JP2005292560A5 - - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 11
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims 8
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims 3
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- -1 acryloyloxy group Chemical group 0.000 claims 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims 2
- IDBYQQQHBYGLEQ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclopentane Chemical group FC1CC(F)(F)C(F)(F)C1(F)F IDBYQQQHBYGLEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 claims 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims 1
Claims (11)
- 導電性支持体及び該導電性支持体上の感光層を有する電子写真感光体を製造する方法であって、該電子写真用感光体の最外表面を構成する表面層を形成する表面層形成工程を有する電子写真感光体の製造方法において、
該表面層形成工程が、潤滑剤及び環状構造を有するフッ素系溶剤を含有する表面層用塗布液を浸漬コーティング法により塗布する工程を含むことを特徴とする電子写真感光体の製造方法。 - 前記潤滑剤がフッ素原子含有樹脂粒子である請求項１に記載の電子写真感光体の製造方法。
- 前記表面層形成工程が、前記塗布する工程で前記表面層用塗布液が塗布された後、これに放射線若しくは紫外線を照射することによって又はこれを加熱することによって硬化させる工程をさらに含む請求項１又は２に記載の電子写真感光体の製造方法。
- 前記放射線が電子線である請求項３に記載の電子写真感光体の製造方法。
- 前記表面層用塗布液が連鎖重合性官能基を有する化合物をさらに含有し、かつ、前記硬化させる工程においては該連鎖重合性官能基を有する化合物が重合又は架橋する請求項３又は４に記載の電子写真感光体の製造方法。
- 前記連鎖重合性官能基が不飽和重合性官能基である請求項５に記載の電子写真感光体の製造方法。
- 前記不飽和重合性官能基が、下記構造式（１）で示されるアクリロイルオキシ基、下記構造式（２）で示されるメタクリロイルオキシ基又は下記構造式（３）で示される基である請求項６に記載の電子写真感光体の製造方法。
（式（３）中、Ａｒは置換又は無置換のアリーレン基を示し、Ｒ １ は水素原子又はメチル基を示す。） - 前記連鎖重合性官能基を有する化合物が電荷輸送性基をさらに有する請求項５〜７のいずれかに記載の電子写真感光体の製造方法。
- 前記電荷輸送性基が正孔輸送性基である請求項８に記載の電子写真感光体の製造方法。
- 前記連鎖重合性官能基を有する化合物が同一分子内に２つ以上の連鎖重合性官能基を有する請求項５〜９のいずれかに記載の電子写真感光体の製造方法。
- 前記環状構造を有するフッ素系溶剤が１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン又は１，１，２，２，３，３，４，４，５，５−デカフルオロシクロヘキサンである請求項１〜１０のいずれかに記載の電子写真感光体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004109038A JP4298568B2 (ja) | 2004-04-01 | 2004-04-01 | 電子写真感光体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004109038A JP4298568B2 (ja) | 2004-04-01 | 2004-04-01 | 電子写真感光体の製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2005292560A JP2005292560A (ja) | 2005-10-20 |
| JP2005292560A5 true JP2005292560A5 (ja) | 2007-05-10 |
| JP4298568B2 JP4298568B2 (ja) | 2009-07-22 |
Family
ID=35325530
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004109038A Expired - Fee Related JP4298568B2 (ja) | 2004-04-01 | 2004-04-01 | 電子写真感光体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4298568B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5167638B2 (ja) * | 2006-11-10 | 2013-03-21 | 株式会社リコー | 画像形成装置およびプロセスカートリッジ |
| JP5095982B2 (ja) * | 2006-11-15 | 2012-12-12 | 株式会社リコー | 画像形成装置、プロセスカートリッジ及び画像形成方法 |
| JP5573170B2 (ja) * | 2010-01-08 | 2014-08-20 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジ、および画像形成装置 |
| JP5696520B2 (ja) * | 2011-02-17 | 2015-04-08 | 富士ゼロックス株式会社 | 画像形成装置 |
| JP5958011B2 (ja) | 2012-03-28 | 2016-07-27 | 富士ゼロックス株式会社 | 電荷輸送性膜形成用組成物、電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび画像形成装置 |
| JP6036058B2 (ja) * | 2012-09-12 | 2016-11-30 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
| JP6024555B2 (ja) * | 2013-03-26 | 2016-11-16 | 富士ゼロックス株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
| JP6821441B2 (ja) * | 2017-01-12 | 2021-01-27 | キヤノン株式会社 | フッ素原子含有樹脂粒子の分散液、および電子写真感光体の製造方法 |
| JP7279478B2 (ja) * | 2018-11-30 | 2023-05-23 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、画像形成装置、及び電子写真感光体の製造方法 |
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2004
- 2004-04-01 JP JP2004109038A patent/JP4298568B2/ja not_active Expired - Fee Related
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