JP5332220B2 - 微細樹脂構造体並びにその製造方法 - Google Patents
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Description
1,3−Bis(difluoromethoxy)benzene
(2−(trifluoromethyl)−1,3−dioxolan−2−yl)methanol
2−(Trifluorovinyl)hexafluoroisopropanol
1H,1H−Perfluoro(2,5,8,11−tetramethyl−3,6,9,12−tetraoxapentadecan−1−ol)
1H,1H−Perfluoro(2,5,8,11,14,17−hexamethyl−3,6,9,12,15,18hexaoxaheneicosan−1−ol)
1H,1H−Perfluoro−2,5,8−trimethyl−3,6,9−trioxadodecan−1−ol
1H,1H,11H,11H−Perfluoro−3,6,9−trioxaundecane−1,11−diol
2,2−Difluoropropylamine hydrochloride
2,2,2−Trifluoroethyl triethylammonium triflate
Amonium perfluoro(2−methyl−3−oxaooctanoate)
1,4−Bis(1,1,1,3,3,3−hexafluoro−2−hydroxypropyl)benzene
1,3,5,7−Tetrakis(3,3,3−trifluoropropyl)1,3,5,7−tetramethylcyclosiloxanes
本発明を実施する上で重要な点の1つは、上記したフッ素原子含有化合物を高分子膜の表面などに付着せしめる際、いわゆるフローラス溶媒を用いることにより、好適に実施することが可能な場合が存在することである。すなわち、溶媒としてフローラス液体を用いると、下地として用いている通常の高分子化合物は実施的に溶解度を示さないため、離型性分子を高分子膜上へ展開するに際して下地の高分子膜を乱すことがないことである。このような目的に利用しうるフローラス溶媒としては、水素原子をフッ素原子で部分的または全部置換えした液状の物質であり、溶解する目的化合物の構造や極性を考慮してその適切な分子構造を有するものが選定される。フローラス溶媒として用いる際には、使用温度域で液状であればよく、従って必ずしも室温で液体状態を示す必要があるわけではない。しかし、室温での操作が最も容易であるため、主として室温で液状のフッ素化合物が選ばれることが多い。本発明の実施に供しうるフローラス溶媒の例としては、2,2,2−Trifluoroethanol、1H,1H−Pentafluoropropanol−1、1,1,1,3,3,3−Hexafluoro−2−propanol、2H,3H−Decafluoropentane,Benzotrifluoride,Eicosafluorononane,Perfluoromethylcyclohexane,Heptadecafluoro−n−octyl Bromide,Hexafluorobenzene,Octadecafluoro−decahydronaphthalene,Perfluoro(2−butyltetrahydrofuran),Octadecafluorooctane,Perfluoro(1,3−dimethylcyclohexane),Perfluoroheptane,Perfluorohexane,Perfluorotolueneなどが挙げられる。しかし、本発明の趣旨に照らして、本発明の実施がこれらの溶媒に限定されることはない。
大きさ15mm×15mm,厚さ0.5mmのガラス基板上に、表1に掲げた組成を有する光硬化性の樹脂前駆体モノマー組成物を1.0μL付着させ、この上から予めパーフルオロヘキシルトリメトキシシランの溶液で処理した、表面に孔径200nm,深さ400nmのピットが多数配列して設けられた大きさ10mm×7mmの石英製モールドを置き、全体をUV光照射可能な窓を有する真空容器に入れた。石英製モールドの上部から0.1kNの圧を印加しながら容器内を1.5kPaまで減圧した。ついで、石英製モールドの上部から、500W高圧水銀灯を10秒間照射した。ついで、基板と一体化された石英製モールドを真空容器から取り出し、基板を石英製モールドから剥離した。基板表面の原子間力顕微鏡による観察から、基板の表面には直径200nm,高さ約400nmの微細なピラーが配列している様子がみられた。ついでこの基板の表面に、平均分子量35万のポリ(メチルメタクリレート)0.7g/Lのトルエン溶液を滴下して、毎分3000回転でスピン塗布した。この基板をモールドとし、上に述べた方法と同様の操作で表1の樹脂前駆体モノマーを用いて光ナノインプリント転写を行い、剥離した。こうして得られた新たなモールド基板の表面を原子間力顕微鏡で観察したところ、元の石英製モールドと同等の、表面に孔径200nm,深さ400nmのピットが配列していることが分かった。このようにして、石英原版と同じ微細パターンを有する樹脂製転写体を得ることができた。
実施例1と同様の方法で、表面にピラーが配列した樹脂レプリカモールドを作製した。ついで、この樹脂レプリカモールドの表面に、ポリ(4−ビニルフェノール)の濃度0.5g/Lの2−プロパノール溶液を滴下したのち毎分3000回転でスピン塗布した。このスピン塗布したモールド基板を、蒸着が可能な真空容器中にパターン面が下向きになるように設置した。このモールドの下方200mmの位置に加熱の可能なセラミック製の容器を配置し、この中にSynQuest社製の1H,1H,11H,11HPerfluoro−3,6,9−trioxaundecane−1,11−diol 2.7gを入れ、この真空容器を0.7kPaまで減圧した。この減圧度に達した後、上記セラミック製の容器を120℃まで30秒間加熱し、モールドの表面を前記物質の蒸気に曝した。真空容器内を冷却した後、モールドを取り出した。ガラス基板上に1.0μL付着させた表1のモノマー組成物の上に真空容器から取り出したモールドを置き、実施例1と同様の方法でUV光を照射した。ついで、基板と一体化された石英製モールドを真空容器から取り出し、基板をモールドから剥離した。基板表面の原子間力顕微鏡による観察から、元の石英製モールドと同等の、表面に孔径200nm,深さ400nmのピットが配列していることが分かった。このようにして、石英原版と同じ微細パターンを有する樹脂製転写体を得ることができた。
実施例1と同様の方法で石英製モールドから樹脂レプリカモールドを作製した。ついで、この樹脂モールド上で実施例2と同じ方法でポリ(4−ビニルフェノール)の濃度0.5g/Lの2−プロパノール溶液を用いて毎分3000回転でスピン塗布した。ついでこの樹脂モールドの付着したガラス基板をAmmonium perfluoro(2−methyl−3−oxaoctanoate)の0.25wt%の1H,1H−pentafluoropropanol−1溶液30mL中に3分間浸漬し、取り出してN2気流で乾燥した後、これをモールドとして、実施例1に示したポリ(メチルメタクリレート)溶液のスピン塗布を終えたあとの操作と同様の操作で表1の樹脂前駆体モノマーを用いて光ナノインプリント転写を行い、剥離した。こうして得られた新たなモールド基板の表面を原子間力顕微鏡で観察したところ、元の石英製モールドと同等の、表面に孔径200nm,深さ400nmのピットが配列していることが分かった。このようにして、石英原版と同じ微細パターンを有する樹脂製転写体を得ることができた。
ポリ(メチルメタクリレート)の溶液をスピン塗布しなかった以外は〔実施例1〕と同様の操作を行い、石英製モールドの転写によって得られた基板をモールドとして光照射を行った。そののち、モールドと基板を剥離し、基板表面に形成されたパターンを原子間力顕微鏡により観察したところ、基板表面の樹脂膜は多くが失われ、その結果、石英製モールドが有していたパターンの極一部しか再現されなかった。
2,7 樹脂前駆体モノマー組成物
3 石英製モールド
4 照射されたUV光
5 樹脂膜のパターン
8 基板上に形成されたパターンを有する樹脂モールド
Claims (8)
- 1000nm以下の最小加工寸法を有する樹脂製の微細構造体の製造方法において、
1000nm以下の微細凹凸パターンを有する重合によって形成された樹脂よりなる微細構造体の表面に被覆膜を形成する工程と、
該微細構造体を、樹脂前駆体モノマー又は樹脂前駆体モノマーの組成物に押し付け、該モノマーまたはモノマーの組成物を重合する工程と、
樹脂前駆体モノマー又は樹脂前駆体モノマー組成物の重合体から該微細構造体を剥離し、該微細構造体表面の微細凹凸パターンを該重合体に転写する工程と、を有し、
前記被覆膜の表面もしくは内部に共有結合を形成させずに、フッ素原子を含有する化合物を含有させたことを特徴とする微細樹脂構造体の製造方法。 - 前記被覆膜が、ポリ(4−ビニルフェノール),ポリスチレン,ポリエチレン,ポリプロピレン,ポリブタジエン,ポリ(4−ビニルピロリドン),ポリビニルアセテート,ポリ(アクリル酸エステル)類,ポリ(メタクリル酸エステル)類,ポリアクリロニトリル,ポリフッ化ビニリデン,ポリ(ビニルエーテル)類,ポリアクリルアミド類,ポリエチレンオキサイド,ポリプロピレンオキサイドから選ばれるポリエーテル系重合体、ポリアミド酸,エポキシ樹脂,シルセスキオキサン誘導体,ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系高分子,ポリフォスファゼン類,ポリシロキサン,ポリシラン,ポリテトラフルオロエチレン,ポリカーボネート、の群から選ばれる少なくとも1種またはその誘導体を含むことを特徴とする請求項1に記載の微細樹脂構造体の製造方法。
- 前記樹脂前駆体モノマー又は樹脂前駆体モノマー組成物の重合が光重合であることを特徴とする請求項1に記載の微細樹脂構造体の製造方法。
- 前記被覆膜と前記重合体の間に離型剤を介在させたことを特徴とする請求項1に記載の微細樹脂構造体の製造方法。
- 前記被覆膜がフッ素原子を含有する化合物であり、フッ素原子を含有する化合物の蒸発による蒸着,フッ素原子を含有する化合物を含ませた溶液への浸漬,フッ素原子を含有する化合物を含ませた溶液を用いたスピン塗布、フッ素原子を含有する化合物もしくはフッ素原子を含有する化合物を含ませた溶液のインクジェットによる塗布、のいずれかの方法により、フッ素原子を含有する化合物を付着させることを特徴とする請求項1に記載の微細樹脂構造体の製造方法。
- 表面に1000nm以下の最小加工寸法の微細凹凸パターンを有する樹脂製の基体と、
前記微細凹凸パターンを有する面に形成された被覆膜とを有し、
被覆膜が離型性分子を含む高分子化合物であり、前記離型性分子と高分子化合物とがファンデスワールス力、水素結合またはイオン性物質の極性相互作用により結合しており、前記離型性分子がフッ素原子を含有する化合物であることを特徴とする微細構造体。 - 前記被覆膜が0.5nm以上で500nm以下の膜厚を有することを特徴とする請求項6に記載の微細構造体。
- 前記被覆膜が、ポリ(4−ビニルフェノール),ポリスチレン,ポリエチレン,ポリプロピレン,ポリブタジエン,ポリ(4−ビニルピロリドン),ポリビニルアセテート,ポリ(アクリル酸エステル)類,ポリ(メタクリル酸エステル)類,ポリアクリロニトリル,ポリフッ化ビニリデン,ポリ(ビニルエーテル)類,ポリアクリルアミド類,ポリエチレンオキサイド,ポリプロピレンオキサイドから選ばれるポリエーテル系重合体、ポリアミド酸,エポキシ樹脂,シルセスキオキサン誘導体,ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系高分子、ポリフォスファゼン類,ポリシロキサン,ポリシラン,ポリテトラフルオロエチレン,ポリカーボネート、の群から選ばれる少なくとも1種またはその誘導体を含むことを特徴とする請求項6に記載の微細樹脂構造体。
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