JP2005290368A - コーティング組成物、その塗膜、反射防止膜、及び画像表示装置 - Google Patents
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Abstract
塗膜を形成した際に光触媒作用による塗膜の劣化を消失又は抑制することができ、ヘイズ値を小さくすることができ、塗工液の分散性、分散安定性に優れ、保存性に優れ、塗工適性にも優れたコーティング組成物、このコーティング組成物を被塗工体の表面に塗布した塗膜、この塗膜を含む積層された反射防止膜、および表示面を被覆した画像表示装置を提供する。
【解決手段】
コーティング組成物は、少なくとも、次の(1)〜(4)の成分を含むことを特徴とする。(1)自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質を持つコバルトがドープされた二酸化チタン微粒子に対し、自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質を持つ亜鉛キレート化合物で表面処理することにより得られた、光触媒活性が消失又は抑制された二酸化チタン微粒子と、(2)バインダー成分と、(3)分散剤と、(4)有機溶剤を含む。
【選択図】 図1
Description
光触媒活性が消失又は抑制された二酸化チタン微粒子と、(2)バインダー成分と、(3)分散剤と、(4)有機溶剤を含むことを特徴とする。
本発明のコーティング組成物に使用される二酸化チタン微粒子は、屈折率が高く、且つ、無色であるか又はほとんど着色していないので、屈折率を調節するための成分として適している。酸化チタンには、ルチル型、アナターゼ型、アモルファス型があるが、アナターゼ型やアモルファス型に比べてルチル型が屈折率が高いので好ましい。
本発明で使用するコバルトドープ二酸化チタン微粒子において、コバルトはCoO及び/又はCo2 O3 の状態で存在している。このようなコバルトドープ二酸化チタン微粒子の製造方法においては、チタン源、コバルト源の基剤成分を混合し、600〜1100℃の温度で焼成することにより顔料とすることができる。本発明においては、チタン源として超微粒子の含水酸化チタンを用いることができ、このものは、ルチル型の結晶構造を有する微小二酸化チタンゾルであり、X線回折法による測定でルチル型結晶のピークを示す微小含水酸化チタンのゾルであり、その平均結晶粒子径は通常50〜120Åのものである。このものは、例えば、四塩化チタン水溶液をアンモニア水でpH7〜8で中和して得られるコロイド状の非晶質含水酸化チタンを熟成したり、メタチタン酸或はオルトチタン酸などの非晶質含水酸化チタンを水酸化ナトリウム水溶液中で加熱処理した後、塩酸溶液中で加熱処理したり、硫酸チタン水溶液や四塩化チタン水溶液を加熱して加水分解することにより得ることができる。本発明においては、このようなルチル型の結晶構造を有する微小二酸化チタンゾルをそのまま或は乾燥後できるだけ細かく粉砕して使用することができる。
本発明の1番目〜4番目のコーティング組成物においては、耐光性を向上させるために、亜鉛の有機金属化合物により、二酸化チタン微粒子の表面処理が行われる。本発明に使用される前記亜鉛キレート化合物は、亜鉛アセチルアセトナート Zn(CH3COCHCOCH3)2、安息香酸亜鉛 Zn(C6H5COO)2、酢酸亜鉛 Zn(CH3COO)2、2−エチルヘキシル酢酸亜鉛 Zn(CH3(CH2)3CH(C2H5)COO)2から選ばれた1種又は2種以上であることが望ましい。亜鉛の有機金属化合物で表面処理された二酸化チタン微粒子は、光触媒活性が消失又は抑制される。
本発明の3番目及び4番目のコーティング組成物においては、耐光性をさらに向上させるために、下記の無機化合物により、二酸化チタン微粒子が表面処理される。光触媒活性を低下又は消失させる性質を有する無機化合物には、アルミナ、シリカ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化スズ、アンチモンドープ酸化スズ、及びインジウムドープ酸化スズより選ばれた1種又は2種以上の金属酸化物が使用可能である。
理
本発明の2番目及び4番目のコーティング組成物では、インキにする際の分散性を付与するために、亜鉛の有機金属化合物で表面処理後、さらにアニオン性の極性基を有する有機化合物、及び/又は、有機金属化合物にて表面処理を行う。表面処理方法は亜鉛の有機金属化合物と同様である。場合によっては、化学吸着を行うよう熱処理を行う。
本発明のコーティング組成物中のバインダー成分は、電離放射線硬化性が望ましく、本発明のコーティング組成物に成膜性や、基材や隣接する層に対する密着性を付与するために、必須成分として配合される。電離放射線硬化性のバインダー成分は、コーティング組成物中において重合していないモノマー又はオリゴマーの状態で存在しているので、コーティング組成物の塗工適性に優れ、均一な大面積薄膜を形成しやすい。また、塗膜中のバインダー成分を塗工後に重合、硬化させることにより十分な塗膜強度が得られる。
分散剤は、二酸化チタン微粒子を本発明のコーティング組成物(塗工液)中に均一に分散させ、該塗工液により形成した塗膜中に均一に分散することができ、塗工液のポットライフを長くさせ、ヘイズ値の小さい透明膜を形成することができる。
する。
アニオン性の極性基を有する分散剤としては、具体的には、ビックケミー・ジャパン社がディスパービックの商品名で供給する製品群、すなわち、Disperbyk −1 11,Disperbyk −110 ,Disperbyk −116 ,Disperbyk −140 ,Disperbyk −161 ,Disperbyk −162 ,Disperbyk −163 ,Disperbyk −164 ,Disperbyk −170 ,Disperbyk −171 ,Disperbyk −174 ,Disperbyk −180 ,Disperbyk −182 等を例示することができる。
本発明のコーティング組成物の固形成分を溶解分散するための有機溶剤は特に制限されず、種々のもの、例えば、イソプロピルアルコール、メタノール、エタノール等のアルコール類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;ハロゲン化炭化水素;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;或いはこれらの混合物を用いることができる。
バインダー成分に電離放射線硬化性樹脂が用いられる場合には、光開始剤がラジカル重合を開始させるためにバインダー中に添加することが好ましい。光開始剤には、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオロアミン化合物類などを用いることができる。より具体的には、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフオリノプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケトン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2 −ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、ペンゾフエノン等を例示できる。これらのうちでも、1−ヒドロキシーシクロヘキシル−フェニル−ケトン、及び、2 −メチル−1 [4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフオリノプロパン−1−オンは、少量でも電離放射線の照射による重合反応を開始し促進するので、本発明において好ましく用いられる。これらは、いずれか一方を単独で、又は、両方を組み合わせて用いることができる。これらは市販品にも存在し、例えば、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンはイルガキュアー 184(Irgacure 184)の商品名でチバスペシャリティーケミカルズ(株)から入手できる。
本発明のコーティング組成物は、上記の必須成分以外に、必要に応じて電離放射線硬化性のバインダー成分の重合開始剤を含有するが、さらに、その他の成分を配合してもよい。例えば、必要に応じて紫外線遮蔽剤、紫外線吸収剤、表面調整剤(レベリング剤)などを用いることができる。
各成分の配合割合は適宜調節可能であるが、一般的には、二酸化チタン微粒子10重量部に対して、前記バインダー成分を4〜20重量部、及びアニオン性の極性基を有する分散剤を2〜4重量部の割合で配合する。特に、バインダー成分として分子中に水酸基を残しているものを用いる場合には、当該バインダー成分が分散助剤として作用するので、アニオン性の極性基を有する分散剤の使用量を大幅に減らすことができる。アニオン性の極性基を有する分散剤を2〜4重量部迄割合を低くして配合することができる。分散剤はバインダーとしては機能しないので、分散剤の配合割合を減らすことによって塗膜強度の向上を図ることができる。
上記各成分を用いて本発明のコーティング組成物を調製するには、塗工液の一般的な調製法に従って分散処理すればよい。例えば、各必須成分及び各所望成分を任意の順序で混合し、得られた混合物にビーズ等の媒体を投入し、ペイントシェーカーやビーズミル等で適切に分散処理することにより、コーティング組成物が得られる。
本発明のコーティング組成物を塗布する基材は特に制限されない。好ましい基材としては、例えば、ガラス板、トリアセテートセルロース(TAC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース、ポリエーテルサルホン、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、トリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、(メタ)アクリロニトリル等の各種樹脂で形成したフィルム等を例示することができる。基材の厚さは、通常25μm〜1000μm程度である。
本発明のコーティング組成物は、例えば、スピンコート法、デイップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ビードコーター法等の各種方法で基材上に塗布することができる。
本発明の1番目〜4番目のコーティング組成物は、光触媒活性を持つ二酸化チタン微粒子が、コバルトでドープされることにより、該コバルトの自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質により、該二酸化チタン微粒子は、光触媒活性が消失又は抑制される。さらに、該二酸化チタン微粒子は、亜鉛キレート化合物で表面処理されているので、該亜鉛の有機金属化合物の自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質により、該二酸化チタン微粒子は、光触媒活性が消失又は抑制される。したがって、本発明の1番目〜4番目のコーティング組成物を用いて塗膜を作製した場合に、光触媒作用が原因のバインダー成分の塗膜の劣化に伴う塗膜の強度低下や、黄変現象等が消失又は抑制されたものとなる。
粒子が亜鉛の有機金属化合物で表面処理される前に、アニオン性の極性を有する有機化合物及び/又は有機金属化合物が被覆されているので、該二酸化チタン微粒子は、1番目のコーティング組成物の二酸化チタン微粒子に比べて、塗工液中、及び該塗工液により形成した塗膜中にさらに均一に分散することができ、したがって、塗膜のヘイズ値がさらに低くなる。
上記の本発明の1番目のコーティング組成物は、自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質を持つコバルトがドープされた二酸化チタン微粒子に対し、自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質を持つ亜鉛の有機金属化合物で表面処理することにより得られた、光触媒活性が消失又は抑制された二酸化チタン微粒子が、分散剤により分散されているので、該コーティング組成物を用いて形成した本発明の1番目の塗膜は、二酸化チタン微粒子が、塗膜中に均一に分散している。そのために塗膜のヘイズ値の上昇を抑制することができる。
図1は、本発明の塗膜を光透過性層として含んだ多層型反射防止膜により表示面を被覆した液晶表示装置101の一例の断面を模式的に示したものである。液晶表示装置101は、表示面側のガラス基板1の一面にRGBの画素部2(2R、2G、2B)とブラックマトリックス層3を形成してなるカラーフィルター4を準備し、当該カラーフィルター4の画素部2上に透明電極層5を設け、背面側のガラス基板6の一面に透明電極層7を設け、背面側のガラス基板6とカラーフィルター4とを、透明電極層5、7同士が向き合うようにして所定のギャップを空けて対向させ、周囲をシール材8で接着し、ギャップに液晶Lを封入し、背面側のガラス基板6の外面に配向膜9を形成し、表示面側のガラス基板1の外面に偏光フィルム10を貼り付け、後方にバックライトユニット11を配置したものである。
TiO2として200g/lの濃度の四塩化チタン水溶液500mlとNa2Oとして100g/lの濃度の水酸化ナトリウム水溶液を、系のpHを5〜9に維持するように水中に並行添加し、所定時間熟成した。得られた超微粒子の含水二酸化チタン沈澱物を濾過、洗浄した後、再び水中に分散させ、TiO2として100g/lの濃度の含水二酸化チタンスラリーとした。このスラリーに、CoOとして200g/lの硫酸コバルト水溶液(CoSO4を20%硫酸溶液に溶解)25mlを添加し、アンモニア水20%水溶液を添加して、pH7に調整し、コバルト成分の沈澱を生成させた。このように処理してなる含水二酸化チタンスラリーをホモミキサーで十分攪拌した後、電気炉にて800℃で5時間焼成し、放冷し、乾式粉砕してCoO5%ドープした二酸化チタン微粒子を得た。
二酸化チタン微粒子として前記(1)の工程にて得られたルチル型二酸化チタン微粒子、電離放射線硬化性バインダー成分として、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PET30:商品名、日本化薬社製)、アニオン性の極性基を有する分散剤として顔料に親和性のあるブロック共重合体(ディスパービック163:商品名、ビックケミー・ジャパン社製)、及び、有機溶剤としてメチルイソブチルケトンをマヨネーズ瓶に入れ、混合物の約4倍量のジルコニアビーズ(φ0.3mm)を媒体に用いてペイントシェーカーで10時間攪拌し、攪拌後に光開始剤として1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(イルガキュアー184:商品名、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製)を下記の配合割合で加えて、本実施例1の高屈折率層形成用コーティング組成物を得た。
(配合組成)
高屈折率材料(TiO2):上記(1)にて作製したチタニア微粒子 10重量部
分散剤:Disperbyk163(商品名、ビックケミー・ジャパン製) 2重量部
光硬化樹脂:PET30(商品名、日本化薬製) 4重量部
光開始剤:IRGACURE184(商品名、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製)
0.2重量部
溶剤:メチルイソブチルケトン(純正化学製) 37.3重量部
(3)ハードコート層形成用コーティング組成物の調製
下記の組成の成分を配合してハードコート層形成用コーティング組成物を調製した。
50重量部
光開始剤:IRGACURE184(商品名、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製)
2.5重量部
溶剤:メチルイソブチルケトン(純正化学製) 47.5重量部
(4)塗膜の作成
厚さ80μmの表面無処理TACフィルム基材(FT−T80UZ:商品名、富士フィルム(株)製)上に調製直後の前記(3)工程で得られたハードコート層形成用コーティング組成物をバーコーター♯10で塗工し、60℃で1分間加熱乾燥した後、UV照射装置(フュージョンUVシステムズジャパン(株)製)のHバルブを光源に用いて100mJ/cm2の照射量で硬化させ、硬化後膜厚が約5μmの透明膜を形成した。
二酸化チタンの表面が分散性のみ確保するために、Coがドープされておらず、Al2O3及び亜鉛アセチルアセトナートで表面処理されておらず、且つステアリン酸で表面処理したルチル型酸化チタンを用いること以外は、前記実施例1と同様の組成にてコーティング組成物を調製し、屈折率2.00の塗膜を形成した。得られた塗膜について前記実施例1と同じ方法で耐光性試験を行った。結果を下記の表1に示す。表1によれば50時間の時点で劣化していることが分かる。
(1)コーティング組成物の調製
ルチル型酸化チタンとして、酸化チタン含量85〜90%で、Al2O3、ZrO3及びシリコーンオイルで表面処理し、一次粒径30〜40nmで、比表面積が30〜50m2/gで、表面が撥水性のルチル型酸化チタン(MT−500HDM、商品名、テイカ社製)を用い前記実施例1と同様の組成にてコーティング組成物を調製し、屈折率1.90の塗膜を形成した。得られた塗膜について前記実施例1と同じ方法で耐光性試験を行った。結果を下記の表1に示す。表1によれば100時間の時点で劣化し始め、150時間では完全に剥離していることが分かる。
前記実施例1において、二酸化チタン微粒子の作製する際に、亜鉛カップリング剤処理を取り止めた以外は、全て前記実施例1と同様にして比較例3のコーティング組成物を調製した。次いで、前記実施例1と同様にして屈折率1.90、ヘイズ値0.3の塗膜を作製した。得られた塗膜について前記実施例1と同じ方法で耐光性試験を行った結果を下記の表1に示す。表1によれば150h経過後から劣化し始め、200hにおいて傷多く剥離も見られたことが分かった。
前記比較例2で得た屈折率1.90の二酸化チタン分散液10重量部に対して、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(SR399E:商品名、日本化薬社製)を2.5重量部加え、屈折率1.76の中屈折率層を調製した。TAC基材上に、前記実施例1で示したハードコート成分を塗工後、上記1.76の中屈折率層を前記実施例1の高屈折率層と同様の条件にて塗工し、硬化後の膜厚が80nmの透明膜を塗工後、さらに前記比較例2で得た屈折率1.90の高屈折率層を硬化後膜厚が約60nmになるよう塗工した。高屈折率層上にシリコン含有ポリフッ化ビニリデン共重合体からなる屈折率1.40の低屈折率層を90nmにコーティングし、UV照射量500mJ/cm2で硬化した。
2 画素部
3 ブラックマトリックス層
4 カラーフィルター
5,7 透明電極層
6 背面側のガラス基板
8 シール材
9 配向膜
10 偏光フィルム
11 バックライトユニット
12 偏光素子
13、14 保護フィルム
15 接着剤層
16 ハードコート層
17 多層型反射防止膜
18 中屈折率層
19、22 高屈折率層
20、23 低屈折率層
21 基材フィルム
101 液晶表示装置
102 反射防止フィルム
Claims (22)
- 少なくとも、
(1)自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質を持つコバルトがドープされた二酸化チタン微粒子に対し、自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質を持つ亜鉛キレート化合物で表面処理することにより得られた、光触媒活性が消失又は抑制された二酸化チタン微粒子と、
(2)バインダー成分と、
(3)分散剤と、
(4)有機溶剤
を含むことを特徴とするコーティング組成物。 - 少なくとも、
(1)自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質を持つコバルトがドープされた二酸化チタン微粒子に対し、自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質を持つ亜鉛キレート化合物で表面処理し、さらにアニオン性の極性基を持つ有機化合物及び/又は有機金属化合物でコーティングすることにより得られた、光触媒活性が消失又は抑制された二酸化チタン微粒子と、
(2)バインダー成分と、
(3)分散剤と、
(4)有機溶剤
を含むことを特徴とするコーティング組成物。 - 少なくとも、
(1)自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質を持つコバルトがドープされた二酸化チタン微粒子に対し、光触媒活性を低下又は消失させる性質を有する無機化合物をコーティングし、さらに、自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質を持つ亜鉛キレート化合物で表面処理することにより得られた、光触媒活性が消失又は抑制された二酸化チタン微粒子と、
(2)バインダー成分と、
(3)分散剤と、
(4)有機溶剤
を含むことを特徴とするコーティング組成物。 - 少なくとも、
(1)自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質を持つコバルトがドープされた二酸化チタン微粒子に対し、光触媒活性を低下又は消失させる性質を有する無機化合物をコーティングし、さらに、自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質を持つ亜鉛キレート化合物で表面処理し、さらにアニオン性の極性基を持つ有機化合物及び/又は有機金属化合物でコーティングすることにより得られた、光触媒活性が消失又は抑制された二酸化チタン微粒子と、
(2)バインダー成分と、
(3)分散剤と、
(4)有機溶剤
を含むことを特徴とするコーティング組成物。 - 前記亜鉛の有機金属化合物が、亜鉛アセチルアセトナート、安息香酸亜鉛、酢酸亜鉛、2−エチルヘキシル酸亜鉛から選ばれた1種又は2種以上であることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項記載のコーティング組成物。
- 前記無機化合物は、アルミナ、シリカ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化スズ、アンチモンドープ酸化スズ、及びインジウムドープ酸化スズより選ばれた1種又は2種以上の金属酸化物微粒子であることを特徴とする請求項3又は4記載のコーティング組成物。
- 前記光触媒活性が抑制された二酸化チタン微粒子が一次粒子系0.01〜0.1μmであることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項記載のコーティング組成物。
- 前記アニオン性の極性基を有する有機化合物が、有機カルボン酸であることを特徴とする請求項2又は4記載のコーティング組成物。
- 前記アニオン性の極性基を有する有機金属化合物が、シランカップリング剤及び/又はチタネートカップリング剤であることを特徴とする請求項2又は4記載のコーティング組成物。
- 前記分散剤が、アニオン性の極性基を有することを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項記載のコーティング組成物。
- 前記バインダー成分が、電離放射線硬化性であることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項記載のコーティング組成物。
- 前記有機溶剤がケトン系溶剤であることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項記載のコーティング組成物。
- 前記光触媒活性が抑制された二酸化チタン微粒子10重量部に対して、前記バインダー成分を4〜20重量部、及び分散剤を2〜4重量部の割合で含有することを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項記載のコーティング組成物。
- 光開始剤として、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン及び/又は2−メチル−1〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフオリノプロパン−1−オンを含有することを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項記載のコーティング組成物。
- 前記有機溶剤は、コーティング組成物の全固形分0.5〜50重量部に対して、50〜99.5重量部の割合で配合されていることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項記載のコーティング組成物。
- 請求項1乃至15の何れか1項記載のコーティング組成物を被塗工体の表面に塗布し、硬化させることにより得られ、硬化後膜厚が0.05〜10μmの時に、屈折率が1.55〜2.20で、且つ、JIS−K7361−1の規定に従って基材と一体の状態で測定したヘイズ値が、該基材だけのヘイズ値と変わらないか又は該基材だけのヘイズ値との差が1%以内であることを特徴とする塗膜。
- (1)自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質を持つコバルトがドープされた二酸化チタン微粒子に対し、自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質を持つ亜鉛の有機金属化合物で表面処理して得られた、光触媒活性が抑制された二酸化チタン微粒子、及び、(2)分散剤が、(3)硬化したバインダー中に均一に混合されてなる塗膜であり、該塗膜の膜厚が0.05〜10μmの時に、屈折率が1.55〜2.20で、且つ、JIS−K7361−1の規定に従って基材と一体の状態で測定したヘイズ値が、該基材だけのヘイズ値と変わらないか又は該基材だけのヘイズ値との差が1%以内であることを特徴とする塗膜。
- (1)自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質を持つコバルトがドープされた二酸化チタン微粒子に対し、自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質を持つ亜鉛の有機金属化合物で表面処理し、さらにアニオン性の極性基を持つ有機化合物及び/又は有機金属化合物でコーティングすることにより得られた、光触媒活性が消失又は抑制された二酸化チタン微粒子、及び、(2)分散剤が、(3)硬化したバインダー中に均一に混合されてなる塗膜であり、該塗膜の膜厚が0.05〜10μmの時に、屈折率が1.55〜2.20で、且つ、JIS−K7361−1の規定に従って基材と一体の状態で測定したヘイズ値が、該基材だけのヘイズ値と変わらないか又は該基材だけのヘイズ値との差が1%以内であることを特徴とする塗膜。
- (1)自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質を持つコバルトがドープされた二酸化チタン微粒子に対し、光触媒活性を低下又は消失させる性質を有する無機化合物をコーティングし、さらに、自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質を持つ亜鉛の有機金属化合物で表面処理することにより得られた、光触媒活性が消失又は抑制された二酸化チタン微粒子、及び、(2)分散剤が、(3)硬化したバインダー中に均一に混合されてなる塗膜であり、該塗膜の膜厚が0.05〜10μmの時に、屈折率が1.55〜2.20で、且つ、JIS−K7361−1の規定に従って基材と一体の状態で測定したヘイズ値が、該基材だけのヘイズ値と変わらないか又は該基材だけのヘイズ値との差が1%以内であることを特徴とする塗膜。
- (1)自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質を持つコバルトがドープされた二酸化チタン微粒子に対し、光触媒活性を低下又は消失させる性質を有する無機化合物をコーティングし、さらに、自由電子及び/又は正孔を捕捉する性質を持つ亜鉛の有機金属化合物で表面処理し、さらにアニオン性の極性基を持つ有機化合物及び/又は有機金属化合物でコーティングすることにより得られた、光触媒活性が消失又は抑制された二酸化チタン微粒子、及び、(2)分散剤が、(3)硬化したバインダー中に均一に混合されてなる塗膜であり、該塗膜の膜厚が0.05〜10μmの時に、屈折率が1.55〜2.20で、且つ、JIS−K7361−1の規定に従って基材と一体の状態で測定したヘイズ値が、該基材だけのヘイズ値と変わらないか又は該基材だけのヘイズ値との差が1%以内であることを特徴とする塗膜。
- 光透過性を有し且つ互いに屈折率が異なる光透過性層を二層以上積層してなり、前記光透過性層のうちの少なくとも一層が請求項16乃至19の何れか1項記載の塗膜であることを特徴とする反射防止膜。
- 請求項21記載の反射防止膜により表示面を被覆した画像表示装置。
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