JP2005277168A - 半導体装置、その組立方法及び半導体装置用導電性接着剤 - Google Patents

半導体装置、その組立方法及び半導体装置用導電性接着剤 Download PDF

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Abstract

【課題】
半導体ペレット、リードフレーム、クリップの部材寸法に対する許容誤差を大きくして製造時の要求精度を緩和した半導体装置、その組立方法及び半導体装置用導電性接着剤を提供すること。
【解決手段】
本発明にかかる半導体装置は、表面にソース電極21を有する半導体ペレット2と、ソース端子14を有するリードフレーム1と、ソース電極21及びソース端子14に導電性接着剤6によって接着されて、ソース電極21とソース端子14との間を電気的に導通する板状のクリップ3とを有する半導体装置であって、導電性接着剤6はバインダー樹脂中に塑性を有する導電体粒子61を含有し、接着による塑性変形前における導電体粒子61の少なくとも一部又は全部の粒径は、接着されるソース電極21とクリップ3との隙間間隔及びソース端子14とクリップ3との隙間間隔の最大値以上の大きさを有するものである。
【選択図】 図1

Description

本発明は、半導体ペレット(チップ)上の電極とリードフレームのリード端子との間を板状のクリップで接続する半導体装置に関し、特に、半導体ペレット上の電極とリード端子を板状のクリップ介して接続する工程を容易にした半導体装置、その組み立て方法、及びペレットとクリップを接続する導電性接着剤とに関する。
従来行われている半導体装置の製造工程においては、ウエハをダイシング加工することにより多数の半導体ペレットに分離した後、マウント工程において、半導体ペレットをリードフレームのアイランド部に搭載する。そして、半導体ペレットの上面に設けられた金めっき、アルミニウム合金等からなる電極と、リードフレームのリード端子(ソースリード及びゲートリード)とを金やアルミニウムのワイヤを使用して接続することにより(ワイヤボンディング)、半導体ペレットの電極が外部に電気的に引き出される。その後、半導体ペレットはアイランド部を含めてプラスチック等のモールド材によって封止されてパッケージ製品となる。
近年、ワイヤボンディングに替えて銅や銅合金等の金属板からなるクリップを用いて半導体ペレットとリード端子を電気的に接続する半導体装置が実現されている(例えば、特許文献1ないし特許文献4を参照)。これらの開示された半導体装置では、クリップと半導体ペレット電極及びリード端子との接続は、はんだ接続又は導電性接着剤を用いた接着によって行われている。
ここで、導電性接着剤とは、バインダーとなる樹脂に金粉、銀粉、銅粉、アルミ粉等の導電性粒子(導電フィラー)を配合しており、バインダー樹脂が硬化する際の体積収縮によって導電フィラー同士が接続され、導電性が確保される接着剤である。バインダー樹脂としては、エポキシが一般的であり、ウレタン、アクリル、その他の野熱硬化性樹脂、あるいは熱塑性樹脂が使用される場合もある。
特開平8−148623号公報 特開2000−114445号公報 特開2001−274206号公報 特開2002−299393号公報
しかしながら、このようなクリップによる接続構造を持つ半導体装置では、半導体ペレット、リードフレーム及びクリップの部材寸法の製造誤差によって、ペレットとリードフレームとの隙間間隔又はリードフレームとクリップとの隙間間隔が大きくなると、導電性接着剤によって接続する際の導電フィラーの凝集が不十分となって、十分な導電性を確保できないという問題が発生する。このため、従来の導電性接着剤を用いる場合には、半導体ペレット上の電極及びリードフレーム側のリード端子とクリップとの隙間間隔が所定の大きさ以下となるよう、半導体ペレット、リードフレーム、クリップフレームの部材寸法に製造精度が要求されることになる。
他方で、半導体ペレット、リードフレーム、クリップの部材寸法に対する製造誤差を抑えることは、歩留まり率の低下による製造コストの上昇を招くことになるため、半導体ペレット、リードフレーム、クリップの部材寸法に対する許容誤差は大きいほうが望ましい。
本発明は、上述した事情を考慮してなされたものであり、半導体ペレット、リードフレーム、クリップの部材寸法に対する許容誤差を大きくして製造時の要求精度を緩和した半導体装置、その組立方法及び半導体装置用導電性接着剤を提供することを目的とする。
本発明にかかる半導体装置は、表面に少なくとも1つの電極を有する半導体ペレットと、少なくともひとつのリード端子を有するリードフレームと、前記電極及び前記リード端子に導電性接着剤によって接着されて、前記電極と前記リード端子との間を電気的に導通する板状のクリップとを有する半導体装置であって、前記導電性接着剤はバインダー樹脂中に塑性を有する導電体粒子を含有し、接着による塑性変形前における前記導電体粒子の少なくとも一部又は全部の粒径は、接着される前記電極と前記クリップとの隙間間隔及び前記リード端子と前記クリップとの隙間間隔の最大値以上の大きさを有するものである。このような構成により、半導体ペレット上の電極及びリードフレーム側のリード端子とクリップとの隙間間隔が大きくなった場合にも導電性を確保できるため、半導体ペレット、リードフレーム、クリップの部材寸法に対する許容誤差を大きくして製造時の要求精度を緩和することができる。
また、本発明にかかる半導体装置の組立方法は、表面に少なくとも1つの電極を有する半導体ペレットと、少なくともひとつのリード端子を有するリードフレームと、前記電極と前記リード端子との間を電気的に導通する板状のクリップとを有する半導体装置の組立方法であって、塑性を有する導電体粒子を含有する導電性接着剤を介して、前記半導体ペレット表面の電極に前記クリップを圧着し、前記導電体粒子を塑性変形させて前記電極及び前記クリップに接触させる工程と、前記塑性を有する導電体粒子を含有する導電性接着剤を介して、前記リード端子に前記クリップを圧着し、前記導電体粒子を塑性変形させて前記リード端子及び前記クリップに接触させる工程を有し、接着による塑性変形前における前記導電体粒子の少なくとも一部又は全部の粒径は、前記電極又は前記リード端子と前記クリップとの隙間間隔の最大値以上であるものである。このような組立方法により、ペレット上の電極及びリードフレーム側のリード端子とクリップとの隙間間隔が大きくなった場合にも導電性を確保できるため、半導体ペレット、リードフレーム、クリップの部材寸法に対する許容誤差を大きくして製造時の要求精度を緩和することができる。
さらに、本発明にかかる半導体装置用導電性接着剤は、半導体ペレット上の電極又はリードフレームのリード端子と、板状のクリップとの間を接着して、前記電極又は前記リード端子と前記クリップ間を電気的に導通させる導電性接着剤であって、バインダー樹脂中に塑性を有する導電体粒子を含有し、前記導電体粒子の粒径の最大値は、接着される前記電極と前記クリップとの隙間間隔又は前記リード端子と前記クリップとの隙間間隔の最大値以上であるものである。
ここで、本発明にかかる前記半導体装置、前記組立方法及び前記半導体装置用導電性接着剤における前記導電体粒子は、アルミニウム又はインジウムであることが望ましい。これにより、小さい荷重で導電体粒子の塑性変形を生じさせて、所要の導電性を得ることができる。
本発明により、半導体ペレット、リードフレーム、クリップの部材寸法に対する許容誤差を大きくして製造時の要求精度を緩和した半導体装置を提供することができる。
発明の実施の形態1.
図1に、本実施の形態にかかる半導体装置および半導体装置用導電性接着剤を示す。
図1(a)は、半導体装置を封止するモールド樹脂を除いて示した平面図であり、図1(b)はそのA−B線での断面図である。
リードフレーム1は、アイランド部11から伸びる4本のドレインリード12、ドレインリード12の反対側に設けられた3本のソースリード13及び1本のゲートリード15を有する。
ドレインリード12は、半導体パッケージ内部においてアイランド部11と繋がって一体形成されている。ソースリード13は、半導体パッケージ内部(インナーリード)において単一のソース電極14を形成している。ゲートリード15は、半導体パッケージ内部(インナーリード)にゲート端子16を有している。
パワーMOSFET等を構成する半導体ペレット2は、リードフレーム1のアイランド部11に搭載される。半導体ペレット2は裏面(下面)にドレイン電極(図示せず)が設けられ、表面(上面)にソース電極21およびゲート電極22が設けられている。これらの電極は例えば、アルミニウム若しくはアルミニウム合金電極、又はTi/Ni等の下地めっき膜を含む金めっき、銀めっき等のめっき電極である。
半導体ペレット2は、アイランド部11にダイボンドを用いて接着されることにより、ドレイン電極(図示せず)がアイランド部11に電気的に接続される。ここで、ダイボンドは、エポキシ、アクリル等のバインダー樹脂中に銀粉、アルミニウム粉等の金属微粒子を導電フィラーとして含有した従来の導電性接着剤であればよく、例えばAgペースト等でよい。
半導体ペレット2上のソース電極21とリードフレーム1のソース端子14とは、板状のクリップ3によって接続される。クリップ3は例えば、銅又は銅合金等を板状に成形した金属薄板である。クリップ3の一端が、本発明にかかる導電体粒子を含有した導電性接着剤6を用いて半導体ペレット2のソース電極21に接着され、他端が同じく本発明にかかる導電性接着剤6を用いてリードフレーム1のソース14端子に接着される。
半導体ペレット2上のゲート電極22とゲート端子16の間は、ボンディングワイヤ4によって接続される。なお、ボンディングワイヤ4による接続抵抗を低減する必要がある場合は、ゲート電極22とゲート端子16間の接続もボンディングワイヤ4に代えて金属板によるクリップを用いて結線してもよい。
最終的に、半導体ペレット2、リードフレーム1のアイランド部11、ドレインリード12、ソースリード13及びゲートリード15の各リードのインナーリードに相当する部分が、モールド樹脂によるハウジング5に封止されてパッケージ製品となる。
本発明にかかる導電性接着剤6は、バインダー樹脂中に塑性を有する導電体粒子を含有している。塑性を有する導電体としては、小さい荷重で容易に塑性変形を生じるアルミニウム、インジウム等の金属であることが望ましい。バインダー樹脂としては、従来の導電性接着剤に使用されているエポキシ、アクリル、ウレタン等でよい。
次に、本発明にかかる半導体装置の組立方法を説明する。まず始めに、リードフレームのアイランド部11に半導体ペレット2を接着する(図2(a))。この接着においては、クリップ接続時のように半導体ペレット2とアイランド部11の隙間間隔が大きくなることはないため、接着に使用するダイボンド7は従来のAgペースト等でよい。
続いて、半導体ペレット2上に設けられたソース電極21と、リードフレーム1のソースリード13の先端に設けられたソース端子14との間を架橋するようにクリップ3で接続する。この接続は、まずソース電極21の上およびソース端子14の上に本発明にかかる導電性接着剤6を塗布し(図2(b))、その上にクリップ3の両端を位置決めして圧着して行う(図2(c))。クリップ3を圧着する時に導電性接着剤6に含有される塑性を有する導電体粒子61がつぶれて半導体ペレット2のソース電極21とクリップ3の間、及びリードフレーム1のソース端子14とクリップ3の間の導電性が確保される。
先に述べたように、Agペースト等の導電フィラーをバインダー樹脂中に含有させた従来の導電性接着剤では、クリップ3とソース電極21間又はクリップ3とソース端子14間の隙間間隔(ギャップ)が、製造誤差等に起因して大きくなった場合に、導電フィラーの凝集が不十分となって接続抵抗が大きくなるという問題があった。具体的には、例えば、製造誤差によって半導体ペレット2の高さが高くなり、リードフレーム1のソース端子14の部分が低くなった場合、ソース端子14とクリップ3の隙間間隔が、従来の導電性接着剤を用いて接着する際に許容される高さの最大値を超えていると、接続抵抗が増大してしまう。同様に半導体ペレット2の高さが低く、リードフレーム1のソース端子14の部分が低くなった場合は、ソース電極21とクリップ3の隙間間隔が大きくなって、従来の導電性接着剤では導電性の確保が不十分になってしまう。
これに対し、本発明にかかる導電性接着剤6は、塑性を有する導電体粒子61の粒径を、ソース端子21とクリップ3の隙間間隔の最大値より大きくすることにより、クリップ3を圧着する際に導電体粒子61が塑性変形し、ソース電極21およびソース端子14とクリップ3が導電体粒子61を介して接合されて電気的な接続を確保することができる。このため、本発明にかかる導電性接着剤6を用いて半導体装置の組み立てを行うことによって、半導体ペレット2、リードフレーム1、クリップ3の部材寸法に対する許容誤差を大きくして製造時の要求精度を緩和することが可能である。
なお、導電体粒子61の形状は、図2に示したように球形である必要はない。要は、クリップ3を圧着した際に、導電体粒子61が塑性変形した結果として、必要な接触抵抗が得られる程度以上の接触面積を持って、導電体粒子61とクリップ3、ソース電極21及びソース端子14が接続できればよく、その形状は特定の形に限定されるものではない。
以上に示した本実施の形態にかかる半導体装置の構成は一例であって、本発明は、上記実施の形態に限定されるものではない。電極位置やリード本数等の半導体装置の構成は本実施の形態の構成に限定されるものではなく、クリップで半導体ペレットとリード端子を接続する他の構成においても、本発明は効果を発揮する。
本発明にかかる半導体装置を示す平面図及び断面図である。 本発明にかかる半導体装置の組立方法を示す模式図である。
符号の説明
1 リードフレーム
11 アイランド部
13 ソースリード
14 ソース端子
2 半導体ペレット
21 ソース電極
3 クリップ
5 ハウジング
6 導電性接着剤
61 導電体粒子

Claims (6)

  1. 表面に少なくとも1つの電極を有する半導体ペレットと、少なくともひとつのリード端子を有するリードフレームと、前記電極及び前記リード端子に導電性接着剤によって接着されて、前記電極と前記リード端子との間を電気的に導通する板状のクリップとを有する半導体装置であって、
    前記導電性接着剤はバインダー樹脂中に塑性を有する導電体粒子を含有し、
    接着による塑性変形前における前記導電体粒子の少なくとも一部又は全部の粒径は、接着される前記電極と前記クリップとの隙間間隔及び前記リード端子と前記クリップとの隙間間隔の最大値以上の大きさを有する、
    半導体装置。
  2. 前記導電体粒子は、アルミニウム又はインジウムであることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
  3. 表面に少なくとも1つの電極を有する半導体ペレットと、少なくともひとつのリード端子を有するリードフレームと、前記電極と前記リード端子との間を電気的に導通する板状のクリップとを有する半導体装置の組立方法であって、
    塑性を有する導電体粒子を含有する導電性接着剤を介して、前記半導体ペレット表面の電極に前記クリップを圧着し、前記導電体粒子を塑性変形させて前記電極及び前記クリップに接触させる工程と、
    前記塑性を有する導電体粒子を含有する導電性接着剤を介して、前記リード端子に前記クリップを圧着し、前記導電体粒子を塑性変形させて前記リード端子及び前記クリップに接触させる工程を有し、
    接着による塑性変形前における前記導電体粒子の少なくとも一部又は全部の粒径は、前記電極又は前記リード端子と前記クリップとの隙間間隔の最大値以上である、
    半導体装置の組立方法。
  4. 前記導電体粒子は、アルミニウム又はインジウムであることを特徴とする請求項3に記載の半導体装置の組立方法。
  5. 半導体ペレット上の電極又はリードフレームのリード端子と、板状のクリップとの間を接着して、前記電極又は前記リード端子と前記クリップ間を電気的に導通させる導電性接着剤であって、
    バインダー樹脂中に塑性を有する導電体粒子を含有し、
    前記導電体粒子の粒径の最大値は、接着される前記電極と前記クリップとの隙間間隔又は前記リード端子と前記クリップとの隙間間隔の最大値以上である、
    半導体装置用導電性接着剤。
  6. 前記導電体粒子は、アルミニウム又はインジウムであることを特徴とする請求項5に記載の半導体装置用導電性接着剤。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010090827A2 (en) * 2009-02-05 2010-08-12 Fairchild Semiconductor Corporation Semiconductor die package and method for making the same
US7977775B2 (en) 2008-01-28 2011-07-12 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device and manufacturing method of the same
EP2562810A1 (en) * 2011-08-22 2013-02-27 International Rectifier Corporation Small-outline package for a power transistor
EP2695795A1 (en) 2011-04-07 2014-02-12 Mitsubishi Electric Corporation Molded module and electric power steering apparatus
WO2014167693A1 (ja) * 2013-04-11 2014-10-16 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法
CN104282646A (zh) * 2013-07-01 2015-01-14 瑞萨电子株式会社 半导体器件
JP2019192751A (ja) * 2018-04-24 2019-10-31 ローム株式会社 半導体装置

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7977775B2 (en) 2008-01-28 2011-07-12 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device and manufacturing method of the same
US8252632B2 (en) 2008-01-28 2012-08-28 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device and manufacturing method of the same
CN102308383B (zh) * 2009-02-05 2014-12-03 费查尔德半导体有限公司 半导体管芯封装件及其制造方法
KR101561684B1 (ko) * 2009-02-05 2015-10-20 페어차일드 세미컨덕터 코포레이션 반도체 다이 패키지 및 그의 제조 방법
WO2010090827A3 (en) * 2009-02-05 2010-09-30 Fairchild Semiconductor Corporation Semiconductor die package and method for making the same
US8222718B2 (en) 2009-02-05 2012-07-17 Fairchild Semiconductor Corporation Semiconductor die package and method for making the same
WO2010090827A2 (en) * 2009-02-05 2010-08-12 Fairchild Semiconductor Corporation Semiconductor die package and method for making the same
EP2695795A1 (en) 2011-04-07 2014-02-12 Mitsubishi Electric Corporation Molded module and electric power steering apparatus
EP2562810A1 (en) * 2011-08-22 2013-02-27 International Rectifier Corporation Small-outline package for a power transistor
JPWO2014167693A1 (ja) * 2013-04-11 2017-02-16 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法
WO2014167693A1 (ja) * 2013-04-11 2014-10-16 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法
US9761501B2 (en) 2013-04-11 2017-09-12 Renesas Electronics Corporation Method of manufacturing a semiconductor device and inspecting an electrical characteristic thereof using socket terminals
US9905482B2 (en) 2013-04-11 2018-02-27 Renesas Electronics Corporation Method of manufacturing a semiconductor device and inspecting an electrical characteristic thereof using test socket terminals
JP2015012235A (ja) * 2013-07-01 2015-01-19 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
CN104282646A (zh) * 2013-07-01 2015-01-14 瑞萨电子株式会社 半导体器件
JP2019192751A (ja) * 2018-04-24 2019-10-31 ローム株式会社 半導体装置
JP7150461B2 (ja) 2018-04-24 2022-10-11 ローム株式会社 半導体装置

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