) in producing the polyester (1) is not particularly limited. A polyester (1) can be produced by dissolving a (meth) acryloyl group-containing diol compound in an organic solvent under heating, adding tetrabasic acid dianhydride (12) to this, and reacting with stirring. it can.

このようなエステル化反応により得られるポリエステル(1)は、式(1)における
2 が全て水素原子であって、四塩基酸二無水物(12)の各残基部分に2個ないし3個のカルボキシル基を有し、これによりアルカリ現像液に対する優れた溶解性を示す。
In the polyester (1) obtained by such esterification reaction, R 2 in the formula (1) is all hydrogen atoms, and 2 to 3 are present in each residue portion of the tetrabasic acid dianhydride (12). And thus exhibit excellent solubility in an alkaline developer.

また、本発明においては、エステル化反応により得られたポリエステル(1)中の遊離カルボキシル基の少なくとも一部を、カルボキシル基封鎖剤で封鎖して使用することができ、この場合のカルボキシル基の封鎖割合を変更することにより、ポリエステル(1)の酸価を調整して、アルカリ現像液への溶解性を制御することができる。
前記カルボキシル基封鎖剤としては、特に限定されず、グリシジルエーテル類、カルボジイミド類等の公知のものを挙げることができるが、例えば、フェニルグリシジルエーテル、4−n−ブチルフェニルグリシジルエーテル、レゾルシングリシジルエーテル等が好ましい。
In the present invention, at least a part of the free carboxyl groups in the polyester (1) obtained by the esterification reaction can be used by blocking with a carboxyl group blocking agent. In this case, the carboxyl group is blocked. By changing the ratio, the acid value of the polyester (1) can be adjusted to control the solubility in an alkali developer.
The carboxyl group blocking agent is not particularly limited, and examples thereof include known ones such as glycidyl ethers and carbodiimides. For example, phenyl glycidyl ether, 4-n-butylphenyl glycidyl ether, resorcing licidyl ether and the like. Is preferred.

本発明において、ポリエステル(1)のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)(溶出溶媒:テトラヒドロフラン)で測定したポリスチレン換算重量平均分子量(以下、「Mw」という。)は、好ましくは3,000〜100,000、さらに好ましくは5,000〜25,000である。この場合、ポリエステル(1)のMwが前記範囲より小さいと、被膜の可撓性や基板との密着性が低下する傾向があり、一方前記範囲より大きいと、露光時の硬化性、未硬化状態でのアルカリ現像液への溶解性等が低下する傾向がある。ポリエステル(1)のMwは、前記エステル化反応における有機溶剤や反応原料の量を変えることにより調整することができる。   In the present invention, the weight average molecular weight in terms of polystyrene (hereinafter referred to as “Mw”) measured by gel permeation chromatography (GPC) (elution solvent: tetrahydrofuran) of polyester (1) is preferably 3,000 to 100,000. 000, more preferably 5,000 to 25,000. In this case, if the Mw of the polyester (1) is smaller than the above range, the flexibility of the coating and the adhesion to the substrate tend to be lowered. On the other hand, if the Mw is larger than the above range, the curability at the time of exposure, the uncured state There is a tendency that the solubility in an alkali developing solution is reduced. The Mw of the polyester (1) can be adjusted by changing the amount of the organic solvent or reaction raw material in the esterification reaction.

本発明において、ポリエステル(1)の酸価は、好ましくは20〜80mgKOH/g、さらに好ましくは30〜70mgKOH/gの範囲にある。なお、四塩基酸二無水物(12)の種類にもよるが、ポリエステル(1)中のR2 の50モル%以上、好ましくは70モル%以上が水素原子であることが、良好なアルカリ現像性を確保する観点から望ましい。
また、カルボキシル基封鎖剤で封鎖後のポリエステル(1)は、エポキシ当量が60,000以上であることが好ましい。
In the present invention, the acid value of the polyester (1) is preferably in the range of 20 to 80 mgKOH / g, more preferably 30 to 70 mgKOH / g. Although depending on the kind of tetrabasic acid dianhydride (12), it is preferable that 50% by mole or more, preferably 70% by mole or more of R 2 in the polyester (1) is a hydrogen atom. It is desirable from the viewpoint of securing the property.
Moreover, it is preferable that the polyester (1) after blocking with a carboxyl group blocking agent has an epoxy equivalent of 60,000 or more.

ポリエステル(1)は、重合性を有するアクリロイル基あるいはメタクリロイル基を複数個有するため、露光により硬化して、アルカリ現像液に対して溶解し難くなる。一方、未硬化状態ではアルカリ現像液に溶解するため、レジスト被膜として部分的に露光することにより、硬化部分を残し、未硬化部分がアルカリ現像液で溶解除去可能なアルカリ現像性を発現する。また、ポリエステル(1)は、各種基板との密着性が良好で、硬化収縮も小さく、ガラス転移点(Tg)が高く耐熱性に優れるとともに、高硬度のレジスト被膜を形成できる。
本発明において、側鎖不飽和芳香環式ポリエステルは、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
Since the polyester (1) has a plurality of polymerizable acryloyl groups or methacryloyl groups, the polyester (1) is cured by exposure and hardly dissolves in an alkali developer. On the other hand, since it dissolves in an alkali developer in an uncured state, it is exposed partially as a resist film, leaving a cured portion, and developing an alkali developability that allows the uncured portion to be dissolved and removed with an alkali developer. Polyester (1) has good adhesion to various substrates, small curing shrinkage, high glass transition point (Tg) and excellent heat resistance, and can form a resist film with high hardness.
In the present invention, the side chain unsaturated aromatic cyclic polyester can be used alone or in admixture of two or more.

また、本発明においては、アルカリ可溶性樹脂として、側鎖不飽和芳香環式ポリエステルと共に、主鎖に脂環式炭化水素骨格を有し、かつ側鎖に重合性不飽和結合を有するポリエステル(以下、「側鎖不飽和脂環式ポリエステル」という。)を併用することができる。   Further, in the present invention, as the alkali-soluble resin, together with the side chain unsaturated aromatic cyclic polyester, a polyester having an alicyclic hydrocarbon skeleton in the main chain and a polymerizable unsaturated bond in the side chain (hereinafter, "Side-chain unsaturated alicyclic polyester") can be used in combination.

側鎖不飽和脂環式ポリエステルにおける脂環式炭化水素骨格としては、例えば、シクロペンタン、メチルシクロペンタン、エチルシクロペンタン、n−プロピルシクロペンタン、i−プロピルシクロペンタン、1−メチル−3−i−プロピルシクロペンタン、シクロペンテン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、n−プロピルシクロヘキサン、i−プロピルシクロヘキサン、1−メチル−3−i−プロピルシクロヘキサン、1−メチル−4−i−プロピルシクロヘキサン、シクロヘキセン、シクロヘプタン、メチルシクロヘプタン、エチルシクロヘプタン、n−プロピルシクロヘプタン、i−プロピルシクロヘプタン、1−メチル−3−i−プロピルシクロヘプタン、1−メチル−4−i−プロピルシクロヘプタン、シクロヘプテン、シクロオクタン、シクロオクテン等の4〜8員炭素環を有する炭化水素に由来する骨格を挙げることができる。   Examples of the alicyclic hydrocarbon skeleton in the side chain unsaturated alicyclic polyester include cyclopentane, methylcyclopentane, ethylcyclopentane, n-propylcyclopentane, i-propylcyclopentane, and 1-methyl-3-i. -Propylcyclopentane, cyclopentene, cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, n-propylcyclohexane, i-propylcyclohexane, 1-methyl-3-i-propylcyclohexane, 1-methyl-4-i-propylcyclohexane, cyclohexene, cyclo Heptane, methylcycloheptane, ethylcycloheptane, n-propylcycloheptane, i-propylcycloheptane, 1-methyl-3-i-propylcycloheptane, 1-methyl-4-i-propylcycloheptane Emissions can cycloheptene, cyclooctane, a skeleton derived from a hydrocarbon having from 4 to 8 membered carbocyclic ring cyclooctene.

これらの脂環式炭化水素骨格のうち、シクロヘキサン環を有する骨格が好ましく、特に、1−メチル−3−i−プロピルシクロヘキサン、1−メチル−4−i−プロピルシクロヘキサン等に由来する骨格が好ましい。   Of these alicyclic hydrocarbon skeletons, skeletons having a cyclohexane ring are preferable, and skeletons derived from 1-methyl-3-i-propylcyclohexane, 1-methyl-4-i-propylcyclohexane and the like are particularly preferable.

側鎖不飽和脂環式ポリエステルにおいて、脂環式炭化水素骨格は、直接または2価の結合基を介して、ポリエステルの構成単位を連結させる主鎖エステル構造を形成することができる。   In the side chain unsaturated alicyclic polyester, the alicyclic hydrocarbon skeleton can form a main chain ester structure in which structural units of the polyester are linked directly or via a divalent linking group.

前記2価の基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラブチレン基等のメチレン基または主鎖炭素原子数1〜6の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基;シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基等の4〜8員環炭素環を有するシクロアルキレン基;シクロペンチレンメチレン基、シクロペンチレンエチレン基、シクロペンチレンプロピレン基、シクロヘキシレンメチレン基、シクロヘキシレンエチレン基、シクロヘキシレンプロピレン基等の4〜8員環炭素環を有するシクロアルキレン基にメチレン基、エチレン基、プロピレン基等の主鎖炭素原子数1〜6の2価の炭化水素鎖が結合した基;1,3−フェニレン基、1,4−フェニレン基、1,4−ナフチレン基等の炭素数6〜10のアリーレン基;前記炭素数6〜10のアリーレン基にメチレン基、エチレン基、プロピレン基等の主鎖炭素原子数1〜6の2価の炭化水素鎖が結合した基;m−フェニレンオキシ基(−m−C6 4 −O−)、p−フェニレンオキシ基(−p−C6 4 −O−)等の炭素数6〜10のアリーレンオキシ基;前記アリーレンオキシ基中のオキシ基にメチレン基、エチレン基、プロピレン基等の主鎖炭素原子数1〜6の2価の炭化水素鎖が結合した基等を挙げることができる。
これらの2価の基のうち、炭素数6〜10のアリーレンオキシ基が好ましく、特に、p−フェニレンオキシ基が好ましい。
Examples of the divalent group include a methylene group such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a trimethylene group, and a tetrabutylene group, or a linear or branched alkylene group having 1 to 6 main chain carbon atoms; A cycloalkylene group having a 4- to 8-membered carbocyclic ring such as a butylene group, a cyclopentylene group, or a cyclohexylene group; a cyclopentylene methylene group, a cyclopentylene ethylene group, a cyclopentylene propylene group, a cyclohexylene methylene group, a cyclohexene group; A divalent hydrocarbon chain having 1 to 6 main carbon atoms such as a methylene group, an ethylene group or a propylene group is bonded to a cycloalkylene group having a 4- to 8-membered carbocyclic ring such as a silylene ethylene group or a cyclohexylene propylene group. Groups such as 1,3-phenylene group, 1,4-phenylene group, 1,4-naphthylene group, etc. An arylene group having from 10 to 10 carbon atoms; a group in which a divalent hydrocarbon chain having 1 to 6 main carbon atoms such as a methylene group, an ethylene group or a propylene group is bonded to the arylene group having 6 to 10 carbon atoms; m-phenyleneoxy group (-m-C 6 H 4 -O -), p- phenylene group (-p-C 6 H 4 -O- ) arylene group having 6 to 10 carbon atoms such as; oxy in the arylene group Examples include groups in which a divalent hydrocarbon chain having 1 to 6 carbon atoms in the main chain such as a methylene group, an ethylene group, and a propylene group is bonded to the group.
Of these divalent groups, an aryleneoxy group having 6 to 10 carbon atoms is preferable, and a p-phenyleneoxy group is particularly preferable.

側鎖不飽和脂環式ポリエステルにおける側鎖の重合性不飽和結合は、着色層形成用感放射線性組成物としたときに、後述する(C)多官能性単量体や場合により使用される単官能性単量体と共重合することができる限り特に限定されるものでないが、側鎖不飽和脂環式ポリエステルの合成容易性、共重合性等の観点から、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等に由来する不飽和結合が好ましく、特に、(メタ)アクリル酸に由来する不飽和結合が好ましい。   The polymerizable unsaturated bond of the side chain in the side chain unsaturated alicyclic polyester is used as a later-described (C) polyfunctional monomer or in some cases when the radiation-sensitive composition for forming a colored layer is used. Although it is not particularly limited as long as it can be copolymerized with a monofunctional monomer, it is, for example, (meth) acrylic acid from the viewpoint of ease of synthesis and copolymerization of the side chain unsaturated alicyclic polyester. An unsaturated bond derived from crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid and the like is preferable, and an unsaturated bond derived from (meth) acrylic acid is particularly preferable.

側鎖不飽和脂環式ポリエステルのゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)(溶出溶媒:テトラヒドロフラン)で測定したポリスチレン換算数平均分子量(以下、「Mn」という。)は、通常、1,000〜60,000、好ましくは2,000〜25,000である。
また、側鎖不飽和脂環式ポリエステルは、未硬化状態での良好なアルカリ現像性を確保する観点から、酸価が60〜70mgKOH/gの範囲にあることが好ましい。
本発明において、側鎖不飽和脂環式ポリエステルは、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
The number average molecular weight in terms of polystyrene (hereinafter referred to as “Mn”) measured by gel permeation chromatography (GPC) of the side chain unsaturated alicyclic polyester (elution solvent: tetrahydrofuran) is usually 1,000-60, 000, preferably 2,000 to 25,000.
The side chain unsaturated alicyclic polyester preferably has an acid value in the range of 60 to 70 mgKOH / g from the viewpoint of securing good alkali developability in an uncured state.
In this invention, a side chain unsaturated alicyclic polyester can be used individually or in mixture of 2 or more types.

また、本発明においては、アルカリ可溶性樹脂として、ポリエステル(1)、またはポリエステル(1)と側鎖不飽和脂環式ポリエステルとの混合物と共に、他のアルカリ可溶性樹脂を併用することができる。   Moreover, in this invention, other alkali-soluble resin can be used together with polyester (1) or a mixture of polyester (1) and a side chain unsaturated alicyclic polyester as alkali-soluble resin.

前記他のアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、カルボキシル基、フェノール性水酸基、スルホン酸等の酸性官能基を有する重合性不飽和単量体と他の共重合可能な不飽和単量体(以下、「共重合性不飽和単量体」という。)との共重合体を挙げることができる。 Examples of the other alkali-soluble resin include a polymerizable unsaturated monomer having an acidic functional group such as a carboxyl group, a phenolic hydroxyl group, and a sulfonic acid, and another copolymerizable unsaturated monomer (hereinafter, “ And a copolymer with a "copolymerizable unsaturated monomer").

カルボキシル基を有する重合性不飽和単量体(以下、「カルボキシル基含有不飽和単量体」という。)としては、例えば、
(メタ)アクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、けい皮酸等の不飽和モノカルボン酸類;
マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、メサコン酸等の不飽和ジカルボン酸またはその無水物類;
3価以上の不飽和多価カルボン酸またはその無水物類;
こはく酸モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕、フタル酸モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕等の2価以上の多価カルボン酸のモノ〔(メタ)アクリロイルオキシアルキル〕エステル類;
ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート等の両末端にカルボキシル基と水酸基とを有するポリマーのモノ(メタ)アクリレート類
等を挙げることができる。
前記カルボキシル基含有不飽和単量体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
Examples of the polymerizable unsaturated monomer having a carboxyl group (hereinafter referred to as “carboxyl group-containing unsaturated monomer”) include:
Unsaturated monocarboxylic acids such as (meth) acrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid, cinnamic acid;
Unsaturated dicarboxylic acids such as maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, mesaconic acid or the like;
A trivalent or higher unsaturated polycarboxylic acid or anhydride thereof;
Mono [(meth) acryloyloxyalkyl] esters of divalent or higher polyvalent carboxylic acids such as succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] and phthalic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl];
Examples thereof include mono (meth) acrylates of polymers having a carboxyl group and a hydroxyl group at both ends, such as ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate.
The said carboxyl group-containing unsaturated monomer can be used individually or in mixture of 2 or more types.

また、フェノール性水酸基を有する重合性不飽和単量体としては、例えば、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン、o−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、m−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、p−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、N−o−ヒドロキシフェニルマレイミド、N−m−ヒドロキシフェニルマレイミド、N−p−ヒドロキシフェニルマレイミド等を挙げることができる。
これらのフェノール性水酸基を有する重合性不飽和単量体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
また、スルホン酸基を有する重合性不飽和単量体としては、例えば、イソプレンスルホン酸、p−スチレンスルホン酸等を挙げることができる。
これらのスルホン酸基を有する重合性不飽和単量体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
Examples of the polymerizable unsaturated monomer having a phenolic hydroxyl group include o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, o-hydroxy-α-methylstyrene, m-hydroxy-α-methyl. Examples thereof include styrene, p-hydroxy-α-methylstyrene, N-o-hydroxyphenylmaleimide, Nm-hydroxyphenylmaleimide, Np-hydroxyphenylmaleimide and the like.
These polymerizable unsaturated monomers having a phenolic hydroxyl group can be used alone or in admixture of two or more.
Examples of the polymerizable unsaturated monomer having a sulfonic acid group include isoprene sulfonic acid and p-styrene sulfonic acid.
These polymerizable unsaturated monomers having a sulfonic acid group can be used alone or in admixture of two or more.

共重合性不飽和単量体としては、例えば、
ポリスチレン、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリ−n−ブチル(メタ)アクリレート、ポリシロキサン等の重合体分子鎖の末端にモノ(メタ)アクリロイル基を有するマクロモノマー類(以下、単に「マクロモノマー類」という。):
N−フェニルマレイミド、N−o−ヒドロキシフェニルマレイミド、N−m−ヒドロキシフェニルマレイミド、N−p−ヒドロキシフェニルマレイミド、N−o−メチルフェニルマレイミド、N−m−メチルフェニルマレイミド、N−p−メチルフェニルマレイミド、N−o−メトキシフェニルマレイミド、N−m−メトキシフェニルマレイミド、N−p−メトキシフェニルマレイミド等のN−アリールマレイミドや、N−シクロヘキシルマレイミド等のN位−置換マレイミド類;
As the copolymerizable unsaturated monomer, for example,
Macromonomers having a mono (meth) acryloyl group at the end of a polymer molecular chain such as polystyrene, polymethyl (meth) acrylate, poly-n-butyl (meth) acrylate, polysiloxane, etc. (hereinafter simply referred to as “macromonomers”) :):
N-phenylmaleimide, N-o-hydroxyphenylmaleimide, Nm-hydroxyphenylmaleimide, Np-hydroxyphenylmaleimide, N-o-methylphenylmaleimide, Nm-methylphenylmaleimide, Np-methyl N-aryl maleimides such as phenylmaleimide, N-o-methoxyphenylmaleimide, Nm-methoxyphenylmaleimide, Np-methoxyphenylmaleimide, and N-substituted maleimides such as N-cyclohexylmaleimide;

スチレン、α−メチルスチレン、o−ビニルトルエン、m−ビニルトルエン、p−ビニルトルエン、p−クロルスチレン、o−メトキシスチレン、m−メトキシスチレン、p−メトキシスチレン、o−ビニルベンジルメチルエーテル、m−ビニルベンジルメチルエーテル、p−ビニルベンジルメチルエーテル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル等の芳香族ビニル化合物;
インデン、1−メチルインデン等のインデン類;
Styrene, α-methylstyrene, o-vinyltoluene, m-vinyltoluene, p-vinyltoluene, p-chlorostyrene, o-methoxystyrene, m-methoxystyrene, p-methoxystyrene, o-vinylbenzylmethyl ether, m -Aromatic vinyl compounds such as vinyl benzyl methyl ether, p-vinyl benzyl methyl ether, o-vinyl benzyl glycidyl ether, m-vinyl benzyl glycidyl ether, p-vinyl benzyl glycidyl ether;
Indenes such as indene and 1-methylindene;

メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、i−プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングルコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングルコール(メタ)アクリレート、メトキシプロピレングルコール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングルコール(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレート等の不飽和カルボン酸エステル類; Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, i-propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) Acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl (Meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate Rate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, methoxypropylene glycol (meth) acrylate, methoxydipropylene glycol (meth) acrylate, isobornyl Unsaturated carboxylic esters such as (meth) acrylate, dicyclopentadienyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate;

2−アミノエチル(メタ)アクリレート、2−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−アミノプロピル(メタ)アクリレート、2−ジメチルアミノプロピルアクリレート、3−アミノプロピル(メタ)アクリレート、3−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート等の不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル類;
グリシジル(メタ)アクリレート等の不飽和カルボン酸グリシジルエステル類;
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル類;
ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、アリルグリシジルエーテル等の不飽和エーテル類;
(メタ)アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、シアン化ビニリデン等のシアン化ビニル化合物;
(メタ)アクリルアミド、α−クロロアクリルアミド、N−2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド等の不飽和アミド類;
1,3−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の脂肪族共役ジエン類
等を挙げることができる。
2-aminoethyl (meth) acrylate, 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-aminopropyl (meth) acrylate, 2-dimethylaminopropyl acrylate, 3-aminopropyl (meth) acrylate, 3-dimethylaminopropyl ( Unsaturated carboxylic acid aminoalkyl esters such as (meth) acrylate;
Unsaturated carboxylic acid glycidyl esters such as glycidyl (meth) acrylate;
Carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl benzoate;
Unsaturated ethers such as vinyl methyl ether, vinyl ethyl ether, and allyl glycidyl ether;
Vinyl cyanide compounds such as (meth) acrylonitrile, α-chloroacrylonitrile, vinylidene cyanide;
Unsaturated amides such as (meth) acrylamide, α-chloroacrylamide, N-2-hydroxyethyl (meth) acrylamide;
Examples thereof include aliphatic conjugated dienes such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene.

本発明において、他のアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、カルボキシル基含有不飽和単量体と共重合性不飽和単量体との共重合体(以下、単に「カルボキシル基含有共重合体」という。)が好ましく、(a)(メタ)アクリル酸を必須成分とするカルボキシル基含有不飽和単量体と、(b)ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチル(メタ)アクリレートマクロモノマー、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレートおよびグリセロール(メタ)アクリレートの群から選ばれる少なくとも1種とを含有し、(c)場合によりスチレン、α−メチルスチレン、メチル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレートおよびフェニル(メタ)アクリレートの群から選ばれる少なくとも1種をさらに含有する単量体混合物の共重合体がさらに好ましい。   In the present invention, as other alkali-soluble resin, for example, a copolymer of a carboxyl group-containing unsaturated monomer and a copolymerizable unsaturated monomer (hereinafter simply referred to as “carboxyl group-containing copolymer”). (B) polystyrene macromonomer, polymethyl (meth) acrylate macromonomer, N-phenylmaleimide, N-cyclohexyl, (a) carboxyl group-containing unsaturated monomer having (meth) acrylic acid as an essential component At least one selected from the group of maleimide, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate and glycerol (meth) acrylate, and (c) optionally styrene, α-methylstyrene, methyl (meth) ) Acrylate, allyl (meth) acrylate and phenyl (meth) a Copolymers of at least one further monomer mixture comprising selected from the group of relations is more preferred.

他のアルカリ可溶性樹脂のMwは、通常、2,000〜300,000、好ましくは3,000〜100,000である。
本発明において、他のアルカリ可溶性樹脂は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
The Mw of other alkali-soluble resins is usually 2,000 to 300,000, preferably 3,000 to 100,000.
In the present invention, other alkali-soluble resins can be used alone or in admixture of two or more.

本発明において、アルカリ可溶性樹脂の合計使用量は、(A)着色剤100重量部に対して、通常、10〜1,000重量部、好ましくは20〜500重量部である。この場合、アルカリ可溶性樹脂の合計使用量が前記範囲より少ないと、例えば、アルカリ現像性が低下したり、未露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚れや膜残りが発生するおそれがあり、一方前記範囲を超えると、相対的に着色剤濃度が低下するため、薄膜として目的とする色濃度を達成することが困難となるおそれがある。
また、アルカリ可溶性樹脂中の側鎖不飽和芳香環式ポリエステルの使用割合は、好ましくは10〜100重量%、さらに好ましくは20〜100重量%、特に好ましくは40〜100重量%である。この場合、側鎖不飽和芳香環式ポリエステルの使用割合が前記範囲より少ないと、本発明の所期の効果が損なわれるおそれがある。
In this invention, the total usage-amount of alkali-soluble resin is 10-1,000 weight part normally with respect to 100 weight part of (A) coloring agents, Preferably it is 20-500 weight part. In this case, if the total use amount of the alkali-soluble resin is less than the above range, for example, the alkali developability may be lowered, or there is a possibility that background stains or film residue may occur on the substrate in the unexposed area or on the light shielding layer. On the other hand, if the above range is exceeded, the colorant concentration is relatively lowered, and it may be difficult to achieve the target color density as a thin film.
The proportion of the side chain unsaturated aromatic cyclic polyester in the alkali-soluble resin is preferably 10 to 100% by weight, more preferably 20 to 100% by weight, and particularly preferably 40 to 100% by weight. In this case, if the use ratio of the side chain unsaturated aromatic cyclic polyester is less than the above range, the desired effect of the present invention may be impaired.

−(C)成分−
本発明における(C)成分は、2個以上の重合性不飽和結合を有する多官能性単量体である。
このような多官能性単量体としては、例えば、
エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルキレングリコールのジ(メタ)アクリレート類;
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のポリアルキレングリコールのジ(メタ)アクリレート類;
グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等の3価以上の多価アルコールのポリ(メタ)アクリレート類や、それらのジカルボン酸変性物;
ポリエステル、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、シリコーン樹脂、スピラン樹脂等のオリゴ(メタ)アクリレート類;
両末端ヒドロキシポリ−1,3−ブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトン等の両末端ヒドロキシル化重合体のジ(メタ)アクリレート類や、
トリス〔2−(メタ)アクリロイロキシエチル〕フォスフェート
等を挙げることができる。
-(C) component-
The component (C) in the present invention is a polyfunctional monomer having two or more polymerizable unsaturated bonds.
As such a polyfunctional monomer, for example,
Di (meth) acrylates of alkylene glycols such as ethylene glycol and propylene glycol;
Di (meth) acrylates of polyalkylene glycols such as polyethylene glycol and polypropylene glycol;
Poly (meth) acrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols such as glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol and the like, and their dicarboxylic acid-modified products;
Oligo (meth) acrylates such as polyester, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, silicone resin, spirane resin;
Di (meth) acrylates of both terminal hydroxylated polymers such as both terminal hydroxypoly-1,3-butadiene, both terminal hydroxypolyisoprene, both terminal hydroxypolycaprolactone,
And tris [2- (meth) acryloyloxyethyl] phosphate.

これらの多官能性単量体のうち、3価以上の多価アルコールのポリ(メタ)アクリレート類やそれらのジカルボン酸変性物、具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、下記式(15)で表される化合物、下記式(16)で表される化合物   Among these polyfunctional monomers, poly (meth) acrylates of polyhydric alcohols having three or more valences and their dicarboxylic acid-modified products, specifically, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, Pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, represented by the following formula (15) Compound represented by the following formula (16)

Figure 0005003200
Figure 0005003200

等が好ましく、特に、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが、着色層の強度が高く、着色層の表面平滑性に優れ、かつ未露光部の基板上および遮光層上に地汚れ、膜残り等を発生し難い点で好ましい。
前記多官能性単量体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
In particular, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate have high strength of the colored layer, excellent surface smoothness of the colored layer, and on the unexposed substrate and the light shielding layer. It is preferable in that ground stains, film residues and the like are hardly generated on the top.
The said polyfunctional monomer can be used individually or in mixture of 2 or more types.

本発明における多官能性単量体の使用量は、(B)アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して、通常、5〜500重量部、好ましくは20〜300重量部である。この場合、多官能性単量体の使用量が前記範囲より少ないと、着色層の強度や表面平滑性が低下する傾向があり、一方前記範囲を超えると、例えば、アルカリ現像性が低下したり、未露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚れ、膜残り等が発生しやすくなる傾向がある。   The usage-amount of the polyfunctional monomer in this invention is 5-500 weight part normally with respect to 100 weight part of (B) alkali-soluble resin, Preferably it is 20-300 weight part. In this case, if the amount of the polyfunctional monomer used is less than the above range, the strength and surface smoothness of the colored layer tend to be reduced. On the other hand, if it exceeds the above range, for example, alkali developability may be reduced. In addition, background stains, film residue, etc. tend to occur on the unexposed portion of the substrate or on the light shielding layer.

また、本発明においては、多官能性単量体の一部を、重合性不飽和結合を1個有する単官能性単量体に置き換えることもできる。
前記単官能性単量体としては、例えば、前記他のアルカリ可溶性樹脂におけるカルボキシル基含有不飽和単量体や共重合性不飽和単量体について例示した化合物と同様のものや、N−(メタ)アクリロイルモルフォリン、N−ビニルピロリドン、N−ビニル−ε−カプロラクタムのほか、市販品として、M−5600(商品名、東亞合成(株)製)等を挙げることができる。
これらの単官能性単量体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
In the present invention, a part of the polyfunctional monomer can be replaced with a monofunctional monomer having one polymerizable unsaturated bond.
Examples of the monofunctional monomer include those similar to the compounds exemplified for the carboxyl group-containing unsaturated monomer and copolymerizable unsaturated monomer in the other alkali-soluble resins, and N- (meta ) In addition to acryloylmorpholine, N-vinylpyrrolidone, N-vinyl-ε-caprolactam, commercially available products include M-5600 (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
These monofunctional monomers can be used alone or in admixture of two or more.

単官能性単量体の使用割合は、多官能性単量体と単官能性単量体との合計に対して、通常、90重量%以下、好ましくは50重量%以下である。この場合、単官能性単量体の使用割合が多すぎると、得られる着色層の強度や表面平滑性が不十分となるおそれがある。 本発明における多官能性単量体と単官能性単量体との合計使用量は、(B)アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して、通常、5〜500重量部、好ましくは20〜300重量部である。この場合、前記合計使用量が前記範囲より少ないと、着色層の強度や表面平滑性が低下する傾向があり、一方前記範囲を超えると、例えば、アルカリ現像性が低下したり、未露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚れ、膜残り等が発生しやすくなる傾向がある。   The proportion of the monofunctional monomer used is usually 90% by weight or less, preferably 50% by weight or less, based on the total of the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer. In this case, if the usage ratio of the monofunctional monomer is too large, the strength and surface smoothness of the resulting colored layer may be insufficient. The total use amount of the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer in the present invention is usually 5 to 500 parts by weight, preferably 20 to 300 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (B) alkali-soluble resin. Part. In this case, if the total amount used is less than the above range, the strength and surface smoothness of the colored layer tend to decrease. On the other hand, if it exceeds the above range, for example, alkali developability decreases or There is a tendency that soiling, film residue, and the like are likely to occur on the substrate or the light shielding layer.

−(D)光ラジカル発生剤−
本発明における(D)成分は、可視光線、紫外線、遠紫外線、荷電粒子線、X線等の放射線による露光によって、(C)多官能性単量体および場合により使用される単官能性単量体の重合を開始しうるラジカルを発生する光ラジカル発生剤である。
本発明における光ラジカル発生剤としては、例えば、カルバゾール系化合物、ビイミダゾール系化合物、ベンゾイン系化合物、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ホスフィン系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができ、これらのうち、特に、カルバゾール系化合物が好ましい。
-(D) Photoradical generator-
The component (D) in the present invention comprises (C) a polyfunctional monomer and a monofunctional monomer used in some cases by exposure to radiation such as visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, charged particle beam, and X-ray. It is a photo radical generator that generates radicals capable of initiating polymerization of the body.
Examples of the photo radical generator in the present invention include carbazole compounds, biimidazole compounds, benzoin compounds, acetophenone compounds, benzophenone compounds, α-diketone compounds, polynuclear quinone compounds, xanthone compounds, and phosphine compounds. Examples thereof include compounds and triazine compounds, and among these, carbazole compounds are particularly preferable.

前記カルバゾール系化合物としては、例えば、下記式(6)で表される化合物(以下、「カルバゾール系化合物(6)」という。)、式(7)で表される化合物(以下、「カルバゾール系化合物(7)」という。)等を挙げることができる。   Examples of the carbazole-based compound include a compound represented by the following formula (6) (hereinafter referred to as “carbazole-based compound (6)”) and a compound represented by formula (7) (hereinafter referred to as “carbazole-based compound”). (7) ")).

Figure 0005003200
Figure 0005003200

〔式(6)において、R5 は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基またはフェニル基を示し、R6 およびR7 は相互に独立に水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基または炭素数7〜20の1価の脂環式基(但し、前記シクロアルキル基を除く。)を示し、
8 は炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシル基または炭素数3〜8のシクロアルキルオキシ基を示し、複数存在する
8 は相互に同一でも異なってもよく、R9 は炭素数4〜20の1価の含酸素複素環式基、炭素数4〜20の1価の含窒素複素環式基または炭素数4〜20の1価の含硫黄複素環式基を示し、複数存在するR9 は相互に同一でも異なってもよく、aは0〜5の整数、bは0〜5の整数で、(a+b)≦5である。〕
[In the formula (6), R 5 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms or a phenyl group, and R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, carbon number 1 -20 alkyl group, cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, phenyl group which may be substituted, or monovalent alicyclic group having 7 to 20 carbon atoms (excluding the cycloalkyl group). Show
R 8 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cycloalkyloxy group having 3 to 8 carbon atoms, and a plurality of R 8 are present. R 9 may be the same as or different from each other, and R 9 is a monovalent oxygen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, or a carbon atom having 4 to 20 carbon atoms. A monovalent sulfur-containing heterocyclic group, and a plurality of R 9 may be the same or different from each other, a is an integer of 0 to 5, b is an integer of 0 to 5, and (a + b) ≦ 5 is there. ]

Figure 0005003200
Figure 0005003200

〔式(7)において、R5 は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基またはフェニル基を示し、R6 およびR7 は相互に独立に水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基または炭素数7〜20の1価の脂環式基(但し、前記シクロアルキル基を除く。)を示し、
8 は炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシル基または炭素数3〜8のシクロアルキルオキシ基を示し、複数存在する
8 は相互に同一でも異なってもよく、R9 は炭素数4〜20の1価の含酸素複素環式基、炭素数4〜20の1価の含窒素複素環式基または炭素数4〜20の1価の含硫黄複素環式基を示し、複数存在するR9 は相互に同一でも異なってもよく、cは0〜5の整数、dは1〜5の整数で、(c+d)≦5であり、eは0〜6の整数である。〕
[In Formula (7), R 5 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, or a phenyl group, and R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, carbon number 1 -20 alkyl group, cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, phenyl group which may be substituted, or monovalent alicyclic group having 7 to 20 carbon atoms (excluding the cycloalkyl group). Show
R 8 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cycloalkyloxy group having 3 to 8 carbon atoms, and a plurality of R 8 are present. R 9 may be the same as or different from each other, and R 9 is a monovalent oxygen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, or a carbon atom having 4 to 20 carbon atoms. A monovalent sulfur-containing heterocyclic group, and a plurality of R 9 may be the same or different from each other, c is an integer of 0 to 5, d is an integer of 1 to 5, and (c + d) ≦ 5 Yes, e is an integer of 0-6. ]

式(6)および式(7)において、R5 の炭素数1〜20のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチ基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基等を挙げることができる。
また、R5 の炭素数3〜8のシクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
式(6)および式(7)において、R5 としては、例えば、メチル基、エチル基等が好ましい。
In Formula (6) and Formula (7), examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms of R 5 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, sec- Examples include butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, etc. be able to.
Further, the cycloalkyl group having a carbon number of R 5 3 to 8, and examples thereof include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group.
In Formula (6) and Formula (7), R 5 is preferably, for example, a methyl group, an ethyl group, or the like.

式(6)および式(7)において、R6 およびR7 の炭素数1〜20のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチ基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基等を挙げることができる。
また、R6 およびR7 の炭素数3〜8のシクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
In Formula (6) and Formula (7), examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms of R 6 and R 7 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, and an n-butyl group. , Sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group Etc.
Moreover, as a C3-C8 cycloalkyl group of R < 6 > and R < 7 >, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, etc. can be mentioned, for example.

6 およびR7 のフェニル基に対する置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基等の炭素数1〜6のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数3〜6のシクロアルキル基:メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、t−ブトキシ基等の炭素数1〜6のアルコキシル基;シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の炭素数3〜6のシクロアルキルオキシ基:フェニル基;フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子等を挙げることができる。 Examples of the substituent for the phenyl group of R 6 and R 7 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a t-butyl group, and an n-pentyl group. Group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as n-hexyl group; a cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms such as cyclopentyl group and cyclohexyl group: methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, i-propoxy group, an alkoxyl group having 1 to 6 carbon atoms such as an n-butoxy group and a t-butoxy group; a cycloalkyloxy group having 3 to 6 carbon atoms such as a cyclopentyloxy group and a cyclohexyloxy group: a phenyl group; a fluorine atom, a chlorine atom, etc. A halogen atom etc. can be mentioned.

また、R6 およびR7 の炭素数7〜20の1価の脂環式基(但し、前記シクロアルキル基を除く。)としては、例えば、1−アルキルシクロアルカン骨格を有する基、ビシクロアルカン骨格を有する基、トリシクロアルカン骨格を有する基、スピロアルカン骨格を有する基、テルペン骨格を有する基、アダマンタン骨格を有する基等を挙げることができる。 Examples of the monovalent alicyclic group having 7 to 20 carbon atoms of R 6 and R 7 (excluding the cycloalkyl group) include, for example, a group having a 1-alkylcycloalkane skeleton and a bicycloalkane skeleton. A group having a tricycloalkane skeleton, a group having a spiroalkane skeleton, a group having a terpene skeleton, a group having an adamantane skeleton, and the like.

式(6)および式(7)において、R6 およびR7 としては、水素原子、メチル基、エチル基等が好ましい。 In Formula (6) and Formula (7), R 6 and R 7 are preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or the like.

式(6)および式(7)において、R8 の炭素数1〜12のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチ基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基等を挙げることができる。
また、R8 の炭素数3〜8のシクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
In formula (6) and formula (7), examples of the alkyl group having 1 to 12 carbon atoms of R 8 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, sec- Examples include butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, etc. be able to.
Further, the cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms R 8, examples thereof include a cyclopentyl group, a cyclohexyl group.

また、R8 の炭素数1〜12のアルコキシル基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、t−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、n−ウンデシルオキシ基、n−ドデシルオキシ基等を挙げることができる。
また、R8 の炭素数3〜8のシクロアルキルオキシ基としては、例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等を挙げることができる。
As the alkoxyl group having 1 to 12 carbon atoms R 8, for example, a methoxy group, an ethoxy group, n- propoxy group, i- propoxy, n- butoxy, t-butoxy group, n- pentyloxy group, Examples include n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, n-nonyloxy group, n-decyloxy group, n-undecyloxy group, n-dodecyloxy group and the like.
As the cycloalkyloxy group having 3 to 8 carbon atoms R 8, for example, can be exemplified cyclopentyloxy, cyclohexyloxy group and the like.

式(6)および式(7)において、R8 としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基等が好ましい。 In Formula (6) and Formula (7), R 8 is preferably a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, a methoxy group, an ethoxy group, or the like.

式(6)および式(7)において、R9 の炭素数4〜20の炭素数4〜20の1価の含酸素複素環式基、炭素数4〜20の1価の含窒素複素環式基または炭素数4〜20の1価の含硫黄複素環式基としては、例えば、チオラニル基、アゼピニル基、ジヒドロアゼピニル基、ジオキソラニル基、トリアジニル基、オキサチアニル基、チアゾーリル基、オキサジアジニル基、ジオキサインダニイル基、ジヒアナフタレニル基、フラニル基、チオフェニル基、ピロリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、ピラゾリル基、フラザニル基、ピラニル基、ピリジニル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジニル基、ピロリニル基、モルホニル基、ピペラジニル基、キヌクリジニル基、インドーリル基、イソインドーリル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチオフェニル基、インドリジニル基、クロメニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、プリニル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、フタラジニル基、プテリジニル基、カルバゾーリル基、アクリジニル基、フェナントリジニル基、チオキサンテニル基、フェナジニル基、フェノチアジニル基、フェノキサチイニル基、フェノキサジニル基、チアントレニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基等を挙げることができる。 In formula (6) and formula (7), R 9 is a monovalent oxygen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms and a monovalent oxygen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms. Examples of the group or a monovalent sulfur-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms include a thiolanyl group, an azepinyl group, a dihydroazepinyl group, a dioxolanyl group, a triazinyl group, an oxathianyl group, a thiazolyl group, an oxadiazinyl group, Xidodanyl group, dihyanaphthalenyl group, furanyl group, thiophenyl group, pyrrolyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, thiazolyl group, isothiazolyl group, pyrazolyl group, furazanyl group, pyranyl group, pyridinyl group, pyridazinyl group, pyrimidyl group, Pyrazinyl group, pyrrolinyl group, morpholinyl group, piperazinyl group, quinuclidinyl group, indolyl group, iso Ndryl, benzofuranyl, benzothiophenyl, indolizinyl, chromenyl, quinolinyl, isoquinolinyl, purinyl, quinazolinyl, cinnolinyl, phthalazinyl, pteridinyl, carbazolyl, acridinyl, phenanthridinyl, Examples thereof include a thioxanthenyl group, a phenazinyl group, a phenothiazinyl group, a phenoxathinyl group, a phenoxazinyl group, a thiantenyl group, a tetrahydrofuranyl group, and a tetrahydropyranyl group.

式(6)および式(7)において、R9 としては、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基等が好ましい。 In Formula (6) and Formula (7), R 9 is preferably a tetrahydrofuranyl group, a tetrahydropyranyl group, or the like.

式(6)において、aは0、1または2が好ましく、特に1であることが好ましく、bは0または1が好ましく、特に0であることが好ましい。   In the formula (6), a is preferably 0, 1 or 2, particularly preferably 1, and b is preferably 0 or 1, particularly preferably 0.

式(7)において、cは0、1または2が好ましく、特に1であることが好ましく、dは1が好ましく、eは0、1または2が好ましく、特に1であることが好ましい。   In the formula (7), c is preferably 0, 1 or 2, particularly preferably 1, d is preferably 1, e is preferably 0, 1 or 2, and particularly preferably 1.

カルバゾール系化合物(6)の具体例としては、
1−〔9−エチル−6−ベンゾイル−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1,2−ノナン−2−オキシム−O−ベンゾエート、1−〔9−エチル−6−ベンゾイル−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1,2−ノナン−2−オキシム−O−アセテート、1−〔9−エチル−6−ベンゾイル−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1,2−ペンタン−2−オキシム−O−アセテート、1−〔9−エチル−6−ベンゾイル−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−オクタン−1−オンオキシム−O−アセテート、
As a specific example of the carbazole compound (6),
1- [9-Ethyl-6-benzoyl-9. H. -Carbazol-3-yl] -1,2-nonane-2-oxime-O-benzoate, 1- [9-ethyl-6-benzoyl-9. H. -Carbazol-3-yl] -1,2-nonane-2-oxime-O-acetate, 1- [9-ethyl-6-benzoyl-9. H. -Carbazol-3-yl] -1,2-pentane-2-oxime-O-acetate, 1- [9-ethyl-6-benzoyl-9. H. -Carbazol-3-yl] -octane-1-one oxime-O-acetate,

1−〔9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−エタン−1−オンオキシム−O−ベンゾエート、1−〔9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−エタン−1−オンオキシム−O−アセテート、1−〔9−エチル−6−(1,3,5−トリメチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−エタン−1−オンオキシム−O−ベンゾエート、1−〔9−n−ブチル−6−(2−エチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−エタン−1−オンオキシム−O−ベンゾエート、 1- [9-Ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-benzoate, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-acetate, 1- [9-ethyl-6- (1,3,5-trimethylbenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-benzoate, 1- [9-n-butyl-6- (2-ethylbenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-benzoate,

エタノン−1−[9−エチル−6−(2−メチル−4−テトラヒドロフラニルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル]−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチル−4−テトラヒドロピラニルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチル−5−テトラヒドロフラニルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチル−5−テトラヒドロピラニルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−{2−メチル−4−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラニル)ベンゾイル}−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)
等を挙げることができる。
Ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydrofuranylbenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydropyranylbenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydrofuranylbenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydropyranylbenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone-1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl) benzoyl} -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime)
Etc.

また、カルバゾール系化合物(7)の具体例としては、
エタノン−1−[9−エチル−6−(2−メチル−4−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル]−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチル−4−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチル−5−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチル−5−テトラヒドロピラニルメトキシベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−{2−メチル−4−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラニル)メトキシベンゾイル}−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)
等を挙げることができる。
Specific examples of the carbazole compound (7) include
Ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydrofuranylmethoxybenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydropyranylmethoxybenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydrofuranylmethoxybenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-5-tetrahydropyranylmethoxybenzoyl) -9. H. -Carbazole-3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone-1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl) methoxybenzoyl } -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime)
Etc.

これらのカルバゾール系化合物(6)およびカルバゾール系化合物(7)のうち、1−〔9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−エタン−1−オンオキシム−O−アセテート、エタノン−1−〔9−エチル−6−(2−メチル−4−テトラヒドロフラニルメトキシベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)、エタノン−1−〔9−エチル−6−{2−メチル−4−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラニル)メトキシベンゾイル}−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)等が好ましく、特に、1−〔9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−エタン−1−オンオキシム−O−アセテート、エタノン−1−〔9−エチル−6−{2−メチル−4−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラニル)メトキシベンゾイル}−9.H.−カルバゾール−3−イ〕]−1−(O−アセチルオキシム)等が好ましい。   Of these carbazole compounds (6) and carbazole compounds (7), 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-acetate, ethanone-1- [9-ethyl-6- (2-methyl-4-tetrahydrofuranylmethoxybenzoyl) -9. H. -Carbazole-3-yl] -1- (O-acetyloxime), ethanone-1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl) methoxybenzoyl } -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) and the like are preferable, and in particular, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9. H. -Carbazol-3-yl] -ethane-1-one oxime-O-acetate, ethanone-1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl) methoxy Benzoyl} -9. H. -Carbazole-3-i]]-1- (O-acetyloxime) and the like are preferable.

前記ビイミダゾール系化合物としては、例えば、下記式(17−1)、式(17−2)または式(17−3)で表される主要骨格を少なくとも1種有する化合物を挙げることができる。   Examples of the biimidazole compound include compounds having at least one main skeleton represented by the following formula (17-1), formula (17-2), or formula (17-3).

Figure 0005003200
Figure 0005003200

ビイミダゾール系化合物の具体例としては、
2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2−ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2−ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、
2,2’−ビス(2,4,6−トリブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール
等を挙げることができる。
Specific examples of biimidazole compounds include
2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole,
2,2′-bis (2-bromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrakis (4-ethoxycarbonylphenyl) -1,2′-biimidazole,
2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole,
2,2′-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole,
2,2′-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole,
2,2′-bis (2-bromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole,
2,2′-bis (2,4-dibromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole,
Examples include 2,2′-bis (2,4,6-tribromophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole.

これらのビイミダゾール系化合物のうち、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾールおよび2,2’−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾールが好ましく、特に,2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾールが好ましい。   Among these biimidazole compounds, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2,2′-bis (2 , 4-Dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole and 2,2′-bis (2,4,6-trichlorophenyl) -4,4 ′, 5 , 5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole is preferred, and in particular, 2,2′-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole. Imidazole is preferred.

−水素供与体−
また、本発明においては、光ラジカル発生剤としてビイミダゾール系化合物を使用する場合、下記する水素供与体を併用することが、感度をさらに改良することができる点で好ましい。
ここでいう「水素供与体」とは、露光によりビイミダゾール系化合物から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物を意味する。
このような水素供与体としては、下記で定義するメルカプタン系化合物、下記で定義するアミン系化合物等が好ましい。
前記メルカプタン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したメルカプト基を1個以上、好ましくは1〜3個、さらに好ましくは1〜2個有する化合物(以下「メルカプタン系水素供与体」という。)からなる。
また、前記アミン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したアミノ基を1個以上、好ましくは1〜3個、さらに好ましくは1〜2個有する化合物(以下「アミン系水素供与体」という。)からなる。
なお、これらの水素供与体は、メルカプト基とアミノ基とを同時に有することもできる。
-Hydrogen donor-
In the present invention, when a biimidazole compound is used as the photoradical generator, it is preferable to use a hydrogen donor described below in combination because the sensitivity can be further improved.
The “hydrogen donor” as used herein means a compound that can donate a hydrogen atom to a radical generated from a biimidazole compound by exposure.
As such a hydrogen donor, a mercaptan compound defined below, an amine compound defined below, and the like are preferable.
The mercaptan-based compound is a compound having a benzene ring or a heterocyclic ring as a mother nucleus and having one or more, preferably 1-3, more preferably 1-2 mercapto groups directly bonded to the mother nucleus (hereinafter referred to as “mercaptan”). It is referred to as “system hydrogen donor”).
The amine compound is a compound having a benzene ring or a heterocyclic ring as a mother nucleus and having 1 or more, preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2 amino groups directly bonded to the mother nucleus (hereinafter referred to as “the amine compound”). "Amine-based hydrogen donor").
These hydrogen donors can also have a mercapto group and an amino group at the same time.

以下、水素供与体について、より具体的に説明する。
メルカプタン系水素供与体は、ベンゼン環あるいは複素環をそれぞれ1個以上有することができ、またベンゼン環と複素環との両者を有することができ、これらの環を2個以上有する場合、縮合環を形成しても形成しなくてもよい。
また、メルカプタン系水素供与体は、メルカプト基を2個以上有する場合、少なくとも1個の遊離メルカプト基が残存する限りでは、残りのメルカプト基の1個以上がアルキル、アラルキルまたはアリール基で置換されていてもよく、さらには少なくとも1個の遊離メルカプト基が残存する限りでは、2個の硫黄原子がアルキレン基等の2価の有機基を介在して結合した構造単位、あるいは2個の硫黄原子がジスルフィドの形で結合した構造単位を有することができる。
さらに、メルカプタン系水素供与体は、メルカプト基以外の箇所で、カルボキシル基、置換もしくは非置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは非置換のフェノキシカルボニル基、ニトリル基等によって置換されていてもよい。
Hereinafter, the hydrogen donor will be described more specifically.
The mercaptan-based hydrogen donor can have one or more benzene rings or heterocyclic rings, and can have both a benzene ring and a heterocyclic ring. When two or more of these rings are present, It may or may not be formed.
In addition, when the mercaptan hydrogen donor has two or more mercapto groups, at least one of the remaining mercapto groups is substituted with an alkyl, aralkyl or aryl group as long as at least one free mercapto group remains. Furthermore, as long as at least one free mercapto group remains, a structural unit in which two sulfur atoms are bonded via a divalent organic group such as an alkylene group, or two sulfur atoms are It can have structural units linked in the form of disulfides.
Furthermore, the mercaptan-based hydrogen donor may be substituted with a carboxyl group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, a substituted or unsubstituted phenoxycarbonyl group, a nitrile group, or the like at a place other than the mercapto group.

このようなメルカプタン系水素供与体の具体例としては、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2,5−ジメルカプト−1,3,4−チアジアゾール、2−メルカプト−2,5−ジメチルアミノピリジン等が挙げることができる。
これらのメルカプタン系水素供与体のうち、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾールが好ましく、特に、2−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。
Specific examples of such mercaptan hydrogen donors include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoimidazole, 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole, 2-mercapto- 2,5-dimethylaminopyridine and the like can be mentioned.
Of these mercaptan-based hydrogen donors, 2-mercaptobenzothiazole and 2-mercaptobenzoxazole are preferable, and 2-mercaptobenzothiazole is particularly preferable.

次に、アミン系水素供与体は、ベンゼン環あるいは複素環をそれぞれ1個以上有することができ、またベンゼン環と複素環との両者を有することができ、これらの環を2個以上有する場合、縮合環を形成しても形成しなくてもよい。
また、アミン系水素供与体は、アミノ基の1個以上がアルキル基または置換アルキル基で置換されてもよく、またアミノ基以外の箇所で、カルボキシル基、置換もしくは非置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは非置換のフェノキシカルボニル基、ニトリル基等によって置換されていてもよい。
Next, the amine-based hydrogen donor can have one or more benzene rings or heterocyclic rings, and can have both a benzene ring and a heterocyclic ring. When these two or more rings are present, A condensed ring may or may not be formed.
In the amine-based hydrogen donor, at least one of the amino groups may be substituted with an alkyl group or a substituted alkyl group, and a carboxyl group, a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl group, a substituted group may be substituted at a position other than the amino group. Alternatively, it may be substituted with an unsubstituted phenoxycarbonyl group, nitrile group or the like.

このようなアミン系水素供与体の具体例としては、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4−ジエチルアミノアセトフェノン、4−ジメチルアミノプロピオフェノン、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸i−アミル、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノベンゾニトリル等が挙げることができる。
これらのアミン系水素供与体のうち、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンが好ましく、特に、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンが好ましい。
なお、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノンや4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンは、ビイミダゾール系化合物が存在しない場合でも、それ単独で光ラジカル開始剤として作用しうるものである。
Specific examples of such amine-based hydrogen donors include 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, Examples include ethyl 4-dimethylaminobenzoate, i-amyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-dimethylaminobenzonitrile and the like.
Among these amine-based hydrogen donors, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone are preferable, and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone is particularly preferable.
In addition, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone can act as a photoradical initiator alone even in the absence of a biimidazole compound. .

本発明において、水素供与体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができるが、1種以上のメルカプタン系水素供与体と1種以上のアミン系水素供与体とを組み合わせて使用することが、形成された着色層が現像時に基板から脱落し難く、また着色層の強度および感度も高い点で好ましい。
メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との好ましい組み合わせの具体例としては、2−メルカプトベンゾチアゾール/4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、2−メルカプトベンゾチアゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2−メルカプトベンゾオキサゾール/4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、2−メルカプトベンゾオキサゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等を挙げることができ、さらに好ましい組み合わせは、2−メルカプトベンゾチアゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2−メルカプトベンゾオキサゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンであり、特に好ましい組み合わせは、2−メルカプトベンゾチアゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンである。
メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組み合わせにおけるメルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との重量比は、通常、1:1〜1:4、好ましくは1:1〜1:3である。
In the present invention, the hydrogen donor can be used alone or in admixture of two or more. However, one or more mercaptan hydrogen donors and one or more amine hydrogen donors are used in combination. It is preferable that the formed colored layer does not easily fall off the substrate during development, and the strength and sensitivity of the colored layer are high.
Specific examples of a preferred combination of a mercaptan hydrogen donor and an amine hydrogen donor include 2-mercaptobenzothiazole / 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzothiazole / 4,4′-. Bis (diethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzoxazole / 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzoxazole / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, and the like are further preferable combinations. Are 2-mercaptobenzothiazole / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone and 2-mercaptobenzoxazole / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, and a particularly preferred combination is 2-mercaptobenzothia A Lumpur / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone.
The weight ratio of mercaptan hydrogen donor to amine hydrogen donor in the combination of mercaptan hydrogen donor and amine hydrogen donor is usually 1: 1 to 1: 4, preferably 1: 1 to 1: 3.

前記ベンゾイン系化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、2−ベンゾイル安息香酸メチル等を挙げることができる。
前記アセトフェノン系化合物としては、例えば、2,2−ジメトキシアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−i−プロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−メチル−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノ−1−プロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン等を挙げることができる。
Examples of the benzoin compound include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, and methyl 2-benzoylbenzoate.
Examples of the acetophenone compounds include 2,2-dimethoxyacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1- ON, 1- (4-i-propylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-methyl- (4-methylthiophenyl) -2-morpholino-1-propan-1-one, 4 -(2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one and the like.

前記ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等を挙げることができる。
前記α−ジケトン系化合物としては、例えば、ジアセチル、ジベンゾイル、メチルベンゾイルホルメート等を挙げることができる。
前記多核キノン系化合物としては、例えば、アントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、1,4−ナフトキノン等を挙げることができる。
また、前記キサントン系化合物としては、例えば、キサントン、チオキサントン、2−クロロチオキサントン等を挙げることができる。
前記ホスフィン系化合物としては、例えば、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド等を挙げることができる。
Examples of the benzophenone compounds include 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone.
Examples of the α-diketone compound include diacetyl, dibenzoyl, methylbenzoylformate, and the like.
Examples of the polynuclear quinone compound include anthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 1,4-naphthoquinone, and the like.
Examples of the xanthone compound include xanthone, thioxanthone, and 2-chlorothioxanthone.
Examples of the phosphine compound include bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.

前記トリアジン系化合物としては、例えば、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔2−(フラン−2−イル)エテニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔2−(5−メチルフラン−2−イル)エテニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔2−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)エテニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−〔2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−n−ブトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、下記式(18)で表される化合物、下記式(19)で表される化合物   Examples of the triazine compound include 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (furan -2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl)- s-triazine, 2- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl ] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxy) Tyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-n-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, represented by the following formula (18) Compound represented by the following formula (19)

Figure 0005003200
Figure 0005003200

等のハロメチル基を有する化合物等を挙げることができる。
本発明において、光ラジカル発生剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
さらに、本発明においては、前記光ラジカル発生剤と共に、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤あるいは高分子光架橋・増感剤の1種以上を併用することもできる。
Examples thereof include compounds having a halomethyl group.
In the present invention, the photo radical generator can be used alone or in admixture of two or more.
Furthermore, in the present invention, one or more of a sensitizer, a curing accelerator, or a polymer photocrosslinking / sensitizer can be used in combination with the photoradical generator as necessary.

本発明における光ラジカル発生剤の使用量は、(C)多官能性単量体と場合により使用される単官能性単量体との合計100重量部に対して、通常、0.01〜200重量部、好ましくは1〜120重量部、特に好ましくは1〜100重量部である。この場合、光ラジカル発生剤の使用量が前記範囲より少ないと、露光による硬化が不十分となり、画素パターンあるいはブラックマトリックスパターンが所定の配列に従って配置されたパターンアレイを得ることが困難となるおそれがあり、一方前記範囲を超えると、形成された着色層が現像時に基板から脱落しやすくなり、また未露光部の基板上あるいは遮光層上に地汚れ、膜残り等を生じやすくなる。
また、本発明において、光ラジカル発生剤としてカルバゾール系化合物と他の光ラジカル発生剤とを併用する場合、他の光ラジカル発生剤の使用割合は、カルバゾール系化合物と他の光ラジカル発生剤との合計に対して、好ましくは50重量%以下、さらに好ましくは30重量%以下である。
The amount of the photo radical generator used in the present invention is usually 0.01 to 200 with respect to (C) 100 parts by weight of the total of the polyfunctional monomer and the monofunctional monomer optionally used. Part by weight, preferably 1 to 120 parts by weight, particularly preferably 1 to 100 parts by weight. In this case, if the amount of the photo radical generator used is less than the above range, curing by exposure becomes insufficient, and it may be difficult to obtain a pattern array in which pixel patterns or black matrix patterns are arranged according to a predetermined arrangement. On the other hand, if it exceeds the above range, the formed colored layer tends to fall off from the substrate during development, and background stains, film residue, etc. are likely to occur on the unexposed substrate or on the light shielding layer.
In the present invention, when a carbazole compound and another photoradical generator are used in combination as a photoradical generator, the usage ratio of the other photoradical generator is such that the carbazole compound and the other photoradical generator are used. Preferably it is 50 weight% or less with respect to the sum total, More preferably, it is 30 weight% or less.

−添加剤−
本発明の着色層形成用感放射線性組成物は、必要に応じて、種々の添加剤を含有することもできる。
前記添加剤としては、感放射線性組成物のアルカリ現像液に対する溶解特性をより改善し、かつ現像後の未溶解物の残存をより抑制する作用等を示す、有機酸または有機アミノ化合物(但し、前記水素供与体を除く。)等を挙げることができる。
-Additives-
The radiation-sensitive composition for forming a colored layer of the present invention can contain various additives as necessary.
Examples of the additive include an organic acid or an organic amino compound (provided to improve the solubility characteristics of the radiation-sensitive composition in an alkaline developer and to further suppress the remaining undissolved product after development) The hydrogen donor is excluded).

前記有機酸としては、分子中に1個以上のカルボキシル基を有する、脂肪族カルボン酸あるいはフェニル基含有カルボン酸が好ましい。
前記脂肪族カルボン酸としては、例えば、
ぎ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸等のモノカルボン酸類;
しゅう酸、マロン酸、こはく酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルこはく酸、テトラメチルこはく酸、シクロヘキサンジカルボン酸、イタコン酸、シトラコン酸、マレイン酸、フマル酸、メサコン酸等のジカルボン酸類;
トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸等のトリカルボン酸類
等を挙げることができる。
The organic acid is preferably an aliphatic carboxylic acid or a phenyl group-containing carboxylic acid having one or more carboxyl groups in the molecule.
Examples of the aliphatic carboxylic acid include
Monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, diethylacetic acid, enanthic acid, caprylic acid;
Oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, brassylic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methylsuccinic acid, tetramethylsuccinic acid Dicarboxylic acids such as cyclohexanedicarboxylic acid, itaconic acid, citraconic acid, maleic acid, fumaric acid, mesaconic acid;
And tricarboxylic acids such as tricarballylic acid, aconitic acid, and camphoronic acid.

また、前記フェニル基含有カルボン酸としては、例えば、カルボキシル基が直接フェニル基に結合した化合物、カルボキシル基が炭素鎖を介してフェニル基に結合したカルボン酸等を挙げることができる。
フェニル基含有カルボン酸としては、例えば、
安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン酸類;
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の芳香族ジカルボン酸類;
トリメリット酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリット酸等の3価以上の芳香族ポリカルボン酸類や、
フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロけい皮酸、マンデル酸、フェニルこはく酸、アトロパ酸、けい皮酸、シンナミリデン酸、クマル酸、ウンベル酸
等を挙げることができる。
Examples of the phenyl group-containing carboxylic acid include a compound in which a carboxyl group is directly bonded to the phenyl group, and a carboxylic acid in which the carboxyl group is bonded to the phenyl group via a carbon chain.
Examples of the phenyl group-containing carboxylic acid include
Aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cumic acid, hemelic acid, mesitylene acid;
Aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid;
Trivalent or higher aromatic polycarboxylic acids such as trimellitic acid, trimesic acid, merophanic acid, pyromellitic acid,
Examples thereof include phenylacetic acid, hydroatropic acid, hydrocinnamic acid, mandelic acid, phenylsuccinic acid, atropic acid, cinnamic acid, cinnamylidene acid, coumaric acid, and umberic acid.

これらの有機酸のうち、アルカリ溶解性、後述する溶媒に対する溶解性、未露光部の基板上あるいは遮光層上における地汚れや膜残りの防止等の観点から、脂肪族カルボン酸としては、脂肪族ジカルボン酸類が好ましく、特に、マロン酸、アジピン酸、イタコン酸、シトラコン酸、フマル酸、メサコン酸等が好ましい。また、フェニル基含有カルボン酸としては、芳香族ジカルボン酸類が好ましく、特に、フタル酸が好ましい。
前記有機酸は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
有機酸の使用量は、感放射線性組成物全体に対して、通常、15重量%以下、好ましくは10重量%以下である。この場合、有機酸の使用量が多すぎると、形成された着色層の基板に対する密着性が低下する傾向がある。
Among these organic acids, aliphatic carboxylic acids are aliphatic from the viewpoints of alkali solubility, solubility in a solvent described later, prevention of soiling and film residue on the substrate or the light-shielding layer in the unexposed area, and the like. Dicarboxylic acids are preferred, and malonic acid, adipic acid, itaconic acid, citraconic acid, fumaric acid, mesaconic acid and the like are particularly preferred. As the phenyl group-containing carboxylic acid, aromatic dicarboxylic acids are preferable, and phthalic acid is particularly preferable.
The organic acids can be used alone or in admixture of two or more.
The amount of the organic acid used is usually 15% by weight or less, preferably 10% by weight or less, based on the whole radiation-sensitive composition. In this case, when there is too much usage-amount of organic acid, there exists a tendency for the adhesiveness with respect to the board | substrate of the formed colored layer to fall.

また、前記有機アミノ化合物としては、分子中に1個以上のアミノ基を有する、脂肪族アミンあるいはフェニル基含有アミンが好ましい。
前記脂肪族アミンとしては、例えば、
n−プロピルアミン、i−プロピルアミン、n−ブチルアミン、i−ブチルアミン、sec−ブチルアミン、t−ブチルアミン、n−ペンチルアミン、n−ヘキシルアミン、n−へプチルアミン、n−オクチルアミン、n−ノニルアミン、n−デシルアミン、n−ウンデシルアミン、n−ドデシルアミン、シクロヘキシルアミン、2−メチルシクロヘキシルアミン、3−メチルシクロヘキシルアミン、4−メチルシクロヘキシルアミン、2−エチルシクロヘキシルアミン、3−エチルシクロヘキシルアミン、4−エチルシクロヘキシルアミン等のモノ(シクロ)アルキルアミン類;
メチルエチルアミン、ジエチルアミン、メチルn−プロピルアミン、エチルn−プロピルアミン、ジ−n−プロピルアミン、ジ−i−プロピルアミン、ジ−n−ブチルアミン、ジ−i−ブチルアミン、ジ−sec−ブチルアミン、ジ−t−ブチルアミン、ジ−n−ペンチルアミン、ジ−n−ヘキシルアミン、メチルシクロヘキシルアミン、エチルシクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン等のジ(シクロ)アルキルアミン類;
The organic amino compound is preferably an aliphatic amine or a phenyl group-containing amine having one or more amino groups in the molecule.
Examples of the aliphatic amine include:
n-propylamine, i-propylamine, n-butylamine, i-butylamine, sec-butylamine, t-butylamine, n-pentylamine, n-hexylamine, n-heptylamine, n-octylamine, n-nonylamine, n-decylamine, n-undecylamine, n-dodecylamine, cyclohexylamine, 2-methylcyclohexylamine, 3-methylcyclohexylamine, 4-methylcyclohexylamine, 2-ethylcyclohexylamine, 3-ethylcyclohexylamine, 4- Mono (cyclo) alkylamines such as ethylcyclohexylamine;
Methylethylamine, diethylamine, methyl n-propylamine, ethyl n-propylamine, di-n-propylamine, di-i-propylamine, di-n-butylamine, di-i-butylamine, di-sec-butylamine, di Di (cyclo) alkylamines such as t-butylamine, di-n-pentylamine, di-n-hexylamine, methylcyclohexylamine, ethylcyclohexylamine, dicyclohexylamine;

ジメチルエチルアミン、メチルジエチルアミン、トリエチルアミン、ジメチルn−プロピルアミン、ジエチルn−プロピルアミン、メチルジ−n−プロピルアミン、エチルジ−n−プロピルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−i−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、トリ−i−ブチルアミン、トリ−sec−ブチルアミン、トリ−t−ブチルアミン、トリ−n−ペンチルアミン、トリ−n−ヘキシルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミン、ジエチルシクロヘキシルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、エチルジシクロヘキシルアミン、トリシクロヘキシルアミン等のトリ(シクロ)アルキルアミン類;
2−アミノエタノール、3−アミノ−1−プロパノール、1−アミノ−2−プロパノール、4−アミノ−1−ブタノール、5−アミノ−1−ペンタノール、6−アミノ−1−ヘキサノール、4−アミノ−1−シクロヘキサノール等のモノ(シクロ)アルカノールアミン類;
Dimethylethylamine, methyldiethylamine, triethylamine, dimethyl n-propylamine, diethyl n-propylamine, methyldi-n-propylamine, ethyldi-n-propylamine, tri-n-propylamine, tri-i-propylamine, tri- n-butylamine, tri-i-butylamine, tri-sec-butylamine, tri-t-butylamine, tri-n-pentylamine, tri-n-hexylamine, dimethylcyclohexylamine, diethylcyclohexylamine, methyldicyclohexylamine, ethyldicyclohexyl Tri (cyclo) alkylamines such as amine and tricyclohexylamine;
2-aminoethanol, 3-amino-1-propanol, 1-amino-2-propanol, 4-amino-1-butanol, 5-amino-1-pentanol, 6-amino-1-hexanol, 4-amino- Mono (cyclo) alkanolamines such as 1-cyclohexanol;

ジエタノールアミン、ジ−n−プロパノールアミン、ジ−i−プロパノールアミン、ジ−n−ブタノールアミン、ジ−i−ブタノールアミン、ジ−n−ペンタノールアミン、ジ−n−ヘキサノールアミン、ジ(4−シクロヘキサノール)アミン等のジ(シクロ)アルカノールアミン類;
トリエタノールアミン、トリ−n−プロパノールアミン、トリ−i−プロパノールアミン、トリ−n−ブタノールアミン、トリ−i−ブタノールアミン、トリ−n−ペンタノールアミン、トリ−n−ヘキサノールアミン、トリ(4−シクロヘキサノール)アミン等のトリ(シクロ)アルカノールアミン類;
Diethanolamine, di-n-propanolamine, di-i-propanolamine, di-n-butanolamine, di-i-butanolamine, di-n-pentanolamine, di-n-hexanolamine, di (4-cyclo Di (cyclo) alkanolamines such as hexanol) amine;
Triethanolamine, tri-n-propanolamine, tri-i-propanolamine, tri-n-butanolamine, tri-i-butanolamine, tri-n-pentanolamine, tri-n-hexanolamine, tri (4 -Tri (cyclo) alkanolamines such as cyclohexanol) amine;

3−アミノ−1,2−プロパンジオール、2−アミノ−1,3−プロパンジオール、4−アミノ−1,2−ブタンジオール、4−アミノ−1,3−ブタンジオール、4−アミノ−1,2−シクロヘキサンジオール、4−アミノ−1,3−シクロヘキサンジオール、3−ジメチルアミノ−1,2−プロパンジオール、3−ジエチルアミノ−1,2−プロパンジオール、2−ジメチルアミノ−1,3−プロパンジオール、2−ジエチルアミノ−1,3−プロパンジオール等のアミノ(シクロ)アルカンジオール類;
1−アミノシクロペンタンメタノール、4−アミノシクロペンタンメタノール、1−アミノシクロヘキサンメタノール、4−アミノシクロヘキサンメタノール、4−ジメチルアミノシクロペンタンメタノール、4−ジエチルアミノシクロペンタンメタノール、4−ジメチルアミノシクロヘキサンメタノール、4−ジエチルアミノシクロヘキサンメタノール等のアミノ基含有シクロアルカンメタノール類;
β−アラニン、2−アミノ酪酸、3−アミノ酪酸、4−アミノ酪酸、2−アミノイソ酪酸、3−アミノイソ酪酸、2−アミノ吉草酸、5−アミノ吉草酸、6−アミノカプロン酸、1−アミノシクロプロパンカルボン酸、1−アミノシクロヘキサンカルボン酸、4−アミノシクロヘキサンカルボン酸等のアミノカルボン酸類等を挙げることができる。
3-amino-1,2-propanediol, 2-amino-1,3-propanediol, 4-amino-1,2-butanediol, 4-amino-1,3-butanediol, 4-amino-1, 2-cyclohexanediol, 4-amino-1,3-cyclohexanediol, 3-dimethylamino-1,2-propanediol, 3-diethylamino-1,2-propanediol, 2-dimethylamino-1,3-propanediol Amino (cyclo) alkanediols such as 2-diethylamino-1,3-propanediol;
1-aminocyclopentanemethanol, 4-aminocyclopentanemethanol, 1-aminocyclohexanemethanol, 4-aminocyclohexanemethanol, 4-dimethylaminocyclopentanemethanol, 4-diethylaminocyclopentanemethanol, 4-dimethylaminocyclohexanemethanol, 4- Amino group-containing cycloalkanemethanols such as diethylaminocyclohexanemethanol;
β-alanine, 2-aminobutyric acid, 3-aminobutyric acid, 4-aminobutyric acid, 2-aminoisobutyric acid, 3-aminoisobutyric acid, 2-aminovaleric acid, 5-aminovaleric acid, 6-aminocaproic acid, 1-aminocyclo Examples thereof include aminocarboxylic acids such as propanecarboxylic acid, 1-aminocyclohexanecarboxylic acid, and 4-aminocyclohexanecarboxylic acid.

また、前記フェニル基含有アミンとしては、例えば、アミノ基が直接フェニル基に結合した化合物、アミノ基が炭素鎖を介してフェニル基に結合した化合物等を挙げることができる。
フェニル基含有アミンとしては、例えば、
アニリン、2−メチルアニリン、3−メチルアニリン、4−メチルアニリン、4―エチルアニリン、4−n−プロピルアニリン、4−i−プロピルアニリン、4−n−ブチルアニリン、4−t−ブチルアニリン、1−ナフチルアミン、2−ナフチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、4−メチル−N,N−ジメチルアニリン等の芳香族アミン類;
2−アミノベンジルアルコール、3−アミノベンジルアルコール、4−アミノベンジルアルコール、4−ジメチルアミノベンジルアルコール、4−ジエチルアミノベンジルアルコール等のアミノベンジルアルコール類;
2−アミノフェノール、3―アミノフェノール、4―アミノフェノール、4−ジメチルアミノフェノール、4−ジエチルアミノフェノール等のアミノフェノール類
等を挙げることができる。
Examples of the phenyl group-containing amine include compounds in which an amino group is directly bonded to a phenyl group, and compounds in which an amino group is bonded to a phenyl group via a carbon chain.
As the phenyl group-containing amine, for example,
Aniline, 2-methylaniline, 3-methylaniline, 4-methylaniline, 4-ethylaniline, 4-n-propylaniline, 4-i-propylaniline, 4-n-butylaniline, 4-t-butylaniline, Aromatic amines such as 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, 4-methyl-N, N-dimethylaniline;
Aminobenzyl alcohols such as 2-aminobenzyl alcohol, 3-aminobenzyl alcohol, 4-aminobenzyl alcohol, 4-dimethylaminobenzyl alcohol, 4-diethylaminobenzyl alcohol;
Examples include aminophenols such as 2-aminophenol, 3-aminophenol, 4-aminophenol, 4-dimethylaminophenol, and 4-diethylaminophenol.

これらの有機アミノ化合物のうち、後述する溶媒に対する溶解性、未露光部の基板上あるいは遮光層上における地汚れや膜残りの防止等の観点から、脂肪族アミンとしては、モノ(シクロ)アルカノールアミン類、アミノ(シクロ)アルカンジオール類が好ましく、特に、2−アミノエタノール、3−アミノ−1−プロパノール、5−アミノ−1−ペンタノール、3−アミノ−1,2−プロパンジオール、2−アミノ−1,3−プロパンジオール、4−アミノ−1,2−ブタンジオール等が好ましい。また、フェニル基含有アミンとしては、アミノフェノール類が好ましく、特に、2−アミノフェノール、3−アミノフェノール、4−アミノフェノール等が好ましい。
前記有機アミノ化合物は、単独でまたは2種以上混合して使用することができる。
有機アミノ化合物の使用量は、感放射線性組成物全体に対して、通常、15重量%以下、好ましくは10重量%以下である。この場合、有機アミノ化合物の使用量が多すぎると、形成された着色層の基板に対する密着性が低下する傾向がある。
Among these organic amino compounds, mono (cyclo) alkanolamines are used as aliphatic amines from the viewpoints of solubility in the solvent described later, prevention of soiling and film residue on the unexposed portion of the substrate or the light shielding layer, and the like. And amino (cyclo) alkanediols are preferred, in particular 2-aminoethanol, 3-amino-1-propanol, 5-amino-1-pentanol, 3-amino-1,2-propanediol, 2-amino -1,3-propanediol, 4-amino-1,2-butanediol and the like are preferable. Moreover, as a phenyl group containing amine, aminophenols are preferable and 2-aminophenol, 3-aminophenol, 4-aminophenol, etc. are especially preferable.
The organic amino compounds can be used alone or in admixture of two or more.
The amount of the organic amino compound used is usually 15% by weight or less, preferably 10% by weight or less, based on the whole radiation-sensitive composition. In this case, when there is too much usage-amount of an organic amino compound, there exists a tendency for the adhesiveness with respect to the board | substrate of the formed colored layer to fall.

さらに、前記有機酸および有機アミノ化合物以外の添加剤としては、例えば、
銅フタロシアニン誘導体等の青色顔料誘導体や黄色顔料誘導体等の分散助剤;
ガラス、アルミナ等の充填剤;
ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル類、ポリ(フロロアルキルアクリレート)類等の高分子化合物;
ノニオン系、カチオン系、アニオン系等の界面活性剤;
ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤;
2,2’−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,6−ジ−t−ブチルフェノール等の酸化防止剤;
2−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン類等の紫外線吸収剤;
ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤;
1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2−フェニルアゾ−4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル等の熱ラジカル発生剤
等を挙げることができる。
Furthermore, as an additive other than the organic acid and the organic amino compound, for example,
Dispersing aids such as blue pigment derivatives and yellow pigment derivatives such as copper phthalocyanine derivatives;
Fillers such as glass and alumina;
Polymer compounds such as polyvinyl alcohol, polyethylene glycol monoalkyl ethers, poly (fluoroalkyl acrylates);
Nonionic, cationic and anionic surfactants;
Vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltri Methoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropyl Adhesion promoters such as methyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane;
Antioxidants such as 2,2′-thiobis (4-methyl-6-tert-butylphenol), 2,6-di-tert-butylphenol;
UV absorbers such as 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole, alkoxybenzophenones;
Anti-agglomeration agents such as sodium polyacrylate;
Examples thereof include thermal radical generators such as 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) and 2-phenylazo-4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile.

溶媒
本発明の着色層形成用感放射線性組成物は、前記(A)〜(D)成分を必須成分とし、必要に応じて前記添加剤成分を含有するが、通常、溶媒を配合して液状組成物として調製される。
前記溶媒としては、感放射線性組成物を構成する(A)〜(D)成分や添加剤成分を分散または溶解し、かつこれらの成分と反応せず、適度の揮発性を有するものである限り、適宜に選択して使用することができる。
Solvent The radiation-sensitive composition for forming a colored layer according to the present invention contains the components (A) to (D) as essential components, and contains the additive components as necessary. Prepared as a composition.
As the solvent, the components (A) to (D) and additive components constituting the radiation-sensitive composition are dispersed or dissolved, and do not react with these components and have appropriate volatility. Can be appropriately selected and used.

このような溶媒としては、例えば、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテル類;
As such a solvent, for example,
Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n- Butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, di Propylene glycol mono Chirueteru, dipropylene glycol mono -n- propyl ether, dipropylene glycol mono -n- butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monoethyl (poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as ether;

エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノ−n−プロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等のケトン類;
Ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol mono-n-propyl ether acetate, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol mono (Poly) alkylene glycol monoalkyl ether acetates such as ethyl ether acetate;
Other ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran;
Ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone;

乳酸メチル、乳酸エチル等の乳酸アルキルエステル類;
2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸i−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、ぎ酸n−アミル、酢酸i−アミル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸n−プロピル、酪酸i−プロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸n−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類;
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;
N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミドまたはラクタム類
等を挙げることができる。
Lactic acid alkyl esters such as methyl lactate and ethyl lactate;
Ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, ethyl hydroxyacetate, 2-hydroxy Methyl-3-methylbutanoate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, i-propyl acetate, n -Butyl, i-butyl acetate, n-amyl formate, i-amyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, i-propyl butyrate, n-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate , N-propyl pyruvate, methyl acetoacetate, acetoacetate Le, other esters such as ethyl 2-oxobutanoate;
Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene;
Examples include amides or lactams such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone.

これらの溶媒のうち、溶解性、顔料分散性、塗布性等の観点から、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノ−n−プロピルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン、乳酸エチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸n−ブチル、酢酸i−ブチル、ぎ酸n−アミル、酢酸i−アミル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸i−プロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸エチル等が好ましい。
前記溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
Among these solvents, from the viewpoint of solubility, pigment dispersibility, coatability, etc., propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol mono-n-propyl Ether acetate, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone, 2-heptanone, 3-heptanone, ethyl lactate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, 3-ethoxypropion Ethyl acetate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, n-butyl acetate, i-butyl acetate, n-amyl formate, i-amyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, i-propyl butyrate, butyric acid n-butyl, ethyl pyruvate and the like are preferable.
The said solvent can be used individually or in mixture of 2 or more types.

また、前記溶媒と共に、ベンジルエチルエーテル、ジ−n−ヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1−オクタノール、1−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテート等の高沸点溶媒を併用することもできる。
これらの高沸点溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
溶媒の使用量は、特に限定されるものではないが、得られる液状組成物の塗布性、安定性等の観点から、液状組成物の溶媒を除いた各成分の合計濃度が、通常、5〜50重量%、好ましくは10〜40重量%となる量が望ましい。
Along with the solvent, benzyl ethyl ether, di-n-hexyl ether, acetonyl acetone, isophorone, caproic acid, caprylic acid, 1-octanol, 1-nonanol, benzyl alcohol, benzyl acetate, ethyl benzoate, diethyl oxalate In addition, a high boiling point solvent such as diethyl maleate, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, propylene carbonate, ethylene glycol monophenyl ether acetate can be used in combination.
These high-boiling solvents can be used alone or in admixture of two or more.
The amount of the solvent used is not particularly limited, but the total concentration of each component excluding the solvent of the liquid composition is usually from 5 to 5 from the viewpoint of applicability and stability of the obtained liquid composition. The amount is 50% by weight, preferably 10 to 40% by weight.

カラーフィルタ
本発明のカラーフィルタは、本発明の着色層形成用感放射線性組成物を用いて形成された着色層を有するものである。
以下に、本発明のカラーフィルタにおける着色層を形成する方法について説明する。
まず、基板の表面上に、必要に応じて、画素を形成する部分を区画するように遮光層を形成し、この基板上に、例えば赤色の顔料が分散された感放射線性組成物の液状組成物を塗布したのち、プレベークを行って溶剤を蒸発させ、塗膜を形成する。次いで、この塗膜にフォトマスクを介して露光したのち、アルカリ現像液を用いて現像して、塗膜の未露光部を溶解除去し、その後ポストベークすることにより、赤色の画素パターンが所定の配列で配置された画素アレイを形成する。
その後、緑色または青色の顔料が分散された感放射線性組成物の各液状組成物を用い、前記と同様にして、液状組成物の塗布、プレベーク、露光、現像およびポストベークを行って、緑色の画素アレイおよび青色の画素アレイを同一基板上に順次形成することにより、赤色、緑色および青色の三原色の画素アレイが基板上に配置されたカラーフィルタを得ることができる。但し、本発明においては、各色の画素を形成する順序は、前記のものに限定されない。
また、ブラックマトリックスは、例えば、黒色の顔料が分散された着色層形成用感放射線性組成物を用い、前記画素の場合と同様にして形成することができる。
Color filter The color filter of this invention has a colored layer formed using the radiation-sensitive composition for colored layer formation of this invention.
Below, the method of forming the colored layer in the color filter of this invention is demonstrated.
First, on the surface of the substrate, if necessary, a light shielding layer is formed so as to partition a portion for forming pixels, and a liquid composition of a radiation sensitive composition in which, for example, a red pigment is dispersed on the substrate. After applying the material, pre-baking is performed to evaporate the solvent and form a coating film. Next, the coating film is exposed through a photomask, and then developed using an alkali developer to dissolve and remove the unexposed portions of the coating film, and then post-baked to form a red pixel pattern. A pixel array arranged in an array is formed.
Thereafter, using each liquid composition of the radiation-sensitive composition in which the green or blue pigment is dispersed, the liquid composition is applied, pre-baked, exposed, developed, and post-baked in the same manner as described above. By sequentially forming the pixel array and the blue pixel array on the same substrate, a color filter in which the pixel arrays of the three primary colors of red, green, and blue are arranged on the substrate can be obtained. However, in the present invention, the order of forming the pixels of each color is not limited to the above.
The black matrix can be formed in the same manner as in the case of the pixel using, for example, a radiation-sensitive composition for forming a colored layer in which a black pigment is dispersed.

画素および/またはブラックマトリックスを形成する際に使用される基板としては、例えば、ガラス、シリコン、ポリカーボネート、ポリエステル、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド等を挙げることができる。
また、これらの基板には、所望により、シランカップリング剤等による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、真空蒸着等の適宜の前処理を施しておくこともできる。
感放射線性組成物の液状組成物を基板に塗布する際には、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法(スピンコート法)、スリットダイ塗布法、バー塗布法、インクジェット法等の適宜の塗布法を採用することができるが、特に、スピンコート法、スリットダイ塗布法が好ましい。
塗布厚さは、乾燥後の膜厚として、通常、0.1〜10μm、好ましくは0.2〜8.0μm、特に好ましくは0.2〜6.0μmである。
Examples of the substrate used when forming the pixel and / or the black matrix include glass, silicon, polycarbonate, polyester, aromatic polyamide, polyamideimide, and polyimide.
In addition, these substrates may be subjected to appropriate pretreatment such as chemical treatment with a silane coupling agent or the like, plasma treatment, ion plating, sputtering, gas phase reaction method, vacuum deposition, etc., if desired.
When applying a liquid composition of a radiation sensitive composition to a substrate, an appropriate application such as a spray method, a roll coating method, a spin coating method (spin coating method), a slit die coating method, a bar coating method, an ink jet method, etc. Although a method can be employed, a spin coating method and a slit die coating method are particularly preferable.
The coating thickness is usually 0.1 to 10 μm, preferably 0.2 to 8.0 μm, particularly preferably 0.2 to 6.0 μm as the film thickness after drying.

画素および/またはブラックマトリックスを形成する際に使用される放射線としては、例えば、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等を使用することができるが、波長が190〜450nmの範囲にある放射線が好ましい。
放射線の露光量は、好ましくは10〜10,000J/m2 である。
また、前記アルカリ現像液としては、例えば、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、コリン、1,8−ジアザビシクロ−[5.4.0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ−[4.3.0]−5−ノネン等の水溶液が好ましい。
前記アルカリ現像液には、例えばメタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤等を適量添加することもできる。なお、アルカリ現像後は、通常、水洗する。
現像処理法としては、シャワー現像法、スプレー現像法、ディップ(浸漬)現像法、パドル(液盛り)現像法等を適用することができる。現像条件は、常温で5〜300秒が好ましい。
As the radiation used when forming the pixel and / or the black matrix, for example, visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, X-ray or the like can be used, but the wavelength is in the range of 190 to 450 nm. Some radiation is preferred.
Exposure of radiation is preferably 10~10,000J / m 2.
Examples of the alkali developer include sodium carbonate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, choline, 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene, An aqueous solution such as 5-diazabicyclo- [4.3.0] -5-nonene is preferred.
An appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol, a surfactant, or the like can be added to the alkaline developer. In addition, it is usually washed with water after alkali development.
As a development processing method, a shower development method, a spray development method, a dip (immersion) development method, a paddle (liquid accumulation) development method, or the like can be applied. The development conditions are preferably 5 to 300 seconds at room temperature.

このようにして得られる本発明のカラーフィルタは、例えば、透過型あるいは反射型のカラー液晶表示素子、カラー撮像管素子、カラーセンサー等に極めて有用である。   The color filter of the present invention thus obtained is extremely useful for, for example, a transmissive or reflective color liquid crystal display element, a color imaging tube element, a color sensor, and the like.

カラー液晶表示素子
本発明のカラー液晶表示素子は、本発明のカラーフィルタを具備するものである。
また、本発明のカラー液晶表示素子の1つの形態として、本発明の着色層形成用感放射線性組成物を用いて、薄膜トランジスタ基板アレイ上に、前述したようにして画素および/またはブラックマトリックスを形成することにより、特に優れた特性を有するカラー液晶表示素子を作製することができる。
Color liquid crystal display element The color liquid crystal display element of the present invention comprises the color filter of the present invention.
Further, as one form of the color liquid crystal display element of the present invention, a pixel and / or a black matrix is formed as described above on the thin film transistor substrate array using the radiation-sensitive composition for forming a colored layer of the present invention. By doing so, a color liquid crystal display element having particularly excellent characteristics can be produced.

本発明の着色層形成用感放射線性組成物は、前記(A)〜(D)成分を必須成分として含有するものであるが、特に好ましい組成物を具体的に例示すると、下記(イ)〜(ニ)のとおりである。
(イ) (B)アルカリ可溶性樹脂が、式(9)、式(10)または式(11)で表されるジ(メタ)アクリロイル基含有ジオール化合物の群から選ばれる少なくとも1種と四塩基酸二無水物(12)の群から選ばれる少なくとも1種とのエステル化反応により得られる、Mwが3,000〜100,000のポリエステル(1)を含む着色層形成用感放射線性組成物。
(ロ) (C)多官能性単量体がトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの群から選ばれる少なくとも1種からなる前記(イ)の着色層形成用感放射線性組成物。
(ハ) (D)光ラジカル発生剤がカルバゾール系化合物としてエタノン−1−〔9−エチル−6−{2−メチル−4−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラニル)メトキシベンゾイル}−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)を含む前記(イ)または(ロ)の着色層形成用感放射線性組成物。
(ニ) (A)着色剤が有機顔料および/またはカーボンブラックを含む前記(イ)、(ロ)または(ハ)の着色層形成用感放射線性組成物。
The radiation-sensitive composition for forming a colored layer of the present invention contains the components (A) to (D) as essential components. Specific examples of particularly preferred compositions are as follows. (D)
(B) At least one selected from the group of di (meth) acryloyl group-containing diol compounds represented by formula (9), formula (10) or formula (11) and tetrabasic acid (B) alkali-soluble resin A radiation-sensitive composition for forming a colored layer, comprising a polyester (1) having an Mw of 3,000 to 100,000, obtained by an esterification reaction with at least one selected from the group of dianhydrides (12).
(B) (C) The radiation sensitive material for forming a colored layer according to (a), wherein the polyfunctional monomer is at least one selected from the group consisting of trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate. Sex composition.
(C) (D) The photoradical generator is ethanone-1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl) methoxybenzoyl}-as a carbazole compound. 9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) The radiation-sensitive composition for forming a colored layer according to (i) or (b) above.
(D) (A) The radiation-sensitive composition for forming a colored layer according to (a), (b) or (c), wherein the colorant contains an organic pigment and / or carbon black.

また、本発明の好ましいカラーフィルタは、
(ホ) 前記(イ)、(ロ)、(ハ)または(ニ)の着色層形成用感放射線性組成物を用いて形成された画素および/またはブラックマトリックスを有する。
Further, the preferred color filter of the present invention is
(E) It has a pixel and / or a black matrix formed by using the radiation sensitive composition for forming a colored layer of (i), (b), (c) or (d).

また、本発明の好ましいカラー液晶表示素子は、
(ヘ) 前記(ホ)のカラーフィルタを具備し、
本発明のさらに好ましいカラー液晶表示素子は、
(ト) 薄膜トランジスタ基板アレイ上に、前記(ホ)のカラーフィルタを具備している。
The preferred color liquid crystal display element of the present invention is
(F) comprising the color filter of (e),
Further preferred color liquid crystal display elements of the present invention are:
(G) The color filter described in (e) is provided on the thin film transistor substrate array.

本発明の着色層形成用感放射線性組成物は、現像時に未溶解物が残存したり、パターンエッジにスカムを生じたりすることがなく、かつ低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがなく、しかも微細な画素パターンおよびブラックマトリックスパターンを形成することができるとともに、当該画素およびブラックマトリックスは、表面平滑性が高く、また基板との密着性も優れている。
したがって、本発明の着色層形成用感放射線性組成物は、電子工業分野におけるカラー液晶表示素子用カラーフィルタを始めとする各種のカラーフィルタの製造に極めて好適に使用することができる。
The radiation-sensitive composition for forming a colored layer of the present invention does not leave undissolved material during development, does not cause scum at the pattern edge, and causes chipping and undercut of the pattern edge even at a low exposure amount. In addition, a fine pixel pattern and a black matrix pattern can be formed, and the pixel and the black matrix have high surface smoothness and excellent adhesion to the substrate.
Therefore, the radiation-sensitive composition for forming a colored layer of the present invention can be used very suitably for the production of various color filters including color filters for color liquid crystal display elements in the electronic industry.

以下、実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、下記実施例に限定されるものではない。ここで、部および%は重量基準である。
〈アルカリ可溶性樹脂の製造〉
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples. Here, parts and% are based on weight.
<Manufacture of alkali-soluble resin>

合成例1(参考用ポリエステルの製造)
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン1,000g、エピクロロヒドリン1,320g、ジメチルスルホキシド1,470gを仕込み、攪拌しつつ50℃に加熱して溶解させたのち、苛性ソーダ250gを加え、65〜90℃で10時間反応させた。反応の進行および終点をエポキシ当量を測定して確認し、反応終了後90〜100℃にて溶剤を減圧留去した。その後、反応生成物を50〜70℃のトルエンに再溶解させ、さらに蒸留水を加えて水洗し、静置分離を行ったのち、有機層を減圧下50〜70℃で溶剤を留去して、ジグリシジルエーテル化物1,160gを得た。
Synthesis Example 1 (Production of polyester for reference )
A flask equipped with a condenser and a stirrer was charged with 1,000 g of 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 1,320 g of epichlorohydrin and 1,470 g of dimethyl sulfoxide and heated to 50 ° C. while stirring. After dissolution, 250 g of caustic soda was added and reacted at 65 to 90 ° C. for 10 hours. The progress and end point of the reaction were confirmed by measuring the epoxy equivalent, and after completion of the reaction, the solvent was distilled off under reduced pressure at 90-100 ° C. Thereafter, the reaction product is redissolved in toluene at 50 to 70 ° C., further distilled water is added and the mixture is washed with water, and after standing separation, the organic layer is distilled off at 50 to 70 ° C. under reduced pressure. 1,160 g of diglycidyl etherified product was obtained.

次いで、冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、得られたジグリシジルエーテル化物1,000g、メタクリル酸330g、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.94gを仕込み、攪拌しつつ60℃に加熱して溶解させたのち、臭化テトラエチルアンモニウム7.55gを加え、70〜90℃で攪拌し反応を続けた。15時間後、酸価およびエポキシ当量を測定して反応の終点を確認し、室温に冷却して、ジメタクリロイル基含有ジオール化合物1,280gを得た。   Next, 1,000 g of the obtained diglycidyl etherified product, 330 g of methacrylic acid, and 0.94 g of hydroquinone monomethyl ether were charged into a flask equipped with a condenser and a stirrer, and heated to 60 ° C. with stirring and dissolved. 7.55 g of tetraethylammonium bromide was added, and the reaction was continued by stirring at 70 to 90 ° C. After 15 hours, the acid value and epoxy equivalent were measured to confirm the end point of the reaction and cooled to room temperature to obtain 1,280 g of a dimethacryloyl group-containing diol compound.

次いで、冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、得られたジメタクリロイル基含有ジオール化合物700g、メチルイソブチルケトン1,300gを仕込み、攪拌しつつ60℃に加熱して溶解させたのち、前記式(12−1)で表される無水ピロメリット酸(ダイセル化学工業(株)製)220gを加え、80℃で攪拌しつつ反応を続けた。酸価を測定して反応の終点を確認し、反応溶液に蒸留水を加えて、水洗し、静置分離を行ったのち、有機層を減圧下50〜70℃で溶剤を留去して、ポリエステル860gを得た。得られたポリエステルは、Mw=18,000であった。
このポリエステルは、式(1)において、Xが9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン残基、Yが無水ピロメリット酸残基、R1 がメチル基、R2 が水素原子のポリエステルであった。
Next, 700 g of the obtained dimethacryloyl group-containing diol compound and 1,300 g of methyl isobutyl ketone were charged into a flask equipped with a condenser and a stirrer, and dissolved by heating to 60 ° C. with stirring. The pyromellitic anhydride (made by Daicel Chemical Industries, Ltd.) 220g represented by -1) was added, and reaction was continued, stirring at 80 degreeC. After measuring the acid value and confirming the end point of the reaction, adding distilled water to the reaction solution, washing with water and performing stationary separation, the organic layer was distilled off at 50 to 70 ° C. under reduced pressure, 860 g of polyester was obtained. The obtained polyester had Mw = 18,000.
This polyester is a polyester in which X is 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene residue, Y is pyromellitic anhydride residue, R 1 is a methyl group, and R 2 is a hydrogen atom in the formula (1). there were.

合成例2〜4(ポリエステル(1)の製造)
合成例1において、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン1,000gを表1に示す原料化合物および使用量に変更した以外は、合成例1と同様にして、各ポリエステル(1)を得た。
得られた各ポリエステル(1)を順次「アルカリ可溶性樹脂(B-2)」、「アルカリ可溶性樹脂(B-3)」および「アルカリ可溶性樹脂(B-4)」とする。
Synthesis Examples 2 to 4 (Production of polyester (1))
In Synthesis Example 1, each polyester (1) was prepared in the same manner as in Synthesis Example 1 except that 1,000 g of 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene was changed to the raw material compounds and usage amounts shown in Table 1. Obtained.
The obtained polyesters (1) are successively referred to as “alkali-soluble resin (B-2)”, “alkali-soluble resin (B-3)” and “alkali-soluble resin (B-4)”.

合成例5(比較用アルカリ可溶性樹脂の製造)
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)4部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート200部を仕込み、引き続きメタクリル酸12部、スチレン18部、ベンジルメタクリレート24部、N−フェニルマレイミド30部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート16部、連鎖移動剤としてα−メチルスチレンダイマー6.5部を仕込んで、窒素置換したのち、ゆるやかに撹拌して、反応溶液を80℃に加熱し、この温度を保持して3時間重合した。重合終了後、反応溶液を100℃に加熱して、2,2' −アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を0.5部加え、さらに1時間重合することにより、アルカリ可溶性樹脂の溶液(固形分濃度=33.2%)を得た。
得られたアルカリ可溶性樹脂は、Mw=8,500であった。
このアルカリ可溶性樹脂を「アルカリ可溶性樹脂(B-5)」とする。
Synthesis Example 5 (Production of alkali-soluble resin for comparison)
A flask equipped with a condenser and a stirrer was charged with 4 parts of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) and 200 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate, followed by 12 parts of methacrylic acid, 18 parts of styrene, and benzyl methacrylate. 24 parts, 30 parts of N-phenylmaleimide, 16 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate, and 6.5 parts of α-methylstyrene dimer as a chain transfer agent were substituted with nitrogen, and then gently stirred to prepare a reaction solution of 80 parts. The mixture was heated to 0 ° C. and polymerized for 3 hours while maintaining this temperature. After completion of the polymerization, the reaction solution was heated to 100 ° C., 0.5 part of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) was added, and further polymerized for 1 hour to obtain an alkali-soluble resin solution ( Solid content concentration = 33.2%) was obtained.
The obtained alkali-soluble resin had Mw = 8,500.
This alkali-soluble resin is referred to as “alkali-soluble resin (B-5)”.

合成例6(比較用アルカリ可溶性樹脂の製造)
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)2部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート200部を仕込み、引き続きメタクリル酸10部、スチレン15部、ベンジルメタクリレート30部、N−フェニルマレイミド25部、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート20部、連鎖移動剤としてα−メチルスチレンダイマー2部を仕込んで、窒素置換したのち、ゆるやかに撹拌して、反応溶液を80℃に加熱し、この温度を保持して3時間重合した。重合終了後、反応溶液を100℃に加熱して、2,2' −アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を0.5部加え、さらに1時間重合することにより、アルカリ可溶性樹脂の溶液(固形分濃度=33.1%)を得た。
得られたアルカリ可溶性樹脂は、Mw=20,000であった。
このアルカリ可溶性樹脂を「アルカリ可溶性樹脂(B-6)」とする。
Synthesis Example 6 (Production of alkali-soluble resin for comparison)
A flask equipped with a condenser and a stirrer was charged with 2 parts of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) and 200 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate, followed by 10 parts of methacrylic acid, 15 parts of styrene, and benzyl methacrylate. 30 parts, 25 parts of N-phenylmaleimide, 20 parts of ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate, 2 parts of α-methylstyrene dimer as a chain transfer agent, purged with nitrogen, and then gently stirred to react. The solution was heated to 80 ° C. and polymerized for 3 hours while maintaining this temperature. After completion of the polymerization, the reaction solution was heated to 100 ° C., 0.5 part of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) was added, and further polymerized for 1 hour to obtain an alkali-soluble resin solution ( Solid content concentration = 33.1%) was obtained.
The obtained alkali-soluble resin had Mw = 20,000.
This alkali-soluble resin is referred to as “alkali-soluble resin (B-6)”.

合成例7(比較用アルカリ可溶性樹脂の製造)
冷却管、攪拌機を備えたフラスコに、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)4部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート200部を仕込み、引き続きメタクリル酸10部、スチレン15部、ベンジルメタクリレート40部、N−フェニルマレイミド25部、2−ヒドロキシエチルメタクリレート10部、連鎖移動剤としてα−メチルスチレンダイマー6.5部を仕込んで、窒素置換したのち、ゆるやかに撹拌して、反応溶液を80℃に加熱し、この温度を保持して3時間重合した。重合終了後、反応溶液を100℃に加熱して、2,2' −アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)を0.5部加え、さらに1時間重合することにより、アルカリ可溶性樹脂の溶液(固形分濃度=33.3%)を得た。
得られたアルカリ可溶性樹脂は、Mw=7,800であった。
このアルカリ可溶性樹脂を「アルカリ可溶性樹脂(B-7)」とする。
Synthesis Example 7 (Production of comparative alkali-soluble resin)
A flask equipped with a condenser and a stirrer was charged with 4 parts of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) and 200 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate, followed by 10 parts of methacrylic acid, 15 parts of styrene, and benzyl methacrylate. 40 parts, 25 parts of N-phenylmaleimide, 10 parts of 2-hydroxyethyl methacrylate and 6.5 parts of α-methylstyrene dimer as a chain transfer agent were purged with nitrogen, and then gently stirred to prepare a reaction solution of 80 parts. The mixture was heated to 0 ° C. and polymerized for 3 hours while maintaining this temperature. After completion of the polymerization, the reaction solution was heated to 100 ° C., 0.5 part of 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) was added, and further polymerized for 1 hour to obtain an alkali-soluble resin solution ( Solid content concentration = 33.3%) was obtained.
The obtained alkali-soluble resin had Mw = 7,800.
This alkali-soluble resin is referred to as “alkali-soluble resin (B-7)”.

実施例
〈液状組成物の調製〉
(A)着色剤としてC.I.ピグメントレッド254とC.I.ピグメントレッド177との80:20(重量比)混合物8部、分散剤としてEFKA−47を4部(固形分換算)、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート75部を、ビーズミルにより処理して、顔料分散液(R)を調製した。
次いで、得られた顔料分散液(R)87部、(B)アルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性樹脂(B-2)8部、(C)多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2部とペンタエリスリトールテトラアクリレート4部、(D)光ラジカル発生剤としてエタノン−1−〔9−エチル−6−{2−メチル−4−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラニル)メトキシベンゾイル}−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)3部、溶媒として3−メトキシブチルアセテート70部と3−エトキシプロピオン酸エチル96部を混合して、液状組成物(R)を調製した。
Example 6
<Preparation of liquid composition>
(A) 8 parts of a 80:20 (weight ratio) mixture of CI Pigment Red 254 and CI Pigment Red 177 as a colorant, 4 parts (in terms of solid content) of EFKA-47 as a dispersant, and propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent 75 parts were treated with a bead mill to prepare a pigment dispersion (R 6 ).
Subsequently, 87 parts of the obtained pigment dispersion (R 6 ), (B) 8 parts of an alkali-soluble resin (B −2 ) as an alkali-soluble resin, and (C) 2 parts of dipentaerythritol hexaacrylate as a polyfunctional monomer And 4 parts of pentaerythritol tetraacrylate, (D) Etanone-1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl) methoxybenzoyl} as a photoradical generator -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) 3 parts, 70 parts of 3-methoxybutyl acetate as a solvent and 96 parts of ethyl 3-ethoxypropionate were mixed to obtain a liquid composition (R 6 ). Prepared.

〈着色層の形成〉
液状組成物(R)を、表面にナトリウムイオンの溶出を防止する二酸化ケイ素(SiO2)膜が形成されたソーダガラス基板に、スピンコーターを用いて塗布したのち、90℃のホットプレート上で2分間プレベークを行って、膜厚1.2μmの塗膜を形成した。
次いで、基板を室温に冷却したのち、高圧水銀ランプを用い、フォトマスク(スリット幅30μm)を介して、塗膜に365nm、405nmおよび436nmの各波長を含む紫外線を露光した。このときの露光量は100J/m2 であった。その後、基板を23℃の0.04重量%水酸化カリウム水溶液に45秒間浸漬して、現像したのち、超純水で洗浄して、風乾した。その後、230℃のクリーンオーブン内で30分間ポストベークを行なって、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
<Formation of colored layer>
The liquid composition (R 6 ) was applied to a soda glass substrate having a silicon dioxide (SiO 2 ) film formed on its surface to prevent elution of sodium ions using a spin coater, and then on a hot plate at 90 ° C. Pre-baking was performed for 2 minutes to form a coating film having a thickness of 1.2 μm.
Next, after cooling the substrate to room temperature, the coating film was exposed to ultraviolet rays containing wavelengths of 365 nm, 405 nm, and 436 nm through a photomask (slit width 30 μm) using a high-pressure mercury lamp. The exposure amount at this time was 100 J / m 2 . Thereafter, the substrate was immersed in a 0.04 wt% potassium hydroxide aqueous solution at 23 ° C. for 45 seconds, developed, washed with ultrapure water, and air-dried. Thereafter, post-baking was performed in a clean oven at 230 ° C. for 30 minutes to form a red stripe pixel pattern on the substrate.

〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡(SEM)にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅μmのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表2−1に示す。
<Evaluation>
When the pixel array on the substrate was observed with an optical microscope, no development residue was observed on the unexposed portion of the substrate, and no chipping was observed on the edge of the pixel pattern.
Further, when the cross section of the pixel pattern was observed with a scanning electron microscope (SEM), no undercut was observed and a pattern with a line width of 8 μm could be formed.
The main contents are shown in Table 2-1.

実施例〜20
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表2−1または表2−2に示すとおりとした以外は、実施例と同様にして、それぞれ顔料分散液(R)〜(R20)を調製したのち、(B)アルカリ可溶性樹脂を表2−1または表2−2に示すとおりとした以外は、実施例と同様にして、それぞれ液状組成物(R)〜(R20)を調製した。
次いで、液状組成物(R)に代えて、それぞれ液状組成物(R)〜(R20)を用いた以外は、実施例と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
Example 7-20
<Preparation of liquid composition and formation of colored layer>
Pigment dispersions (R 7 ) to (R20) were prepared in the same manner as in Example 6 except that the dispersant was as shown in Table 2-1 or Table 2-2. Liquid compositions (R 7 ) to (R20) were prepared in the same manner as in Example 6 except that the resins were as shown in Table 2-1 or Table 2-2.
Next, a red stripe pixel pattern is formed on the substrate in the same manner as in Example 6 except that the liquid compositions (R 7 ) to (R 20) are used in place of the liquid composition (R 6 ). did.

〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡(SEM)にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅5、6ないし8μmのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表2−1および表2−2に示す。
<Evaluation>
When the pixel array on the substrate was observed with an optical microscope, no development residue was observed on the unexposed portion of the substrate, and no chipping was observed on the edge of the pixel pattern.
Further, when the cross section of the pixel pattern was observed with a scanning electron microscope (SEM), no undercut was observed and a pattern with a line width of 5, 6 to 8 μm could be formed. The main contents are shown in Table 2-1 and Table 2-2.

実施例2
〈液状組成物の調製〉
(A)着色剤としてC.I.ピグメントグリーン36とC.I.ピグメントイエロー150との60:40(重量比)混合物11部、分散剤としてEFKA−47を4部(固形分換算)、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート75部を、ビーズミルにより処理して、顔料分散液(G)を調製した。
次いで、得られた顔料分散液(G)90部、(B)アルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性樹脂(B-2)8部、(C)多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2部とペンタエリスリトールテトラアクリレート4部、(D)光ラジカル発生剤としてエタノン−1−〔9−エチル−6−{2−メチル−4−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラニル)メトキシベンゾイル}−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)3部、溶媒として3−メトキシブチルアセテート70部と3−エトキシプロピオン酸エチル96部を混合して、液状組成物(G)を調製した。〈着色層の形成〉
次いで、液状組成物(R)に代えて、液状組成物(G)を用いた以外は、実施例と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
Example 2 6
<Preparation of liquid composition>
(A) 11 parts of a 60:40 (weight ratio) mixture of CI Pigment Green 36 and CI Pigment Yellow 150 as the colorant, 4 parts of EFKA-47 as the dispersant (in terms of solid content), and propylene glycol monomethyl ether acetate as the solvent 75 parts were treated with a bead mill to prepare a pigment dispersion (G 6 ).
Subsequently, 90 parts of the obtained pigment dispersion (G 6 ), (B) 8 parts of an alkali-soluble resin (B −2 ) as an alkali-soluble resin, and (C) 2 parts of dipentaerythritol hexaacrylate as a polyfunctional monomer And 4 parts of pentaerythritol tetraacrylate, (D) Etanone-1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl) methoxybenzoyl} as a photoradical generator -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) 3 parts, 70 parts of 3-methoxybutyl acetate as a solvent and 96 parts of ethyl 3-ethoxypropionate were mixed to obtain a liquid composition (G 6 ). Prepared. <Formation of colored layer>
Next, a green striped pixel pattern was formed on the substrate in the same manner as in Example 6 except that the liquid composition (G 6 ) was used instead of the liquid composition (R 6 ).

〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡(SEM)にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅8μmのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表3−1に示す。
<Evaluation>
When the pixel array on the substrate was observed with an optical microscope, no development residue was observed on the unexposed portion of the substrate, and no chipping was observed on the edge of the pixel pattern.
When the cross section of the pixel pattern was observed with a scanning electron microscope (SEM), no undercut was observed and a pattern with a line width of 8 μm could be formed.
The main contents are shown in Table 3-1.

実施例2〜40
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表3−1または表3−2に示すとおりとした以外は、実施例2と同様にして、それぞれ顔料分散液(G)〜(G20)を調製したのち、(B)アルカリ可溶性樹脂を表3−1または表3−2に示すとおりとした以外は、実施例2と同様にして、それぞれ液状組成物(G)〜(G20)を調製した。
次いで、液状組成物(R)に代えて、それぞれ液状組成物(G)〜(G20)を用いた以外は、実施例と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
Example 2 7-40
<Preparation of liquid composition and formation of colored layer>
Pigment dispersions (G 7 ) to (G 20) were prepared in the same manner as in Example 26 except that the dispersant was as shown in Table 3-1 or Table 3-2. Liquid compositions (G 7 ) to (G 20) were prepared in the same manner as in Example 26 except that the soluble resin was as shown in Table 3-1 or Table 3-2.
Next, a green striped pixel pattern is formed on the substrate in the same manner as in Example 6 except that the liquid compositions (G 7 ) to (G 20) are used in place of the liquid composition (R 6 ). did.

〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡(SEM)にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅5、6ないし8μmのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表3−1および表3−2に示す。
<Evaluation>
When the pixel array on the substrate was observed with an optical microscope, no development residue was observed on the unexposed portion of the substrate, and no chipping was observed on the edge of the pixel pattern.
Further, when the cross section of the pixel pattern was observed with a scanning electron microscope (SEM), no undercut was observed and a pattern with a line width of 5, 6 to 8 μm could be formed. The main contents are shown in Tables 3-1 and 3-2.

実施例4
〈液状組成物の調製〉
(A)着色剤としてC.I.ピグメントブルー15:6とC.I.ピグメントバイオレット23との95:5(重量比)混合物9部、分散剤としてEFKA−47を4部(固形分換算)、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート75部を、ビーズミルにより処理して、顔料分散液(B)を調製した。
次いで、得られた顔料分散液(B)88部、(B)アルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性樹脂(B-2)8部、(C)多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2部とペンタエリスリトールテトラアクリレート4部、(D)光ラジカル発生剤としてエタノン−1−〔9−エチル−6−{2−メチル−4−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラニル)メトキシベンゾイル}−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)3部、溶媒として3−メトキシブチルアセテート70部と3−エトキシプロピオン酸エチル96部を混合して、液状組成物(B)を調製した。〈着色層の形成〉
次いで、液状組成物(R)に代えて、液状組成物(B)を用いた以外は、実施例と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
Example 4 6
<Preparation of liquid composition>
(A) 9 parts of a 95: 5 (weight ratio) mixture of CI Pigment Blue 15: 6 and CI Pigment Violet 23 as a colorant, 4 parts (in terms of solid content) of EFKA-47 as a dispersant, and propylene glycol monomethyl as a solvent 75 parts of ether acetate was treated with a bead mill to prepare a pigment dispersion (B 6 ).
Next, 88 parts of the obtained pigment dispersion (B 6 ), (B) 8 parts of an alkali-soluble resin (B −2 ) as an alkali-soluble resin, and (C) 2 parts of dipentaerythritol hexaacrylate as a polyfunctional monomer And 4 parts of pentaerythritol tetraacrylate, (D) Etanone-1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl) methoxybenzoyl} as a photoradical generator -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) 3 parts, 70 parts of 3-methoxybutyl acetate as a solvent and 96 parts of ethyl 3-ethoxypropionate were mixed to obtain a liquid composition (B 6 ). Prepared. <Formation of colored layer>
Next, a blue stripe pixel pattern was formed on the substrate in the same manner as in Example 6 except that the liquid composition (B 6 ) was used instead of the liquid composition (R 6 ).

〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡(SEM)にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅μmのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表4−1に示す。
<Evaluation>
When the pixel array on the substrate was observed with an optical microscope, no development residue was observed on the unexposed portion of the substrate, and no chipping was observed on the edge of the pixel pattern.
Further, when the cross section of the pixel pattern was observed with a scanning electron microscope (SEM), no undercut was observed and a pattern with a line width of 8 μm could be formed.
The main contents are shown in Table 4-1.

実施例4〜60
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表4−1または表4−2に示すとおりとした以外は、実施例4と同様にして、それぞれ顔料分散液(B)〜(B20)を調製したのち、(B)アルカリ可溶性樹脂を表4−1または表4−2に示すとおりとした以外は、実施例4と同様にして、それぞれ液状組成物(B)〜(B20)を調製した。
次いで、液状組成物(R)に代えて、それぞれ液状組成物(B)〜(B20)を用いた以外は、実施例と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
Example 4 7-60
<Preparation of liquid composition and formation of colored layer>
Except that the dispersant was changed as shown in Table 4-1 or Table 4-2, in the same manner as in Example 4 6, after each pigment dispersion (B 7) ~ (B20) was prepared, (B) an alkali except that the soluble resin was as shown in Table 4-1 or Table 4-2, in the same manner as in example 4 6, respectively liquid composition (B 7) ~ (B20) was prepared.
Next, a blue stripe pixel pattern is formed on the substrate in the same manner as in Example 6 except that the liquid compositions (B 7 ) to (B 20) are used instead of the liquid composition (R 6 ). did.

〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡(SEM)にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅5、6ないし8μmのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表4−1および表4−2に示す。
<Evaluation>
When the pixel array on the substrate was observed with an optical microscope, no development residue was observed on the unexposed portion of the substrate, and no chipping was observed on the edge of the pixel pattern.
Further, when the cross section of the pixel pattern was observed with a scanning electron microscope (SEM), no undercut was observed and a pattern with a line width of 5, 6 to 8 μm could be formed. The main contents are shown in Tables 4-1 and 4-2.

実施例6
〈液状組成物の調製〉
(A)着色剤としてカーボンブラック20部、分散剤としてEFKA−46を4部(固形分換算)、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート75部を、ビーズミルにより処理して、顔料分散液(BK)を調製した。
次いで、得られた顔料分散液(BK)99部、(B)アルカリ可溶性樹脂としてアルカリ可溶性樹脂(B-2)8部、(C)多官能性単量体としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2部とペンタエリスリトールテトラアクリレート4部、(D)光ラジカル発生剤としてエタノン−1−〔9−エチル−6−{2−メチル−4−(2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラニル)メトキシベンゾイル}−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−1−(O−アセチルオキシム)3部、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート150部を混合して、液状組成物(BK)を調製した。
〈着色層の形成〉
次いで、液状組成物(R)に代えて、液状組成物(BK)を用いた以外は、実施例と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
Example 6 6
<Preparation of liquid composition>
(A) 20 parts of carbon black as a colorant, 4 parts of EFKA-46 as a dispersant (in terms of solid content), and 75 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent are treated with a bead mill to obtain a pigment dispersion (BK 6 ). Was prepared.
Subsequently, 99 parts of the obtained pigment dispersion (BK 6 ), (B) 8 parts of an alkali-soluble resin (B −2 ) as an alkali-soluble resin, and (C) 2 parts of dipentaerythritol hexaacrylate as a polyfunctional monomer And 4 parts of pentaerythritol tetraacrylate, (D) Etanone-1- [9-ethyl-6- {2-methyl-4- (2,2-dimethyl-1,3-dioxolanyl) methoxybenzoyl} as a photoradical generator -9. H. -Carbazol-3-yl] -1- (O-acetyloxime) 3 parts and 150 parts of propylene glycol monomethyl ether acetate as a solvent were mixed to prepare a liquid composition (BK 6 ).
<Formation of colored layer>
Next, a black stripe pixel pattern was formed on the substrate in the same manner as in Example 6 except that the liquid composition (BK 6 ) was used instead of the liquid composition (R 6 ).

〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡(SEM)にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅6μmのパターンの形成が可能であった。
以上の主な内容を表5−1に示す。
<Evaluation>
When the pixel array on the substrate was observed with an optical microscope, no development residue was observed on the unexposed portion of the substrate, and no chipping was observed on the edge of the pixel pattern.
When the cross section of the pixel pattern was observed with a scanning electron microscope (SEM), no undercut was observed and a pattern with a line width of 6 μm could be formed.
The main contents are shown in Table 5-1.

実施例6〜80
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
分散剤を表5−1または表5−2に示すとおりとした以外は、実施例6と同様にして、それぞれ顔料分散液(BK)〜(BK20)を調製したのち、(B)アルカリ可溶性樹脂を表5−1または表5−2に示すとおりとした以外は、実施例6と同様にして、それぞれ液状組成物(BK)〜(BK20)を調製した。
次いで、液状組成物(R)に代えて、それぞれ液状組成物(BK)〜(BK20)を用いた以外は、実施例と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
Example 6 7-80
<Preparation of liquid composition and formation of colored layer>
Except that the dispersant was changed as shown in Table 5-1 or Table 5-2, in the same manner as in Example 6 6, after each pigment dispersion (BK 7) ~ (BK20) was prepared, (B) an alkali except that the soluble resin was as shown in Table 5-1 or Table 5-2, in the same manner as in example 6 6, respectively liquid composition (BK 7) ~ (BK20) was prepared.
Next, a black stripe pixel pattern is formed on the substrate in the same manner as in Example 6 except that the liquid compositions (BK 7 ) to (BK 20) are used in place of the liquid composition (R 6 ). did.

〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣は認められず、かつ画素パターンのエッジに欠けは認められなかった。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡(SEM)にて観察したところ、アンダーカットは認められず、かつ線幅5、6ないし8μmのパターンの形成が可能であった。 以上の主な内容を表5−1および表5−2に示す。
<Evaluation>
When the pixel array on the substrate was observed with an optical microscope, no development residue was observed on the unexposed portion of the substrate, and no chipping was observed on the edge of the pixel pattern.
Further, when the cross section of the pixel pattern was observed with a scanning electron microscope (SEM), no undercut was observed and a pattern with a line width of 5, 6 to 8 μm could be formed. The main contents are shown in Tables 5-1 and 5-2.

比較例1
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
実施例と同様にして顔料分散液(R)を調製したのち、アルカリ可溶性樹脂(B-2)8部に代えて、アルカリ可溶性樹脂(B-5) 2部とアルカリ可溶性樹脂(B-6) 3部とアルカリ可溶性樹脂(B-7) 4部との混合物を用いた以外は、実施例と同様にして、液状組成物(CR1)を調製した。
次いで、液状組成物(R)に代えて、液状組成物(CR1)を用いた以外は、実施例と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
Comparative Example 1
<Preparation of liquid composition and formation of colored layer>
After preparing the pigment dispersion (R 6 ) in the same manner as in Example 6 , instead of 8 parts of the alkali-soluble resin (B -2 ), 2 parts of the alkali-soluble resin (B-5) and the alkali-soluble resin (B-) 6) A liquid composition (CR1) was prepared in the same manner as in Example 6 except that a mixture of 3 parts and 4 parts of the alkali-soluble resin (B-7) was used.
Next, a red stripe pixel pattern was formed on the substrate in the same manner as in Example 6 except that the liquid composition (CR1) was used instead of the liquid composition (R 6 ).

〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣が認められた。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡(SEM)にて観察したところ、アンダーカットが認められ、かつ線幅40μmのパターンしか形成できなかった。
以上の主な内容を表6に示す。
<Evaluation>
When the pixel array on the substrate was observed with an optical microscope, a development residue was observed on the unexposed substrate.
Further, when the cross section of the pixel pattern was observed with a scanning electron microscope (SEM), an undercut was observed and only a pattern with a line width of 40 μm could be formed.
The main contents are shown in Table 6.

比較例2
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
実施例2と同様にして顔料分散液(G)を調製したのち、アルカリ可溶性樹脂(B-2)8部に代えて、アルカリ可溶性樹脂(B-5) 2部とアルカリ可溶性樹脂(B-6) 3部とアルカリ可溶性樹脂(B-7) 4部との混合物を用いた以外は、実施例2と同様にして、液状組成物(CG1)を調製した。
次いで、液状組成物(R)に代えて、液状組成物(CG1)を用いた以外は、実施例と同様にして、基板上に緑色のストライプ状画素パターンを形成した。
Comparative Example 2
<Preparation of liquid composition and formation of colored layer>
Example 2 After preparing a pigment dispersion (G 7 ) in the same manner as in Example 7 , instead of 8 parts of the alkali-soluble resin (B -2 ), 2 parts of the alkali-soluble resin (B-5) and the alkali-soluble resin (B -6) A liquid composition (CG1) was prepared in the same manner as in Example 26 except that a mixture of 3 parts and 4 parts of the alkali-soluble resin (B-7) was used.
Next, a green stripe pixel pattern was formed on the substrate in the same manner as in Example 6 except that the liquid composition (CG1) was used instead of the liquid composition (R 6 ).

〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣が認められなかったが、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡(SEM)にて観察したところ、アンダーカットが認められ、かつ線幅50μmのパターンしか形成できなかった。 以上の主な内容を表6に示す。
<Evaluation>
When the pixel array on the substrate was observed with an optical microscope, no development residue was observed on the unexposed portion of the substrate, but when the cross section of the pixel pattern was observed with a scanning electron microscope (SEM), the undercut And only a pattern with a line width of 50 μm was formed. The main contents are shown in Table 6.

比較例3
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
実施例4と同様にして顔料分散液(B)を調製したのち、アルカリ可溶性樹脂(B-2)8部に代えて、アルカリ可溶性樹脂(B-5) 2部とアルカリ可溶性樹脂(B-6) 3部とアルカリ可溶性樹脂(B-7) 4部との混合物を用いた以外は、実施例4と同様にして、液状組成物(CB1)を調製した。
次いで、液状組成物(R)に代えて、液状組成物(CB1)を用いた以外は、実施例と同様にして、基板上に青色のストライプ状画素パターンを形成した。
Comparative Example 3
<Preparation of liquid composition and formation of colored layer>
Example 4 After preparing a pigment dispersion (B 8 ) in the same manner as in Example 8 , instead of 8 parts of the alkali-soluble resin (B -2 ), 2 parts of the alkali-soluble resin (B-5) and the alkali-soluble resin (B -6) 3 parts of an alkali-soluble resin (B-7) except that a mixture of 4 parts, the same procedure as in example 4 6, liquid composition (CB1) was prepared.
Next, a blue stripe pixel pattern was formed on the substrate in the same manner as in Example 6 except that the liquid composition (CB1) was used instead of the liquid composition (R 6 ).

〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣が認められなかったが、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡(SEM)にて観察したところ、アンダーカットが認められ、かつ線幅45μmのパターンしか形成できなかった。 以上の主な内容を表6に示す。
<Evaluation>
When the pixel array on the substrate was observed with an optical microscope, no development residue was observed on the unexposed portion of the substrate, but when the cross section of the pixel pattern was observed with a scanning electron microscope (SEM), an undercut was observed. And only a pattern with a line width of 45 μm could be formed. The main contents are shown in Table 6.

比較例4
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
実施例6と同様にして顔料分散液(BK)を調製したのち、アルカリ可溶性樹脂(B-2)8部に代えて、アルカリ可溶性樹脂(B-5) 2部とアルカリ可溶性樹脂(B-6) 3部とアルカリ可溶性樹脂(B-7) 4部との混合物を用いた以外は、実施例6と同様にして、液状組成物(CBK1)を調製した。
次いで、液状組成物(R)に代えて、液状組成物(CBK1)を用いた以外は、実施例と同様にして、基板上に黒色のストライプ状画素パターンを形成した。
Comparative Example 4
<Preparation of liquid composition and formation of colored layer>
After preparing a pigment dispersion liquid (BK 9) in the same manner as in Example 6 9, the alkali-soluble resin (B -2) in place of 8 parts of an alkali-soluble resin (B-5) 2 parts of an alkali-soluble resin (B -6) 3 parts of an alkali-soluble resin (B-7) except that a mixture of 4 parts, the same procedure as in example 6 6, liquid composition (CBK1) was prepared.
Next, a black stripe pixel pattern was formed on the substrate in the same manner as in Example 6 except that the liquid composition (CBK1) was used instead of the liquid composition (R 6 ).

〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣が認められた。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡(SEM)にて観察したところ、アンダーカットが認められ、かつ線幅40μmのパターンしか形成できなかった。
以上の主な内容を表6に示す。
<Evaluation>
When the pixel array on the substrate was observed with an optical microscope, a development residue was observed on the unexposed substrate.
Further, when the cross section of the pixel pattern was observed with a scanning electron microscope (SEM), an undercut was observed and only a pattern with a line width of 40 μm could be formed.
The main contents are shown in Table 6.

比較例5
〈液状組成物の調製および着色層の形成〉
実施例10と同様にして顔料分散液(R10)を調製したのち、アルカリ可溶性樹脂(B-2)8部に代えて、アルカリ可溶性樹脂(B-5) 2部とアルカリ可溶性樹脂(B-6) 3部とアルカリ可溶性樹脂(B-7) 4部との混合物を用いた以外は、実施例と同様にして、液状組成物(CR2)を調製した。
次いで、液状組成物(R)に代えて、液状組成物(CR2)を用いた以外は、実施例と同様にして、基板上に赤色のストライプ状画素パターンを形成した。
Comparative Example 5
<Preparation of liquid composition and formation of colored layer>
After preparing a pigment dispersion (R 10 ) in the same manner as in Example 10 , instead of 8 parts of the alkali-soluble resin (B -2 ), 2 parts of the alkali-soluble resin (B-5) and the alkali-soluble resin (B- 6) A liquid composition (CR2) was prepared in the same manner as in Example 6 except that a mixture of 3 parts and 4 parts of the alkali-soluble resin (B-7) was used.
Next, a red stripe pixel pattern was formed on the substrate in the same manner as in Example 6 except that the liquid composition (CR2) was used instead of the liquid composition (R 6 ).

〈評価〉
基板上の画素アレイを光学顕微鏡にて観察したところ、未露光部の基板上に現像残渣が認められた。
また、画素パターンの断面を走査型電子顕微鏡(SEM)にて観察したところ、アンダーカットが認められ、かつ線幅45μmのパターンしか形成できなかった。
以上の主な内容を表6に示す。
<Evaluation>
When the pixel array on the substrate was observed with an optical microscope, a development residue was observed on the unexposed substrate.
Further, when the cross section of the pixel pattern was observed with a scanning electron microscope (SEM), an undercut was observed and only a pattern with a line width of 45 μm could be formed.
The main contents are shown in Table 6.

Figure 0005003200
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Claims (5)

(A)着色剤、(B)アルカリ可溶性樹脂、(C)多官能性単量体、並びに(D)光ラジカル発生剤を含有する感放射線性組成物であって、(B)アルカリ可溶性樹脂が、主鎖に芳香環がナフタレン環、2,2’−ビナフチル環、ビフェニレン環、アセナフチレン環、アセナフテン環、フェナントレン環、アントラセン環またはペリレン環の群から選ばれる芳香環式炭化水素骨格を有し、かつ側鎖に重合性不飽和結合を有するポリエステルを含むことを特徴とする着色層形成用感放射線性組成物。 A radiation-sensitive composition comprising (A) a colorant, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer, and (D) a photoradical generator, wherein (B) the alkali-soluble resin The aromatic ring in the main chain has an aromatic hydrocarbon skeleton selected from the group of naphthalene ring, 2,2′-binaphthyl ring, biphenylene ring, acenaphthylene ring, acenaphthene ring, phenanthrene ring, anthracene ring or perylene ring , And the radiation sensitive composition for colored layer formation characterized by including polyester which has a polymerizable unsaturated bond in a side chain. (B)成分をなす主鎖に芳香環式炭化水素骨格を有し、かつ側鎖に重合性不飽和結合を有するポリエステルが下記式(1)で表されるポリエステルであることを特徴とする、請求項1に記載の着色層形成用感放射線性組成物。
Figure 0005003200
〔式(1)において、各Xは相互に独立に下記式(3)、式(4)または式(5)で表される2価の基を示し、各Yは相互に独立にカルボキシル基を4個有する有機化合物のカルボキシル基を除いた残基を示し、各R1 は相互に独立に水素原子またはメチル基を示し、各R2 は相互に独立に水素原子またはカルボキシル基封鎖剤残基を示し、nは1〜40の整数である。但し、式中の*印を付した2つの結合手は相互に直接結合している。
Figure 0005003200
(但し、R3 およびR4 は相互に独立に炭素数1〜20の1価の炭化水素基を示し、複数存在するR3 およびR4 はそれぞれ相互に同一でも異なってもよく、pは0〜4の整数であり、qは0〜4の整数である。)
Figure 0005003200
(但し、R3 およびR4 は相互に独立に炭素数1〜20の1価の炭化水素基を示し、複数存在するR3 およびR4 はそれぞれ相互に同一でも異なってもよく、pは0〜4の整数であり、qは0〜4の整数である。)
Figure 0005003200
(但し、R3 およびR4 は相互に独立に炭素数1〜20の1価の炭化水素基を示し、複数存在するR3 およびR4 はそれぞれ相互に同一でも異なってもよく、rは0〜6の整数であり、sは0〜6の整数である。)〕
(B) The polyester having an aromatic hydrocarbon skeleton in the main chain constituting the component and having a polymerizable unsaturated bond in the side chain is a polyester represented by the following formula (1): The radiation sensitive composition for colored layer formation of Claim 1.
Figure 0005003200
[In the formula (1), each X independently represents a divalent group represented by the following formula (3), formula (4) or formula (5), and each Y independently represents a carboxyl group. 4 represents a residue excluding a carboxyl group of an organic compound having four, each R 1 independently represents a hydrogen atom or a methyl group, and each R 2 independently represents a hydrogen atom or a carboxyl group blocking agent residue. N is an integer of 1-40. However, the two bonds marked with * in the formula are directly connected to each other.
Figure 0005003200
(However, R 3 and R 4 each independently represent a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a plurality of R 3 and R 4 may be the same or different from each other, and p is 0 -4 is an integer, and q is an integer of 0-4.)
Figure 0005003200
(However, R 3 and R 4 each independently represent a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a plurality of R 3 and R 4 may be the same or different from each other, and p is 0 -4 is an integer, and q is an integer of 0-4.)
Figure 0005003200
(However, R 3 and R 4 each independently represent a monovalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a plurality of R 3 and R 4 may be the same or different from each other, and r is 0 ) Is an integer of -6, and s is an integer of 0-6.)]
(D)光ラジカル発生剤が下記式(6)または式(7)で表される化合物を必須成分とすることを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の着色層形成用感放射線性組成物。
Figure 0005003200
〔式(6)において、R5 は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基またはフェニル基を示し、R6 およびR7 は相互に独立に水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基または炭素数7〜20の1価の脂環式基(但し、前記シクロアルキル基を除く。)を示し、
8 は炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシル基または炭素数3〜8のシクロアルキルオキシ基を示し、複数存在する
8 は相互に同一でも異なってもよく、R9 は炭素数4〜20の1価の含酸素複素環式基、炭素数4〜20の1価の含窒素複素環式基または炭素数4〜20の1価の含硫黄複素環式基を示し、複数存在するR9 は相互に同一でも異なってもよく、aは0〜5の整数、bは0〜5の整数で、(a+b)≦5である。〕
Figure 0005003200
〔式(7)において、R5 は炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基またはフェニル基を示し、R6 およびR7 は相互に独立に水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、置換されていてもよいフェニル基または炭素数7〜20の1価の脂環式基(但し、前記シクロアルキル基を除く。)を示し、
8 は炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜8のシクロアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシル基または炭素数3〜8のシクロアルキルオキシ基を示し、複数存在する
8 は相互に同一でも異なってもよく、R9 は炭素数4〜20の1価の含酸素複素環式基、炭素数4〜20の1価の含窒素複素環式基または炭素数4〜20の1価の含硫黄複素環式基を示し、複数存在するR9 は相互に同一でも異なってもよく、cは0〜5の整数、dは1〜5の整数で、(c+d)≦5であり、eは0〜6の整数である。〕
(D) The radiation sensitive material for forming a colored layer according to claim 1, wherein the photoradical generator contains a compound represented by the following formula (6) or formula (7) as an essential component. Sex composition.
Figure 0005003200
[In the formula (6), R 5 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms or a phenyl group, and R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, carbon number 1 -20 alkyl group, cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, phenyl group which may be substituted, or monovalent alicyclic group having 7 to 20 carbon atoms (excluding the cycloalkyl group). Show
R 8 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cycloalkyloxy group having 3 to 8 carbon atoms, and a plurality of R 8 are present. R 9 may be the same as or different from each other, and R 9 is a monovalent oxygen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, or a carbon atom having 4 to 20 carbon atoms. A monovalent sulfur-containing heterocyclic group, and a plurality of R 9 may be the same or different from each other, a is an integer of 0 to 5, b is an integer of 0 to 5, and (a + b) ≦ 5 is there. ]
Figure 0005003200
[In Formula (7), R 5 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, or a phenyl group, and R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, carbon number 1 -20 alkyl group, cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, phenyl group which may be substituted, or monovalent alicyclic group having 7 to 20 carbon atoms (excluding the cycloalkyl group). Show
R 8 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cycloalkyloxy group having 3 to 8 carbon atoms, and a plurality of R 8 are present. R 9 may be the same as or different from each other, and R 9 is a monovalent oxygen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group having 4 to 20 carbon atoms, or a carbon atom having 4 to 20 carbon atoms. A monovalent sulfur-containing heterocyclic group, and a plurality of R 9 may be the same or different from each other, c is an integer of 0 to 5, d is an integer of 1 to 5, and (c + d) ≦ 5 Yes, e is an integer of 0-6. ]
請求項1〜3のいずれかに記載の着色層形成用感放射線性組成物を用いて形成された着色層を有するカラーフィルタ。   The color filter which has a colored layer formed using the radiation sensitive composition for colored layer formation in any one of Claims 1-3. 請求項4に記載のカラーフィルタを具備してなるカラー液晶表示素子。   A color liquid crystal display device comprising the color filter according to claim 4.
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