JP2005285619A - 有機el装置および電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】R,G,B発光層に高分子有機材料を使用し、かつ、共通陰極を使用する場合に、簡単な製造方法で製造でき、R,G,B発光層の全ての発光特性を良好にすることが可能な有機EL装置および電子機器を提供することを目的とする。
【解決手段】陽極102と共通の陰極103との間に、少なくとも発光層を含む機能層が狭持されてなる有機EL装置において、機能層は、各々が高分子有機材料で形成されたR,G,B発光層107R,G,Bと、R,G,B発光層107R,G,B上に共通に設けられ、かつ、有機材料で形成された電子注入/輸送層108と、を有する。
【選択図】 図1
【解決手段】陽極102と共通の陰極103との間に、少なくとも発光層を含む機能層が狭持されてなる有機EL装置において、機能層は、各々が高分子有機材料で形成されたR,G,B発光層107R,G,Bと、R,G,B発光層107R,G,B上に共通に設けられ、かつ、有機材料で形成された電子注入/輸送層108と、を有する。
【選択図】 図1
Description
有機EL装置および電子機器に関し、詳細には、発光層に高分子有機材料を使用した有機EL装置および電子機器に関する。
有機EL素子は、薄型、全固体型、面状自発光及び高速応答であるといった特徴を有する発光素子であり、フラットディスプレイパネルやバックライトへの応用が期待されることから、近年各方面で盛んに研究が行われている。以前、有機EL素子は、無機物を用いた無機EL素子に比べて素子特性が著しく劣っていたが、1987年にコダック社のTangらが有機物層を積層構成にする方法を発表してから(非特許文献1)、素子特性が向上し、急速に発展している。また、近年、有機EL素子をディスプレイパネルに用いた、商品も発売されつつある。有機EL素子は、有機材料を含む複数の薄膜を第1の電極と第2の電極で挟んだ構造を有しており、2つの電極から注入したキャリヤが有機薄膜中で再結合することにより発光する素子である。
有機EL素子は、低分子材料を用いる系と、高分子材料を用いる系がある。一般に、低分子材料を用いる系では蒸着等のドライ法で作製し、他方、高分子材料を用いる系では、インクジェット法等の塗布法が使用される。高分子材料を用いる系の場合には、インクジェット法により赤(R)、緑(G)、青(B)の光の三原色発光を有する各高分子有機材料を容易にパターニングできるため、簡便にフルカラー有機EL素子を作製できるという特徴を有している。
このような高分子材料を用いる系においては、R,G,Bの各発光層上に電流を供給するため陰極として、通常、同じ材料からなる陰極が用いられている。しかしながら、R,G,Bの各発光層上に共通の陰極を用いた有機EL素子では、その共通の陰極が全ての発光層に対して、必ずしもその発光特性(高輝度化・高寿命化)を良好にするものではないことが分かってきている。例えば、R,Gの発光層を高輝度に発光させる陰極でも、B発光層の輝度が不足する場合がある。
かかる課題に対して、例えば、特許文献1の有機EL装置では、R発光層とG発光層をインクジェット法により成膜した後、B発光層を、R発光層およびG発光層を含む基板の全面に設け、陰極としてB発光層に好適なもの使用している。
C.W.Tang and S.A.Vanslyke:Appl.Lett.,51(1987)913
特開2003−208254号公報
しかしながら、上記特許文献1の有機EL装置では、R発光層とG発光層がB発光層の塗布時に相溶しないように、R発光層とG発光層を加熱処理等により不溶化する必要があるため、その材料選択の余地が狭まってしまうという問題がある。また、スピンコート法等で基板上にB発光層を形成した場合、画素領域以外の周囲部にもB発光層が形成されてしまうため、最終的に封止して装置を完成させた際、周辺部に形成されたB発光層によって耐湿性や実装性等の封止性能が損なわれるといった問題がある。さらに、このような問題を回避するために、周辺部に形成されたB発光層をエッチング等によって除去することも考えられるが、エッチング等で除去する場合には、除去工程が必要となるため、生産性が低下するという問題が生じる。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、R,G,B発光層に高分子有機材料を使用し、かつ、共通陰極を使用する場合に、簡単な製造方法で製造することができ、R,G,B発光層の全ての発光特性を良好にすることが可能な有機EL装置および電子機器を提供することを目的とする。
上記課題を解決して、上記目的を達成するために、本発明は、陽極と共通陰極との間に、少なくとも発光層を含む機能層が狭持されてなる有機EL装置において、前記機能層は、各々が高分子有機材料で形成されたR,G,B発光層と、前記R,G,B発光層上に共通に設けられ、かつ、有機材料で形成された電子注入/輸送層と、を有することを特徴とする。
これにより、共通陰極を使用した場合においても、有機材料で形成された電子注入/輸送層からR,G,B発光層への電子注入を効率的に行うことができ、また、電子注入/輸送層で正孔を効果的にブロックしてR,G,B発光層での正孔−電子の再結合効率の低下を防止することができ、全発光層の発光特性を良好にすることが可能となる。この結果、R,G,B発光層に高分子有機材料を使用し、かつ、共通陰極を使用する場合に、簡単な製造方法で製造することができ、R,G,B発光層の全ての発光特性を良好にすることが可能な有機EL装置を提供することができる。
また、本発明の好ましい態様によれば、前記R,G,B発光層のLUMOレベルの差を0.6eV以下とすることが望ましい。これにより、各発光層のLUMOレベルの差が0.6eV以下としているので、各発光層に電子を注入する場合の電子注入障壁の差を小さくすることができ、各発光層での電子注入効率の差を低減することができる。
また、本発明の好ましい態様によれば、前記電子注入/輸送層のLUMOレベルは、前記R,G,B発光層の各LUMOレベルのうち最も大きいLUMOレベルよりも小さいことが望ましい。これにより、最も大きいLUMOレベルを有する発光層に関して電子注入/輸送層から電子注入を効率的に行うことが可能となる。
また、本発明の好ましい態様によれば、前記電子注入/輸送層のLUMOレベルと、R,G,B発光層の各LUMOレベルのうち最も小さいLUMOレベルの差は、0.2eV以下であることが望ましい。これにより、LUMOレベルの最も小さい発光層に対しても電子注入/輸送層から電子注入を効率的に行うことが可能となる。
また、本発明の好ましい態様によれば、前記電子注入/輸送層のHOMOレベルは、6eV以上であり、かつ、エネルギーギャップは3eV以上であることが望ましい。これにより、各発光層を通過したホールや励起子を効率的にブロックすることができ、正孔−電子の再結合効率の低下を防止することができる。
また、本発明の好ましい態様によれば、前記機能層は、前記電子注入/輸送層上に積層される第2電子注入/輸送層を有することが望ましい。これにより、電子注入/輸送層を1層の構成とした場合に比して、電子注入/輸送層から発光層への電子注入をより効率的に行うことができ、また、電子注入/輸送層で正孔をより効果的にブロックすることができる。
また、本発明の好ましい態様によれば、前記電子注入/輸送層のLUMOレベルは前記第2電子注入/輸送層のLUMOレベルより小さく、かつ、前記電子注入/輸送層のHOMOレベルは前記第2電子注入/輸送層のHOMOレベルより大きいことが望ましい。これにより、これにより、電子注入/輸送層を1層の構成とした場合に比して、電子注入/輸送層から発光層への電子注入をより効率的に行うことができ、また、電子注入/輸送層で正孔をより効果的にブロックすることができる。
また、本発明の好ましい態様によれば、前記電子注入/輸送層のLUMOレベルと前記第2電子注入/輸送層のLUMOレベルの差は、0.5eV以下であることが望ましい。これにより、第2電子注入/輸送層から電子注入/輸送層に効率的に電子を注入することが可能となる。
また、本発明の好ましい態様によれば、前記R,G,B発光層は、インクジェット法で形成され、前記電子注入/輸送層は蒸着法で形成されることが望ましい。これにより、R,G,B発光層の全面に蒸着法で電子注入/輸送層を成膜することができ、簡単かつ低コストの製造方法で有機EL装置を提供することが可能となる。
また、本発明の好ましい態様によれば、本発明の有機EL装置を電子機器に搭載することが望ましい。これにより、R,G,Bの発光特性が優れた有機EL装置を搭載した電子機器を提供することができる。
以下に、この発明につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施例によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施例における構成要素には、当業者が容易に想定できるものまたは実質的に同一のものが含まれる。
図1は、本発明の実施例1に係る有機EL装置100の構成を示す要部断面図である。この有機EL装置100は、基体101上に陽極(第1電極)102と、陰極(第2電極)103とを有し、これら陽極101と陰極103との間に、機能層を備えたものである。機能層は、正孔注入/輸送層106と、発光層107と、および電子注入/輸送層108とが積層されて構成される。この有機EL装置100は、発光層107で発光した光を基体側から出射するボトムエミッション方式となっている。
基体101は、ガラス基板等の透明基板(図示せず)上にTFT素子からなる駆動素子(図示せず)や各種配線等を形成して構成されたもので、これら駆動素子や各種配線の上に絶縁層や平坦化膜を介して陽極102を形成したものである。
陽極102は、基体101上に形成される単一ドット領域毎にパターニングされて形成され、かつ、TFT素子からなる駆動素子や前記各種配線等と接続されたもので、本実施例では、ITO(Indium Tin Oxide)によって形成されている。
陽極102の周囲には、単一のドット領域を区画する無機バンク層104および有機バンク層105が形成されており、これら無機バンク層104および有機バンク層105に囲まれた凹部には、正孔注入/輸送層106,発光層107が設けられている。
正孔注入/輸送層106は、陽極102から注入した正孔を発光層107に輸送する。正孔注入/輸送層109の形成材料としては、特に3,4−ポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルフォン酸(PEDOT/PSS)の分散液、すなわち、分散媒として、ポリスチレンスルフォン酸に3,4−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらに、これを水に分散させた分散液が好適に用いられる。
発光層107は、発光波長帯域が赤色に対応したR発光層107R、発光波長帯域が青色に対応したB発光層107B、発光波長帯域が緑色に対応したG発光層107Gからなる。これらR発光層107R、B発光層107B、およびG発光層107Gで1つの画素が構成され、これらが階調して発光することにより、有機EL装置100が全体としてフルカラー表示をなすようになっている。
この発光層107の材料としては具体的には、(ポリ)フルオレン誘導体(PF)、(ポリ)パラパラフェニレンビニレン誘導体(PPV)、ポリフェニレン誘導体(PP)、ポリパラフェニレン誘導体(PPP)、ポリビニルカルバゾール(PVK)、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン(PMPS)などのポリシラン系などの高分子有機材料が好適に用いられる。
また、これらの高分子有機材料に、ペニレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、ルブレン、ペリレン、9,10−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン6,キナクリドン等の低分子有機材料をドープして用いることもできる。
電子注入/輸送層108は、R,G,B発光層107R,107G,107B上に共通に設けられており、有機材料が使用されている。電子注入/輸送層108は、陰極103から注入される電子を発光層107まで輸送し、また、陽極102側から移動してきた正孔・励起子をブロックする機能を有する。この電子注入/輸送層108の材料としては、分子量が1000未満の低分子有機材料または分子量が1000以上の高分子有機材料を使用することができ、具体的には、Alq3,BAlq,BCP,TAZ,PBD,OXD,TPOB等の有機材料を使用することができる。
R,G,B発光層107R,107G,107Bと電子注入/輸送層108の好適な材料の組み合わせを、表1,表2,及び図2を参照して説明する。表1はR,G,B発光層107R,107G,107Bで好適に使用可能な高分子有機材料およびその特性、表2は電子注入/輸送層108で好適に使用可能な有機材料およびその特性、図2はR,G,B発光層107R,107G,107Bと電子注入/輸送層108のエネルギーダイヤグラムの一例を示している。
表1に示すように、R発光層107Rの材料には、[化1]に示すPAT(ポリアルキルチオフェンを好適に使用することができる。[化1]に示すPATは、ピーク波長=640nm、LUMO=3.3eV、HOMO=5.4eV、エネルギーギャップEg=2.4eVとなっている。G発光層107Gの材料には、[化2]に示すPPV(ポリパラフェニレンビニレン)を好適に使用することができる。[化2]に示すPPVは、ピーク波長=520nm、550nm、LUMO=3.2eV、HOMO=5.6eV、エネルギーギャップEg=2.4eVとなっている。B発光層107Bの材料には、[化3]に示すPDAF(ポリジアルキルフルオレン)を好適に使用することができる。[化3]に示すPDAFは、ピーク波長=480nm、LUMO=2.8eV、HOMO=5.7eV、エネルギーギャップEg=2.9eVとなっている。
表2に示すように、電子注入/輸送層108の材料には、[化4]に示すBCP(バソクプロインを好適に使用することができる。[化4]に示すBCPは、LUMO=2.9eV、HOMO=6.6eV、エネルギーギャップEg=3.7eVとなっている。
図3において、PAT,PPV,PDAFは、LUMOレベルの差が0.6eV以下となっており、各発光層に電子を注入する場合の電子注入障壁の差が小さくなっており、各発光層での電子注入効率の差を低減することができる。BCPのLUMOレベルは、PAT、PPVより小さく、かつ、各発光層で最もLUMOレベルの小さいPDAFとの差が、0.2eV以下となっており、PAT,PPV,PDAFの全てに効率的に電子を注入することができる。また、BCPのHOMOレベルは6eV以上であり、かつ、エネルギーギャップは3eV以上であるので、PAT,PPV,PDAFの各発光層を通過したホールや励起子を効率的にブロックすることができ、正孔−電子の再結合効率の低下を防止することができる。
陰極103は、全ての画素領域を覆うようにして形成されたもので、電子注入/輸送層108側から順にLiF層とAl層とが積層されて形成されたものである。また、陰極103上には、封止用基板110を基体101と接合するための封止層109が形成されている。封止層109は、熱硬化樹脂または紫外線硬化樹脂で形成されている。封止用基板110は、例えばガラス板等からなり、封止層109により貼設されている。
上記構成の有機EL装置100の製造方法を図3を参照して説明する。図3は、有機EL装置100の製造工程を説明するための説明図である。まず、従来と同様にして透明基板上にTFT素子や各種配線等を形成し、さらに、層間絶縁層や平坦化膜を形成して基体101を得る。つぎに、この基体101上に蒸着法等によってITOを成膜し、さらにパターニングすることによって陽極102を形成する。
つづいて、陽極102の周囲を囲むようにして基体101上にSiO2からなる無機バンク層104を形成し、さらに、この無機バンク層104上に樹脂からなる有機バンク層105を形成し、これにより、図3−1に示すように、陽極102上に凹部120を形成する。有機バンク層105に用いられる材料としては、ポリイミド、アクリル樹脂などが挙げられる。これらの材料に予めフッ素元素を含んだ構造のものを用いても良い。
図3−1に示したような、無機バンク層104および有機バンク層105で囲まれた凹部120を有する基体101を、酸素プラズマ−CF4プラズマ連続処理することにより基体101上の塗れ性を制御し、ついで、この凹部120内にインクジェット法等の液滴吐出法によって、正孔注入/輸送層106を形成する。すなわち、図3−2に示すように液滴吐出ヘッド(インクジェットヘッド)130から正孔注入/輸送層106の形成材料106aを凹部120内に選択的に吐出し、続いてこれを乾燥・ベイクすることにより、図3−3に示すように、陽極102上に正孔注入/輸送層106を形成する。
つづいて、インクジェット法等の液滴吐出法によって、凹部120内の正孔注入/輸送層106上に発光層107を形成する。すなわち、図3−4に示すように液滴吐出ヘッド(インクジェットヘッド)130から発光層107の形成材料107aを凹部120内の正孔注入/輸送層106上に選択的に吐出し、続いてこれを乾燥・ベイクすることにより、図3−5に示すように、正孔注入/輸送層106上に発光層107を形成する。この発光層107の形成にあたっては、R発光層107R、G発光層107G、B発光層107Bをそれぞれ作り分ける必要があるが、液滴吐出法によれば、各発光層の形成材料をそれぞれ所望位置に打ち分けるだけで、容易に発光層を形成することができる。
この後、ドライプロセスで、電子注入/輸送層108および陰極103を形成する。まず、蒸着法等によって発光層107および有機バンク層105を覆った状態に電子注入/輸送層108を成膜する。つづいて、電子注入/輸送層108上の全面に、LiFを成膜し、さらにこの上にAl(アルミニウム)を成膜することにより、LiF/Alの積層構造からなる陰極103を形成する。
その後、陰極103上に、熱硬化樹脂または紫外線硬化樹脂からなる接着剤を塗布して封止層109を形成した後、封止用基板110を重ね、加熱または紫外線照射して、封止層109を硬化させて、封止用基板110と基材101を接合する。このようにして、図1に示す有機EL装置100が製造される。
実施例1によれば、高分子有機材料で形成されたR,G,B発光層107R,G,B上に有機材料で形成された共通の電子注入/輸送層108を設けているので、陰極がR,G,Bで共通の場合においても、各電子注入/輸送層から各発光層への電子注入を効率的に行うことができ、また、電子注入/輸送層で正孔を効果的にブロックして各発光層での正孔−電子の再結合効率の低下を防止することができ、R,G,B発光層の全ての発光特性を良好にすることが可能となる。また、R,G,B発光層107R,107G,107B上に直接、陰極103を形成していないので、陰極により発光が消光したり、ホールが突き抜けて再結合効率が下がるといったロスがなく、初期特性や寿命特性を向上させることができる。この結果、R,G,B発光層に高分子有機材料を使用し、かつ、共通陰極を使用する場合に、簡単な製造方法で製造することができ、R,G,B発光層の全ての発光特性を良好にすることが可能な有機EL装置を提供することができる。
図4は、本発明の実施例2に係る有機EL装置200の構成を示す要部断面図である。図4において、図1と同等機能を有する部位には同一符号を付しており、共通する部分の説明は省略する。陰極103に使用する金属材料の仕事関数によっては、電子注入/輸送層108の上に別の電子注入/輸送層を積層した方が各発光層の発光特性が良好になる場合がある。そこで、実施例2に係る有機EL装置200は、電子注入/輸送層の上に第2電子注入/輸送層を積層した構造としている。
図4において、電子注入/輸送層108の上には、第2電子注入/輸送層201が積層されている。第2電子注入/輸送層201は、分子量が1000以下の低分子有機材料や分子量が1000以上の高分子有機材料を使用することができ、具体的には、Alq3,BAlq,BCP,TAZ,PBD,OXD,TPOB等を使用することができる。
表3は、R,G,B発光層107R,107G,107Bおよび電子注入/輸送層108として、上記表1および表2の材料を使用した場合に好適に使用可能な第2電子注入/輸送層201の材料およびその特性を示している。図5はR,G,B発光層107R、107G、107Bと電子注入/輸送層108,第2電子注入/輸送層201のエネルギーダイヤグラムの一例を示している。
表3に示すように、第2電子注入/輸送層201の材料には、[化5]に示すAlq3を好適に使用することができる。[化5]に示すAlq3は、LUMO=3.3eV、HOMO=5.9eV、エネルギーギャップEg=2.6eVとなっている。
陰極103に使用する金属材料の仕事関数によっては、電子注入/輸送層108の材料であるBCP上に、さらに、電子注入/輸送層を積層した方が素子特性を向上させることができる。本実施例において、陰極103で使用しているLiF/Alの場合には、BCPよりもAlq3上にLiFを成膜した方が、Alからの電子注入効率が向上する。
図5において、電子注入/輸送層108のLUMOレベルは第2電子注入/輸送層201のLUMOレベルより小さく、かつ、電子注入/輸送層108のHOMOレベルは第2電子注入/輸送層201のHOMOレベルより大きいことが望ましい。これにより、電子注入/輸送層108からのR発光層107R,B発光層107B,G発光層107Gへの電子注入効率をより向上でき、また、正孔をより効果的にブロックすることができ、R発光層107R,B発光層107B,G発光層107Gの発光特性をより良好にすることが可能となる。
本実施例では、BCPのLUMOレベルはAlq3のLUMOレベルより小さく、かつ、BCPのHOMOレベルはAlq3のHOMOレベルより大きくなっている。また、BCPとAlq3を積層することで、Alq3からBCPへの電子注入障壁は、0.4eV程度生じるが、これは、R,G,B発光層107R,107G,107Bの各発光層で共通であるため、発光層毎に電子注入効率が変化することはない。
実施例2によれば、電子注入/輸送層108上に第2電子注入/輸送層201を積層することとしたので、電子注入/輸送層を1層の構成とした場合に比して、電子注入/輸送層から発光層への電子注入をより効率的に行うことができ、また、電子注入/輸送層で正孔をより効果的にブロックすることができる。
なお、上記実施例1および実施例2では、ボトムエミッション方式の有機EL装置について説明したが、トップエミッション方式にしても良い。また、本発明は上記実施例1および実施例2に限定されるものではなく、これらの実施例を組み合わせて実施することが可能である。
(電子機器への適用例)
つぎに、本発明に係る有機EL装置を適用可能な電子機器の具体例について図6を参照して説明する。図6−1は、本発明に係る有機EL装置を可搬型のパーソナルコンピュータ(いわゆるノート型パソコン)300の表示部に適用した例を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ300は、キーボード301を備えた本体部302と、本発明に係る有機EL装置を適用した表示部303とを備えている。図6−2は、本発明に係る有機EL装置を携帯電話機400の表示部に適用した例を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機400は、複数の操作ボタン401のほか、受話口402、送話口403とともに、本発明に係る有機EL装置を適用した表示部404を備えている。
つぎに、本発明に係る有機EL装置を適用可能な電子機器の具体例について図6を参照して説明する。図6−1は、本発明に係る有機EL装置を可搬型のパーソナルコンピュータ(いわゆるノート型パソコン)300の表示部に適用した例を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ300は、キーボード301を備えた本体部302と、本発明に係る有機EL装置を適用した表示部303とを備えている。図6−2は、本発明に係る有機EL装置を携帯電話機400の表示部に適用した例を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機400は、複数の操作ボタン401のほか、受話口402、送話口403とともに、本発明に係る有機EL装置を適用した表示部404を備えている。
本発明に係る有機EL装置は、上述した携帯電話機やノートパソコン以外にも、PDA(Personal Digital Assistants)と呼ばれる携帯型情報機器、パーソナルコンピュータ、ワークステーション、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、およびPOS端末機などの電子機器に広く適用することができる。
本発明の有機EL装置は、有機EL表示装置、エレクトロミック調光ガラス、電子ペーパー、照明装置、およびプリンタヘッド等に広く利用可能である。また、本発明に係る電子機器は、携帯電話機、PDA(Personal Digital Assistants)と呼ばれる携帯型情報機器、携帯型パーソナルコンピュータ、パーソナルコンピュータ、ワークステーション、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、テレビ電話機、およびPOS端末機などの電子機器に広く利用することができる。
100 有機EL装置、101 基体、102 陽極(第1電極)、103 陰極(第2電極)、104 無機バンク層、105 有機バンク層、106 正孔注入/輸送層、107 は発光層、108 電子注入/輸送層、109 封止層、110封止用基板、200 有機EL装置、201 第2電子注入/輸送層、300 コンピュータ、301 キーボード、302 本体部、303 表示部、400 携帯電話機、401 操作ボタン、402 受話口、403 送話口、404 表示部
Claims (10)
- 陽極と共通陰極との間に、少なくとも発光層を含む機能層が狭持されてなる有機EL装置において、
前記機能層は、各々が高分子有機材料で形成されたR,G,B発光層と、前記R,G,B発光層上に共通に設けられ、かつ、有機材料で形成された電子注入/輸送層と、を有することを特徴とする有機EL装置。 - 前記R,G,B発光層のLUMOレベルの差を0.6eV以下としたことを特徴とする請求項1に記載の有機EL装置。
- 前記電子注入/輸送層のLUMOレベルは、前記R,G,B発光層の各LUMOレベルのうち最も大きいLUMOレベルよりも小さいことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の有機EL装置。
- 前記電子注入/輸送層のLUMOレベルと、R,G,B発光層の各LUMOレベルのうち最も小さいLUMOレベルとの差は、0.2eV以下であることを特徴とする請求項2または請求項3に記載の有機EL装置。
- 前記電子注入/輸送層のHOMOレベルは、6eV以上であり、かつ、エネルギーギャップは3eV以上であることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1つに記載の有機EL装置。
- 前記機能層は、前記電子注入/輸送層上に積層される第2電子注入/輸送層を有することを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1つに記載の有機EL装置。
- 前記電子注入/輸送層のLUMOレベルは前記第2電子注入/輸送層のLUMOレベルより小さく、かつ、前記電子注入/輸送層のHOMOレベルは前記第2電子注入/輸送層のHOMOレベルより大きいことを特徴とする請求項6に記載の有機EL装置。
- 前記電子注入/輸送層のLUMOレベルと前記第2電子注入/輸送層のLUMOレベルの差は、0.4eV以下であることを特徴とする請求項7に記載の有機EL装置。
- 前記R,G,B発光層は、インクジェット法で形成され、前記電子注入/輸送層は蒸着法で形成されることを特徴とする請求項1〜請求項8のいずれか1つに記載の有機EL装置。
- 請求項1〜請求項9のいずれか1つに記載の有機EL装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
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US8319210B2 (en) | 2006-12-04 | 2012-11-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting element, light-emitting device, and electronic device |
JP2021101433A (ja) * | 2008-12-01 | 2021-07-08 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光素子、発光装置、照明装置、及び電子機器 |
-
2004
- 2004-03-30 JP JP2004099222A patent/JP2005285619A/ja not_active Withdrawn
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