KR101561684B1 - 반도체 다이 패키지 및 그의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
반도체 다이 패키지. 상기 반도체 다이 패키지는 클립 구조물, 상기 클립 구조물에 부착된 반도체 다이, 및 상기 반도체 다이와 상기 클립 구조물의 적어도 일부분을 덮는 제 1 몰딩 물질을 포함하는 예비몰딩된 클립 구조물 조립체를 포함한다. 또한, 상기 반도체 다이 패키지는 다이 부착 패드를 포함하는 리드프레임 구조물을 포함하고, 상기 리드프레임 구조물은 상기 예비몰딩된 클립 구조물 조립체에 부착된다.
Description
본 발명은 반도체 다이 패키지 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.
<관련 출원의 상호 참조>
없음
반도체 산업에 반도체 다이 패키지들이 알려져 있지만, 더 개선될 수 있다. 예를 들면, 무선 전화 등과 갈은 전자 장치들은 점점 더 작아지고 있다. 이러한 전자 장치들에 반도체 다이 패키지들이 통합될 수 있도록 더 작은 반도체 다이 패키지들을 제조하는 것이 바람직하다. 그러나, 더 작은 패키지들은 종종 반도체 다이들이 더 작아질 것을 요구한다. 이것은 성능에 큰 영향을 미칠 수 있으며 콘택 저항을 증가시킬 수 있다. 또한 종래의 반도체 다이 패키지들의 열적 소산(thermal dissipation) 성질도 개선되는 것이 바람직할 것이다. 예를 들면 전력 트랜지스터들을 포함하는 반도체 다이 패키지들에는 상당한 양의 열이 발생한다. 또한, 그러한 반도체 다이 패키지들의 최종 사용자들에게 강건한(robust) 상호 연결 선택권을 부여하는 것도 바람직할 것이다.
일부 반도체 다이 패키지들은 예비몰딩된(premolded) 클립 구조를 갖는다. 예비몰딩된 클립 구조는 몰딩 물질과 클립 구조를 포함할 수 있다. 이와 같은 예비 몰딩된 클립 구조는 제 1 솔더 물질을 이용하여 반도체 다이에 부착될 수 있고, 상기 반도체 다이는 제 2 솔더 물질을 이용하여 리드프레임 구조물에 부착될 수 있다. 상기 제 1 솔더 물질과 상기 제 2 솔더 물질이 상기 반도체 다이 패키지의 제조 공정 동안에 리플로우될 때, 이들은 서로에 대하여 움직일 수 있다. 이것은 도 8a에 나타낸 바와 같이 상기 예비몰딩된 클립 구조물(60)이 상기 리드 프레임 구조물 및/또는 상기 반도체 다이(62)에 대하여 회전하는 것을 유발할 수 있기 때문에 바람직하지 않다. 또한, 도 8b에서 보는 바와 같이 예비몰딩된 클립 구조물을 갖는 반도체 다이 패키지를 제조하기 위한 종래의 방법에서, 작은 게이트 패드 위에 솔더를 위치시킬 때 솔더 페이스트의 부피를 제어하기가 어렵고, 그 결과 게이트 솔더가 상기 반도체 다이의 코너로 오버플로우하는 원인이 된다. 도 8b는 상기 반도체 다이(62)의 가장자리 위로 오버플로우되는 솔더(80)를 보여준다. 상기 솔더(80)는 상기 예비몰딩된 클립 구조물(60) 내의 게이트 클립 구조물(60(g))의 일부와 접촉한다. 도 8b에 나타낸 바와 같이, 상기 리드프레임 구조물(61)이 보여지고 상기 반도체 다이(62)를 지지한다.
본 발명의 실시예들은 이러한 문제들과 다른 문제들을 개별적으로 또는 종합적으로 해결한다.
본 발명의 실시예들은 반도체 다이 패키지들과 그의 제조 방법들에 관한 것이다.
본 발명의 일 실시예는 예비몰딩된 클립 구조물의 조립체(assembly)를 포함하는 반도체 다이 패키지에 관한 것이다. 상기 예비몰딩된 클립 구조물의 조립체는 클립 구조물, 상기 클립 구조물에 부착된 반도체 다이, 및 상기 클립 구조물과 상기 반도체 다이의 적어도 일부분을 덮는 제 1 몰딩 물질을 포함한다. 또한 상기 반도체 다이 패키지는 다이 부착 패드를 갖는 리드프레임 구조물도 포함한다. 상기 리드프레임 구조물은 상기 다이 부착 패드에서 상기 예비몰딩된 클립 구조물의 조립체에 부착된다.
본 발명의 또 다른 실시예는 리드프레임 구조물을 얻는 단계; 및 클립 구조물, 상기 클립 구조물에 부착된 반도체 다이, 및 상기 클립 구조물 및 상기 반도체 다이의 적어도 일부분을 덮는 제 1 몰딩 물질을 포함하는 예비몰딩된 클립 구조물의 조립체를 상기 리드프레임 구조물에 부착하는 단계를 포함하는 방법에 관한 것이다.
본 발명의 또 다른 실시예는 리드프레임 구조물 표면을 포함하는 리드프레임 구조물; 상기 리드프레임 구조물에 부착되고, 입력 영역을 포함하는 제 1 표면과 출력 영역을 포함하는 제 2 표면을 포함하는 반도체 다이; 상기 리드프레임 구조물과 상기 반도체 다이의 적어도 일부분을 덮고, 상기 반도체 다이의 제 2 표면과 상기 리드프레임 구조물 표면을 노출시키는 몰딩 물질; 몸체부(major portion), 상기 몸체부로부터 연장되는 제 1 다리부, 및 상기 몸체부로부터 상기 제 1 다리부와 반대쪽으로 연장되는 제 2 다리부를 포함하고, 상기 반도체 다이의 상기 제 2 표면에 있는 출력 영역과 전기적으로 및 기계적으로 결합된 금속 하우징 구조물; 및 상기 금속 하우징 구조물의 몸체부와 상기 반도체 다이의 제 2 표면을 결합하는 전도성 접착제를 포함하는 반도체 다이 패키지에 관한 것이다.
본 발명의 또 다른 실시예는 리드프레임 구조물 표면을 포함하는 리드 프레임 구조물에, 입력 영역을 포함하는 제 1 표면 및 출력 영역을 포함하는 제 2 표면을 포함하는 반도체 다이를 부착하는 단계; 상기 리드프레임 구조물 및 상기 반도체 다이의 적어도 일부분 주위에, 상기 반도체 다이의 제 2 표면과 상기 리드프레임 구조물 표면을 노출하는 몰딩 물질을 몰딩하는 단계; 및 상기 반도체 다이에, 몸체부(major portion), 상기 몸체부로부터 연장되는 제 1 다리부, 및 상기 몸체부로부터 상기 제 1 다리부와 반대쪽으로 연장되는 제 2 다리부를 포함하고 상기 제 2 표면에 있는 출력 영역과 전기적으로 및 기계적으로 결합된 금속 하우징 구조물을 부착하는 단계를 포함하는 방법에 관한 것이다.
본 발명의 다른 실시예들은 본 발명의 실시예들에 따른 반도체 다이 패키지를 포함할 수 있는 전기적 조립체들 및 시스템들에 관한 것이다.
반도체 다이 패키지의 조립에 있어서 부품들의 정렬이 용이하고 정렬이 잘못되거나 솔더가 부적절한 형태로 변형되는 현상을 효과적으로 방지할 수 있는 효과가 있다. 그에 따라 반도체 다이 패키지의 수율이 개선된다. 또한, 열 소산과 관련한 성질도 개선되는 효과가 있다. 또한, 반도체 다이를 주위 환경으로부터 더 잘 보호할 수 있는 효과가 있다.
본 발명의 이들 및 다른 실시예들이 도면을 참조하여 발명의 상세한 설명에서 상세하게 설명된다. 도면에서, 동일한 참조번호는 동일한 요소를 참조할 수 있고 일부 요소들의 설명은 반복되지 않을 수 있다. 또한, 도면에서 일부 요소들은 크기에 비례하게 도시되지 않을 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 다이 패키지의 측단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 예비몰딩된 클립 구조물 조립체의 측단면도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 다이 패키지의 측단면도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 예비몰딩된 클립 구조물 조립체의 측단면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 다이 패키지의 측단면도이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 예비몰딩된 클립 구조물 조립체의 측단면도이다.
도 7a 내지 도 7g는 본 발명의 일 실시예에 따라 반도체 다이 패키지를 형성하는 동안 형성되는 다양한 중간 형태들을 나타낸다.
도 7h는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 다이 패키지의 사시도를 나타낸다.
도 8a 및 도 8b는 종래의 방법을 이용하여 반도체 다이 상에 실장된 예비몰딩된 클립들의 이미지들을 나타낸다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 다이 패키지의 측단면도이다.
도 10a 및 도 10b는 다른 반도체 다이 패키지 실시예의 각 상부 및 하부 사시도들이다.
도 11은 도 10a 및 도 10b에 나타낸 반도체 다이 패키지 실시예의 몰딩 물질의 일부분이 제거된 하부 사시도이다.
도 12a 내지 도 12e는 반도체 다이 패키지를 형성하는 동안 형성되는 중간 형태들과 반도체 다이 패키지의 한 예를 나타낸다.
도 12f는 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 다이 패키지의 한 예를 나타낸다.
도 13a 내지 도 13e는 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 다이 패키지를 형성하는 동안 형성되는 중간 형태들을 나타낸다.
도 13f는 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 다이 패키지의 한 예를 나타낸다.
도 14a는 두 개의 금속 하우징 구조물을 갖는 반도체 다이 패키지의 하부 사시도이다.
도 14b는 두 개의 금속 하우징 구조물을 갖는 반도체 다이 패키지의 상부 사시도이다.
도 15는 본 발명의 실시예들에 따른 반도체 다이 패키지들에 사용될 수 있는 수직형 전력 MOSFET의 단면도를 나타낸다.
도면에서, 동일한 참조번호는 동일한 요소를 가리키고 유사한 요소들의 설명은 반복되지 않을 수 있다. 본 발명의 실시예들의 더욱 상세한 내용은 도면들을 참조하여 발명의 상세한 설명에서 제공된다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 다이 패키지의 측단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 예비몰딩된 클립 구조물 조립체의 측단면도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 다이 패키지의 측단면도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 예비몰딩된 클립 구조물 조립체의 측단면도이다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 다이 패키지의 측단면도이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 예비몰딩된 클립 구조물 조립체의 측단면도이다.
도 7a 내지 도 7g는 본 발명의 일 실시예에 따라 반도체 다이 패키지를 형성하는 동안 형성되는 다양한 중간 형태들을 나타낸다.
도 7h는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 다이 패키지의 사시도를 나타낸다.
도 8a 및 도 8b는 종래의 방법을 이용하여 반도체 다이 상에 실장된 예비몰딩된 클립들의 이미지들을 나타낸다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 반도체 다이 패키지의 측단면도이다.
도 10a 및 도 10b는 다른 반도체 다이 패키지 실시예의 각 상부 및 하부 사시도들이다.
도 11은 도 10a 및 도 10b에 나타낸 반도체 다이 패키지 실시예의 몰딩 물질의 일부분이 제거된 하부 사시도이다.
도 12a 내지 도 12e는 반도체 다이 패키지를 형성하는 동안 형성되는 중간 형태들과 반도체 다이 패키지의 한 예를 나타낸다.
도 12f는 본 발명의 일실시예에 따른 반도체 다이 패키지의 한 예를 나타낸다.
도 13a 내지 도 13e는 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 다이 패키지를 형성하는 동안 형성되는 중간 형태들을 나타낸다.
도 13f는 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 다이 패키지의 한 예를 나타낸다.
도 14a는 두 개의 금속 하우징 구조물을 갖는 반도체 다이 패키지의 하부 사시도이다.
도 14b는 두 개의 금속 하우징 구조물을 갖는 반도체 다이 패키지의 상부 사시도이다.
도 15는 본 발명의 실시예들에 따른 반도체 다이 패키지들에 사용될 수 있는 수직형 전력 MOSFET의 단면도를 나타낸다.
도면에서, 동일한 참조번호는 동일한 요소를 가리키고 유사한 요소들의 설명은 반복되지 않을 수 있다. 본 발명의 실시예들의 더욱 상세한 내용은 도면들을 참조하여 발명의 상세한 설명에서 제공된다.
I. 예비몰딩된 클립 조립체들을 포함하는 반도체 다이 패키지들
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 반도체 다이 패키지(100)의 측단면도를 나타낸다. 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 예비몰딩된 클립 구조물 조립체의 측단면도를 나타낸다.
상기 반도체 다이 패키지(100)는 클립 구조물(160(a))을 포함하는 예비몰딩된 클립 구조물 조립체(160)와 제 1 전도성 접착제(180(a))를 이용하여 상기 클립 구조물(160(a))에 부착된 반도체 다이(150)를 포함한다. 상기 반도체 다이(150)는 제 1 주표면(150-1) 및 상기 제 1 주표면(150-1)의 반대면인 제 2 주표면(150-2)을 포함한다. 상기 제 1 전도성 접착제(180(a))는 상기 반도체 다이(150)의 제 2 표면(150-2)과 접촉한다. 상기 제 1 표면(150-1)은 드레인 영역과 같은 출력 영역을 포함할 수 있는 한편, 상기 제 2 주표면(150-2)은 소스 영역 및 게이트 영역과 같은 입력 영역을 포함할 수 있다.
상기 클립 구조물(160(a)) 및 상기 반도체 다이(150)의 적어도 일부분을 에폭시 몰딩 물질과 같은 제 1 몰딩 물질(160(b))이 덮는다. 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 몰딩 물질(160(b))은 상기 반도체 다이(150)의 제 1 표면(150-1)과 실질적으로 동일한 평면에 있는 제 1 표면(160(b)-1)을 갖는다. 상기 제 1 몰딩 물질(160(b))의 제 2 표면(160(b)-2)은 상기 클립 구조물(160(a))의 상부 표면(160(a)-1)과 실질적으로 동일한 평면에 있을 수도 있다. 상기 클립 구조물(160(a))의 상부 표면(160(a)-1)과 상기 제 1 몰딩 물질(160(b))의 제 2 표면(160(b)-2)은 상기 예비몰딩된 클립 구조물 조립체(160)의 제 1 표면(160-1)을 형성할 수 있다. 상기 예비몰딩된 클립 구조물 조립체(160)의 제 2 표면(160-2)은 상기 제 1 표면(160-1)의 반대면이다. 상기 예비몰딩된 클립 구조물 조립체(160)의 제 2 표면(160-2)은 적어도 제 1 몰딩 물질 표면(160(b)-1)과 상기 반도체 다이(150)의 제 1 표면(150-1)을 포함한다.
도 1을 참조하면, 상기 반도체 다이 패키지(100)는 다이 부착 패드를 포함하는 리드프레임 구조물(190)을 포함한다. 상기 리드프레임 구조물(190)은 제 2 전도성 접착제(180(b))와 제 3 전도성 접착제(180(c))를 이용하여 예비몰딩된 클립 구조물 조립체(160)에 부착된다.
상기 리드프레임 구조물(190)은 드레인 리드 구조물(190(d))을 포함하는 수많은 상이한 부분들을 포함할 수 있다. 상기 드레인 리드 구조물(190(d))은 다이 부착 패드뿐만 아니라 상기 다이 부착 패드로부터 연장되는 수많은 리드들을 포함할 수 있다. 상기 리드프레임 구조물(190)은 소스 리드 구조물(190(s)) 및 상기 소스 리드 구조물(190(s))과 전기적으로 절연될 수 있는 게이트 리드 구조물(도 1에는 미도시)을 포함할 수도 있다.
위에서 설명된 제 1 전도성 접착제(180(a)), 제 2 전도성 접착제(180(b)), 및 제 3 전도성 접착제(180(c))는 임의의 적절한 전도성 접착 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 전도성 에폭시류뿐만 아니라 솔더(예를 들면, Pb계 또는 무연 솔더)도 포함된다. 일부 실시예들에 있어서, 상기 예비몰딩된 클립 구조물 조립체(160)는 형성된 다음에 상기 리드프레임 구조물(190)에 부착되기 때문에 제 1 전도성 접착제(180(a))는 제 2 전도성 접착제(180(b)) 및 제 3 전도성 접착제(180(c))에 비하여 더 높은 녹는점을 가질 수 있다.
점선으로 나타낸 제 2 몰딩 물질(170)(예를 들면, 에폭시 몰딩 물질)은 상기 리드프레임 구조물(190)의 일부뿐만 아니라 상기 예비몰딩된 클립 구조물 조립체(160)의 적어도 일부를 덮는다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 상기 제 2 몰딩 물질(170)의 바닥의 외측 표면은 소스 리드 구조물 표면(190(s)-1) 및 드레인 리드 구조물 표면(190(d)-1)을 포함하는 리드프레임 구조물(190)의 외측 표면과 실질적으로 동일 평면상에 있을 수 있다. 상기 소스 리드 구조물 표면(190(s)-1) 및 드레인 리드 구조물 표면(190(d)-1)은 하부에 놓인 회로 기판(미도시) 등에 실장될 때 또 다른 전도성 접착제와 접촉할 수도 있다.
상기 제 2 몰딩 물질(170)은 상기 제 1 몰딩 물질(160(b))과 동일할 수도 있고 상이할 수도 있다. 이들은 상이한 시기에 형성되므로, 상기 반도체 다이 패키지(100) 내의 제 1 몰딩 물질(160(b))과 제 2 몰딩 물질(170) 사이에는 계면이 있을 수 있다.
본 실시예 및 본 명세서에 설명된 다른 실시예들의 반도체 다이(150)는 (p-채널 MOSFET 다이 또는 n-채널 MOSFET 다이와 같은) 임의의 적절한 반도체 소자를 포함할 수 있으며, 수직형 소자일 수도 있다. 수직형 소자들은 상기 다이를 통해 전류가 수직 방향으로 흐를 수 있도록 적어도 다이의 한 쪽 면에 입력부를, 다이의 다른 쪽 면에 출력부를 갖는다.
수직형 소자들의 일부 예들은 특정한 적용예에 있어서 수직형 전력 MOSFET류, 수직형 다이오드류, VDMOS 트랜지스터류, 수직형 바이폴라 트랜지스터류 등을 포함한다. 적절한 반도체들은 실리콘, 갈륨-비소화물, 및 다른 소위 "III-V족", 및 "II-VI족" 반도체 물질들을 포함한다. VDMOS 트랜지스터는 확산에 의하여 형성된 반도체 영역들을 둘 이상 갖는 MOSFET이다. 이것은 소스 영역, 드레인 영역, 및 게이트를 갖는다. 이 소자는 소스 영역과 드레인 영역이 반도체 다이의 대향하는 표면들에 있다는 점에서 수직형이다. 상기 게이트는 트렌치형 게이트 구조일 수도 있고 또는 평면형 게이트 구조일 수도 있으며, 상기 소스 영역과 동일한 표면에 형성된다. 평면형 게이트 구조에 비하여 트렌치형 게이트 구조들은 더 좁을 수 있고, 더 작은 공간을 차지할 수 있다. VDMOS 소자에 있어서, 동작하는 동안 소스 영역으로부터 드레인 영역으로 흐르는 전류 흐름은 다이 표면들에 대하여 실질적으로 수직이다. 수직형 전력 MOSFET의 예는 도 15에 도시된다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 반도체 다이 패키지(100)의 측단면도를 나타낸다. 도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 예비몰딩된 클립 구조물 조립체의 측단면도를 나타낸다.
도 3의 반도체 다이 패키지는 도 1에 나타낸 반도체 다이 패키지와 유사하다. 또한, 도 4의 예비몰딩된 클립 구조물 조립체(160)는 도 2에 나타낸 클립 구조물 조립체와 유사하다. 그러나, 도 3 및 도 4에 나타낸 실시예들에 있어서, 제 1 몰딩 물질(160(b))은 클립 구조물(160(a))의 표면(160(a)-1)을 덮는다.
도 5는 본 발명의 다른 실시예에 따른 다른 반도체 다이 패키지(100)의 측단면도를 나타낸다. 도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 예비몰딩된 클립 조립체 구조물의 측단면도를 나타낸다.
도 5에 나타낸 반도체 다이 패키지는 도 1에 나타낸 반도체 다이 패키지와 유사하다. 또한, 도 6의 예비몰딩된 클립 구조물 조립체(160)은 도 2에 나타낸 예비몰딩된 클립 구조물 조립체와 유사하다. 그러나, 도 5 및 도 6에 나타낸 실시예들에 있어서, 상기 예비몰딩된 클립 구조물 조립체(160)는 제 1 반도체 다이(150)에 부착된 제 1 클립 구조물(160(a)) 및 제 2 반도체 다이(151)에 부착된 제 2 클립 구조물(160(d))을 포함한다. 따라서, 상기 반도체 다이 패키지(100)와 상기 예비몰딩된 클립 구조물 조립체(160)는 각각 두 개의 클립 구조물들 및 두 개의 반도체 다이들을 포함한다. 이들은 네 개의 반도체 다이들과 두 개의 클립 구조물들을 포함하지만, 본 발명의 실시예들은 더 많거나 더 적은 수의 반도체 다이들 및 클립 구조물들을 갖는 패키지들과 조립체들도 포함할 수 있다.
상기 반도체 다이 패키지(100)에 있어서, 몰딩 물질 영역(160(b)-1)은 상기 반도체 다이 패키지(100)에서 제 1 클립 구조물(160(a))과 제 2 클립 구조물(160(d))을 분리한다. 또한, 상기 몰딩 물질(160(b))의 바닥 표면은 반도체 다이 표면들(150-1, 151-1)과 실질적으로 동일한 평면에 있을 수 있다.
본 발명의 다른 실시예들은 반도체 다이 패키지들을 형성하기 위한 방법들에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에서, 상기 방법은 리드프레임 구조물을 얻는 단계 및 상기 리드프레임 구조물에 예비몰딩된 클립 구조물 조립체를 부착하는 단계를 포함한다. 상기 예비몰딩된 클립 구조물 조립체는 클립 구조물, 상이 클립 구조물에 부착된 반도체 다이, 및 상기 반도체 다이와 상기 클립 구조물의 적어도 일부분을 덮는 제 1 몰딩 물질을 포함한다. 본 발명의 실시예들에 따라 반도체 다이 패키지를 형성하기 위한 예시적 방법들은 도 7a 내지 도 7h를 참조하여 설명될 수 있다.
본 발명의 실시예들은 예비몰딩된 클립 구조물 조립체를 형성하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 예비몰딩된 클립 구조물 조립체를 형성하기 위한 공정은 클립 구조물을 얻는 단계, 전도성 접착제를 이용하여 반도체 다이를 상기 클립 구조물에 부착하는 단계, 및 상기 반도체 다이와 상기 클립 구조물의 적어도 일부분의 주위에 상기 제 1 몰딩 물질을 몰딩하는 단계를 포함할 수 있다.
예비몰딩된 클립 구조물 조립체를 형성하는 단계에 있어서, 우선 도 7a에 나타낸 클립 구조물(160(a))과 같은 클립 구조물이 얻어질 수 있다. 도 7a에서, 두 개의 클립 구조물들(160(a), 161)이 도시되고, 이들은 프레임(192)에 함께 결합된다. 이들 두 클립 구조물들(160(a), 161)은 두 개의 클립 구조물 및 클립 구조물들(160(a), 161) 각각의 위에 실장된 두 개의 반도체 다이들을 포함하는 반도체 다이 패키지를 형성하기 위하여 사용될 수 있다.
상기 클립 구조물들(160(a), 161)은 임의의 적절한 구성 또는 두께(예를 들면, 1 mm 또는 그 미만)를 가질 수 있다. 본 실시예에서, 클립 구조물(160(a))은 몸체부(major portion)(160(s))를 포함한다. 상기 몸체부(160(s))는 슬럿(160(s)-1)을 포함하는 소스부일 수 있다. 상기 슬럿(160(s)-1)은 몰드 고정 구조(mold locking feature)로서 사용될 수 있다. 또한 상기 클립 구조물(160(a)) 내에는 게이트부(160(g))가 존재하고, 제조되는 반도체 다이 패키지 내의 상기 몸체부(160(s))로부터 전기적으로 분리될 수 있다. 상기 클립 구조물(161)도 (소스 단자로서의 역할도 할 수 있는) 슬럿(161(s)-1)을 포함하는 몸체부(161(s))를 포함한다. 또한 상기 클립 구조물(161) 내에는 게이트부(161(g))가 존재하고, 제조되는 반도체 다이 패키지 내의 상기 몸체부(161(s))로부터 전기적으로 분리될 수 있다. 또한, 상기 클립 구조물들(160(a), 161)은 상기 몸체부(160(s), 161(s)) 및 상기 게이트부(160(g), 161(g))의 각각에 대하여 솟아오른 발부(foot portion)(예를 들면, 160(f), 161(f), 160(h), 161(h))들도 가질 수 있다.
상기 클립 구조물들(160(a), 161)은 임의의 적절한 물질을 포함할 수 있다. 예를 들면, 구리, 알루미늄, 및 귀금속(및 이들의 합금들)과 같은 전도성 물질들이 상기 클립 구조물들(160(a), 161)에 사용될 수 있다. 상기 클립 구조물들(160(a), 161)은, 만일 원한다면, 납땜 가능한(solderable) 층들로 도금될 수도 있다.
상기 클립 구조물들(160(a), 161)은 식각, 스탬핑 등을 포함하는 임의의 적절한 방법으로 형성될 수도 있다.
도 7b에 보인 바와 같이, 상기 클립 구조물들(160(a), 161)을 얻은 후, 상기 클립 구조물들(160(a), 161)의 몸체부들(160(s), 161(s))과 게이트부들(160(g), 161(g))의 부분들 위에 솔더와 같은 제 1 전도성 접착제(180(a))가 퇴적될 수 있다. 이 때 상기 클립 구조물들(160(a), 161)의 솟아오른 발부(160(f), 161(f), 160(h), 161(h))들은 퇴적되지 않은 채 남겨질 수 있다. 적절한 솔더 퇴적 방법이면 무엇이든 사용될 수 있다.
도 7c에 보인 바와 같이, 제 1 클립 구조물(160(a)) 위에 제 1 반도체 다이(150) 및 제 2 반도체 다이(151)가 실장되는 한편, 제 2 클립 구조물(161) 위에 제 3 반도체 다이(152) 및 제 4 반도체 다이(153)가 실장된다. 본 실시예에 있어서, 상기 반도체 다이들(150, 151, 152, 153)은 각각 수직형 전력 MOSFET들을 포함할 수 있다.
도 7d에 보인 바와 같이, 상기 클립 구조물들(160(a), 161) 위에 상기 반도체 다이들(150, 151, 152, 153)이 실장된 후, 예비몰딩된 클립 구조물 조립체(160)를 형성하기 위하여 상기 반도체 다이들(150, 151, 152, 153)과 상기 클립 구조물들(160(a), 161)의 적어도 부분들 주위에 제 1 몰딩 물질(160(b))이 형성된다. 도시된 바와 같이 상기 반도체 다이들(150, 151, 152, 153)의 제 1 표면들(150-1, 151-1, 152-1, 153-1)은 상기 제 1 몰딩 물질(160(b))을 통하여 노출되고, 이들은 제 2 몰딩 물질(160(b))의 외측 표면과 실질적으로 동일한 평면에 있을 수 있다.
적절한 몰딩 방법이면 무엇이든 사용될 수 있다. 적절한 몰딩 방법들은 테이프 조력 몰딩 공정(tape assisted molding processes) 또는 사출 몰딩 공정들을 포함할 수 있다. 적절한 공정인지에 관한 고려는 당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 결정될 수 있다.
몰딩 후, 싱귤레이션 공정이 수행될 수 있다. 도 7e는 앞서 설명한 프레임(192) 없이 예비몰딩된 클립 구조물 조립체(160)를 나타낸다.
도 7f를 참조하면, 상기 예비몰딩된 클립 구조물 조립체(160)가 형성되기 전 또는 후에 리드프레임 구조물(190)이 얻어진다. 상기 리드프레임 구조물은 임의의 적절한 방식으로 얻어질 수 있다. 예를 들면, 상기 리드프레임 구조물(190)은 상기 리드프레임 구조물의 리드들 또는 다른 부분들을 성형하기 위하여 통상의 방법들을 이용하여 스탬프되거나, 식각되거나, 및/또는 패터닝될 수 있다. 예를 들면, 상기 리드프레임 구조물(190)은 소정 패턴을 형성하기 위하여 연속적인 전도성 시트를 식각함으로써 형성될 수 있다.
만일 스탬핑이 사용된다면, 상기 리드프레임 구조물은 타이-바(tie-bar)들에 의하여 연결되는 리드프레임 구조물들의 어레이 내의 많은 리드프레임 구조물들 중의 하나일 수 있다. 또한, 상기 리드프레임 구조물들의 어레이는 리드프레임 구조물들을 다른 리드프레임 구조물들과 분리하기 위하여 절단될 수 있다. 상기 리드프레임 구조물(190)은 연속적인 금속 구조물 또는 불연속적인 금속 구조물일 수 있다.
용어 "리드프레임 구조물"은 리드프레임으로부터 유도된 구조물을 가리킬 수도 있고 리드프레임과 동일한 것일 수도 있다. 각 리드프레임 구조물은 리드 표면들을 갖는 하나 이상의 리드들과 다이 부착 영역을 포함할 수 있다. 상기 리드들은 상기 다이 부착 영역으로부터 측방향으로 연장된다.
상기 리드프레임 구조물(190)은 임의의 적절한 물질을 포함할 수 있으며 임의의 적절한 특성을 지닐 수 있다. 리드프레임 구조물의 물질의 예는 구리, 알루미늄, 금 등과 같은 금속과 이들의 합금을 포함한다. 상기 리드프레임 구조물들은 금, 크롬, 은, 팔라듐, 니켈 등의 도금층과 같은 도금층들을 포함할 수도 있다. 또한, 상기 리드프레임 구조물은 당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자들에게 알려진 적절한 임의의 두께를 가질 수 있다. 상기 리드프레임 구조물(190)은 약 1 mm 미만의 (예를 들면, 약 0.5 mm 미만의) 두께를 포함하여 임의의 적절한 두께를 가질 수 있다.
도 7f에서, 상기 리드프레임 구조물(190)은 많은 게이트 리드 구조물들(190(g)), 소스 리드 구조물들(190(s)), 및 드레인 리드 구조물들(190(d))을 포함한다. 이들은 형성된 반도체 다이 패키지 내의 하나 이상의 반도체 다이의 게이트, 소스 및 드레인 영역들에 전기적으로 연결될 수 있다. 도 7f에 도시된 바와 같이, 상기 드레인 리드 구조물(190(d)) 위에 제 2 전도성 접착제(180(b))가 퇴적되고, 상기 소스 리드 구조물(190(s)) 위에 제 3 전도성 접착제(180(c))가 퇴적된다.
도 7g에 도시된 바와 같이, 상기 리드프레임 구조물(190)이 솔더로 코팅된 후, 이전에 형성된 예비몰딩된 클립 구조물 조립체(160)를 뒤집혀져서 상기 리드프레임 구조물(190) 위에 실장되고, 적어도 제 2 전도성 접착제(180(b)) 및 제 3 전도성 접착제(180(c))를 이용하여 상기 리드프레임 구조물(190) 위에 전기적으로 결합된다.
도 7h를 참조하면, 그런 다음 제 2 몰딩 물질(170)이 상기 예비몰딩된 클립 구조물 조립체(160) 및 상기 리드프레임 구조물(190)의 주위에 형성되어 반도체 다이 패키지(100)를 형성한다. 임의의 적절한 몰딩 공정과 후속의 싱귤레이션 공정이 사용될 수 있다.
도 7a 내지 도 7h에 하나의 반도체 다이 패키지의 형성 과정이 도시되었지만, 본 발명의 실시예들에서 반도체 다이 패키지들의 어레이가 동시에 형성될 수 있음은 이해될 것이다.
본 발명의 실시예들은 전력 쿼드플랫 노 리드(power quad flat no lead, PQFN), 마이크로 리드프레임 패키지(micro leadframe package, MLP), 및 다른 타입의 패키지들을 형성하기 위하여 사용될 수 있다.
본 발명의 실시예들은 수많은 장점들을 제공한다. 예를 들면, 예비몰딩된 클립 구조물 조립체가 반도체 다이를 포함하기 때문에 반도체 다이가 리드프레임 구조물에 실장되기 전에 클립 구조물과 정렬된다. 그런 다음, 상기 예비몰딩된 클립 구조물 조립체가 상기 리드프레임 구조물에 부착될 때 상기 예비몰딩된 클립 구조물 조립체가 상기 리드프레임 구조물에 대하여 정렬될 수 있다. 상기 반도체 다이를 상기 클립 구조물에 연결하는 솔더 물질과 상기 리드프레임 구조물을 상기 반도체 다이에 연결하는 솔더 물질이 동시에 리플로우되지 않기 때문에, 도 8a 및 도 8b에 도시된 바와 같은 클립의 회전 및 솔더의 오버행(overhang) 문제가 일어날 가능성이 적다. 또한, 반도체 다이 패키지의 최종 조립에서 결함이 발생할 가능성이 낮기 때문에 재작업되는 반도체 다이 패키지의 수도 감소한다. 또한, 형성된 반도체 다이 패키지는 컴팩트할 뿐만 아니라 우수한 열 소산 성질을 갖는다.
II. 금속 하우징들을 포함하는 반도체 다이 패키지들
본 발명의 다른 실시예들은 개선된 열 소산 능력을 갖는 반도체 다이 패키지에 관한 것이다. 본 발명의 실시예들은 통상의 반도체 패키지들에 대한 통상의 랜드 패턴들에 대하여 사용될 수 있고, 반도체 다이에 대한 우수한 보호를 제공하면서, 우수한 상부 및 하부 냉각 성질을 가질 수 있다.
본 발명의 일 실시예는 실리콘 다이와 같은 반도체 다이를 갖는 반도체 다이 패키지에 관한 것이다. 상기 반도체 다이는 게이트부 및 소스부를 갖는 리드프레임 구조물에 부착된다. 상기 리드프레임 구조물에 대한 상기 반도체 다이의 부착은 상기 리드프레임 구조물의 게이트부 및 소스부 위에 있는 솔더에 의하여 제공된다. 상기 실리콘 다이와 리드프레임 구조물은 상기 리드프레임 구조물의 게이트부 및 소스부의 표면들이 몰딩 물질을 통하여 노출되도록 몰딩된다. 상기 반도체 다이의 배면도 상기 몰딩 물질을 통하여 노출된다. 그런 다음, 몰딩된 상기 리드프레임 구조물 및 실리콘 다이는 구리 하우징과 같은 금속 하우징에 부착된다. 상기 몰딩된 리드프레임 구조물 및 실리콘 다이에 상기 구리 하우징을 부착하는 것은 노출된 실리콘 배면 위에 제공된 솔더에 의하여 이루어질 수 있다. 상기 구리 하우징은 상기 반도체 다이 패키지에 대한 드레인 연결을 제공하고, 상기 반도체 다이 패키지의 상부를 통한 패키지의 냉각을 가능하게 한다.
도 9는 리드프레임 구조물 표면(9-1)을 포함하는 리드프레임 구조물(9) 및 상기 리드프레임 구조물(9)에 부착된 반도체 다이(16)를 포함하는 반도체 다이 패키지(10)를 나타낸다. 상기 반도체 다이(16)는 입력 영역(예를 들면 소스 영역)을 포함하는 제 1 표면(16-1)과 출력 영역(예를 들면, 드레인 영역)을 포함하는 제 2 표면(16-2)을 포함한다. 몰딩 물질(14)은 상기 반도체 다이(16)와 상기 리드프레임 구조물(9)의 적어도 일부분을 덮는다. 상기 몰딩 물질(14)은 상기 반도체 다이(16)의 제 2 표면(16-2)을 노출하고, 상기 리드프레임 구조물 표면(9-1)도 노출한다. 상기 몰딩 물질(14)의 외측 표면(14-1)은 상기 반도체 다이(16)의 제 2 표면(16-2)과 실질적으로 동일한 평면에 있을 수 있다.
또한, 상기 반도체 다이 패키지(10)는 금속 하우징 구조물(11)을 포함한다. 상기 금속 하우징 구조물(11)은 몸체부(major portion)(11(a)), 상기 몸체부(11(a))로부터 연장되는 제 1 다리부(11(b)), 및 상기 몸체부(11(a))로부터 연장되는 제 2 다리부(11(c))를 포함한다. 상기 제 1 다리부(11(b)) 및 상기 제 2 다리부(11(c))는 상기 몸체부(11(a))를 중심으로 반대쪽 면들에 있을 수 있다. 도 9에 도시된 바와 같이, 상기 몰딩 물질(14)의 바닥 표면(14-2), 상기 리드프레임 구조물(9)의 바닥 표면(9-1), 및 상기 다리부들(11(b), 11(c))의 바닥 표면들은 실질적으로 동일한 평면에 있을 수 있다.
상기 금속 하우징(11)은 상기 반도체 다이(16)의 제 2 표면(16-2)에 있는 출력 영역과 전기적으로 그리고 기계적으로 결합된다. 상기 금속 하우징 구조물(11)의 몸체부(11(a))와 상기 반도체 다이(16)의 제 2 표면(16-2)은 제 1 전도성 접착제(15)에 의하여 결합된다. 제 2 전도성 접착제(17)와 제 3 전도성 접착제(18)는 상기 반도체 다이(16)의 제 1 표면(16-1)에 있는 게이트 영역 및 소스 영역을 상기 리드프레임 구조물(9)의 소스 구조물(13) 및 게이트 구조물(12)에 전기적으로 연결한다. 상기 리드프레임 구조물(9)의 상기 소스 구조물(13) 및 게이트 구조물(12)은 부분 식각 공정에 의하여 정의되는 소스 리드 구조물 표면(13-1) 및 게이트 리드 구조물 표면(12-1)을 각각 가질 수 있다.
각 다리부들(11(b), 11(c))은 (견실할(solid) 수 있고, 적어도 상기 몰딩 물질(14)의 측면만큼 길게 연장될 수 있는) 측벽과, 상기 측벽에 수직하고 회로 기판(4)의 전도성 랜드(4(d))와 결합될 수 있는 기저부(base portion)를 포함한다. 게이트 리드 구조물 표면(12-1)과 소스 리드 구조물 표면(13-1)은 대응하는 패드(4(s), 4(g))들 위에 실장될 수 있다. 이와 함께, 상기 반도체 다이 패키지(10)와 상기 회로 기판(4)은 전기적 조립체룰 형성할 수 있다.
상기 금속 하우징 구조물은 두 개의 다리부들을 포함하지만, 본 발명의 다른 실시예들에서는 셋 또는 네 개의 다리부들을 포함할 수 있다. 또한, 상기 금속 하우징 구조물은 (예를 들면 약 1 mm 미만의) 임의의 적절한 두께를 가질 수 있다.
도 9에 나타낸 바와 같이, 상기 몰딩 물질(14-1)의 측벽은 상기 다리부(11(b), 11(c))의 일부인 벽들과 이격되어 있고, 그에 의하여 상기 다리부(11(b), 11(c))에 더 큰 열 소산 표면적이 제공된다.
도 10a 및 도 10b는 각각 다른 반도체 다이 패키지 실시예의 상부 사시도 및 하부 사시도를 나타낸다.
도 11은 도 10a 및 도 10b에 나타낸 다른 반도체 다이 패키지 실시예의 하부 사시도를 나타낸다. 몰딩 물질의 일부분은 제거되었다. 도 11에 나타낸 바와 같이, 상기 소스 구조물(12)은 연장부(12-1)와 수직부(12(b))를 포함한다. 상기 수직부(12(b))는 상기 연장부(12-1)와 약간 상이한 평면인 표면을 갖는다. 상기 수직부(12(b))는 몰딩 물질(14)에 의하여 덮여진다. 또한, 상기 드레인 구조물은 부분 식각에 의하여 정의되는 표면(13-1)을 갖는다. 또한, 도 11은 상기 소스 구조물(13) 내에 연장된 개구부(18)를 보여준다. 상기 개구부(18)는 몰드 고정 구조 및 솔더의 오버플로우(overflow)를 위한 공간으로서의 역할을 할 수 있다.
도 12a 내지 도 12e는 반도체 다이 패키지를 형성하는 동안 형성되는 중간 구조들을 나타낸다.
도 12a는 웨이퍼 소(saw)로 소잉(sawing)된 후의 리드프레임 구조물(9)을 나타낸다. 하나의 리드프레임 구조물(9)이 도시되었지만, 다른 실시예들에서 상기 리드프레임 구조물(9)은 공정이 진행되는 동안 리드프레임 구조물들의 어레이일 수 있다.
상기 리드프레임 구조물(9)이 얻어진 후, 상기 리드프레임 구조물(9) 위에 전도성 접착제가 퇴적된다. 도 12b는 상기 리드프레임 구조물(9) 위에 제 2 전도성 접착제(17) 및 제 3 전도성 접착제(18)가 퇴적된 후의 리드프레임 구조물(9)을 도시한다.
상기 리드프레임 구조물(9) 위에 전도성 접착제가 퇴적된 후, 도 12c에 나타낸 바와 같이, 픽 앤 플레이스 (pick and place) 공정, 플립칩 다이 부착 공정 등을 이용하여 상기 리드프레임 구조물(9) 위에 반도체 다이(16)가 실장된다. 또한 통상의 솔더 리플로우 공정도 이 때 수행될 수 있다.
상기 반도체 다이(16)가 상기 리드프레임 구조물(9) 위에 배치된 후, 도 12d에 도시된 바와 같이, 상기 반도체 다이(16)의 부분들과 상기 리드프레임 구조물(9)의 주위에 몰딩 물질(14)이 형성된다. 상기 몰딩 물질(14)은 상기 반도체 다이(16)의 표면(16-1)을 노출시킨다. 상기 몰딩 물질(14)을 몰딩하기 위하여 테이프 조력 몰딩 공정과 같은 몰딩 공정이 사용될 수 있다. 그런 다음, 만일 원한다면, 패키지 소잉 공정이 수행될 수 있다.
몰딩 물질(14)이 몰딩된 후, 도 12e에 도시된 바와 같이, 제 1 전도성 접착제(15)가 상기 반도체 다이(16)의 노출된 표면(16-1) 위에 퇴적된다. 상기 제 1 전도성 접착제(15)는 제 2 전도성 접착제(17) 및 제 3 전도성 접착제(18)보다 낮은 리플로우 온도를 가질 수 있다. 상기 제 1 전도성 접착제가 상기 노출된 표면(16-1) 위에 퇴적된 후, 리플로우 공정이 수행될 수 있다.
상기 제 1 전도성 접착제(15)가 상기 다이 표면(16-1) 위에 퇴적된 후, 도 12f에 도시된 바와 같이, 상기 반도체 다이(16)를 보호하도록 금속 하우징 구조물(11)이 상기 제 1 전도성 접착제(15)의 위에 배치된다. 또한, 펀치 싱귤레이션 공정도 수행될 수 있다.
도 13a 내지 도 13e는 반도체 다이 패키지를 형성하는 동안 형성되는 중간 구조들을 나타낸다.
도 13a는 웨이퍼 소오로 소잉된 후의 금속 하우징 구조물(11)을 나타낸다.
도 13b는 제 1 전도성 접착제(15)로 상기 금속 하우징 구조물(11)에 실장된 반도체 다이(16)를 나타낸다.
도 13c는 소잉된 후의 리드프레임 구조물(9)를 나타낸다. 위에서 언급된 바와 같이, 선택적으로 상기 리드프레임 구조물(9)은 공정이 진행되는 동안 어레이 형태로 있을 수 있다.
도 13d는 상기 리드프레임 구조물(9) 주위에 형성된 몰딩 물질(14)을 나타낸다. 도시된 바와 같이, 상기 몰딩 물질(14)의 표면(14-1)과 상기 게이트 구조물의 표면(12-1)과 상기 소스 구조물의 표면(13-1)은 실질적으로 동일한 평면에 있다. 몰딩 후에, 예비몰딩된 기판이 형성된다.
도 13e는 상기 반도체 다이(16) 위에 제 2 전도성 접착제(17) 및 제 3 전도성 접착제(18)가 퇴적되는 것을 도시한다.
도 13f를 참조하면, 전도성 접착제들(17, 18)이 상기 반도체 다이(16) 위에 퇴적된 후, 상기 반도체 다이(16) 위에 예비몰딩된 기판이 배치되어 반도체 다이 패키지(2)를 형성한다. 상기 반도체 다이 패키지(2)는 도 12f에 도시된 반도체 다이 패키지(10)와 상이하다. 도 13f의 반도체 다이 패키지(2)에서는 몰딩 물질(14)이 반도체 다이(16)의 가장자리를 둘러싸지 않는 반면, 도 12f의 반도체 다이 패키지(10)에서는 몰딩 물질(14)이 반도체 다이(16)의 가장자리를 둘러싼다.
도 14a는 두 개의 금속 하우징들을 갖는 반도체 다이 패키지(6)의 하부 사시도를 나타낸다.
도 14b는 두 개의 금속 하우징들을 갖는 반도체 다이 패키지(6)의 상부 사시도를 나타낸다.
금속 하우징 구조물을 포함하는 실시예들은 수많은 장점들을 갖는다. 예를 들면, 이들은 우수한 상부 및 하부 냉각 성질을 갖고, 회로 기판 위의 산업 표준 랜드 패턴도 만족시킬 수 있다. 몰딩 물질을 이용하는 것을 통해서도 주위 환경으로부터 반도체 다이들이 보호될 수 있다.
위에서 설명된 모든 반도체 다이 패키지들은 그 위에 패키지들이 실장되는 회로 기판을 포함하는 전기 조립체에 사용될 수 있다. 또한 이들은 전화, 컴퓨터 등과 같은 시스템들에 사용될 수 있다.
"일", "상기" 등의 한정은 구체적으로 반대로 적시되지 않는 한 "하나 이상"을 의미하도록 의도된다.
여기에 채용된 용어들과 표현들은 설명의 용어로서 사용된 것이며 한정의 용어로서 사용된 것이 아니다. 또한, 이러한 용어들과 표현들의 사용에 있어서 도시되고 설명된 특정들의 균등물들을 배제할 의도가 없다. 청구된 본 발명의 범위 내에서 다양한 변용이 가능함은 이해될 것이다.
나아가, 본 발명의 하나 이상의 실시예들의 하나 이상의 특징들은 본 발명의 범위에서 벗어남이 없이 본 발명의 다른 실시예들의 하나 이상의 특징들과 결합될 수 있다. 예를 들면, 리드프레임 구조물들, 전도성 접착제들, 및 앞서 설명된 예비몰딩된 클립 구조물 조립체를 포함하는 반도체 다이 패키지와 관련된 공정 조건들에 관련된 구체적인 세부 내용들은 금속 하우징 구조물을 포함하는 반도체 다이 패키지에도 사용될 수 있다.
예시된 실시예들과 관련하여 본 발명이 구체적으로 설명되었지만 다양한 변경, 변용, 적응, 및 균등한 배열들이 본 개시에 기초하여 이루어질 수 있음은 이해될 것이다. 또한, 이들은 첨부된 청구항들과 본 발명의 범위 내에 있는 것으로 의도된다.
Claims (33)
- 클립 구조물, 상기 클립 구조물에 부착된 반도체 다이, 및 상기 반도체 다이의 가장자리의 적어도 일부분을 덮으면서 상기 클립 구조물의 적어도 일부분을 덮는 제 1 몰딩 물질을 포함하는 예비몰딩된 클립 구조물 조립체(premolded clip structure assembly);
다이 부착 패드를 포함하고, 상기 예비몰딩된 클립 구조물 조립체에 부착된 리드프레임 구조물; 및
상기 예비몰딩된 클립 구조물 조립체와 상기 리드프레임 구조물의 적어도 일부를 덮는 제 2 몰딩 물질;
을 포함하고,
상기 제 1 몰딩 물질은 상기 제 2 몰딩 물질과 접촉하고, 상기 제 1 몰딩 물질과 상기 제 2 몰딩 물질 사이에 계면이 존재하는 반도체 다이 패키지. - 제 1 항에 있어서,
상기 리드프레임 구조물과 상기 예비몰딩된 클립 구조물 조립체 사이에 전도성 접착제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키지. - 제 2 항에 있어서,
상기 전도성 접착제는 제 1 전도성 접착제이고,
상기 예비몰딩된 클립 구조물 조립체가 상기 클립 구조물과 상기 반도체 다이 사이에 제 2 전도성 접착제를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키지. - 제 3 항에 있어서,
상기 반도체 다이는 전력 MOSFET을 포함하는 전력 반도체 다이를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키지. - 제 3 항에 있어서,
상기 제 1 전도성 접착제는 제 1 녹는점을 갖는 제 1 솔더를 포함하고,
상기 제 2 전도성 접착제는 상기 제 1 녹는점보다 높은 제 2 녹는점을 갖는 제 2 솔더를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키지. - 제 1 항에 있어서,
상기 예비몰딩된 클립 구조물 조립체가 제 1 표면 및 상기 제 1 표면의 반대면인 제 2 표면을 포함하고, 상기 제 1 표면이 제 1 몰딩 물질 표면 및 반도체 다이의 표면을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키지. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 몰딩 물질은 상기 반도체 다이의 모든 가장자리들을 덮는 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키지. - 제 1 항에 있어서,
상기 반도체 다이는 제 1 반도체 다이이고, 상기 반도체 다이 패키지는 제 2 반도체 다이를 포함하고, 상기 제 2 반도체 다이의 모든 가장자리들은 상기 제 1 몰딩 물질에 의하여 덮인 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키지. - 제 1 항에 있어서,
상기 반도체 다이는 드레인 영역을 포함하고, 상기 클립 구조물은 상기 반도체 다이의 드레인 영역과 전기적으로 결합된 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키지. - 리드프레임 구조물 표면을 포함하는 리드프레임 구조물;
상기 리드프레임 구조물에 부착되고, 입력 영역을 포함하는 제 1 표면과 출력 영역을 포함하는 제 2 표면을 포함하는 반도체 다이;
상기 리드프레임 구조물의 적어도 일부분을 덮으며 상기 반도체 다이의 가장자리의 적어도 일부분을 덮고, 상기 반도체 다이의 제 2 표면과 상기 리드프레임 구조물 표면을 노출시키는 몰딩 물질;
몸체부(major portion), 상기 몸체부로부터 연장되는 제 1 다리부, 및 상기 몸체부로부터 상기 제 1 다리부와 반대쪽으로 연장되는 제 2 다리부를 포함하고, 상기 반도체 다이의 상기 제 2 표면에 있는 출력 영역과 전기적으로 및 기계적으로 결합된 금속 하우징 구조물로서, 상기 제 1 다리부 및 상기 제 2 다리부는 각각 상기 몰딩 물질로부터 이격되는 금속 하우징 구조물; 및
상기 금속 하우징 구조물의 몸체부와 상기 반도체 다이의 제 2 표면을 결합하는 전도성 접착제;
를 포함하는 반도체 다이 패키지. - 제 10 항에 있어서,
상기 금속 하우징 구조물이 구리를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키지. - 제 10 항에 있어서,
상기 반도체 다이가 전력 MOSFET을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키지. - 삭제
- 제 10 항에 있어서,
상기 금속 하우징 구조물이 단일한 일체인 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키지. - 제 10 항에 있어서,
상기 몸체부, 상기 제 1 다리부, 및 상기 제 2 다리부가 구리를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키지. - 제 10 항에 있어서,
전도성 접착제를 더 포함하고, 상기 전도성 접착제를 이용하여 상기 몸체부가 상기 출력 영역과 결합되는 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키지. - 클립 구조물을 얻는 단계;
적어도 하나의 반도체 다이를 상기 클립 구조물에 부착하는 단계;
예비몰딩된 클립 구조물 조립체를 제공하기 위하여 상기 클립 구조물의 적어도 일부분을 제 1 몰딩 물질로 덮고, 상기 반도체 다이의 가장자리의 적어도 일부분을 덮는 단계;
다이 부착 패드를 포함하는 리드프레임 구조물을 얻는 단계;
상기 예비몰딩된 클립 구조물 조립체를 상기 리드프레임에 부착하는 단계;
상기 클립 구조물과 상기 반도체 다이의 적어도 일부분을 덮기 위하여 상기 예비몰딩된 클립과 리드프레임에 제 1 몰딩 물질을 적용하는 단계; 및
상기 예비몰딩된 클립 구조물 조립체와 상기 리드프레임 구조물의 적어도 일부분을 덮기 위하여 제 2 몰딩 물질을 적용하는 단계;
를 포함하고, 상기 제 1 몰딩 물질은 상기 제 2 몰딩 물질과 접촉하고, 상기 제 1 몰딩 물질과 상기 제 2 몰딩 물질 사이에 계면이 존재하는 반도체 다이 패키징 방법. - 제 17 항에 있어서,
상기 반도체 다이를 상기 클립 구조물에 부착하는 단계는 상기 다이 또는 상기 클립 구조물의 표면에 전도성 접착제를 사용하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키징 방법. - 제 18 항에 있어서,
상기 전도성 접착제가 제 1 전도성 접착제이고, 상기 예비몰딩된 클립 구조물 조립체는 상기 클립 구조물과 상기 반도체 다이 사이에 제 2 전도성 접착제를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키징 방법. - 제 19 항에 있어서,
상기 제 1 전도성 접착제는 제 1 녹는점을 갖는 제 1 솔더를 포함하고, 상기 제 2 전도성 접착제는 상기 제 1 녹는점보다 더 높은 제 2 녹는점을 갖는 제 2 솔더를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키징 방법. - 제 17 항에 있어서,
상기 반도체 다이가 전력 MOSFET을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키징 방법. - 제 17 항에 있어서,
상기 리드프레임 구조물이 구리를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키징 방법. - 제 17 항에 있어서,
상기 제 1 몰딩 물질은 상기 반도체 다이의 모든 가장자리들을 덮는 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키징 방법. - 제 17 항에 있어서,
상기 클립 구조물에 제 2 반도체 다이를 부착하는 단계를 더 포함하고, 상기 제 2 반도체 다이의 모든 가장자리들은 제 1 몰딩 물질에 의하여 덮인 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키징 방법. - 제 17 항에 있어서,
상기 반도체 다이는 드레인 영역을 포함하고, 상기 클립 구조물은 상기 반도체 다이의 드레인 영역과 전기적으로 결합되는 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키징 방법. - 삭제
- 리드 프레임 구조물에, 입력 영역을 포함하는 제 1 표면 및 출력 영역을 포함하는 제 2 표면을 포함하는 반도체 다이를 부착하는 단계;
상기 반도체 다이의 제 2 표면과 상기 리드프레임 구조물 표면을 노출시키며 상기 반도체 다이의 가장자리의 적어도 일부분을 둘러싸는 몰딩 물질을 몰딩하고 상기 리드프레임 구조물의 적어도 일부분을 덮는 단계;
상기 반도체 다이의 가장자리의 적어도 일부분을 둘러싸는 몰딩 물질을 몰딩하는 단계 이후에, 몸체부(major portion), 상기 몸체부로부터 연장되는 제 1 다리부, 및 상기 몸체부로부터 상기 제 1 다리부와 반대쪽으로 연장되는 제 2 다리부를 포함하고 상기 반도체 다이의 상기 제 2 표면에 있는 출력 영역과 전기적으로 및 기계적으로 결합된 금속 하우징 구조물로서, 상기 제 1 다리부 및 상기 제 2 다리부는 각각 상기 몰딩 물질로부터 이격되는 금속 하우징 구조물을 제공하는 단계; 및
상기 금속 하우징 구조물을 상기 반도체 다이의 제 2 표면에 부착하기 위하여 상기 금속 하우징 구조물의 몸체부와 상기 반도체 다이의 노출된 제 2 표면 사이에 전도성 접착제를 적용하는 단계;
를 포함하는 반도체 다이 패키징 방법. - 제 27 항에 있어서,
상기 금속 하우징 구조물은 구리를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키징 방법. - 제 27 항에 있어서,
상기 반도체 다이가 전력 MOSFET을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키징 방법. - 삭제
- 제 27 항에 있어서,
상기 금속 하우징 구조물이 단일한 일체인 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키징 방법. - 제 27 항에 있어서,
상기 몸체부, 상기 제 1 다리부 및 상기 제 2 다리부가 구리를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키징 방법. - 제 27 항에 있어서,
상기 하우징의 주면(major surface)이 상기 반도체 다이의 상기 제 2 표면의 출력 영역 위에 있는 것을 특징으로 하는 반도체 다이 패키징 방법.
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