JP2005266680A - 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】酸の作用により分解しアルカリ現像液への溶解度が増大する樹脂(A)、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)、脂環及び芳香環を有する分子量1000以下の化合物(C1)を含有する感光性組成物、酸の作用により分解しアルカリ現像液への溶解度が増大する樹脂(A)、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)、ヒドロキシスチレンユニットを含む樹脂(C2)を含有する感光性組成物、及びこれらの組成物を用いたパターン形成方法。
【選択図】 なし
Description
造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用される感光性組成物に関するものである。さらに詳しくは250nm以下の遠紫外線などの露光光源、および電子線などによる照射源とする場合に好適な感光性組成物に関するものである。
特許文献2(特開2000−241979号)にはArFレジストに多価フェノールを添加する技術が開示されている。しかし多価フェノールは一般に酸化されやすく経時安定性が不十分であった。また、特許文献3(特開2003−322963号)には脂環樹脂にフェノール化合物を添加することが開示されている。この中ではフェノール性化合物の働きとして光酸発生剤の酸発生効率を高める、吸収により形状制御ができることを示唆しているが、ここで具体的に示されているフェノール性化合物では、レジスト膜厚が250nm以下の薄膜における形状制御やラインエッジラフネス改善が不十分であった。
すなわち、本発明は以下の構成からなる。
尚、本明細書に於ける基(原子団)の表記に於いて、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
本発明の感光性組成物が含有する樹脂(A)は、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂(酸分解性樹脂)であり、酸の作用により分解しアルカリ可溶性基を生じる基(酸分解性基)を含有する。
アルカリ可溶性基としては、例えば、カルボン酸基、水酸基、スルホン酸基、チオール基などが挙げられ、好ましくはカルボン酸基、水酸基である。
R12〜R16は、各々独立に、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環基を表し、但し、R12〜R14のうち少なくとも1つ、もしくはR15、R16のいずれかは脂環基を表す。
R17〜R21は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環基を表し、但し、R17〜R21のうち少なくとも1つは脂環基を表す。また、R19、R21のいずれかは炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環基を表す。
R22〜R25は、各々独立に、水素原子、炭素数1〜4個の、直鎖もしくは分岐のアルキル基又は脂環基を表し、但し、R22〜R25のうち少なくとも1つは脂環基を表す。また、R23とR24は、互いに結合して環を形成していてもよい。
また、上記アルキル基が有していてもよい置換基としては、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜4)、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、アシル基(好ましくは炭素数2〜10)、アシロキシ基(好ましくは炭素数2〜10)、シアノ基、水酸基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜6)、ニトロ基等を挙げることができる。
も、多環式でもよい。具体的には、炭素数5以上のモノシクロ、ビシクロ、トリシクロ、テトラシクロ構造等を有する基を挙げることができる。その炭素数は6〜30個が好ましく、特に炭素数7〜25個が好ましい。これらの脂環基は置換基を有していてもよい。
脂環基における環構造を構成する部分の具体例を以下に示す。
アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等の低級アルキル基が好ましく、更に好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基よりなる群から選択された置換基を表す。
上記アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜4個のものを挙げることができる。
アルキル基及びアルコキシ基は更に置換基を有してもよく、このような置換基としては、水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜4)等を挙げることができる。
Aは、単結合、アルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、スルフォンアミド基、ウレタン基、又はウレア基よりなる群から選択される単独あるいは2つ以上の基の組み合わせを表す。
Raは、上記式(pI)〜(pVI)のいずれかの基を表す。
R2c〜R4cは、各々独立に水素原子又は水酸基を表す。ただし、R2c〜R4cのうち少なくとも1つは水酸基を表す。
Aは、単結合、アルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基、アミド基、スルフォンアミド基、ウレタン基及びウレア基よりなる群から選択される単独あるいは2つ以上の基の組合せを表す。
W1はアルキレン基を表す。
−〔C(Rf)(Rg)〕r1−
式中、Rf及びRgは、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基を表し、両者は同一でも異なっていてもよい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等の低級アルキル基が好ましく、更に好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基から選択される。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜4のものを挙げることができる。アルキル基及びアルコキシ基が有してもよい置換基としては、水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜4)を挙げることができる。ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、沃素原子等を挙げることができる。r1は1〜10の整数である。
W1は、単結合、アルキレン基、エーテル基、チオエーテル基、カルボニル基、エステル基よりなる群から選択される単独あるいは2つ以上の基の組み合わせを表す。
Ra1、Rb1、Rc1、Rd1及びRe1は、各々独立に、水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。m及びnは、各々独立に0〜3の整数を表し、m+nは、2以上6以下である。
挙げることができる。
−〔C(Rf)(Rg)〕r1−
上記式中、Rf及びRgは、独立に、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基を表し、両者は同一でも異なっていてもよい。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等の低級アルキル基が好ましく、更に好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基から選択される。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜4のものを挙げることができる。ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、沃素原子等を挙げることができる。アルキル基及びアルコキシ基が有していてもよい置換基としては、水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜4)等を挙げることができる。r1は1〜10の整数である。
ここでアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基等の低級アルキル基を挙げることができる。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜4のものを挙げることができる。アシルオキシ基としては、アセトキシ基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、沃素原子等を挙げることができる。
更に一般式(IV)の構造としては、エッジラフネスが良好になるという点からアクリレート構造を有するものが好ましい。
このようなアルキル基としては、炭素数1〜12個の直鎖状あるいは分岐状アルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数1〜10個の直鎖状あるいは分岐状アルキル基であり、更に好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基である。
R1b〜R5bにおけるシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の炭素数3〜8個のものが好ましい。
R1b〜R5bにおけるアルケニル基としては、ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基等の炭素数2〜6個のものが好ましい。
また、R1b〜R5bの内の2つが結合して形成する環としては、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロオクタン環等の3〜8員環が挙げられる。
なお、一般式(V−1)〜(V−4)におけるR1b〜R5bは、環状骨格を構成している炭素原子のいずれに連結していてもよい。
Rb0のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子を挙げることができる。Rb0は水素原子が好ましい。
A’は、単結合、エーテル基、エステル基、カルボニル基、アルキレン基、又はこれらを組み合わせた2価の基を表す。
B2は、一般式(V−1)〜(V−4)のうちのいずれかで示される基を表す。A’において、該組み合わせた2価の基としては、例えば下記式のものが挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等の低級アルキル基が好ましく、更に好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基から選択される。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜4個のものを挙げることができる。アルキル基及びアルコキシ基が有していてもよい置換基としては、水酸基、ハロゲン原子、炭素数1〜4のアルコキシ基等を挙げることができる。ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、沃素原子等を挙げることができる。r1は1〜10の整数、好ましくは1〜4の整数を表す。mは1〜3の整数、好ましくは1又は2を表す。
R6aは水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、シアノ基、又はハロゲン原子を表す。
−〔C(Rnf)(Rng)〕r−
上記式中、Rnf及びRngは、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基を表し、両者は同一でも異なっていてもよい。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等の低級アルキル基が好ましく、更に好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基から選択される。アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜4のものを挙げることができる。アルキル基及びアルコキシ基が有していてもよい置換基としては、水酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基などを挙げることができる。ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、フッ素原子、沃素原子等を挙げることができる。rは1〜10の整数である。
一般式(VI)において、A6のシクロアルキレン基としては、炭素数3から10個のものが挙げられ、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基、シクロオクチレン基等を挙げることができる。
これにより、樹脂に要求される性能、特に、
(1)塗布溶剤に対する溶解性、
(2)製膜性(ガラス転移点)、
(3)アルカリ現像性、
(4)膜べり(親疎水性、アルカリ可溶性基選択)、
(5)未露光部の基板への密着性、
(6)ドライエッチング耐性、
等の微調整が可能となる。
このような単量体として、例えばアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステ
ル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を1個有する化合物等を挙げることができる。
酸分解性基を有する繰り返し単位の含有量は、樹脂(A)を構成する全繰り返し単位中15〜70モル%が好ましく、より好ましくは20〜65モル%、更に好ましくは25〜60モル%である。
一般式(pI)〜(pVI)で表される脂環式炭化水素を含む部分構造を有する繰り返し単位、一般式(A1)及び(A2)で表される繰り返し単位の総量は、全繰り返し単位中30〜70モル%が好ましく、より好ましくは35〜65モル%、更に好ましくは40〜60モル%である。
式(I)で表されるヒドロキシアダマンタン構造を有する繰り返し単位の含有量は、全繰り返し単位中、5〜50モル%が好ましく、より好ましくは10〜40モル%、更に好ましくは15〜35モル%である。
反応の濃度は20質量%以上であり、好ましくは30質量%以上、さらに好ましくは40質量%以上である。反応温度は10℃〜150℃であり、好ましくは30℃〜120℃、さらに好ましくは50〜100℃である。
分散度(Mw/Mn)は通常1〜10であり、好ましくは1〜5、更に好ましくは1〜4の範囲のものが使用される。分散度の小さいものほど、解像度、レジスト形状、及びレジストパターンの側壁がスムーズであり、ラフネス性に優れる。
本発明の感光性組成物に用いられる、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(以下、「酸発生剤」と呼ぶ場合がある。)について以下に説明する。
本発明において使用される酸発生剤としては、一般に酸発生剤として使用される化合物の中から選択することができる。
即ち、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロレジスト等に使用されている、遠紫外線、電子線、X線、イオンビーム等の活性光線又は放射線の照射により酸を発生する公知の化合物及びそれらの混合物を適宜に選択して使用することができる。
X-は、非求核性アニオンを表す。
R201、R202及びR203としての有機基の炭素数は、一般的に1〜30、好ましくは1〜20である。
また、R201〜R203のうち2つが結合して環構造を形成してもよく、環内に酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合、カルボニル基を含んでいてもよい。
る。
化合物(Z1−2)は、一般式(ZI)におけるR201〜R203が、各々独立に、芳香環を含有しない有機基を表す場合の化合物である。ここで芳香環とは、ヘテロ原子を含有する芳香族環も包含するものである。
5のアルキル基(メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基)を挙げることができる。
R6c及びR7cは、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。
Rx及びRyは、各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリル基又はビニル基を表す。
Aは、アルキレン基、アルケニレン基又はアリーレン基を表す。
酸発生剤の感光性組成物中の含量は、感光性組成物の全固形分を基準として、0.1〜20質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜10質量%、更に好ましくは1〜7質量%である。
脂環としては、好ましくは炭素数3〜20の脂環、より好ましくは炭素数3〜15の脂環である。
例えば、以下のものを挙げることができる。
ポリオキシアルキレン基としては、例えば、以下の式で示される基である。
−(C2H4O)p−CqH2q+1 (pは1〜8の整数、qは0〜4の整数である。)
−(C3H6O)x−CyH2y+1 (xは1〜4の整数、yは0〜8の整数である。)
ヒドロキシスチレンユニットを含む樹脂(C2)は少なくとも20モル%以上のヒドロキシスチレンユニットを含む樹脂である。ヒドロキシスチレンユニット以外のユニットとしてはヒドロキシスチレンと重合できるユニットであれば特に限定されない。
感光性膜とした時の露光部の溶解性、感度、未露光部の該樹脂が溶出防止の点から、2.38質量%テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液に対する該樹脂単独膜の溶解速度が23℃で0.0001nm/秒〜0.5nm/秒であることが好ましい。
樹脂(C2)の好ましい重量平均分子量は、2,000〜50,000であり、好ましくは2000〜50000、分散度(Mw/Mn)は、好ましくは3.0以下、更に好ましくは2.0以下である。
R2としてのアルキル基は、炭素数1〜4のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基またはt−ブチル基が好ましく、
R2としてのアルコキシ基は、炭素数1〜4のアルコキシ基、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、i−ブトキシ基、sec−ブトキシ基またはt−ブトキシ基が好ましい。
R3及びR4としてのシクロアルキル基は、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基等の炭素数3〜10の基が好ましい。
R3及びR4としてのアリール基は、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、1−ナフチル基等の炭素数6〜10の基が好ましい。
R3及びR4としてのアラルキル基は、例えばベンジル、α−メチルベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基等の炭素数7〜11の基が好ましい。
また、R3とR4とが結合して形成された5〜7員環の具体例は、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環等である。
また、R7は酸分解基であってもよい。酸分解基としては樹脂(A)における酸分解性基(例えば脂環基を有する酸分解性基)と同様のものを挙げることができる。
一般式(b−1)〜(b−3)で表される繰り返し単位の総量は、樹脂を構成する全繰り返し単位に対して、10〜80モル%が好ましく、20〜80モル%がより好ましい。
一般式(a)で表される繰り返し単位及び一般式(b−1)〜(b−3)で表される繰り返し単位の総量は、樹脂を構成する全繰り返し単位に対して60〜100%が好ましく、70〜100モル%がより好ましい。
他の繰り返し単位としては、樹脂(A)が含有しうる繰り返し単位におけるものを挙げることができる。
樹脂(C2)の添加量は、レジスト組成物の全固形分に対し、通常0.25〜20質量%、好ましくは0.5〜10質量%である。
本発明の感光性組成物は、上述した各成分を溶剤に溶解させてなるものである。
溶剤としては、例えば、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、2−ヘプタノン、γ−ブチロラクトン、メチルエチルケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、エトキシプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、3−メトキシ−1−ブタノール、及びプロピレンカーボネート等の有機溶剤を挙げることができる。これら溶剤は、単独で使用しても複数を混合して使用してもよい。
この特定の混合溶剤においては、各特定の溶剤を0.5質量%以上は含有することが好
ましい。
本発明の感光性組成物は、更に、含窒素塩基性化合物を含有することが好ましい。
含窒素塩基性化合物としては、有機アミン、塩基性のアンモニウム塩、塩基性のスルホニウム塩などが用いられ、昇華やレジストとしての性能を劣化させないものであればよい。
これらの含窒素塩基性化合物の中でも、有機アミンが画像性能が優れる点で好ましい。例えば特開昭63-149640号、特開平5-249662号、特開平5-127369号、特開平5-289322号、特開平5-249683号、特開平5-289340号、特開平5-232706号、特開平5-257282号、特開平6-242605号、特開平6-242606号、特開平6-266100号、特開平6-266110 号、特開平6-317902号、特開平7-120929号、特開平7-146558号、特開平7-319163号、特開平7-508840号、特開平7-333844号、特開平7-219217号、特開平7-92678号、 特開平7-28247号、特開平8-22120号、特開平8-110638号、特開平8-123030号、特開平9-274312号、特開平9-166871号、特開平9-292708号、特開平9-325496号、特表平7-508840号、USP5525453号、USP5629134号、USP5667938号等に記載の塩基性化合物を用いることができる。
R253、R254、R255及びR256 は、同一でも異なってもよく、炭素数1〜10個のアルキル基を表す。
更に好ましい化合物は、一分子中に異なる化学的環境の窒素原子を2個以上有する含窒素塩基性化合物か、又は脂肪族3級アミンである。
ヘキシル)アミン、トリデシルアミン、トリドデシルアミン等が挙げられる。
これらの中でも、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、4−ジメチルアミノピリジン、1−ナフチルアミン、ピペリジン、4−ヒドロキシピペリジン、2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジン、ヘキサメチレンテトラミン、イミダゾール類、ヒドロキシピリジン類、ピリジン類、アニリン類、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリ−n−オクチルアミン、トリス(エチルヘキシル)アミン、トリドデシルアミン、N,N−ジ−ヒドロキシエチルアニリン、N−ヒドロキシエチル−N−エチルアニリン、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、2,6−ジイソプロピルアニリン、N、N−ジブチルアニリン等の有機アミンが好ましい。
本発明の感光性組成物には、必要に応じて、低分子酸分解性化合物、界面活性剤、現像液に対する溶解促進性化合物、ハレーション防止剤、可塑剤、光増感剤、界面活性剤、接着助剤、架橋剤、光塩基発生剤等を含有することができる。
例えばProc.SPIE,2724, 355(1996)、特開平8-15865号、USP5310619号、USP5372912号、J.Photopolym.Sci.,Tech.,Vol.10,No.3,511(1997))に記載されている酸分解性基を含有する、コール酸誘導体、デヒドロコール酸誘導体、デオキシコール酸誘導体、リトコール酸誘導体、ウルソコール酸誘導体、アビエチン酸誘導体等の脂環族化合物、酸分解性基を含有するナフタレン誘導体などの芳香族化合物を上記低分子酸分解性化合物として用いることができる。
さらに、特開平6-51519号記載の低分子の酸分解性溶解阻止化合物も220nmの透過性を悪化させないレベルの添加範囲で用いることもできるし、1,2−ナフトキノンジアジト化合物も使用できる。
これらの低分子酸分解性溶解阻止化合物や低分子脂環化合物を添加すると、前記現像欠陥がさらに改良されるばかりか耐ドライエッチング性が改良される。
ホンアミド化合物やスルホニルイミド化合物などの分子量1000以下の低分子化合物等を挙げることができる。
これらの溶解促進性化合物の配合量としては、組成物全質量(固形分)に対して、好ましくは30質量%以下、より好ましくは20質量%以下である。
本発明の感光性組成物がフッ素系及び/又はシリコン系界面活性剤を含有することにより、250nm以下、特に220nm以下の露光光源の使用時に、良好な感度及び解像度で、密着性及び現像欠陥の少ないパターンを与えることが可能となる。
これらの界面活性剤として、例えば特開昭62−36663号公報、特開昭61−226746号公報、特開昭61−226745号公報、特開昭62−170950号公報、特開昭63−34540号公報、特開平7−230165号公報、特開平8−62834号公報、特開平9−54432号公報、特開平9−5988号公報、特開2002−277862号公報、米国特許第5405720号明細書、同5360692号明細書、同5529881号明細書、同5296330号明細書、同5436098号明細書、同5576143号明細書、同5294511号明細書、同5824451号明細書記載の界面活性剤を挙げることができ、下記市販の界面活性剤をそのまま用いることもできる。
使用できる市販の界面活性剤として、例えばエフトップEF301、EF303、(新秋田化成(株)製)、フロラードFC430、431(住友スリーエム(株)製)、メガファックF171、F173、F176、F189、R08(大日本インキ化学工業(株)製)、サーフロンS−382、SC101、102、103、104、105、106(旭硝子(株)製)、トロイゾルS−366(トロイケミカル(株)製)等のフッ素系界面活性剤又はシリコン系界面活性剤を挙げることができる。またポリシロキサンポリマーKP−341(信越化学工業(株)製)もシリコン系界面活性剤として用いることができる。
フルオロ脂肪族基を有する重合体としては、フルオロ脂肪族基を有するモノマーと(ポリ(オキシアルキレン))アクリレート及び/又は(ポリ(オキシアルキレン))メタクリレートとの共重合体が好ましく、不規則に分布しているものでも、ブロック共重合していてもよい。また、ポリ(オキシアルキレン)基としては、ポリ(オキシエチレン)基、
ポリ(オキシプロピレン)基、ポリ(オキシブチレン)基などが挙げられ、また、ポリ(オキシエチレンとオキシプロピレンとオキシエチレンとのブロック連結体)やポリ(オキシエチレンとオキシプロピレンとのブロック連結体)基など同じ鎖長内に異なる鎖長のアルキレンを有するようなユニットでもよい。さらに、フルオロ脂肪族基を有するモノマーと(ポリ(オキシアルキレン))アクリレート(又はメタクリレート)との共重合体は2元共重合体ばかりでなく、異なる2種以上のフルオロ脂肪族基を有するモノマー
や、異なる2種以上の(ポリ(オキシアルキレン))アクリレート(又はメタクリレート)などを同時に共重合した3元系以上の共重合体でもよい。
例えば、市販の界面活性剤として、メガファックF178、F−470、F−473、F−475、F−476、F−472(大日本インキ化学工業(株)製)を挙げることができる。さらに、C6F13基を有するアクリレート(又はメタクリレート)と(ポリ(オキシアルキレン))アクリレート(又はメタクリレート)との共重合体、C6F13基を有するアクリレート(又はメタクリレート)と(ポリ(オキシエチレン))アクリレート(又はメタクリレート)と(ポリ(オキシプロピレン))アクリレート(又はメタクリレート)との共重合体、C8F17基を有するアクリレート(又はメタクリレート)と(ポリ(オキシアルキレン))アクリレート(又はメタクリレート)との共重合体、C8F17基を有するアクリレート(又はメタクリレート)と(ポリ(オキシエチレン))アクリレート(又はメタクリレート)と(ポリ(オキシプロピレン))アクリレート(又は
メタクリレート)との共重合体、などを挙げることができる。
本発明の感光性組成物は、上記の成分を溶剤、好ましくは前記混合溶剤に溶解し、次のように所定の支持体上に塗布して用いる。
すなわち、上記感光性組成物を精密集積回路素子の製造に使用されるような基板(例:シリコン/二酸化シリコン被覆)上にスピナー、コーター等の適当な塗布方法により塗布、乾燥し、感光性膜を形成する。
感光性膜に対し、所定のマスクを通して、活性光線又は放射線により、露光し、好ましくはベークを行い、現像する。このようにして良好なポジ型パターンを得ることができる。活性光線又は放射線としては、好ましくは200nm以下の波長の遠紫外線であり、具体的には、ArFエキシマレーザー(193nm)、F2エキシマレーザー(157nm)、電子線、X線、イオンビーム等が挙げられ、ArFエキシマレーザー及びF2エキシマレーザーが好ましい。
液を使用することができる。
アルカリ現像液のアルカリ濃度は、通常0.1〜20質量%、pHは、通常10.0〜15.0である。
さらに、上記アルカリ性水溶液にアルコール類、界面活性剤を適当量添加して使用することもできる。
ノルボルナンランクトンアクリレート、ジヒドロキシアダマンタンメタクリレート、2−アダマンチルー2−プロピルメタクリレート、メタクリレートを40/20/30/10の割合で子込み、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート/プロピレングリコールモノメチルエーテル=60/40に溶解し、固形分濃度22%の溶液450gを調製した。この溶液に和光純薬工業製重合開始剤V−601を8mol%加え、これを窒素雰囲気下、6時間かけて100℃に加熱したプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート/プロピレングリコールモノメチルエーテル=60/40の混合溶液50gに滴下した。滴下終了後、反応液を2時間撹拌した。 反応終了後、反応液を室温まで冷却し、ヘキサン/酢酸エチル=9/1の混合液5Lに晶析、析出した白色粉体を濾取し、目的物であるA1を回収した。 13CNMRから求めた樹脂の組成比はa/b/c/d=39/22/30/9であった。また、ガスパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定により求めた標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は7800、分散度は2.0であった。
樹脂A1と同様の重合法を行い目的物である樹脂A2を得た。13CNMRから求めた樹脂の組成比はa/b/c=38/22/40であった。また、GPC測定により求めた標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は8900、分散度は2.1であった。
樹脂A1と同様の重合法を行い目的物である樹脂A2を得た。13CNMRから求めた樹脂の組成比はa/b/c/d=34/13/23/30であった。また、GPC測定により求めた標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は7500、分散度は2.3であった。
日本曹達株式会社製、ポリ(p-ヒドロキシスチレン)VP−8000 20gをテトラヒドロフラン80mLに溶解した。この溶液にエチルビルエーテル7.8g、触媒としてp―トルエンスルホン酸10mgを添加して、室温か18時間撹拌した。 反応液を超純水5L中に激しく撹拌しながら滴下、再賃を行った。得られた樹脂を真空乾燥機中で70℃下、12時間乾燥し目的物であるC2−1を回収した。
前述の樹脂A1の合成におけるのと同様の重合法を行い目的である樹脂C2−2を得た。13CNMRから求めた樹脂の組成比はa/b=75/25であった。また、GPC測定により求めた標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は11000、分散度は2.1であ
った。
表1に示した実施例1〜7及び比較例1〜4の各成分を混合し、孔径が0.1mmのポリエチレンフィルターにて濾過した各感光性樹脂組成物溶液を用い、以下の示す方法により性能評価を行いその結果を表1に示す。
B1: トリフェニルスルホニウムノナフレート
B2: 4−メチルフェニル−ジフェニルスルホニウム4−ドデカニルオキシテトラフルオロベンゼンスルホン酸
B3: ジ−n−ブチル[2−(4−シクロヘキシルフェニル)―2−オキソーエチル]スルホニウムノナフレート
Q2: 2,6―ジイソプロピルアニリン
Q3: トリエタノールアミン
PGME: プロピレングリコールモノメチルエーテル
PC: プロピレンカーボネート
CH: シクロヘキサノン
AE: 酢酸エチル
63号の実施例において使用されている成分である。
A−1: 2−メチル−2−アダマンチルメタクリレート単位/5−(2,6−ノルボルナンカルボラクトン)メタクリレート単位(モル比:50/50)
B−1: 1−(4−n−ブトキシナフタレン−1−イル)テトラヒドロチオフェニウムノナフロ−n−ブタンスルホネート
E−1: プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
E−2: 2−ヘプタノン
基板として、膜厚78nmの反射防止膜(ARC29A)を形成したシリコンウエハーを用いた。そして、各感放射線性樹脂組成物をスピンコートにより塗布し、次いで、ホットプレート上で表2に挙げたプリベーク温度で60秒間のプリベーク(PB)を行い膜厚140nmの感光性膜を形成した。そして、ASML社製ArFエキシマレーザー露光装置(レンズ開口数0.75、2つ穴照明フィルター)を用い、6%ハーフトーンマスク
のマスクパターン介して上記感光性膜を露光した。 その後、表2に挙げたPEB温度で60秒間PEBを行った後、2.38質量%テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液により23℃で30秒間現像した。現像後、リンスを行い乾燥してポジ型パターンを形成した。このとき75nmのラインアンドスペースパターン(ライン:スペース=1:1)を1対1の線幅に形成する露光量を最適露光量(Eopt)としこの最適露光量を感度(mJ/cm2)とした。
上記最適露光量で解像される最小のパターンの寸法を解像力(μm)として求めた。
〔パターン形状〕
線幅75nmのラインアンドスペースパターン(ライン:スペース=1:1)の方形状断面の下辺寸法L1と上辺寸法L2を走査型電子顕微鏡により測定し、0.85≦L2/L1≦1を満足し、かつパターン形状が裾を引いていない場合をパターン形状が良好であると判断した。
〔パターン倒れ性許容度〕
ベストフォーカス位置で、75nmのラインアンドスペースパターン(ライン:スペース=1:1)を形成し、露光量を上げていきラインパターンが倒れ始めた時の露光量をECと定義した時にEC/Eopt×100をパターン倒れ性許容度(%)の尺度とした。この値が大きいほど良好である。
ベストフォーカス位置でEoptにて75nmのラインアンドスペースパターン(ライン:スペース=1:1)を形成し、そのパターンライン線幅を上方(レジスト/空気界面側)から10nm間隔で32カ所線幅を計測し、標準偏差を求め、その3σ(nm)をラインエッジラフネス(LER)の尺度とした。この値が小さいほど良好である。
〔露光許容性〕
ベストフォーカス位置で、75nmのラインアンドスペースパターン(ライン:スペース=1:1)を形成し、露光量を変量した時に、線幅寸法がプラス10%である露光量をEO、線幅寸法がマイナス10%である露光量をEUであると定義した時に、(EO−EU)/Eopt×100を露光許容度(%)の尺度とした。 この値が大きいほど良好である。
〔フォーカス許容性〕
最適露光量にて線幅75nmのラインアンドスペースパターン(ライン:スペース=1:1)を形成し、フォーカス位置をずらした際に、線幅寸法がプラスマイナス10%以内であるフォーカスレンジ(μm)をフォーカス許容性の尺度とした。この値が大きいほど良好である。
Claims (7)
- 酸の作用により分解しアルカリ現像液への溶解度が増大する樹脂(A)、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)、脂環及び芳香環を有する分子量1000以下の化合物(C1)を含有する感光性組成物。
- 脂環及び芳香環を有する分子量1000以下の化合物(C1)が、脂環及びフェノール環を有する化合物であることを特徴とする請求項1の感光性組成物。
- 酸の作用により分解しアルカリ現像液への溶解度が増大する樹脂(A)、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)、ヒドロキシスチレンユニットを含む樹脂(C2)を含有する感光性組成物。
- 樹脂(C2)の分散度が2.0以下であることを特徴とする請求項3に記載の感光性組成物。
- 樹脂(C2)がポリヒドロキシスチレンの水酸基の一部を酸との反応で分解する基で保護した樹脂あることを特徴とする請求項3又は4に記載の感光性組成物。
- 樹脂(C2)が、少なくともヒドロキシスチレンユニット及びメタクリル酸またはアクリル酸のカルボキシル基を酸で分解する脂環基で保護したユニットとを含む共重合体であることを特徴とする請求項3〜5のいずれかに記載の感光性組成物。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の感光性組成物により、基板上に乾燥膜厚250nm以下の感光性膜を形成し、波長200nm以下の活性光線又は放射線にて露光を行い、150℃以下の加熱処理を行った後、アルカリ現像液で現像することを特徴とするポジ型パターン形成方法。
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