JP2005300759A - 感光性樹脂組成物及びその塗膜硬化物 - Google Patents

感光性樹脂組成物及びその塗膜硬化物 Download PDF

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Abstract

【課題】撥インク性、インク転落性、基材密着性、塗膜外観に優れた塗膜硬化物を形成し得る感光性樹脂組成物及びその塗膜硬化物の提供。
【解決手段】フッ素原子含有単量体及びケイ素原子含有単量体を含む単量体組成物を重合して得られる共重合体(A)と、カルボキシル基及び/又はフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂(B)と、カルボキシル基及び/又はフェノール性水酸基と反応し得る基を2個以上有する化合物である架橋剤(C)と、光酸発生剤(D)とを含み、単量体組成物におけるフッ素原子の含有率は1〜30質量%であり、共重合体(A)の感光性樹脂組成物の全固形分における割合は1.5〜30質量%である波長100〜600nmの光線用感光性樹脂組成物及びその塗膜硬化物。
【選択図】なし

Description

本発明は、感光性樹脂組成物及びその塗膜硬化物に関する。
従来より、半導体集積回路(IC)、液晶ディスプレイ(LCD)用薄膜トランジスタ(TFT)回路等の回路製造用のマスクを作成するために感光性樹脂組成物が用いられており、より微細なパターン構造を形成することのできる感光性樹脂組成物が要求されている。
一方、感光性樹脂組成物は、LCDや有機ELディスプレイ等のITO電極形成のためのレジスト材料、層間絶縁膜、回路保護膜、カラーフィルタ用隔壁材、有機ELディスプレイ用隔壁材等の永久膜形成材料としても注目されている。例えば、カラーフィルタの製造においては、微小画素内にインクを噴射塗布するインクジェット法が提案されているが、画素パターンの形成は感光性樹脂組成物からフォトリソグラフィーにより行われ、感光性樹脂組成物の塗膜硬化物が画素間の隔壁として利用されている。
インクジェット法において、隣り合う画素領域間におけるインクの混色等が起こるのを防止するために、隔壁は水や有機溶剤等のインク溶剤をはじく性質、いわゆる「撥インク性」を有することが要求されている。また、画素内をわずかに外れて隔壁上に噴射されたインクが目的の画素内に収まるために、隔壁は「インク転落性」を有することが要求されている。
さらに、感光性樹脂組成物を塗装してフォトリソグラフィー工程を経て画素パターンの隔壁を形成させた後、インクを注入する前に、画素内の基材表面の汚れを除去することがある。例えば、低圧水銀灯やエキシマUV等の短波長紫外線の照射や、光アッシング処理等により基材表面を洗浄する工程(以下、洗浄工程という。)がある。この洗浄工程における短波長紫外線照射の後も、隔壁は撥インク性、インク転落性を維持していることが要求されている。
特許文献1には、フッ素化アルキル基含有(メタ)アクリレート単量体とシリコーン鎖含有エチレン性不飽和単量体との共重合体を含有してなるフォトレジスト組成物が開示されており、共重合体の添加量はフォトレジスト組成物固形分に対して0.001〜0.05%である。
しかし、特許文献1に記載の共重合体の配合割合からなる組成物より形成される塗膜硬化物では、撥インク性・インク転落性が不足する。
特開平9−54432号公報(請求項1、段落0086)
本発明は、撥インク性・インク転落性、基材密着性、塗膜外観に優れた塗膜硬化物を形成することができる感光性樹脂組成物を提供することを課題とする。
本発明は、下記の手段を提供するものである。
(1)下記式1で表される基とエチレン性二重結合を有する単量体(a1)及び下記式2で表される基とエチレン性二重結合を有する単量体(a2)を含む単量体組成物を重合して得られる構造の共重合体(A)と、カルボキシル基及び/又はフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂(B)と、カルボキシル基及び/又はフェノール性水酸基と反応し得る基を2個以上有する化合物である架橋剤(C)と、光酸発生剤(D)とを含む波長100〜600nmの光線用感光性樹脂組成物であって、
−CFXR ・・・式1
(式中、Xは水素原子、フッ素原子又はトリフルオロメチル基を示し、Rはフッ素原子又は水素原子の少なくとも1つがフッ素原子に置換された炭素数20以下のアルキル基(但し、前記アルキル基はエーテル性の酸素原子を有するものを含む。)を示す。)
−(SiR−O)−SiR ・・・式2
(式中、R、Rは独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を示し、Rは水素原子又は炭素数1〜10の有機基を示し、nは1〜200の整数を示す。)
単量体組成物におけるフッ素原子の含有率は1〜30質量%であり、共重合体(A)の感光性樹脂組成物の全固形分における割合は1.5〜30質量%であることを特徴とする感光性樹脂組成物。
(2)前記共重合体(A)の感光性樹脂組成物の全固形分における割合は2.5〜30質量%である(1)に記載の感光性樹脂組成物。
(3)前記単量体組成物におけるケイ素原子の含有率は0.1〜10質量%である(1)又は(2)に記載の感光性樹脂組成物。
(4)前記単量体組成物はカルボキシル基とエチレン性二重結合を有する単量体(a3)又は水酸基とエチレン性二重結合を有する単量体(a4)をさらに含む(1)〜(3)のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
(5)(1)〜(4)に記載の感光性樹脂組成物より得られる塗膜硬化物。
本発明の感光性樹脂組成物は、光の照射により光酸発生剤(D)から酸が発生し、カルボキシル基及び/又はフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂(B)と、カルボキシル基及び/又はフェノール性水酸基と反応し得る基を2個以上有する化合物である架橋剤(C)とが架橋反応することにより塗膜硬化物を形成し、アルカリ現像によって光照射されていない部分が除去され得る。
共重合体(A)は、上記式1で表される基、上記式2で表される基が表面移行性を有しているので、プリベーク(塗膜の乾燥)の際に、空気界面の塗膜表面近傍に移行する。共重合体(A)は塗膜硬化物に撥インク性及びインク転落性を付与する。共重合体(A)における上記式1で表される基は主として撥インク性を付与し、上記式2で表される基は主として極性の高いインクに対する優れたインク転落性を付与する。また、上記式2で表される基は短波長紫外線照射に対する耐性が優れており、塗膜硬化物を画素パターンの隔壁として使用する場合、洗浄工程時の短波長紫外線照射による上記式1で表される基の劣化を抑制し、短波長紫外線照射後も撥インク性を持続することができる。
単量体組成物におけるフッ素原子の含有率及び共重合体(A)の感光性樹脂組成物の全固形分における割合が上記範囲であることにより、塗膜硬化物は充分な撥インク性を発現するとともに、基材密着性にも優れる。すなわち、プリベーク時に共重合体(A)が塗膜表面近傍に移行することにより、塗膜硬化物表面の共重合体(A)の濃度が相対的に増加し、基材付近の共重合体(A)の濃度が相対的に減少するので、塗膜硬化物表面に充分な撥インク性、インク転落性を付与する一方、塗膜硬化物の基材密着性の低下を防止できる。
単量体組成物がカルボキシル基とエチレン性二重結合を有する単量体(a3)及び/又は水酸基とエチレン性二重結合を有する単量体(a4)をさらに含む場合、共重合体(A)は架橋剤(C)と架橋し塗膜硬化物表面付近に固定化される。したがって、塗膜硬化物の撥インク性、インク転落性は持続性に優れる。
本発明によれば、撥インク性・インク転落性、基材密着性、塗膜外観に優れた塗膜硬化物を形成することができる感光性樹脂組成物が得られる。
本明細書の化合物名において(メタ)アクリレートとは、アクリレート及び/又はメタクリレートを意味する。同様に、(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸及び/又はメタクリル酸を意味し、(メタ)アクリルアミドとは、アクリルアミド及び/又はメタクリルアミドを意味する。
本発明の感光性樹脂組成物は、下記式1で表される基とエチレン性二重結合を有する単量体(a1)及び下記式2で表される基とエチレン性二重結合を有する単量体(a2)を含む単量体組成物を重合して得られる構造の共重合体(A)を含む。
−CFXR ・・・式1
(式中、Xは水素原子、フッ素原子又はトリフルオロメチル基を示し、Rはフッ素原子又は水素原子の少なくとも1つがフッ素原子に置換された炭素数20以下のアルキル基(但し、前記アルキル基はエーテル性の酸素原子を有するものを含む。)を示す。)
−(SiR−O)−SiR ・・・式2
(式中、R、Rは独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を示し、Rは水素原子又は炭素数1〜10の有機基を示し、nは1〜200の整数を示す。)
上記式1で表される基とエチレン性二重結合を有する単量体(a1)としては、
CH=CRCOOR[1]、
CH=CRCOORNRSO[1]、
CH=CRCOORNRCO[1]、
CH=CRCOOCHCH(OH)R[1]、
CH=CRCR=CF[1]
CF=CFO[1]
等が挙げられる。ただし、Rは水素原子又はメチル基を、Rは単結合又は炭素数1〜6の2価有機基を、Rは炭素数1〜6の2価有機基を、[1]は上記式1で表される基を示す。
、Rの具体例としては、−CH−、−CHCH−、−CH(CH)−、
−CHCHCH−、−C(CH−、−CH(CHCH)−、
−CHCHCHCH−、−CH(CHCHCH)−、−CH(CHCH−、−CH(CHCH(CH)−等が挙げられる。
上記式1中のRが、水素原子の少なくとも1つがフッ素原子に置換された炭素数20以下のアルキル基である場合、前記アルキル基はフッ素原子以外の他のハロゲン原子に置換された水素原子を含んでいてもよく、他のハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。また、エーテル性の酸素原子は、アルキル基の炭素−炭素結合間に存在してもよく、結合末端に存在してもよい。
上記式1で表される基としては、パーフルオロアルキル基又は水素原子1個を含むポリフルオロアルキル基であることが好ましく、パーフルオロアルキル基が特に好ましい(ただし、前記アルキル基は、エーテル性酸素原子を有するものを含む。)。これによって、共重合体(A)は良好な撥インク性を奏する。また、上記式1で表される基の全炭素数は3〜15であることが好ましい。これにより、共重合体(A)は良好な撥インク性、特に撥有機溶剤性を奏する。また上記式1で表される基とエチレン性二重結合を有する単量体(a1)とその他のエチレン性二重結合を有する単量体の相溶性が良好となる。
上記式1で表される基の具体例としては、
−CF、−CFCF、−CFCHF、−(CFCF、−(CFCF、−(CFCF、−(CFCF、−(CFCF、−(CFCF、−(CFCF、−(CFCF、−(CF11CF、−(CF15CF、−CFO(CFCFO)CF (pは0〜8)、
−CF(CF)O(CFCF(CF)O)(CFCF (qは0〜5)、
−CF(CF)O(CFCF(CF)O)(CFCF (rは0〜4)等が挙げられる。
上記式1で表される基とエチレン性二重結合を有する単量体(a1)は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
上記式2で表される基とエチレン性二重結合を有する単量体(a2)としては、
CH=CHCOOR[2]
CH=C(CH)COOR[2]
等が挙げられる。ただし、Rは単結合又は炭素数1〜6の2価有機基を、[2]は上記式2で表される基を示す。
の具体例としては、単結合、−CH−、−CHCH−、−CH(CH)−、
−CHCHCH−、−C(CH−、−CH(CHCH)−、
−CHCHCHCH−、−CH(CHCHCH)−、
−CH(CHCH−、−CH(CHCH(CH)−等が挙げられる。
上記式2において、R、Rはシロキサン単位毎に同一でも異なっていてもよい。共重合体(A)が優れたインク転落性を奏することから、R、Rは水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であることが好ましく、水素原子、メチル基又はフェニル基であることがより好ましく、すべてのシロキサン単位のR、Rがメチル基であることが特に好ましい。また、Rが有機基である場合、窒素原子、酸素原子等が含まれていてもよく、Rは水素原子又は炭素数1〜5の炭化水素基であることが好ましい。nは1〜100の整数であることが好ましい。
上記式2で表される基とエチレン性二重結合を有する単量体(a2)は単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
単量体組成物には、カルボキシル基とエチレン性二重結合を有する単量体(a3)及び/又は水酸基とエチレン性二重結合を有する単量体(a4)が含まれることが好ましい。共重合体(A)がカルボキシル基及び/又は水酸基を含有すると、共重合体(A)はカルボキシル基及び/又はフェノール性水酸基と反応し得る基を2個以上有する化合物である架橋剤(C)と架橋反応し、塗膜硬化物の表面に固定化され、撥インク性・インク転落性の持続性が良好となる。
カルボキシル基とエチレン性二重結合を有する単量体(a3)としては、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ケイ皮酸、もしくはそれらの塩が挙げられる。
水酸基とエチレン性二重結合を有する単量体(a4)としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、5−ヒドロキシペンチル(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールモノ(メタ)アクリレート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジオールモノビニルエーテル、2−ヒドロキシエチルアリルエーテル、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ビス(ヒドロキシメチル)(メタ)アクリルアミド、末端が水酸基であるポリオキシアルキレン鎖を有する単量体、o−ヒドロキシスチレン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレン等、これらのベンゼン環の1個以上の水素原子が、メチル、エチル、n−ブチル等のアルキル基、メトキシ、エトキシ、n−ブトキシ等のアルコキシ基、ハロゲン原子、アルキル基の1個以上の水素原子がハロゲン原子に置換されたハロアルキル基、ニトロ基、シアノ基、アミド基に置換された化合物等が挙げられる。
単量体組成物には、上記式1で表される基とエチレン性二重結合を有する単量体(a1)、上記式2で表される基とエチレン性二重結合を有する単量体(a2)、カルボキシル基とエチレン性二重結合を有する単量体(a3)及び水酸基とエチレン性二重結合を有する単量体(a4)以外の単量体(その他の単量体(a5))が含まれていてもよい。
その他の単量体(a5)としては、炭化水素系オレフィン類、ビニルエーテル類、イソプロペニルエーテル類、アリルエーテル類、ビニルエステル類、アリルエステル類、(メタ)アクリル酸エステル類、(メタ)アクリルアミド類、芳香族ビニル化合物、クロロオレフィン類、共役ジエン類が挙げられる。これらの化合物には、官能基が含まれていてもよく、例えばカルボニル基、アルコキシ基等が挙げられる。特に(メタ)アクリル酸エステル類、(メタ)アクリルアミド類が、感光性樹脂組成物から形成される塗膜の耐熱性に優れるので好ましい。
(メタ)アクリル酸エステル類の具体例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、n−ペンチル(メタ)アクリレート、3−メチルブチル(メタ)アクリレート、n−ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチル−n−ヘキシル(メタ)アクリレート、n−オクチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、(1,1−ジメチル−3−オキソブチル)(メタ)アクリルレート、2−アセトアセトキシエチル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
(メタ)アクリルアミド類の具体例としては、(メタ)アクリルアミド、N−ビニルアセトアミド、N−ビニルホルムアミド、N−(1,1−ジメチル−3−オキソブチル)(メタ)アクリルアミド、N−メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ビス(メトキシメチル)(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。
共重合体(A)は、例えば、単量体組成物を溶媒に溶解して必要に応じて加熱し、重合開始剤を加えて反応させる方法によって合成できる。該反応においては、必要に応じて連鎖移動剤を存在させるのが好ましい。単量体、重合開始剤、溶剤及び連鎖移動剤は連続して添加してもよい。
前記合成方法における溶媒としては、例えばエタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、エチレングリコール等のアルコール類、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−ブトキシエタノール等のセルソルブ類、2−(2−メトキシエトキシ)エタノール、2−(2−エトキシエトキシ)エタノール、2−(2−ブトキシエトキシ)エタノール等のカルビトール類、メチルアセテート、エチルアセテート、n−ブチルアセテート、エチルラクテート、n−ブチルラクテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールジアセテート、グリセリントリアセテート等のエステル類、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等が挙げられる。
重合開始剤としては、公知の有機過酸化物、無機過酸化物、アゾ化合物等が挙げられる。有機過酸化物、無機過酸化物は、還元剤と組み合わせて、レドックス系触媒として使用することもできる。
連鎖移動剤としては、n−ブチルメルカプタン、n−ドデシルメルカプタン、t−ブチルメルカプタン、チオグリコール酸エチル、チオグリコール酸2−エチルヘキシル、2−メルカプトエタノール等のメルカプタン類、クロロホルム、四塩化炭素、四臭化炭素等のハロゲン化アルキル類等を挙げることができる。
単量体組成物におけるフッ素原子の含有率は1〜30質量%であり、共重合体(A)の感光性樹脂組成物の全固形分における割合は1.5〜30質量%である。当該範囲であると、共重合体(A)は形成される塗膜硬化物の表面張力を下げる効果に優れ、塗膜硬化物に高い撥インク性を付与する。一方で、当該範囲であると、共重合体(A)の感光性樹脂組成物の他の成分との相溶性が良好であり、塗装して塗膜を形成させたときに共重合体(A)同士が凝集することがない。したがって、塗膜が白濁することなく感光性樹脂組成物の現像性が良好であり、塗膜硬化物と基材との密着性が高くなる。単量体組成物におけるフッ素原子の含有率は、下限は3質量%が好ましく、上限は25質量%であることが好ましい。共重合体(A)の感光性樹脂組成物の全固形分における割合は、下限は2.5質量%が好ましく、3質量%がより好ましく、上限は20質量%が好ましく、10質量%がより好ましい。特に共重合体(A)の感光性樹脂組成物の全固形分における割合が2.5質量%以上であると、塗膜硬化物の短波長紫外線照射後の撥インク性・インク転落性が優れることがわかった。
単量体組成物におけるケイ素原子の含有率は0.1〜10質量%であることが好ましく、より好ましくは0.5〜5質量%である。0.1質量%以上であると、塗膜硬化物の短波長紫外線照射後の撥インク性が良好である。10%質量%以下であると、感光性樹脂組成物において他の成分との相溶性が良好で、得られる硬化物の塗膜外観が良好である。
単量体組成物にカルボキシル基とエチレン性二重結合を有する単量体(a3)が含まれる場合、共重合体(A)の酸価は1〜100mgKOH/gが好ましく、5〜50mgKOH/gがより好ましい。酸価が当該範囲であると、共重合体(A)と架橋剤(C)の架橋反応に基づく塗膜硬化物の撥インク性・インク転落性の持続性が良好となる。なお、酸価は樹脂1gを中和するのに必要な水酸化カリウムの質量(単位mg)であり、本明細書においては単位をmgKOH/gと記載する。
単量体組成物に水酸基とエチレン性二重結合を有する単量体(a4)が含まれる場合、共重合体(A)の水酸基価は50〜300mgKOH/gが好ましく、100〜200mgKOH/gがより好ましい。水酸基価が当該範囲であると、共重合体(A)と架橋剤(C)の架橋反応に基づく塗膜硬化物の撥インク性・インク転落性の持続性が良好となる。なお、水酸基価は、樹脂1gをアセチル化するのに必要な水酸化カリウムの質量(単位mg)であり、本明細書においては単位をmgKOH/gと記載する。
単量体組成物におけるその他の単量体の割合は70質量%以下が好ましく、50質量%以下がより好ましい。当該範囲であると感光性樹脂組成物の現像性が良好となる。
共重合体(A)の数平均分子量は、500〜20000未満が好ましい。下限は1000がより好ましく、2000が特に好ましい。上限は15000がより好ましく、12000が特に好ましい。当該範囲であると、露光によるコントラストの変化が大きく、光に対する感度が高くなる一方、現像液に対する溶解性が高く、非露光部における溶解残渣の発生を防止できるという利点がある。
アルカリ可溶性樹脂(B)は、カルボキシル基及び/又はフェノール性水酸基を有する。カルボキシル基及び/又はフェノール性水酸基を有することによりアルカリ性溶液に可溶であり、また、カルボキシル基及び/又はフェノール性水酸基と反応し得る基を2個以上有する化合物である架橋剤(C)と架橋し塗膜硬化物を形成し得る。アルカリ可溶性樹脂(B)は、感光性樹脂組成物のフォトリソグラフィーにおいて使用する現像液を構成するアルカリ性溶液に対して可溶の樹脂であれば何等制限無く使用することが可能であり、例えば、カルボキシル基とエチレン性二重結合を有する単量体及び/又はフェノール性水酸基とエチレン性二重結合を有する単量体を必須として重合させて得られる樹脂(B1)、フェノール樹脂(B2)が挙げられる。これらの樹脂は実質的にフッ素原子を含まないことが好ましい。
カルボキシル基とエチレン性二重結合を有する単量体及び/又はフェノール性水酸基とエチレン性二重結合を有する単量体を必須として重合させて得られる樹脂(B1)は、上記共重合体(A)で例示した、カルボキシル基とエチレン性二重結合を有する単量体(a3)及び/又はフェノール性水酸基とエチレン性二重結合を有する単量体(a4)を必要に応じてその他の単量体(a5)と共重合させることにより得ることができる。樹脂(B1)において、その他の単量体(a5)に基づく単量体単位の割合は70質量%以下が好ましく、50質量%以下がより好ましい。この範囲であると感光性樹脂組成物のアルカリ溶解性、現像性が良好である。
フェノール樹脂(B2)としては、フェノール、クレゾール、キシレノール、レゾルシノール、ハイドロキノン等の芳香族ヒドロキシ化合物及びこれらのアルキル置換又はハロゲン置換芳香族化合物から選ばれる少なくとも1種であるフェノール類をホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド等のアルデヒド化合物と重縮合して得られるものであり、例えば、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、フェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド共縮合樹脂等が挙げられる。
アルカリ可溶性樹脂(B)の酸価は、10〜600mgKOH/gが好ましく、50〜300mgKOH/gがより好ましい。当該範囲であると感光性樹脂組成物の現像性が良好となる。
アルカリ可溶性樹脂(B)の数平均分子量は、200〜20000が好ましく、2000〜15000がより好ましい。当該範囲であると感光性樹脂組成物のアルカリ溶解性、現像性が良好となる。
アルカリ可溶性樹脂(B)の感光性樹脂組成物の全固形分における割合は10〜90質量%が好ましく、30〜80質量%がより好ましい。当該範囲であると本発明の感光性樹脂組成物の現像性が良好である。
架橋剤(C)は、カルボキシル基及び/又はフェノール性水酸基と反応し得る基を2個以上有する化合物である。カルボキシル基及び/又はフェノール性水酸基と反応し得る基を2個以上有することにより、カルボキシル基及び/又はフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂(B)と架橋し塗膜硬化物を形成し得る。また、共重合体(A)がカルボキシル基及び/又は水酸基を有する場合には共重合体(A)とも架橋し塗膜硬化物を形成し得る。架橋剤(C)は実質的にフッ素原子を含まない化合物であることが好ましい。
架橋剤(C)としては、アミノ樹脂、エポキシ化合物、オキサゾリン化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
アミノ樹脂としては、メラミン系化合物、グアナミン系化合物、尿素系化合物等のアミノ基の一部もしくはすべてをヒドロキシメチル化した化合物、又は該ヒドロキシメチル化した化合物の水酸基の一部もしくはすべてをメタノール、エタノール、n−ブチルアルコール、2−メチル−1−プロパノール等でエーテル化した化合物、例えば、ヘキサメトキシメチルメラミン等が挙げられる。
エポキシ化合物としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノール・ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾール・ノボラック型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、臭素化エポキシ樹脂等のグリシジルエーテル類、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エーテルなどの脂環式エポキシ樹脂、ジグリシジルヘキサヒドロフタレート、ジグリシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート等のグリシジルエステル類、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルパラアミノフェノール等のグリシジルアミン類、トリグリシジルイソシアヌレートなどの複素環式エポキシ樹脂などが挙げられる。
オキサゾリン化合物としては、2−ビニル−2−オキサゾリン、2−ビニル−4−メチル−2−オキサゾリン、2−ビニル−5−メチル−2−オキサゾリン、2−イソプロペニル−2−オキサゾリン、2−イソプロペニル−4−メチル−2−オキサゾリン等の重合性単量体の共重合体を挙げることができる。
架橋剤(C)の感光性樹脂組成物の全固形分における割合は、1〜50質量%が好ましく、5〜30質量%がより好ましい。当該範囲であると感光性樹脂組成物の現像性が良好となる。
光酸発生剤(D)は、光により酸を発生する化合物である。光酸発生剤(D)としては、例えば、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、トリアジン系化合物、スルホニル化合物、スルホン酸エステル類等が挙げられる。
ジアリールヨードニウム塩のカチオン部分の具体例としては、ジフェニルヨードニウム、4−メトキシフェニルフェニルヨードニウム、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウム等が挙げられる。ジアリールヨードニウム塩のアニオン部分の具体例としては、トリフルオロメタンスルホネート、ノナフルオロブタンスルホネート、p−トルエンスルホネート、ペンタフルオロベンゼンスルホネート、ヘキサフルオロホスフェート、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロアンチモネート等が挙げられる。ジアリールヨードニウム塩は、前記カチオン部分の1種と前記アニオン部分の1種との組み合わせからなる。例えば、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウム トリフルオロメタンスルホネートである。
トリアリールスルホニウム塩のカチオン部分の具体例としては、トリフェニルスルホニウム、ジフェニル−4−メチルフェニルスルホニウム、ジフェニル−2,4,6−トリメチルフェニルスルホニウム等が挙げられる。トリアリールスルホニウム塩のアニオン部分の具体例としては、前記ジアリールヨードニウム塩のアニオン部分の具体例が挙げられる。トリアリールスルホニウム塩は、前記カチオン部分の1種と前記アニオン部分の1種との組み合わせからなる。例えば、トリフェニルスルホニウム トリフルオロメタンスルホネートである。
トリアジン系化合物の具体例としては、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−フリル)エテニル−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(5−メチル−2−フリル)エテニル−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン等が挙げられる。
スルホニル化合物の具体例としては、ビス(フェニルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(t−ブチルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(シクロヘキシルスルホニル)ジアゾメタン、ビス(p−トルエンスルホニル)ジアゾメタン等が挙げられる。
スルホン酸エステル類の具体例としては、2−ニトロベンジルp−トルエンスルホネート、α−(p−トルエンスルホニルオキシイミノ)−フェニルアセトニトリル等が挙げられる。
光酸発生剤(D)の感光性樹脂組成物の全固形分における割合は0.1〜30質量%が好ましく、1〜20質量%がより好ましい。当該範囲であると感光性樹脂組成物の現像性が良好となる。
感光性樹脂組成物においては、必要に応じてシランカップリング剤(E)を使用することができる。シランカップリング剤を使用すると感光性樹脂組成物から形成される塗膜硬化物の基材密着性が向上する。
シランカップリング剤(E)の具体例としては、テトラエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、へプタデカフルオロオクチルエチルトリメトキシシラン、ポリオキシアルキレン鎖含有トリエトキシシラン等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
感光性樹脂組成物においては、希釈剤(F)を使用することができる。希釈剤(F)の具体例としては、共重合体(A)の合成用溶媒として例示した溶媒が挙げられる。その他には、n−ブタン、n−ヘキサン等の鎖式炭化水素、シクロヘキサン等の環式飽和炭化水素、トルエン、キシレン、ベンジルアルコール等の芳香族炭化水素等が挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
本発明の感光性樹脂組成物においては、必要に応じて硬化促進剤、着色剤、増粘剤、可塑剤、消泡剤、レベリング剤、ハジキ防止剤、紫外線吸収剤等を使用することができる。着色剤としては、染料、有機顔料、無機顔料、メタリック顔料等が例示される。
着色剤を混合した感光性樹脂組成物は、遮光用塗膜の形成材料として使用できる。例えばカラーフィルタ用隔壁材としては、RGBの発光色のコントラストを高めるため黒色の塗膜を形成できる感光性樹脂組成物が適用される。
黒色となる着色剤としては、カーボンブラック、チタンブラック、黒色金属酸化物顔料が好ましい。また、赤、青、緑、紫、黄、シアン、マゼンタ等から選ばれる2種以上の有機顔料を混合し、黒色化した組み合わせも好ましい。
カーボンブラックとしては、ランプブラック、アセチレンブラック、サーマルブラック、チャンネルブラック、ファーネスブラック等が挙げられる。チタンブラックとは、チタンの酸化又は二酸化チタンの還元により得られるもので、Ti2u−1(uは、1以上の数)で表される少なくとも1種である。黒色金属酸化物顔料としては、銅、鉄、クロム、マンガン、コバルトの酸化物が挙げられる。前記金属酸化物から選ばれる少なくとも2種以上の複合金属酸化物も好ましい。例えば、銅−クロムの酸化物、銅−クロム−マンガンの酸化物、銅−鉄−マンガンの酸化物又はコバルト−鉄−マンガンの酸化物等が挙げられる。
青の顔料としてはフタロシアニン系顔料が、赤の顔料としてはキナクリドン系顔料、ペリレン系顔料、ピロロ・ピロール系顔料、アントラキノン系顔料等が、緑の顔料としてはハロゲン化フタロシアニン系顔料等が、紫の顔料としてはジオキサジンバイオレット、ファストバイオレットB、メチルバイオレットイーキ、インダントレンブリリアントバイオレット等が、黄の顔料としてはテトラクロロイソインドリノン系顔料、ハンザイロー系顔料、ベンジジンエロー系顔料、アゾ系顔料等が、シアンの顔料としては無金属フタロシアニン、メロシアニン等が、マゼンタの顔料としてはジメチルキナクリドン、チオインジゴ等が挙げられる。
顔料は、分散剤(例えば、ポリカプロラクトン系化合物、長鎖アルキルポリアミノアマイド系化合物等。)と共にサンドミル、ロールミル等の分散機によって分散され、その後、感光性樹脂組成物に加えてもよい。粒径は、1μm以下が好ましい。当該範囲であると感光性樹脂組成物の現像性が良好となる。
以下、本発明の感光性樹脂組成物を使用したフォトリソグラフィー工程を述べる。
まず、基材に本発明の感光性樹脂組成物を塗装する。基材としては、その材質は特に限定されるものではないが、例えば、各種ガラス板、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスルホン、ポリイミド等の熱可塑性プラスチックシート、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ(メタ)アクリル樹脂等の熱硬化性プラスチックシート等を挙げることができる。特に、耐熱性の点からガラス板、ポリイミド等の耐熱性プラスチックが好ましく用いられる。
塗膜の形成方法としては、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法、バー塗布法などが挙げられる。
次に、塗膜は乾燥(以下、プリベークという。)される。プリベークすることによって、溶剤が揮発し、流動性のない塗膜が得られる。プリベーク条件は、各成分の種類、配合割合などによっても異なるが、好ましくは50〜120℃、10〜2000秒間程度の幅広い範囲で使用できる。
次に、加熱された塗膜に所定パターンのマスクを介して露光を行う。使用される光は、波長100〜600nmの光線であり、300〜500nmの範囲に分布を有する電磁波が好ましく、i線(365nm)、h線(405nm)、g線(436nm)が特に好ましい。具体的には可視光、紫外線、遠紫外線、KrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザー、Fエキシマレーザー等のレーザー光等が挙げられる。但し、波長の短い光を照射する場合、そのエネルギーが強いため、照射時間によっては、露光された部分の組成物材料が分解する可能性がある。したがって、紫外線波長以上の光であることが好ましく、そのような光源としては、露光装置用途に汎用的に広く用いられている超高圧水銀灯が挙げられる。通常は、5〜1000mJ/cmの露光量の範囲で露光されるのが好ましい。
次に、必要に応じて酸を拡散させ、架橋反応を促進するためのPEB処理をし、現像液により現像し、未露光部分を除去する。
その後、現像液により現像し、未露光部分を除去する。現像液としては、例えば無機アルカリ類、アミン類、アルコールアミン類、第四級アンモニウム塩等のアルカリ類からなるアルカリ水溶液を用いることができる。
現像時間は、30〜180秒間が好ましい。また現像方法は液盛り法、ディッピング法などのいずれでもよい。現像後、流水洗浄を行い、圧縮空気や圧縮窒素で風乾させることによって、基材上の水分を除去する。続いて、ホットプレート、オーブンなどの加熱装置により、好ましくは120〜250℃で、5〜90分間加熱処理(ポストキュア処理)をすることによって、パターンが形成される。
上記のフォトリソグラフィー工程を経て画素パターンの隔壁を形成させた後、画素内の基材表面の汚れを除去することがある。例えば、低圧水銀灯やエキシマUV等の短波長紫外線の照射や、光アッシング処理等により基材表面を洗浄する工程が挙げられる。光アッシング処理とはオゾンガス存在下、短波長紫外線を照射する処理である。前記短波長紫外線とは、100〜300nmの波長にメインピークを有する光である。
本発明の感光性樹脂組成物は、100μm以下のパターン形成に好ましく用いられ、50μm以下のパターン形成により好ましく用いられる。
塗膜硬化物において撥インク性は、水及びキシレンの接触角で見積もることができ、水の接触角は70度以上が好ましく、75度以上がより好ましい。また、キシレンの接触角は25度以上が好ましく、30度以上がより好ましい。
塗膜硬化物においてインク転落性は、水及びキシレンの転落角で見積もることができ、水の転落角は35度以下が好ましく、25度以下がより好ましい。また、キシレンの転落角は30度以下が好ましく、20度以下がより好ましい。
以下に実施例(例1〜4)、比較例(例5〜9)に基づき説明するが、本発明はこれらに限定されない。以下において、特に断らない限り、部及び%は質量基準である。また、数平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によりポリスチレンを標準物質として測定した値である。
以下の各例において用いた化合物の略号を下に示す。
C4FMA:CH=C(CH)COOCHCH(CF
C6FMA:CH=C(CH)COOCHCH(CF
C8FA:CH=CHCOOCHCH(CF
X−174DX:ジメチルシリコーン鎖含有メタクリレート(信越化学工業社製、商品名X−22−174DX)
X−8201:ジメチルシリコーン鎖含有メタクリレート(信越化学工業社製、商品名X−24−8201)
MAA:メタクリル酸、AA:アクリル酸、2−HEMA:2−ヒドロキシエチルメタクリレート、MMA:メタクリル酸メチル、CHMA:シクロヘキシルメタクリレート、
IBMA:イソボルニルメタクリレート、
DSH:n−ドデシルメルカプタン、V−70:2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬社製、商品名V−70)、
MPトリアジン:2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5トリアジン
TAZ−107:2−(1,3ベンゾジオキソール−5−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5トリアジン(みどり化学社製、商品名TAZ−107)
WPAG199:ビス(p−トルエンスルホニル)ジアゾメタン(和光純薬社製、商品名WPAG−199)
NW−100LM:メチルエーテル化メラミン樹脂(三和ケミカル社製、商品名ニカラックNW−100LM)
KBM403:3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業社製、商品名KBM−403)
DEGDM:ジエチレングリコールジメチルエーテル
CB:カーボンブラック(平均粒径=120nm、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液、固形分20質量%)。
[合成例1]
<共重合体(A−1)の合成>
撹拌機を備えた内容積1Lの反応槽に、アセトン(557g)、C4FMA(108.0g)、X−8201(24.0g)、MAA(12.0g)、MMA(48.0g)、IBMA(48.0g)、連鎖移動剤DSH(6.9g)及び重合開始剤V−70(3.6g)を仕込み、窒素雰囲気下に撹拌しながら、40℃で18時間重合させ、共重合体(A−1)の溶液を得た。得られた共重合体(A−1)のアセトン溶液に水を加え再沈精製し、次いで石油エーテルにて再沈精製し、真空乾燥し、共重合体(A−1)の238gを得た。共重合体(A−1)の数平均分子量は7000であり、共重合体(A−1)の酸価は、33mgKOH/gであった。
[合成例2〜7]
<共重合体(A−2〜4)、共重合体(R−1〜3)の合成>
共重合体(A−1)の合成において、原料の配合を表1のように変更した他は同様の重合反応により、共重合体(A−2)、共重合体(A−3)、共重合体(R−1)、共重合体(R−2)、共重合体(R−3)を得た。
なお、表1に、単量体組成物におけるフッ素原子の含有率、単量体組成物におけるケイ素原子の含有率、酸価(mgKOH/g)、水酸基価(mgKOH/g)を示した。
Figure 2005300759
[合成例8]
<アルカリ可溶性樹脂(B)の合成>
撹拌機を備えた内容積1Lの反応槽に、アセトン(555g)、AA(36.0g)、2−HEMA(108.0g)、IBMA(72.0g)、連鎖移動剤DSH(9.7g)及び重合開始剤V−70(5.1g)を仕込み、窒素雰囲気下に撹拌しながら、40℃で18時間重合させ、アルカリ可溶性樹脂(B−1)の溶液を得た。得られたアルカリ可溶性樹脂(B−1)のアセトン溶液に水を加え再沈精製し、次いで石油エーテルにて再沈精製し、真空乾燥し、アルカリ可溶性樹脂(B−1)の235gを得た。アルカリ可溶性樹脂(B−1)の数平均分子量は5000であり、アルカリ可溶性樹脂(B−1)の酸価は、119mgKOH/gであった。
[例1〜9]
<感光性樹脂組成物の評価>
表2に示す割合(質量部)で、共重合体(A)、共重合体(R)、アルカリ可溶性樹脂(B)、光酸架橋剤(C)、酸発生剤(D)、シランカップリング剤(E)、希釈剤(F)を配合して感光性樹脂組成物を得た。
ガラス基板上にスピンナーを用いて、感光性樹脂組成物を塗布した後、100℃で2分間ホットプレート上でプリベークし、膜厚3.0μmの塗膜を形成した。次に塗膜にマスク(ライン/スペ−ス=20μm/20μm)を接触させ、超高圧水銀灯により150mJ/cm照射した。
次に100℃で2分間PEB処理を行った。次いで、未露光部分を0.1質量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に40秒間浸漬し現像し、未露光部を水により洗い流し、乾燥させた。次いで、ホットプレート上、220℃で1時間加熱することにより、パターンが形成されたガラス基板を得た。これについて、現像性、塗膜外観、基材密着性、撥インク性、インク転落性、短波長紫外線照射後の撥インク性、短波長紫外線照射後のインク転落性を以下に示す方法で測定、評価した。評価結果を表2に示す。
[現像性]
完全に現像できたものを○、現像されない部分があったものを×と記載した。
[塗膜外観]
塗膜外観が良好なものを○、塗膜が白く濁る、塗膜に気泡跡が残る、塗膜に放射状の筋が残る、膜厚が均一でない等の塗膜外観が損なわれているものを×と記載した。
[基材密着性]
JIS K 5400記載の碁盤目テープ法により評価した。塗板をカッターにて、2mm間隔でます目の数が25個となるように、碁盤目状に傷を付けた。次に粘着テープを貼り、剥がした後の塗膜の付着状態を目視により、ます目が剥がれなかったものを○、ます目が殆ど剥がれたものを×として評価した。
[撥インク性]
撥インク性は、ガラス基材に形成された塗膜硬化物表面の水及びキシレンの接触角(度)により評価した。接触角とは、固体と液体が接触する点における液体表面に対する接線と固体表面がなす角で、液体を含む方の角度で定義した。この角度が大きいほど塗膜の撥インク性が優れることを意味する。水の接触角70度以上を○、70度未満を×と表記した。キシレンの接触角25度以上を○、25度未満を×と表記した。
[インク転落性]
インク転落性は、水平に保持したガラス基材に形成された塗膜硬化物表面に50μLの水又は10μLのキシレンを滴下し、ガラス基材の一辺を持ち上げて徐々に傾けていき、水滴又はキシレン滴が落下し始めたときのガラス基材表面と水平面との角度を転落角(度)により評価した。この角度が小さいほど塗膜のインク転落性が優れることを意味する。水の転落角35度以下を○、35度超を×と表記した。キシレンの転落角30度以下を○、30度超を×と表記した。
[短波長紫外線照射後の撥インク性]
低圧水銀灯を光源として使用し、ガラス基材に形成された塗膜硬化物に3分間短波長紫外線を照射した後の水及びキシレンの接触角により評価した。
[短波長紫外線照射後のインク転落性]
低圧水銀灯を光源として使用し、ガラス基材に形成された塗膜硬化物に3分間短波長紫外線を照射した後の水及びキシレンの接触角により評価した。
Figure 2005300759
例5は共重合体(A)の感光性樹脂組成物の全固形分における割合が低すぎ、塗膜硬化物の撥インク性、インク転落性に劣る。例6は共重合体(A)の感光性樹脂組成物の全固形分における割合が高すぎ、塗膜外観、基材密着性に劣る。例7は単量体組成物におけるフッ素原子の含有率が低すぎ、塗膜硬化物の撥インク性、インク転落性に劣る。例8は単量体組成物におけるフッ素原子の含有率が高すぎ、塗膜外観、基材密着性に劣る。例9は単量体組成物に上記式2で表される基とエチレン性二重結合を有する単量体(a2)が含まれておらず、初期のインク転落性、短波長紫外線照射後の撥インク性・インク転落性に劣る。
本発明の感光性樹脂組成物は、インクを弾く性質が必要とされる用途に適用できる。例えば、液晶ディスプレイ用カラーフィルタ又は有機ELディスプレイ等の隔壁の形成、半導体装置又は電気回路における配線パターン形成用の隔壁の形成に好適に用いられる。

Claims (5)

  1. 下記式1で表される基とエチレン性二重結合を有する単量体(a1)及び下記式2で表される基とエチレン性二重結合を有する単量体(a2)を含む単量体組成物を重合して得られる構造の共重合体(A)と、カルボキシル基及び/又はフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂(B)と、カルボキシル基及び/又はフェノール性水酸基と反応し得る基を2個以上有する化合物である架橋剤(C)と、光酸発生剤(D)とを含む波長100〜600nmの光線用感光性樹脂組成物であって、
    −CFXR ・・・式1
    (式中、Xは水素原子、フッ素原子又はトリフルオロメチル基を示し、Rはフッ素原子又は水素原子の少なくとも1つがフッ素原子に置換された炭素数20以下のアルキル基(但し、前記アルキル基はエーテル性の酸素原子を有するものを含む。)を示す。)
    −(SiR−O)−SiR ・・・式2
    (式中、R、Rは独立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を示し、Rは水素原子又は炭素数1〜10の有機基を示し、nは1〜200の整数を示す。)
    単量体組成物におけるフッ素原子の含有率は1〜30質量%であり、共重合体(A)の感光性樹脂組成物の全固形分における割合は1.5〜30質量%であることを特徴とする感光性樹脂組成物。
  2. 前記共重合体(A)の感光性樹脂組成物の全固形分における割合は2.5〜30質量%である請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  3. 前記単量体組成物におけるケイ素原子の含有率は0.1〜10質量%である請求項1又は2に記載の感光性樹脂組成物。
  4. 前記単量体組成物はカルボキシル基とエチレン性二重結合を有する単量体(a3)及び/又は水酸基とエチレン性二重結合を有する単量体(a4)をさらに含む請求項1〜3のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
  5. 請求項1〜4に記載の感光性樹脂組成物より得られる塗膜硬化物。
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