JP2005311159A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
半導体装置およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005311159A JP2005311159A JP2004127919A JP2004127919A JP2005311159A JP 2005311159 A JP2005311159 A JP 2005311159A JP 2004127919 A JP2004127919 A JP 2004127919A JP 2004127919 A JP2004127919 A JP 2004127919A JP 2005311159 A JP2005311159 A JP 2005311159A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wire
- loop
- semiconductor device
- height
- semiconductor chip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05552—Shape in top view
- H01L2224/05554—Shape in top view being square
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48095—Kinked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4912—Layout
- H01L2224/49171—Fan-out arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/8512—Aligning
- H01L2224/85148—Aligning involving movement of a part of the bonding apparatus
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01004—Beryllium [Be]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01005—Boron [B]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01006—Carbon [C]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01033—Arsenic [As]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
【課題】一括成型による封止において、ゲート反対側の辺における半導体チップ中央部のワイヤショートを防止することができる半導体装置とその製造方法を提供する。
【解決手段】配線基板1上に搭載された半導体チップ2の中央部においてワイヤ高さを高ループ9と低ループ10にし、交互に構成して段差を設ける。この段差を設けることにより、一括成型時の樹脂流れ8によってワイヤ流れが発生しても隣接するワイヤがショートすることを防止できる。
【選択図】図2
【解決手段】配線基板1上に搭載された半導体チップ2の中央部においてワイヤ高さを高ループ9と低ループ10にし、交互に構成して段差を設ける。この段差を設けることにより、一括成型時の樹脂流れ8によってワイヤ流れが発生しても隣接するワイヤがショートすることを防止できる。
【選択図】図2
Description
本発明は、複数の半導体チップを整列配置搭載した配線基板上を樹脂で一括成型するパッケージにおいて、半導体チップ端子間のワイヤショートを防止することができる半導体装置およびその製造方法に関するものである。
近年、電子機器の高機能化及び多機能化への要求がますます強まっている。高機能化及び多機能化に対応する半導体装置のパッケージは多ピン化になる傾向がある。こうした半導体装置において、樹脂封止を行う際にAuワイヤが樹脂流れの影響を受けて変形し、隣接ワイヤがショートする危険性がある。
そこで従来は、例えば特許文献1記載の技術のように、ワイヤ長が構造上長尺になるワイヤについて、選択的にループ高さを低くすることで、実質ワイヤ長を均一化でき、かつ張力を持たせてボンディング時のワイヤのたるみによる変形や樹脂封止時のワイヤ流れを制御する方法、あるいは半導体チップ中央から周辺に向かってワイヤのループ高さを段階的に低くすることで、ワイヤに張力をもたせ、かつ実質ワイヤ長もより均一化でき、樹脂封止時のワイヤ流れを防止するかワイヤ流れ量を均一化できるなどの方法があった。
図3(a)は従来の半導体装置のループ形状を示す斜視図、図3(b)は従来の半導体装置樹脂封止後のワイヤ形状を示す断面図であり、1は配線基板、2は半導体チップ、3は電極パッド、4は配線基板上接続部、5はAu線を示す。配線基板1上に半導体チップ2が実装されており、半導体チップ2の電極パッド3と配線基板上接続部4がAu線5により接続されている。そして、この配線基板1を樹脂成型用のゲートから注入された封止樹脂により一括封止される。
特開平9−266223号公報
しかしながら、従来の技術では下記のような課題がある。
BGA(Ball Grid Array)やCSP(Chip Size Package)などにおいて半導体装置の製造コスト低減のため、配線基板上に半導体チップを所定の位置に搭載し、半導体チップの電極と配線基板上の接続部(ランド)をAu線(ワイヤ)で接続した後、配線基板上全体を一括成型により封止樹脂で被い、配線基板下に各配線に接続されるバンプ電極を設けて、一括成型部を切断して複数の半導体装置を製造する場合がある。
この際、図3(a)に示すような従来の構成では半導体チップ2中央のAu線5からなるワイヤの高さが周辺よりも高く設定されるため、一括成型での樹脂流れ8により半導体チップ2中心部でワイヤの流れが大きくなり、図3(b)に示すようにワイヤショートが発生するという課題がある。また、多ピンパッケージでは、半導体チップ中央から周辺に向かってワイヤのループ高さを段階的に変更させるには樹脂厚の制約から限界が発生するという課題がある。
本発明は、このような課題を解決し、隣接ワイヤショートを防止することができ、しかも多ピンパッケージにおいて必要以上に樹脂厚を厚くする必要性がない半導体装置およびその製造方法を提供することを目的とする。
上記の課題を解決するため本発明の半導体装置及びその製造方法は下記のような特徴を有している。
本発明の請求項1記載の半導体装置は、配線基板上に搭載された半導体チップの電極パッドと前記配線基板上の接続部をAu線にて接続後、樹脂で一括成型する半導体装置において、前記半導体チップおよび電極パッドにおける、樹脂を注入するゲートに対して反対側の辺の中央部を接続している前記Au線の高さが高ループと低ループと交互になるように前記Au線を配置したものである。
請求項2記載の半導体装置は、前記高ループの高さを190μmから300μm、前記低ループの高さを90μmから210μmとし、かつ前記高ループと前記低ループの高さの差をAu線径+60μm以上としたものである。
請求項3の半導体装置は、前記高ループのフラット部長さがワイヤ長の55%以上、前記低ループのフラット部長さがワイヤ長の45%以下として形成したものである。
請求項4の半導体装置は、前記高ループおよび前記低ループのフラット部のワイヤ高さをボール直上側より配線基板側において低く形成したものである。
請求項5の半導体装置の製造方法は、配線基板上に半導体チップを実装する工程と、前記配線基板上の接続部と前記半導体チップが有する電極パッドをAu線により接続する工程と、前記配線基板上の前記半導体チップ及びAu線を樹脂により一括成型する工程とを有する半導体装置の製造方法において、前記Au線により接続する工程において、前記半導体チップおよび電極パッドにおける樹脂を注入するゲートに対して反対側の辺の中央部を接続する際に、前記Au線の高さが高ループと低ループと交互になるように前記Au線を接続するものである。
請求項6の半導体装置の製造方法は、ワイヤボンディング装置で2つのループ高さを設定し、ワイヤボンディングプログラムを連続動作させて台形ループを形成するものである。
本発明の半導体装置及びその製造方法によれば、一括成型による封止においてもゲート反対側の辺における半導体チップ中央部のAu線の高さを高ループと低ループに交互に構成するため隣接ワイヤショートを防止することができる。また、交互にループ高さを変えるため樹脂厚による制約も高ループの高さにおいてのみとなるため、多ピンパッケージに関しても必要以上に樹脂厚を厚くする必要性がなくボンディングが可能である。
以下、本発明の半導体装置及びその製造方法の実施形態について、図面を参照しながら説明する。
先ず半導体装置について説明する。図1は本発明の実施形態を示しており、図1(a)は本発明における半導体装置の樹脂による一括成型状態を示す模式図、図1(b)は本発明における図1(a)のA部を拡大した一括成型時の樹脂流れを示す模式図、図2(a)は本発明における半導体装置の図1(b)のB部を拡大したループ形状を示す斜視図、図2(b)は本発明における図1(b)のB部を拡大した半導体装置のループ形状を示す側面図、図2(c)は本発明における図1(b)のB部を拡大した半導体装置の樹脂封止後のワイヤ形状を示す模式図である。
図1,図2において、1は配線基板、2は半導体チップ、3は電極パッド、4は配線基板上接続部、5はAu線、6はゲート、7は封止樹脂、8は樹脂流れ、9は高ループ、10は低ループ、11は高ループワイヤ高さ、12は低ループワイヤ高さ、13は高ループフラット部長さ、14aは高ループワイヤ長、14bは低ループワイヤ長、15は低ループフラット部長さ、16は高ループフラット部ボール直上側ワイヤ高さ、17は高ループフラット部配線基板側ワイヤ高さ、18は低ループフラット部ボール直上側ワイヤ高さ、19は低ループフラット部配線基板側ワイヤ高さを示す。
図1(a)に示すように、配線基板1上に半導体チップ2が実装されており、半導体チップ2の電極パッド3と配線基板上接続部4がAu線5により接続されている。そして、この配線基板1を樹脂成型用のゲート6から注入された封止樹脂7により一括封止される。また、図2(a)に示すように、配線基板1上に搭載された半導体チップ2の中央部においてワイヤ高さを高ループ9と低ループ10にし、交互に構成して段差を設ける。
一括成型時には、図1(b)に示すように、樹脂流れ8が発生するが、高ループ9と低ループ10による段差を設けることにより、一括成型時の樹脂流れ8によってワイヤ流れが発生しても隣接するワイヤがショートすることを防止できる。また、図2(b)に示すように高ループワイヤ高さ11を190μmから300μm、低ループワイヤ高さ12を90μmから210μm、かつ高ループワイヤ高さ11と低ループワイヤ高さ12の差をAu線5の線径+60μm以上設けることにより、隣接するワイヤのショートを防止できる。また、高ループフラット部長さ13が高ループワイヤ長14aの55%以上、低ループフラット部長さ15が低ループワイヤ長14bの45%以下とすることで高ループ9のワイヤ流れが大きくなっても、低ワイヤ10と接触することなく封止することができる。
さらに、高ループ9及び低ループ10それぞれのワイヤのフラット部において、高ループフラット部ボール直上側ワイヤ高さ16より高ループフラット部配線基板側ワイヤ高さ17が低く、かつ低ループフラット部ボール直上側ワイヤ高さ18より低ループフラット部配線基板側ワイヤ高さ19が低くなるように設定することで、よりワイヤ流れの少ない安定した状態にすることができる。
次に、前述した実施形態における半導体装置の製造工程について説明する。先ず、配線基板1上に半導体チップ2を実装する。この配線基板上接続部4と半導体チップ2上の電極パッド3をAu線5で接続する。次に配線基板1上の半導体チップ2とAu線5を封止樹脂7により一括成型する。なお、半導体チップ2の電極パッド3と配線基板上接続部4を接続する際には、ワイヤボンディング装置で2つのループ高さを設定し、ワイヤボンディングプログラムを連続動作させて台形ループを形成する。
本発明の半導体装置は、ワイヤショートを防止する技術によりBGAやCSPタイプの多ピンパッケージに応用できることから、特に高機能化及び多機能化が要求されるデジタルテレビやDVDレコーダなどの電子機器に搭載する半導体装置として有用である。
1 配線基板
2 半導体チップ
3 電極パッド
4 配線基板上接続部
5 Au線
6 ゲート
7 封止樹脂
8 樹脂流れ
9 高ループ
10 低ループ
11 高ループワイヤ高さ
12 低ループワイヤ高さ
13 高ループフラット部長さ
14a 高ループワイヤ長
14b 低ループワイヤ長
15 低ループフラット部長さ
16 高ループフラット部ボール直上側ワイヤ高さ
17 高ループフラット部配線基板側ワイヤ高さ
18 低ループフラット部ボール直上側ワイヤ高さ
19 低ループフラット部配線基板側ワイヤ高さ
2 半導体チップ
3 電極パッド
4 配線基板上接続部
5 Au線
6 ゲート
7 封止樹脂
8 樹脂流れ
9 高ループ
10 低ループ
11 高ループワイヤ高さ
12 低ループワイヤ高さ
13 高ループフラット部長さ
14a 高ループワイヤ長
14b 低ループワイヤ長
15 低ループフラット部長さ
16 高ループフラット部ボール直上側ワイヤ高さ
17 高ループフラット部配線基板側ワイヤ高さ
18 低ループフラット部ボール直上側ワイヤ高さ
19 低ループフラット部配線基板側ワイヤ高さ
Claims (6)
- 配線基板上に搭載された半導体チップの電極パッドと前記配線基板上の接続部をAu線にて接続後、樹脂で一括成型する半導体装置において、前記半導体チップおよび電極パッドにおける、樹脂を注入するゲートに対して反対側の辺の中央部を接続している前記Au線の高さが高ループと低ループと交互になるように前記Au線を配置したことを特徴とする半導体装置。
- 前記高ループの高さを190μmから300μm、前記低ループの高さを90μmから210μmとし、かつ前記高ループと前記低ループの高さの差をAu線径+60μm以上としたことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 前記高ループのフラット部長さがワイヤ長の55%以上、前記低ループのフラット部長さがワイヤ長の45%以下として形成したことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 前記高ループおよび前記低ループのフラット部のワイヤ高さをボール直上側より配線基板側において低く形成したことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 配線基板上に半導体チップを実装する工程と、前記配線基板上の接続部と前記半導体チップが有する電極パッドをAu線により接続する工程と、前記配線基板上の前記半導体チップ及びAu線を樹脂により一括成型する工程とを有する半導体装置の製造方法において、
前記Au線により接続する工程において、前記半導体チップおよび電極パッドにおける樹脂を注入するゲートに対して反対側の辺の中央部を接続する際に、前記Au線の高さが高ループと低ループと交互になるように前記Au線を接続することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - ワイヤボンディング装置で2つのループ高さを設定し、ワイヤボンディングプログラムを連続動作させて台形ループを形成することを特徴とする請求項5記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004127919A JP2005311159A (ja) | 2004-04-23 | 2004-04-23 | 半導体装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004127919A JP2005311159A (ja) | 2004-04-23 | 2004-04-23 | 半導体装置およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005311159A true JP2005311159A (ja) | 2005-11-04 |
Family
ID=35439554
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004127919A Pending JP2005311159A (ja) | 2004-04-23 | 2004-04-23 | 半導体装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005311159A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009152262A (ja) * | 2007-12-19 | 2009-07-09 | Renesas Technology Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
US9123713B2 (en) | 2010-11-24 | 2015-09-01 | Tessera, Inc. | Lead structures with vertical offsets |
-
2004
- 2004-04-23 JP JP2004127919A patent/JP2005311159A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009152262A (ja) * | 2007-12-19 | 2009-07-09 | Renesas Technology Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
US9123713B2 (en) | 2010-11-24 | 2015-09-01 | Tessera, Inc. | Lead structures with vertical offsets |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7812429B2 (en) | Semiconductor device and manufacturing method of the same | |
JP2005532672A (ja) | 複数のボンド・パッド列を備えた半導体 | |
JP2011166051A (ja) | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 | |
JP2009212315A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
KR20080022452A (ko) | Pop 패키지 및 그의 제조 방법 | |
JP2005026680A (ja) | 積層型ボールグリッドアレイパッケージ及びその製造方法 | |
JP2008153494A (ja) | フリップチップ実装用基板 | |
US6909166B2 (en) | Leads of a no-lead type package of a semiconductor device | |
US7323779B2 (en) | Semiconductor device | |
KR100604840B1 (ko) | 미세 피치 범프에의 리버스 와이어 본딩 방법 및 이에의한 와이어 본드 구조체 | |
JP5405749B2 (ja) | 半導体装置の配線基板、半導体装置、電子装置およびマザーボード | |
JP2009043793A (ja) | 半導体装置、およびその半導体装置の製造方法 | |
US20050077080A1 (en) | Ball grid array (BGA) package having corner or edge tab supports | |
JP2009099905A (ja) | 半導体装置 | |
JP4942420B2 (ja) | フリップチップボンデッドパッケージ | |
JP2007150144A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP4216295B2 (ja) | バンプ構造およびその形成方法、ならびにそれを用いた半導体装置 | |
JP2005311159A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP2008277457A (ja) | 積層型半導体装置および実装体 | |
JP2009283835A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
US9818675B2 (en) | Semiconductor device including conductive clip with flexible leads and related methods | |
JP2008177424A (ja) | 半導体装置 | |
JPH10270623A (ja) | ボールグリッドアレイ用リードフレームおよびこれを用いた半導体装置、並びにその製造方法 | |
JP2004140169A (ja) | パッケージ型半導体装置 | |
KR20150090504A (ko) | 패키지 기판 |